JP6112077B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本明細書に開示の技術は、半導体装置に関する。
特許文献1には半導体装置が開示されている。特許文献1の半導体装置は、間隔をあけて配置された複数の半導体チップと、半導体チップに固定されたグラファイト熱拡散板と、グラファイト熱拡散板に固定された金属基板とを備えている。複数の半導体チップは、封止樹脂により封止されている。
特開2012−028520号公報
特許文献1の半導体装置では、通電により半導体チップが発熱する。半導体装置のオン・オフにより、半導体チップが発熱を繰り返すと、半導体チップを封止している封止樹脂が膨張・収縮し、封止樹脂が半導体チップから剥離することがある。また、半導体装置の製造時に熱処理をする場合、封止樹脂が収縮して半導体チップから剥離することもある。そこで本明細書は、封止樹脂の剥離を低減することができる半導体装置の提供を目的とする。
本明細書に開示する半導体装置は、金属の放熱部材と、前記放熱部材の表面に接続された第1半導体チップと、前記第1半導体チップから間隔をあけて前記放熱部材の前記表面に接続された第2半導体チップと、前記第1半導体チップ、前記第2半導体チップ、および前記第1半導体チップと前記第2半導体チップの間の前記放熱部材の前記表面を封止する封止樹脂とを備えている。また、半導体装置は、前記第1半導体チップに対向する位置で前記放熱部材の裏面に接続され、炭素系材料からなる第1熱拡散部材と、前記第2半導体チップに対向する位置で前記放熱部材の前記裏面に接続され、炭素系材料からなる第2熱拡散部材と、前記放熱部材の反対側において前記第1熱拡散部材および前記第2熱拡散部材を冷却する冷却器とを備えている。前記第1熱拡散部材と前記第2熱拡散部材は、間隔をあけて配置されており、前記第1熱拡散部材と前記第2熱拡散部材の間の前記間隔が前記第1半導体チップと前記第2半導体チップの間の前記間隔に対して前記放熱部材を介して対向する位置になるように、前記第1熱拡散部材と前記第2熱拡散部材が配置されている。
上記の半導体装置によれば、半導体チップで発生した熱が熱拡散部材に伝わったとき、熱拡散部材に熱応力が生じる。このとき、第1熱拡散部材と第2熱拡散部材が間隔をあけて配置されているので、第1熱拡散部材および第2熱拡散部材が前記間隔側に変形可能であり、これによって、第1熱拡散部材および第2熱拡散部材で生じる熱応力が軽減される。したがって、第1熱拡散部材及び第2熱拡散部材から封止樹脂に加わる応力が軽減され、これによっても封止樹脂の剥離が抑制される。
また、一般には2つの半導体チップの間では封止樹脂により高い応力が生じ易いが、上記の半導体装置では、第1熱拡散部材と第2熱拡散部材の間の間隔が第1半導体チップと第2半導体チップの間の間隔に対向する位置になるように、第1熱拡散部材と第2熱拡散部材が配置されている。このため、第1半導体チップと第2半導体チップの間に位置する放熱部材が、封止樹脂の膨張・収縮により追従して易い。したがって、第1半導体チップと第2半導体チップの間においても、封止樹脂の熱応力を軽減することができ、封止樹脂の剥離を低減することができる。
半導体装置の断面図である。 図1のII−II断面図である。 熱拡散部材の斜視図である。 図3のIV−IV断面図である。 熱拡散部材の作製方法を説明する図である(1)。 熱拡散部材の作製方法を説明する図である(2)。 熱拡散部材の作製方法を説明する図である(3)。 熱拡散部材の作製方法を説明する図である(4)。 図1のIX−IX断面図である。 熱拡散部材の他端面と冷媒の流れ方向との関係を模式的に示す図である。 他の実施形態に係る半導体装置の断面図である。 更に他の実施形態に係る半導体装置の断面図である。 更に他の実施形態に係る半導体装置の断面図である。 更に他の実施形態に係る半導体装置の断面図である。 更に他の実施形態に係る半導体装置の上記図9に対応する断面図である。
以下に説明する実施形態の主要な特徴を列記する。なお、以下に記載する技術要素は、それぞれ独立した技術要素であって、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものである。
(特徴1)冷却器は、流れる冷媒を用いて第1熱拡散部材および第2熱拡散部材を冷却してもよい。第1熱拡散部材の冷却器側の端面の位置と第2熱拡散部材の冷却器側の端面の位置が、冷媒の流れ方向において互いに重なり合わなくてもよい。このような構成によれば、一方の熱拡散部材により加熱された冷媒が他方の熱拡散部材の端面の位置に流れることを抑制できる。したがって、冷媒により効率的に熱拡散部材を冷却することができる。
(特徴2)第1熱拡散部材および第2熱拡散部材は、それぞれ、放熱部材に対して傾いた状態で放熱部材から冷却器に向かって延びる傾斜部材を備えていてもよい。
(特徴3)第1熱拡散部材は、放熱部材に対して傾いた状態で放熱部材から冷却器に向かって延びている第1傾斜部材と、冷却器側ほど第1傾斜部材から離れるように放熱部材に対して傾いた状態で放熱部材から冷却器に向かって延びている第2傾斜部材を有していてもよい。
(特徴4)第1熱拡散部材および第2熱拡散部材と冷却器との間に配置された金属部材を備えていてもよい。
(特徴5)放熱部材の側方に配置された金属部材を備えていてもよい。
(特徴6)放熱部材と金属部材の間に配置され、放熱部材と金属部材を接続する接続部材を備えていてもよい。
(特徴7)第1熱拡散部材および第2熱拡散部材を囲む金属部材を備えていてもよい。金属部材によって囲まれた空間に液体または粉末が充填されていてもよい。
(特徴8)傾斜部材は、冷却器の冷媒の流れ方向に直交する方向に延びていてもよい。
以下、実施形態について添付図面を参照して説明する。以下の説明において、各構成要素における同様の構成については、まとめて説明して重複した説明を省略する場合がある。
図1に示すように、実施形態に係る半導体装置1は、複数の半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)と、複数の放熱部材4(第1放熱部材41および第2放熱部材42)とを備えている。また、半導体装置1は、複数の熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)と、複数の冷却器5(第1冷却器51および第2冷却器52)とを備えている。
半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)としては、例えばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)やFWD(Free Wheeling Diode)などを用いることができる。IGBT及びFWDを用いる場合、例えば第1半導体チップ21をIGBTとし、第2半導体チップ22をFWDとして、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22を逆並列の状態で配置することができる。半導体チップ2がIGBTである場合、半導体チップ2の内部にはゲート領域、エミッタ領域、コレクタ領域などが形成されている(図示省略)。また、半導体チップ2がFWDである場合、半導体チップ2の内部にはアノード領域、カソード領域などが形成されている(図示省略)。
複数の半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)は、複数の放熱部材4(第1放熱部材41および第2放熱部材42)の間に配置されている。第1半導体チップ21と第2半導体チップ22は、並んで配置されている。第1半導体チップ21と第2半導体チップ22は、左右に隣り合って離間して配置されている。第1半導体チップ21は、第2半導体チップ22から間隔をあけて配置されている。第2半導体チップ22は、第1半導体チップ21から間隔をあけて配置されている。図1に示す例では、第1半導体チップ21が左側に配置されており、第2半導体チップ22が右側に配置されている。第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間には、間隙部25が形成されている。第1半導体チップ21および第2半導体チップ22は、それぞれ、放熱部材4(第1放熱部材41および第2放熱部材42)の表面40に接続されている。
放熱部材4(第1放熱部材41および第2放熱部材42)としては、例えば銅(Cu)やアルミニウム(Al)などの金属板や金属箔を用いることができる。放熱部材4は、熱伝導性および導電性を有している。第1放熱部材41および第2放熱部材42は、間隔をあけて並んで配置されている。第1放熱部材41および第2放熱部材42は、上下に隣り合って離間して配置されている。図1に示す例では、第1放熱部材41が下側に配置されており、第2放熱部材42が上側に配置されている。第1放熱部材41は、複数の半導体チップ2の下方に配置され、第2放熱部材42は、複数の半導体チップ2の上方に配置されている。第1放熱部材41は、第1半導体チップ21の下面および第2半導体チップ22の下面に固定されている。第2放熱部材42は、第1半導体チップ21の上面および第2半導体チップ22の上面に固定されている。
下側の第1放熱部材41と各半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)とは、それぞれはんだ91により接合されている。上側の第2放熱部材42と各半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)との間には、それぞれスペーサー92が配置されている。スペーサー92としては、例えば銅(Cu)やアルミニウム(Al)などの金属のブロック体を用いることができる。各スペーサー92と各半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)とは、それぞれはんだ91により接合されている。上側の第2放熱部材42と各スペーサー92とは、それぞれはんだ91により接合されている。
第1放熱部材41と第2放熱部材42の間には、封止樹脂93が充填されている。封止樹脂93は絶縁性を有している。封止樹脂93の材料としては、例えばエポキシ樹脂を用いることができる。封止樹脂93は、半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)を封止している。また、封止樹脂93は、第1放熱部材41の上面および第2放熱部材42の下面を封止している。つまり、封止樹脂93は、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間の放熱部材4の表面40を封止している。封止樹脂93は、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間の間隙部25に充填されている。間隙部25に位置する第1放熱部材41及び第2放熱部材42の表面も、封止樹脂93によって封止されている。
第1放熱部材41は、熱拡散部材3と絶縁部材56を介して第1冷却器51に接続されている。第2放熱部材42は、熱拡散部材3と絶縁部材56を介して第2冷却器52に接続されている。熱拡散部材3については、後に詳述する。
絶縁部材56は、冷却器5の筐体53の表面に配置されている。絶縁部材56は、冷却器5と熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)の間に配置されている。絶縁部材56は、絶縁性を有する樹脂から形成されている。絶縁部材56は、冷却器5と熱拡散部材3を絶縁している。
冷却器5は、熱拡散部材3の反対側に位置する絶縁部材56の表面に固定されている。冷却器5は、絶縁部材56を介して熱拡散部材3に固定されている。冷却器5は、流れる冷媒を用いて第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32を冷却する。
図2に示すように、冷却器5は、筐体53と、筐体53の内部に配置された複数の隔壁54と備えている。第2冷却器52も第1冷却器51と同様の構成を有している。筐体53は、複数の隔壁54を囲んでいる。複数の隔壁54は、間隔をあけて並んで配置されている。複数の隔壁54は、並行して延びている。隔壁54と隔壁54の間には、流路55が形成されている。複数の流路55は、間隔をあけて並んで形成されている。複数の流路55は、並行して延びている。流路55は、第1半導体チップ21および第2半導体チップ22が並ぶ方向に沿って延びている。筐体53の内部には、例えば水などの液体の冷媒が流れている。冷媒は、隔壁54に沿って流路55を流れる。図2に矢印Lで示すように、冷媒は、第1半導体チップ21が位置する側から第2半導体チップ22が位置する側に向かって流れる。冷却器5内の冷媒の流れ方向Lの上流側の位置に第1半導体チップ21が配置され、下流側の位置に第2半導体チップ22が配置されている。
熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)は、半導体チップ2と反対側において放熱部材4に固定されている。第1熱拡散部材31は、第1半導体チップ21に対向する位置において放熱部材4に接続されている。第2熱拡散部材32は、第2半導体チップ22に対向する位置において放熱部材4に接続されている。第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32は、それぞれ、傾斜部材10(第1傾斜部材101、第2傾斜部材102、または、第3傾斜部材103、第4傾斜部材104)を備えている。第1熱拡散部材31は、第1傾斜部材101および第2傾斜部材102を備えている。第2熱拡散部材32は、第3傾斜部材103および第4傾斜部材104を備えている。第1傾斜部材101および第2傾斜部材102を組み合わせることにより、第1熱拡散部材31が形成されている。また、第3傾斜部材103および第4傾斜部材104を組み合わせることにより、第2熱拡散部材32が形成されている。第1傾斜部材101、第2傾斜部材102、第3傾斜部材103、および、第4傾斜部材104は、配置されている向きが相違するが、同様の構成を有している。
傾斜部材10(第1傾斜部材101、第2傾斜部材102、第3傾斜部材103、第4傾斜部材104)は、図3および図4に示すように、複数のシート材71を備えている。複数のシート材71は、積層されている。複数のシート材71が積層されることにより傾斜部材10が形成されている。シート材71は、炭素系材料から形成されている。よって、傾斜部材10および熱拡散部材3は、炭素系材料を含んでいる。炭素系材料としては、例えば、グラファイト、グラフェン、フラーレン、カーボンナノチューブなどを用いることができる。本実施形態では、炭素系材料としてグラファイトを用いている。傾斜部材10の表面は、薄膜73により覆われている。薄膜73は、傾斜部材10の表面全体を覆っている。薄膜73は、金属から形成されている。本実施形態では、薄膜73は、ニッケルから形成されている。
傾斜部材10は、一端面61、他端面62、側面63、背面64および先端部65を備えている。図4に示すように、熱拡散部材3の一端面61と背面64の間の角度θ1は、30°〜60°が好ましく、45°がより好ましい。また、熱拡散部材3の他端面62と背面64の間の角度θ2は、120°〜150°が好ましく、135°がより好ましい。一端面61および他端面62は、三角形状に形成されている。
傾斜部材10は、例えば次のように作製される。図5および図6に示すように、熱拡散部材3を作製するときはまず、複数のシート材71を積層して積層体72を形成する。シート材71は、上面視において、概して長方形状である。積層体72を形成した後、図7に示すように、積層体72の端部をシート材71の表面に対して斜めに切断する。積層体72が切断されると、図8に示すように、傾斜部材10が形成される。このようにして、炭素系材料からなる熱拡散部材3を作製することができる。
シート材71は、異方性の熱伝導率を有している。シート材71の熱伝導率は、炭素系材料の結晶の配向に依存している。複数のシート材71の積層方向(図4〜図8のw方向)では、シート材71の熱伝導率が低い。複数のシート材71の積層方向に直交する方向(図4〜図8のu方向およびv方向)では、シート材71の熱伝導率が、前記積層方向(w方向)の熱伝導率より高い。すなわち、シート材71の厚み方向では、シート材71の熱伝導率が低く、シート材71の面方向(表面に沿う方向)では、シート材71の熱伝導率が、前記厚み方向の熱伝導率より高い。図4〜図8のw方向は低熱伝導率方向に相当し、u方向は第1高熱伝導率方向に相当し、v方向は第2高熱伝導率方向に相当する。低熱伝導率方向(w方向)、第1高熱伝導率方向(u方向)、および第2高熱伝導率方向(v方向)は、互いに直交している。炭素系材料としてグラファイトを用いる場合、図4〜図8の低熱伝導率方向(w方向)における熱伝導率は、約7W/mKであり、第1高熱伝導率方向(u方向)における熱伝導率は、約1700W/mKであり、第2高熱伝導率方向(v方向)における熱伝導率は、約1700W/mKである。このように、シート材71は、3方向で異なる熱伝導率を有している。炭素系材料の高熱伝導率方向における熱伝導率は、金属の熱伝導率より高い。例えば、金属である無酸素銅の熱伝導率は、約385W/mKである。
シート材71が異方性の熱伝導率を有することから、傾斜部材10も異方性の熱伝導率を有する。傾斜部材10の先端部65から背面64に向かう方向(図4のw方向)は、低熱伝導率方向に相当し、この方向における熱伝導率は低い。傾斜部材10の一端面61から他端面62に向かう方向(図4のu方向)は、第1高熱伝導率方向に相当し、この方向における熱伝導率は、低熱伝導率方向(w方向)の熱伝導率より高い。傾斜部材10の一方の側面63から他方の側面63に向かう方向(図4のv方向)は、第2高熱伝導率方向に相当し、この方向における熱伝導率は、低熱伝導率方向(w方向)の熱伝導率より高い。
図9に示すように、複数の傾斜部材10は、並んで配置されている。複数の傾斜部材10は、異なる方向を向いた状態で配置されている。複数の傾斜部材10は、向かい合って配置されている。複数の傾斜部材10は、それぞれの先端部65が向かい合った状態で配置されている。第1傾斜部材101および第2傾斜部材102が互いに異なる方向を向いた状態で向かい合って並んで配置されることにより、第1熱拡散部材31が形成されている。また、第3傾斜部材103および第4傾斜部材104が互いに異なる方向を向いた状態で向かい合って並んで配置されることにより、第2熱拡散部材32が形成されている。
図1および図9に示すように、第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32は、間隔をあけて並んで配置されている。第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32が左右に隣り合って配置されている。図1に示す例では、複数の第1熱拡散部材31が左側に配置されており、複数の第2熱拡散部材32が右側に配置されている。
第1熱拡散部材31は、第1半導体チップ21に対応して配置されている。第1半導体チップ1の上方および下方にそれぞれ第1熱拡散部材31が配置されている。第1熱拡散部材31は、放熱部材4を介して、第1半導体チップ21と対向する位置に配置されている。第1熱拡散部材31は、第1半導体チップ21の厚み方向(図1のz方向)において第1半導体チップ21と重複する位置に配置されている。第1熱拡散部材31は、放熱部材4と冷却器5の間に配置されている。第1熱拡散部材31は、放熱部材4(第1放熱部材41および第2放熱部材42)の裏面49に接続されている。第1熱拡散部材31の一端は、第1半導体チップ21と対向する位置において放熱部材4に接続されている。第1熱拡散部材31の他端は、絶縁部材56に接続されている。同様に、第2熱拡散部材32は、第2半導体チップ22に対応して配置されている。第2半導体チップ1の上方および下方にそれぞれ第1熱拡散部材31が配置されている。第2熱拡散部材32は、放熱部材4を介して、第2半導体チップ22と対向する位置に配置されている。第2熱拡散部材32は、第2半導体チップ22の厚み方向(図1のz方向)において第2半導体チップ22と重複する位置に配置されている。第2熱拡散部材32は、放熱部材4(第1放熱部材41および第2放熱部材42)の裏面49に接続されている。第2熱拡散部材32の一端は、第2半導体チップ22と対向する位置において放熱部材4に接続されている。第2熱拡散部材32の他端は、絶縁部材56に接続されている。
熱拡散部材3を構成する複数の傾斜部材10は、放熱部材4から冷却器5に向かって斜めに拡がるように配置されている。複数の傾斜部材10(第1傾斜部材101、第2傾斜部材102、第3傾斜部材103、第4傾斜部材104)は、それぞれ、放熱部材4に対して傾いた状態で放熱部材4から冷却器5に向かって延びている。本実施形態では、傾斜部材10は、放熱部材4および冷却器5に対して45°傾斜している。また、傾斜部材10の第1高熱伝導方向(図4のu方向)が、放熱部材4および冷却器5に対して45°傾斜している。第1高熱伝導方向は、放熱部材4から冷却器5に向かう方向に延びている。すなわち、第1高熱伝導方向は、各傾斜部材10の長手方向と一致しており、放熱部材4から絶縁部材56に向かって高い熱伝導率で熱が伝わるようになっている。一方、傾斜部材10の第2高熱伝導方向(図4のv方向)は、放熱部材4および冷却器5と平行に延びている。
第1熱拡散部材31を構成する第1傾斜部材101および第2傾斜部材102は、互いに異なる方向に傾いている。図1および図9に示す例では、第1傾斜部材101は、放熱部材4から冷却器5に向かって斜め左方に延びている。一方、第2傾斜部材102は、放熱部材4から冷却器5に向かって斜め右方に延びている。第1傾斜部材101は、放熱部材4側から冷却器5側に向かうにしたがって第2傾斜部材102から離間するように傾斜している。第2傾斜部材102は、放熱部材4側から冷却器5側に向かうにしたがって第1傾斜部材101から離間するように傾斜している。すなわち、第1傾斜部材101と第2傾斜部材102の間隔は、放熱部材4側よりも冷却器5側において互いに広い。
第2熱拡散部材32を構成する第3傾斜部材103および第4傾斜部材104は、互いに異なる方向に傾いている。図1および図9に示す例では、第3傾斜部材103は、放熱部材4から冷却器5に向かって斜め左方に延びている。一方、第4傾斜部材104は、放熱部材4から冷却器5に向かって斜め右方に延びている。第3傾斜部材103は、放熱部材4側から冷却器5側に向かうにしたがって第4傾斜部材104から離間するように傾斜している。第4傾斜部材104は、放熱部材4側から冷却器5側に向かうにしたがって第3傾斜部材103から離間するように傾斜している。すなわち、第3傾斜部材103と第4傾斜部材104の間の間隔は、放熱部材4側よりも冷却器5側において広い。
隣り合う第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32の間には、間隙部35が形成されている。第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32の間の間隔(間隙部35)は、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間の間隔(間隙部25)に対応して形成されている。第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32の間の間隔(間隙部35)は、放熱部材4を介して、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間の間隔(間隙部25)と対向する位置に配置されている。熱拡散部材3の間隙部35は、半導体チップ2の間隙部25の上方および下方に形成されている。熱拡散部材3の間隙部35は、上下方向(図1のz方向)において半導体チップ2の間隙部25と重複する位置に形成されている。
図1に示すように、熱拡散部材3は、放熱部材4に接している。また、熱拡散部材3は、冷却器5に接している。熱拡散部材3を構成する傾斜部材10は、放熱部材4側の端面と、冷却器5側の端面を有している。傾斜部材10の一端面61が放熱部材4側の端面に相当し、他端面62が冷却器5側の端面に相当する。熱拡散部材3の一端面すなわち、傾斜部材10の一端面61が、放熱部材4に接している。熱拡散部材3の一端面すなわち、傾斜部材10の一端面61は、放熱部材4側を向いている。熱拡散部材3は、ろう付けやはんだ付けにより放熱部材4に固定されている。熱拡散部材3の他端面すなわち、傾斜部材10の他端面62が、絶縁部材56を介して冷却器5に接続されている。熱拡散部材3の他端面すなわち、傾斜部材10の他端面62は、冷却器5側を向いている。
図9および図10に示すように、第1熱拡散部材31を構成する第1傾斜部材101の他端面62および第2傾斜部材102の他端面62の位置と、第2熱拡散部材32を構成する第3傾斜部材103の他端面62および第4傾斜部材104の他端面62の位置とが、冷媒の流れ方向Lにおいて互いに重なり合わない。すなわち、第1熱拡散部材31の冷却器5側の端面の位置と第2熱拡散部材32の冷却器5側の端面の位置は、冷却器5内の冷媒の流れ方向Lに交差する方向において互いに離間している。第1熱拡散部材31の冷却器5側の端面の位置と第2熱拡散部材32の冷却器5側の端面の位置は、冷却器5内の冷媒の流れ方向Lにおいて互いに重なり合わない。
上記の構成を備える半導体装置1によれば、半導体チップ2(第1半導体チップ21および第2半導体チップ22)が通電により発熱すると、半導体チップ2の熱がはんだ91およびスペーサー92を介して放熱部材4(第1放熱部材41および第2放熱部材42)に伝わる。放熱部材4に伝わった熱は、放熱部材4に接続された熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)に伝わる。一方、熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)は、熱拡散部材3に接する冷却器5(第1冷却器51および第2冷却器52)により冷却される。このように、半導体チップ2で発生する熱が熱拡散部材3に伝わると共に熱拡散部材3が冷却器5により冷却される。これにより、半導体チップ2を冷却することができる。
半導体チップ2が発熱を繰り返すと、半導体チップ2および放熱部材4を封止している封止樹脂93が膨張・収縮を繰り返すことにより、封止樹脂93に対して半導体チップ2や放熱部材4から剥離する方向に応力を受ける。特に、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間の部分では、封止樹脂93の膨張・収縮が大きくなりやすく、封止樹脂93が受ける応力が大きくなる。
上記の半導体装置1は、金属の放熱部材4に接続された炭素系材料の熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)を備えている。この半導体装置1では、半導体チップ2から金属の放熱部材4に伝わった熱は、放熱部材4から炭素系材料の熱拡散部材3に伝わる。そして、熱拡散部材3が冷却器5により冷却される。このとき、炭素系材料の熱伝導率が金属の熱伝導率より高いので、炭素系材料の熱拡散部材3を冷却することにより冷却効果を高めることができる。また、金属の代わりに炭素系材料の熱拡散部材3を配置することにより、金属の放熱部材4の厚みを薄くすることができ、放熱部材4の剛性を低減することができる。これにより、半導体チップ2と放熱部材4を封止している封止樹脂93が膨張・収縮を繰り返したとしても、放熱部材4の剛性が低減されているので、封止樹脂93に追従して放熱部材4が撓むことができる。これによって、封止樹脂93に加わる応力を低減することができ、封止樹脂93の剥離を抑制することができる。
また、半導体チップ2で発生した熱が熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)に伝わったとき、熱拡散部材3に熱応力が生じる。このとき、上記の半導体装置1によれば、第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32が間隔をあけて配置されており、間隙部35が形成されているので、この間隙部35により熱拡散部材3で生じる熱応力による影響を軽減することができる。すなわち、応力が生じたときに熱拡散部材3が間隙部35側に撓むことができるので、熱拡散部材3で生じる応力を低減することができる。これにより、熱拡散部材3が接続された放熱部材4に対して、熱拡散部材3の熱応力による影響を少なくすることができ、放熱部材4が封止樹脂93の膨張・収縮に追従して撓みやすくなる。よって、封止樹脂93の剥離を更に低減することができる。
また、第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32の間の間隙部35が第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間の間隙部25に対向する位置になるように、第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32が配置されているので、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間において放熱部材3が熱拡散部材3によって拘束されない。このため、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間において、放熱部材3が、封止樹脂93の膨張・収縮に追従してより撓みやすい。高い応力が生じやすい第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の間の領域において放熱部材3が撓みやすくなっていることで、この領域でも応力を低減することができる。よって、封止樹脂93の剥離を抑制することができる。
また、上記の半導体装置1では、放熱部材4の厚みを薄くすることができ、厚みを略一定にすることができるので、半導体装置1の製造コストを低減することができる。
また、熱拡散部材3を構成する複数の傾斜部材10が放熱部材4に対して傾いた状態で配置されているので、放熱部材4から熱拡散部材3に伝わる熱を傾斜部材10の傾きにより拡散することができる。これにより、冷却効果を高めることができる。すなわち、第1熱拡散部材31を構成する第1傾斜部材101と第2傾斜部材102が、放熱部材4側より冷却器5側ほど離れるように傾いた状態で放熱部材4から冷却器5に向かって延びている。これにより、放熱部材4から第1熱拡散部材31(第1傾斜部材101と第2傾斜部材102)に伝わる熱が拡散し、拡散した熱が冷却器5に伝わる。したがって、熱を拡散してから冷却するので、冷却効果を高めることができる。また、同様に、第2熱拡散部材32を構成する第3傾斜部材103と第4傾斜部材104が、放熱部材4側より冷却器5側ほど離れるように傾いた状態で放熱部材4から冷却器5に向かって延びている。これにより、冷却効果を高めることができる。
また、上記の半導体装置1では、第1熱拡散部材31の冷却器5側の端面の位置と第2熱拡散部材32の冷却器5側の端面の位置が冷却器5内の冷媒の流れ方向Lと交差する方向にずれている。これにより、第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32において、冷却器5に接する端面の位置が冷媒の流れ方向Lにおいて互いに重なり合わないので、冷却効果を高めることができる。すなわち、第1熱拡散部材31の冷却器5側の端面の位置と第2熱拡散部材32の冷却器5側の端面の位置が冷媒の流れ方向Lにおいて互いに重なり合っていると、第1熱拡散部材31を冷却した後の冷媒により第2熱拡散部材32を冷却することになるので、冷却効果を高め難くなる。しかしながら、第1熱拡散部材31の冷却器5側の端面の位置と第2熱拡散部材32の冷却器5側の端面の位置が冷媒の流れ方向Lにおいて互いに重なり合っていないと、新鮮な冷媒により第1熱拡散部材31と第2熱拡散部材32をそれぞれ冷却できるので、冷却効果を高めることができる。
以上、一実施形態について説明したが、具体的な態様は上記実施形態に限定されるものではない。以下の説明において、上述の説明における構成と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
上記実施形態では、熱拡散部材3の冷却器5側の端面が薄膜73および絶縁部材56を介して冷却器5に接している構成であったが、この構成に限定されるものではない。他の実施形態に係る半導体装置1は、図11に示すように、熱拡散部材3と冷却器5との間に配置された金属部材81を備えていてもよい。金属部材81としては、例えば銅(Cu)やアルミニウム(Al)などの金属のブロック体を用いることができる。金属部材81は、上側の熱拡散部材3の上方および下側の熱拡散部材3の下方にそれぞれ配置されている。金属部材81は、熱拡散部材3および冷却器5に接している。熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)の冷却器5側の端面(傾斜部材10の他端面62)が金属部材81に接している。冷却器5(第1冷却器51および第2冷却器52)は、絶縁部材56を介して金属部材81に接している。金属部材81は、熱マスとして機能する。このような構成によれば、金属部材81を備えることにより、熱拡散部材3から金属部材81に熱を逃がすことができる。熱が金属部材81に蓄えられ、この金属部材81を冷却器5が冷却する。
上記実施形態では、金属部材81が熱拡散部材3と冷却器5との間に配置されている構成であったが、この構成に限定されるものではない。他の実施形態では、図12に示すように、放熱部材4の側方に複数の金属部材81が配置されていてもよい。各金属部材81は、放熱部材4の隣に配置されている。各金属部材81は、放熱部材4の左右にそれぞれ配置されている。金属部材81は、封止樹脂93により封止されている。金属部材81は、放熱部材4から離間して配置されている。金属部材81と放熱部材4の間には、接続部材82が配置されている。接続部材82は、金属部材81と放熱部材4に接している。接続部材82を介して、金属部材81と放熱部材4が接続されている。接続部材82は、熱伝導性を有している。接続部材82の材料としては、金属や炭素系材料を用いることができる。このような構成によれば、金属部材81と接続部材82を備えることにより、放熱部材4から接続部材82を介して金属部材81に熱を逃がすことができる。熱が金属部材81に蓄えられ、熱マスとして機能する。
上記実施形態では、放熱部材4と金属部材81の間に接続部材82が配置されていたが、この構成に限定されるものではなく、図13に示すように、接続部材82を省略してもよい。図13に示す実施形態では、放熱部材4の両端部に金属部材81が固定されている。放熱部材4と金属部材81は、一体的に形成されている。金属部材81の一端部181は、封止樹脂93により封止されている。金属部材81の他端部182は、絶縁部材56を介して冷却器5に接している。
また、更に他の実施形態では、図14に示すように、金属部材81が、熱拡散部材3と冷却器5の間、および、放熱部材4の隣に配置されていてもよい。放熱部材4と金属部材81は、一体的に形成されている。金属部材81は、熱拡散部材3(第1熱拡散部材31および第2熱拡散部材32)を囲んでいる。また、放熱部材4と金属部材81によって囲まれた空間183に液体や金属粉末を充填してもよい。例えば、空間183に水や液体金属を充填することができる。あるいは、空間183に銅(Cu)やアルミニウム(Al)の粉末を充填することができる。
また、熱拡散部材3を構成する傾斜部材10の数や配置は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、図15に示すように、熱拡散部材3を構成する傾斜部材10の数を減らすことにより、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22を近づけることができる。図15に示す例では、第1半導体チップ21に対して2つの傾斜部材10が配置されている。第1半導体チップ21の上方および下方において、それぞれ、第1半導体チップ21に対して2つの傾斜部材10が配置されている。図15では、第1半導体チップ21の下方の傾斜部材10のみを示している。同様に、第2半導体チップ22に対して2つの傾斜部材10が配置されている。第2半導体チップ22の上方および下方において、それぞれ、第2半導体チップ22に対して2つの傾斜部材10が配置されている。図15では、第2半導体チップ22の下方に配置された2つの傾斜部材10を示している。また、図15に示す例では、第1熱拡散部材31を構成する傾斜部材10と第2熱拡散部材32を構成する傾斜部材10は、冷媒の流れ方向Lに直行する方向に延びるように配置されている。このような構成によれば、第1半導体チップ21と第2半導体チップ22の距離を短くすることができ、複数の半導体チップ2を高密度で配置することができる。
また、熱拡散部材3を構成する傾斜部材10の形状は、特に限定されるものではない。図15に示す例では、傾斜部材10の一端面61および他端面62が、四角形状に形成されている。
上記実施形態に係る冷却器5では、流れる冷媒を用いていたが、この構成に限定されるものではない。他の実施形態に係る冷却器5では、流れる冷媒を用いなくてもよい。冷却器5は、冷媒を用いないヒートシンクなどであってもよい。
上記実施形態では、熱拡散部材3(複数の第1熱拡散部材31および複数の第2熱拡散部材32)の冷却器5側の端面が、絶縁部材56を介して冷却器5に固定されていたが、この構成に限定されるものではない。他の実施形態では、熱拡散部材3の他端面62が冷却器5に直接接触していてもよい。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
1;半導体装置
2;半導体チップ
3;熱拡散部材
4;放熱部材
5;冷却器
10;傾斜部材
21;第1半導体チップ
22;第2半導体チップ
25;間隙部
31;第1熱拡散部材
32;第2熱拡散部材
35;間隙部
40;放熱部材の表面
41;第1放熱部材
42;第2放熱部材
49;放熱部材の裏面
51;第1冷却器
52;第2冷却器
53;筐体
54;隔壁
55;流路
56;絶縁部材
61;一端面
62;他端面
63;側面
64;背面
65;先端部
71;シート材
72;積層体
73;薄膜
81;金属部材
82;接続部材
91;はんだ
92;スペーサー
93;封止樹脂
101;第1傾斜部材
102;第2傾斜部材
103;第3傾斜部材
104;第4傾斜部材
181;一端部
182;他端部
183;空間

Claims (9)

  1. 金属の放熱部材と、
    前記放熱部材の表面に接続された第1半導体チップと、
    前記第1半導体チップから間隔をあけて前記放熱部材の前記表面に接続された第2半導体チップと、
    前記第1半導体チップ、前記第2半導体チップ、および前記第1半導体チップと前記第2半導体チップの間の前記放熱部材の前記表面を封止する封止樹脂と、
    前記第1半導体チップに対向する位置で前記放熱部材の裏面に接続され、炭素系材料からなる第1熱拡散部材と、
    前記第2半導体チップに対向する位置で前記放熱部材の前記裏面に接続され、炭素系材料からなる第2熱拡散部材と、
    前記放熱部材の反対側において前記第1熱拡散部材および前記第2熱拡散部材を冷却する冷却器と、を備え、
    前記第1熱拡散部材と前記第2熱拡散部材は、間隔をあけて配置されており、前記第1熱拡散部材と前記第2熱拡散部材の間の前記間隔が前記第1半導体チップと前記第2半導体チップの間の前記間隔に対して前記放熱部材を介して対向する位置になるように、前記第1熱拡散部材と前記第2熱拡散部材が配置されている、半導体装置。
  2. 前記冷却器が、流れる冷媒を用いて前記第1熱拡散部材および前記第2熱拡散部材を冷却し、
    前記第1熱拡散部材の前記冷却器側の端面の位置と前記第2熱拡散部材の前記冷却器側の端面の位置が、前記冷媒の流れ方向において互いに重なり合わない、請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第1熱拡散部材および前記第2熱拡散部材は、それぞれ、前記放熱部材に対して傾いた状態で前記放熱部材から前記冷却器に向かって延びている傾斜部材を備える、請求項1又は2に記載の半導体装置。
  4. 前記第1熱拡散部材が、前記放熱部材に対して傾いた状態で前記放熱部材から前記冷却器に向かって延びている第1傾斜部材と、前記冷却器側ほど前記第1傾斜部材から離れるように前記放熱部材に対して傾いた状態で前記放熱部材から前記冷却器に向かって延びている第2傾斜部材を有している、請求項3に記載の半導体装置。
  5. 前記第1熱拡散部材および前記第2熱拡散部材と前記冷却器との間に配置された金属部材を更に備える請求項1から4のいずれかに記載の半導体装置。
  6. 前記放熱部材の側方に配置された金属部材を更に備える請求項1から4のいずれかに記載の半導体装置。
  7. 前記放熱部材と前記金属部材の間に配置され、前記放熱部材と前記金属部材を接続する接続部材を更に備える請求項6に記載の半導体装置。
  8. 前記第1熱拡散部材および前記第2熱拡散部材を囲む金属部材を更に備え、
    前記金属部材によって囲まれた空間に液体または粉末が充填されている請求項1から4のいずれかに記載の半導体装置。
  9. 前記冷却器は、流れる冷媒を用いて前記第1熱拡散部材および前記第2熱拡散部材を冷却し、
    前記傾斜部材は、前記冷却器の前記冷媒の流れ方向に直交する方向に延びている、請求項3または4に記載の半導体装置。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6198068B2 (ja) * 2014-11-19 2017-09-20 株式会社デンソー 電子装置
JP6201966B2 (ja) * 2014-11-25 2017-09-27 株式会社デンソー 電子装置
JP6276721B2 (ja) * 2015-02-06 2018-02-07 日立オートモティブシステムズ株式会社 パワーモジュール
DE112016001711T5 (de) * 2015-04-13 2018-01-04 Abb Schweiz Ag Leistungselektronikmodul
JP6648658B2 (ja) * 2016-09-15 2020-02-14 トヨタ自動車株式会社 電力変換装置
KR20180038597A (ko) * 2016-10-06 2018-04-17 현대자동차주식회사 양면냉각형 파워모듈 및 그 제조방법
KR101956996B1 (ko) * 2016-12-15 2019-06-24 현대자동차주식회사 양면냉각형 파워모듈
US10147664B2 (en) * 2017-04-24 2018-12-04 Xilinx, Inc. Dynamic mounting thermal management for devices on board
KR102574378B1 (ko) * 2018-10-04 2023-09-04 현대자동차주식회사 파워모듈
JP7180490B2 (ja) * 2019-03-26 2022-11-30 株式会社デンソー 半導体装置およびその製造方法
KR102564459B1 (ko) * 2019-05-09 2023-08-07 현대자동차주식회사 양면 냉각 파워모듈의 스페이서 구조 및 그 제조 방법

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6434000B1 (en) * 1998-12-03 2002-08-13 Iv Phoenix Group, Inc. Environmental system for rugged disk drive
JP4016271B2 (ja) * 2003-03-26 2007-12-05 株式会社デンソー 両面冷却型半導体モジュール
US7768785B2 (en) * 2004-09-29 2010-08-03 Super Talent Electronics, Inc. Memory module assembly including heat-sink plates with heat-exchange fins attached to integrated circuits by adhesive
JP2006128571A (ja) * 2004-11-01 2006-05-18 Toyota Motor Corp 半導体装置
US7400506B2 (en) * 2006-07-11 2008-07-15 Dell Products L.P. Method and apparatus for cooling a memory device
KR20090051640A (ko) * 2007-11-19 2009-05-22 삼성전자주식회사 반도체 소자용 히트싱크 및 이를 포함하는 반도체 모듈
KR101589441B1 (ko) * 2009-08-07 2016-01-28 삼성전자주식회사 반도체 모듈
US8902589B2 (en) * 2010-04-21 2014-12-02 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor module and cooler
JP5397340B2 (ja) 2010-07-22 2014-01-22 株式会社デンソー 半導体冷却装置
CN102456203B (zh) * 2010-10-22 2015-10-14 阿里巴巴集团控股有限公司 确定候选产品链表的方法及相关装置
JP5316602B2 (ja) 2010-12-16 2013-10-16 株式会社日本自動車部品総合研究所 熱拡散部材の接合構造、発熱体の冷却構造、及び熱拡散部材の接合方法
JP5529208B2 (ja) * 2011-08-25 2014-06-25 トヨタ自動車株式会社 パワーモジュールの構造及び成形方法
JP5840933B2 (ja) * 2011-11-15 2016-01-06 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP5851878B2 (ja) * 2012-02-21 2016-02-03 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体モジュールの製造方法
JP2014017412A (ja) * 2012-07-10 2014-01-30 Nippon Soken Inc 熱拡散装置
US9420731B2 (en) * 2013-09-18 2016-08-16 Infineon Technologies Austria Ag Electronic power device and method of fabricating an electronic power device

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