JP6085909B2 - マスクアライメント装置、マスクアライメント方法、フィルム製造装置、フィルム製造方法 - Google Patents
マスクアライメント装置、マスクアライメント方法、フィルム製造装置、フィルム製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6085909B2 JP6085909B2 JP2012146492A JP2012146492A JP6085909B2 JP 6085909 B2 JP6085909 B2 JP 6085909B2 JP 2012146492 A JP2012146492 A JP 2012146492A JP 2012146492 A JP2012146492 A JP 2012146492A JP 6085909 B2 JP6085909 B2 JP 6085909B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- image
- imaging
- pattern
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
これにより、ロールを用いて基材を搬送する場合に、マスクのアライメントが容易になる。
図1は、位相差フィルム製造装置200の概略構成を示す図である。図に示すように、位相差フィルム製造装置200は、フィルム供給装置20から繰り出された長尺の基材フィルム1に対し、光配向材料塗布装置21、乾燥装置22、露光装置23、液晶材料塗布装置24、乾燥装置25、照射装置26による処理を行い、位相差フィルムを形成した後、これをフィルム巻取装置27に巻き取るものである。本実施形態において、この位相差フィルムは前記したFPRフィルムであるものとする。
乾燥装置22は、塗布された配向膜を乾燥させるものである。
詳しくは後述するが、マスク3は、基材フィルム1の搬送方向(以下、基材搬送方向という)に沿った透光部と非透光部のパターンを、基材搬送方向と直交する基材フィルム1の幅方向(以下、基材幅方向という)に交互に並べたものであり、この透光部と非透光部のパターンが、前記した2種類の領域のそれぞれと対応する。
乾燥装置25は、塗布された液晶材料を乾燥させるとともに、加熱による配向処理を行うものである。
照射装置26は、液晶材料にUV(ultra violet)光を照射し、これを硬化させるものである。
次に、この位相差フィルム製造装置200を用いた位相差フィルムの製造方法について、図2を参照して説明する。図2は、基材フィルム1上の断面構成を基材幅方向に沿って示したものである。
基材フィルム1としては、例えば、透明樹脂製のフィルムを使用することができる。しかしながら、基材フィルム1は、最終的に製造されるフィルムの用途に応じて決定され、これに限定されることはない。
図3は、本実施形態に係るマスクアライメント装置100を模式的に表した図である。
第1撮像部7、第2撮像部8は、マスク3やロール2aの罫書線6を撮像するものである。これら第1撮像部7、第2撮像部8としては、例えば、撮像レンズと、撮像レンズを通過した被写体像を2次元の画像信号に変換するCCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary
Metal-oxide Semiconductor)等の電子撮像部等を備えたカメラを用いることができるが、これに限ることはない。
Memory)、RAM(Random Access Memory)等で構成される。
CPUは、記憶部102、ROM、記録媒体等に格納されるプログラムをRAM上のワークメモリ領域に呼び出して実行し、バス105を介して接続された各装置を駆動制御し、画像処理装置51が行う後述の処理を実現する。ROMは、不揮発性メモリであり、プログラムやデータ等を恒久的に保持している。RAMは、揮発性メモリであり、記憶部102、ROM、記録媒体等からロードしたプログラム、データ等を一時的に保持するとともに、制御部101が各種処理を行う為に使用するワークエリアを備える。
通信部104は、ネットワーク等を介した通信を媒介する通信インタフェースである。
バス105は、各装置間の制御信号、データ信号等の授受を媒介する経路である。
続いて、上記したマスクアライメント装置100を用いたマスクアライメント方法について説明する。図5は、マスクアライメント方法において、画像処理装置51が実行するフローの一例を示す図である。
本実施形態では、まず、図6に示すように、カメラステージ9の位置を基準位置に移動させ、第1撮像部7、第2撮像部8によりマスク3の撮像を行う。これを「基準撮像」と呼ぶ。画像処理装置51は、これら第1撮像部7、第2撮像部8で撮像されたマスク3の画像を取得する(S1)。
S1におけるマスク3の撮像状況の詳細について、図7を用いて説明する。図7は、基材搬送方向を縦方向、基材幅方向を横方向として、第1撮像部7で撮像を行う領域7bと第2撮像部8で撮像を行う領域8bを示したものである。
第1撮像部7、第2撮像部8で撮像された画像データの例を、図8に示す。(a)は第1撮像部7により撮像された画像データであり、(b)は第2撮像部8により撮像された画像データである。
次に、画像処理装置51は、第1撮像部7、第2撮像部8で撮像した画像データから、第1撮像部7のカメラ軸7aとマスクパターン3aがなす傾斜角θ1と、第2撮像部8のカメラ軸8aとマスクパターン3aがなす傾斜角θ2を測定し、これらの差(θ2−θ1)を、第1撮像部7と第2撮像部8の取付角のずれ量として算出する(S2)。
次に、図9に示すように、カメラステージ9の位置をレール13に沿って移動させ、第1撮像部7でロール2aの罫書線6の撮像、第2撮像部8でマスク3の撮像を行う。これを「アライメント撮影」と呼ぶ。画像処理装置51は、これら第1撮像部7、第2撮像部8で撮像された罫書線6、マスク3の画像を取得する(S3)。
S3における罫書線6およびマスク3の撮像状況の詳細について、図10を用いて説明する。図10は、基材搬送方向を縦方向、基材幅方向を横方向として、第1撮像部7で撮像を行う領域7bと第2撮像部で撮像を行う領域8bを示したものである。
第1撮像部7、第2撮像部8で撮像された画像データの例を、図11に示す。(a)は第1撮像部7により撮像された画像データであり、(b)は第2撮像部8により撮像された画像データである。これらの画像データ上で、罫書線6、マスクパターン3aは、それぞれ、α1、α2の傾斜角度で傾斜している。
次に、画像処理装置51は、第1撮像部7、第2撮像部8で撮像した画像データから、第1撮像部のカメラ軸7aと罫書線6がなす傾斜角α1と、第2撮像部のカメラ軸8aとマスクパターン3aがなす傾斜角α2を測定し、これらの差(α2−α1)を、マスクパターン3aと基材搬送方向のずれ量として算出する(S4)。
なお、ここで算出されるマスクパターン3aと基材搬送方向のずれ量(α2−α1)は、前記のS2で求めた、第1撮像部7と第2撮像部8の取付角のずれ量(θ2−θ1)を内包している。
次に、画像処理装置51は、S2で算出した、
・マスクパターン3aの傾斜角θ1
・マスクパターン3aの傾斜角θ2
・第1撮像部7と第2撮像部8の取付角のずれ量(θ2−θ1)
、および、S4で算出した、
・罫書線6の傾斜角α1
・マスクパターン3aの傾斜角α2
・マスクパターン3aと基材搬送方向のずれ量(α2−α1)
をモニタ52に表示する(S5)。この例を図12に示す。
2a、2b:ロール
3:マスク
3a:マスクパターン
6:罫書線
7:第1撮像部
8:第2撮像部
9:カメラステージ
10:コントローラ
11:配向膜
13:レール
14:撮像装置
23:露光装置
23a:パターン露光部
23b:ベタ露光部
30、31:直線偏光
35:位相差層
41:位相差フィルム
51:画像処理装置
52:モニタ
53:位置調整装置
100:マスクアライメント装置
200:位相差フィルム製造装置
α1、α2、θ1、θ2:傾斜角
Claims (5)
- 搬送装置に沿って搬送される基材上に光を照射する際に用いる、前記基材の搬送方向に平行なパターンを有するマスクの位置調整を行うマスクアライメント装置であって、
第1撮像部と第2撮像部を有する撮像手段と、
前記撮像手段を移動させる移動手段と、
画像処理手段と、
前記マスクの、前記基材の搬送方向に対する角度を調整する位置調整手段と、
を有し、
前記画像処理手段は、
前記撮像手段の前記第1撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度の差を算出し、
前記移動手段により移動された前記撮像手段の前記第1撮像部が撮像した、前記搬送装置が有する前記基材の搬送方向の基準線の画像における前記基準線の傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度の差を算出し、
2つの前記差の算出は、独立して行われることを特徴とするマスクアライメント装置。 - 前記搬送装置はロールであり、
前記基準線は、前記ロールに設けた罫書線であることを特徴とする請求項1に記載のマスクアライメント装置。 - 搬送装置に沿って搬送される基材上に光を照射する際に用いる、前記基材の搬送方向に平行なパターンを有するマスクの位置調整を行うマスクアライメント方法であって、
撮像手段が有する第1撮像部と第2撮像部により、前記マスクを撮像する第1の撮像ステップと、
前記撮像手段を移動させる移動ステップと、
前記撮像手段の前記第1撮像部により前記搬送装置が有する前記基材の搬送方向の基準線を撮像し、前記第2撮像部により前記マスクを撮像する第2の撮像ステップと、
前記マスクの、前記基材の搬送方向に対する傾斜角度を調整する位置調整ステップと、
を具備し、
前記位置調整ステップでは、
画像処理装置により算出した、
前記第1の撮像ステップにおいて、前記第1撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度との差と、
前記第2の撮像ステップにおいて、前記第1撮像部が撮像した、前記搬送装置が有する前記基材の搬送方向の基準線の画像における前記基準線の傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度との差と、
に基づいて、前記マスクの傾斜角度を調整し、
2つの前記差の算出は、独立して行われることを特徴とするマスクアライメント方法。 - 基材上に露光によるパターンを形成したフィルムを製造するフィルム製造装置であって、
前記基材を搬送する搬送装置と、
前記搬送装置に沿って搬送される前記基材上に、前記基材の搬送方向に平行なパターンを有するマスクを介して光を照射する露光装置と、
前記マスクの位置調整を行うマスクアライメント装置と、
を備え、
前記マスクアライメント装置は、
第1撮像部と第2撮像部を有する撮像手段と、
前記撮像手段を移動させる移動手段と、
画像処理手段と、
前記マスクの、前記基材の搬送方向に対する角度を調整する位置調整手段と、
を有し、
前記画像処理手段は、
前記撮像手段の前記第1撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度の差を算出し、
前記移動手段により移動された前記撮像手段の前記第1撮像部が撮像した、前記搬送装置が有する前記基材の搬送方向の基準線の画像における前記基準線の傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度の差を算出し、
2つの前記差の算出は、独立して行われることを特徴とするフィルム製造装置。 - 基材上に露光によるパターンを形成したフィルムを製造するフィルム製造方法であって、
搬送装置に沿って搬送される前記基材上に、前記基材の搬送方向に平行なパターンを有するマスクを介して光を照射し、
前記マスクの位置調整を、
撮像手段が有する第1撮像部と第2撮像部により、前記マスクを撮像する第1の撮像ステップと、
前記撮像手段を移動させる移動ステップと、
前記撮像手段の前記第1撮像部により前記搬送装置が有する前記基材の搬送方向の基準線を撮像し、前記第2撮像部により前記マスクを撮像する第2の撮像ステップと、
前記マスクの、前記基材の搬送方向に対する傾斜角度を調整する位置調整ステップと、
により行い、
前記位置調整ステップでは、
画像処理装置により算出した、
前記第1の撮像ステップにおいて、前記第1撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度との差と、
前記第2の撮像ステップにおいて、前記第1撮像部が撮像した、前記搬送装置が有する前記基材の搬送方向の基準線の画像における前記基準線の傾斜角度と、前記第2撮像部が撮像した前記マスクの画像における前記パターンの傾斜角度との差と、
に基づいて、前記マスクの傾斜角度を調整し、
2つの前記差の算出は、独立して行われることを特徴とするフィルム製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012146492A JP6085909B2 (ja) | 2012-06-29 | 2012-06-29 | マスクアライメント装置、マスクアライメント方法、フィルム製造装置、フィルム製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012146492A JP6085909B2 (ja) | 2012-06-29 | 2012-06-29 | マスクアライメント装置、マスクアライメント方法、フィルム製造装置、フィルム製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014010270A JP2014010270A (ja) | 2014-01-20 |
JP6085909B2 true JP6085909B2 (ja) | 2017-03-01 |
Family
ID=50107042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012146492A Active JP6085909B2 (ja) | 2012-06-29 | 2012-06-29 | マスクアライメント装置、マスクアライメント方法、フィルム製造装置、フィルム製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6085909B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004056059A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-19 | Sony Corp | アライメント方法、アライメント装置、及び電子線露光装置 |
JP2006268032A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置および描画装置の校正方法 |
JP4777682B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2011-09-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | スキャン露光装置 |
JP2012027271A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-02-09 | Toppan Printing Co Ltd | 露光装置、露光方法、カラーフィルタの製造方法。 |
JP2012049326A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Nsk Technology Co Ltd | マスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法 |
-
2012
- 2012-06-29 JP JP2012146492A patent/JP6085909B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014010270A (ja) | 2014-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4777682B2 (ja) | スキャン露光装置 | |
TWI461842B (zh) | 壓印設備和圖案轉印方法 | |
CN110083009B (zh) | 压印方法、压印装置和器件制造方法 | |
JP5862616B2 (ja) | 光配向用偏光光照射装置及び光配向用偏光光照射方法 | |
JP5341941B2 (ja) | 配向処理方法および配向処理装置 | |
US9387607B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method for producing device | |
CN108136764B (zh) | 电子设备用的转印装置以及电子设备用的转印方法 | |
JP2016018824A (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP4304165B2 (ja) | 露光方法および露光装置 | |
CN104834043B (zh) | 偏振光照射装置 | |
JP2011091235A (ja) | インプリント方法及びインプリント装置、それを用いた物品の製造方法 | |
CN109153249A (zh) | 校准方法及校准装置 | |
JP2017022243A (ja) | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 | |
JP6004157B2 (ja) | 3次元液晶表示装置の製造装置及び製造方法 | |
JP5827335B2 (ja) | パターン位相差フィルムの製造方法、パターン位相差フィルム及び画像表示装置 | |
WO2013039100A1 (ja) | フィルム露光装置 | |
JP6085909B2 (ja) | マスクアライメント装置、マスクアライメント方法、フィルム製造装置、フィルム製造方法 | |
JP5150309B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
CN104136973B (zh) | 偏光膜粘合装置 | |
JP5418559B2 (ja) | パターン位相差フィルムの製造方法及びマスク | |
JP5884120B2 (ja) | フィルム露光装置 | |
JP2019039823A (ja) | 検査装置 | |
JP4631497B2 (ja) | 近接露光装置 | |
WO2012132561A1 (ja) | 液晶用配向膜露光方法及びそのシステム並びにそれを用いて製作された液晶パネル | |
JP4738887B2 (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150514 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160309 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160510 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160707 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6085909 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |