JP6073617B2 - 液状化対策のための地盤改良体及びその形成方法 - Google Patents
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Description
我が国では、プレート境界型巨大地震の発生により地盤の液状化現象が発生し、これによる大規模な被害が予想されている。実際、東日本大震災では、埋立地、堤防や盛り土、護岸等で液状化現象が発生して、様々な被害をもたらした。このため、近い将来発生すると予測されている大規模地震に備えて、早急に液状化対策を行うことが望まれている。本発明の実施形態に係る液状化対策工法は、深層混合処理工法を利用して地盤改良体を形成することを基本として、改良対象地盤上に既存建造物が存在する場所と、既存建造物が存在しない場所とで地盤改良体の深度を異ならせると共に、既存建造物の下部を略支えるように略鉛直方向の地盤改良体を形成し、あるいは既存建造物の下部を略覆うように略水平方向の地盤改良体を形成することを特徴としたものである。
本発明の実施形態に係る地盤改良体を形成するには、深層混合処理工法の一種である高圧噴射攪拌工法を用いる。図11を参照して、高圧噴射攪拌工法について説明する。高圧噴射攪拌工法は、図11に示すように、先端部に噴射口52を有する噴射管51を改良対象地盤の内部に貫入し、噴射口52から所定圧力及び所定噴射量で地盤改良材(硬化材)を噴射しながら噴射管51を回転させることより、土壌を攪拌しながら地盤改良材(硬化材)を混入して、改良対象地盤の内部に地盤改良体10a、10b、21、22を形成する工法である。
第1の地盤改良体10a、10bは、略鉛直方向の壁状となっており、改良対象地盤上に既存建造物40が存在する場所と、既存建造物40が存在しない場所とで、その深度が異なっている。例えば、図4及び図9に示すように、公用地(公用道路30)のように、改良対象地盤上に既存建造物40が存在しない場所では、従来と同様に、下端部が基盤層まで達する地盤改良体10aを形成する。一方、例えば、図4及び図9に示すように、個人用住宅地のように、既存建造物40が存在する場所では、従来よりも浅い深度の地盤改良体10bを形成する。すなわち、既存建造物40が存在する場所に形成される地盤改良体10bは、下端部が基盤層まで達していない。
図1〜図5に示すように、第2の地盤改良体21は、既存建造物40の直下付近の地盤中において、当該既存建造物40の下部を略支えるように形成したものである。すなわち、既存建造物40の周囲の地盤中に、第1の地盤改良体10bを形成するのと同じ深さまで噴射管51を貫入し、格子状の地盤改良体10bの内側へ壁状の第2の地盤改良体21を形成する。
本実施形態では、改良対象地盤中に噴射管51を貫入し、噴射口52から所定圧力及び所定噴射量で地盤改良材(硬化材)を噴射することにより、地盤改良体10a、10b、21、22を形成する。この際、改良対象地盤上に既存建造物40が存在しない場所(例えば公用道路30)では、下端部が基盤層まで達するように、略鉛直方向に壁状の第1の地盤改良体10aを形成する。一方、改良対象地盤上に既存建造物40が存在する場所(例えば個人用住宅地)では、改良対象地盤上に既存建造物40が存在しない場所と比較して、深度が浅い第1の地盤改良体10bを形成する。
10a、10b 第1の地盤改良体
21 第2の地盤改良体(略鉛直方向)
22 第2の地盤改良体(略水平方向)
30 公用道路
40 既存建造物
51 噴射管
52 噴射口
Claims (4)
- 既存建造物が存在する区域を含む改良対象地盤中に噴射管を貫入し、当該噴射管の先端部から前記改良対象地盤中に地盤改良材を噴射する高圧噴射撹拌工法により、当該改良対象地盤中に形成した地盤改良体であって、略鉛直方向の第1の地盤改良体と、略鉛直方向もしくは略水平方向の第2の地盤改良体とからなり、
前記第1の地盤改良体は、前記改良対象地盤上に既存建造物が存在しない区域において、その下端部が基盤層まで達するように形成すると共に、既存建造物が存在する区域において、その下端部が基盤層まで達しないように形成し、
前記第2の地盤改良体は、前記既存建造物の直下付近の地盤中において、当該既存建造物の下部の一部分を支えるように、もしくは当該既存建造物の下部の一部分を覆うように形成する、
ことを特徴とする液状化対策のための地盤改良体。 - 前記第2の地盤改良体は、前記第1の地盤改良体に直接連続して形成する、
ことを特徴とする請求項1に記載の液状化対策のための地盤改良体。 - 既存建造物が存在する区域を含む改良対象地盤中に噴射管を貫入し、当該噴射管の先端部から前記改良対象地盤中に地盤改良材を噴射する高圧噴射撹拌工法により、改良対象地盤の液状化強度を向上させるための地盤改良体の形成方法であって、
前記改良対象地盤中に略鉛直方向の第1の地盤改良体を形成する工程と、
前記改良対象地盤上に存在する既存建造物の直下付近において、当該既存建造物の下部の一部分を支える略鉛直方向、もしくは当該既存建造物の下部の一部分を覆う略水平方向の第2の地盤改良体を形成する工程と、を含み、
前記第1の地盤改良体は、前記既存建造物が存在しない区域において、その下端部が基盤層まで達するように形成すると共に、前記既存建造物が存在する区域において、その下端部が基盤層まで達しないように形成する、
ことを特徴とする液状化対策のための地盤改良体の形成方法。 - 前記第2の地盤改良体を形成する工程において、前記第2の地盤改良体は、前記第1の地盤改良体を形成する際に、前記第1の地盤改良体に直接連続して形成する、
ことを特徴とする請求項3に記載の液状化対策のための地盤改良体の形成方法。
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