JP6069941B2 - 投影露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
投影露光装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6069941B2 JP6069941B2 JP2012176501A JP2012176501A JP6069941B2 JP 6069941 B2 JP6069941 B2 JP 6069941B2 JP 2012176501 A JP2012176501 A JP 2012176501A JP 2012176501 A JP2012176501 A JP 2012176501A JP 6069941 B2 JP6069941 B2 JP 6069941B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- mask
- light
- imaging optical
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 121
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 111
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 91
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 75
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 22
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 16
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 38
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 102100031948 Enhancer of polycomb homolog 1 Human genes 0.000 description 1
- 102100031941 Enhancer of polycomb homolog 2 Human genes 0.000 description 1
- 101000920634 Homo sapiens Enhancer of polycomb homolog 1 Proteins 0.000 description 1
- 101000920664 Homo sapiens Enhancer of polycomb homolog 2 Proteins 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Lenses (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
特許文献1に開示されたプロセスでは、印刷方式(インクジェット等の液滴法)によって、一連のパターニング工程を実現しているが、要求されるパターニング微細度(線幅等)が数十μmから数μm程度に高まると、ロール方式のプロセスにおいても、光パターニング(露光技術)が必要になるものと予想されている。
その場合、一定速度で送られる可撓性の長尺状のフィルムやシートの光感応層に、有機EL等による表示デバイス(ディスプレーパネル)用のマスクパターンを連続的に繰り返して忠実に転写する投影型の露光装置が必要であり、そのような露光装置として、円筒状の透過型マスクを使った露光技術が提案されている(特許文献2参照)。
また、連続的な繰り返し露光の為に、反射型の円筒状マスクを使って、半導体ウェハ上の複数のショット領域を走査露光する露光装置も提案されている(特許文献3参照)。
透過型の円筒マスクの場合には、特許文献2に開示されているように、円筒マスクの内部を中空にして露光用の光(照明光やマスクパターンからの結像光)を円筒マスクの外周方向に向ける必要がある為、円筒マスクの構造、露光装置側の構成が複雑になる傾向がある。一方、反射型の円筒マスクを用いる場合には、マスクの外周空間に、露光用の照明光を照射する照明光学系と、外周面に形成されたパターンからの反射光を基板(フィルムやシート)に向けて投影する投影光学系とを設ける必要があり、要求される解像力や転写忠実度等を満たす為には、同様に、装置側の構成が複雑になる懸念がある。
まず、投影露光装置の第1実施形態について、図1を参照して説明する。
図1は、投影露光装置を原理的に示す概略的な構成図である。
なお、本実施形態では、鉛直方向をZ方向とし、マスク保持部MU及び基板保持部PUの回転軸線と平行な方向をY方向とし、Z方向及びY方向と直交する方向をX方向として説明する。
次に、投影露光装置の第2実施形態について、図2を参照して説明する。
この図において、図1に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第1実施形態では、投影露光装置EXを原理的に説明したが、第2実施形態では投影露光装置EXの具体的な構成について説明する。
次に、投影露光装置の第3実施形態について、図3を参照して説明する。
この図において、図2に示す第2実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第2実施形態では、マスク保持部MUが円筒面に沿って反射型マスクMを保持する構成としたが、第3実施形態では、無端帯状の反射型マスクMを周回させる構成について説明する。
他の構成は、上記第2実施形態と同様である。
この構成を採ることにより、感応基板Pに対する像面形状を補正するための調整部についても不要とすることができる。
このようなステージSTは、図4中の無端ベルト状のマスクMを、先の図1や図2のような円筒状のマスクMに置き換えた場合(円筒面上のパターンを投影露光する場合)であっても、同様に適用可能である。
次に、投影露光装置の第4実施形態について、図5を参照して説明する。
この図において、図2に示す第2実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第2実施形態では、光源LSから射出された光のうち、S偏光の光を用いてマスクMのパターンを感応基板Pに投影露光したが、本実施形態では光源LSからS偏光及びP偏光の光を射出させ、各偏光の光をそれぞれ用いて投影露光する構成について説明する。
次に、投影露光装置の第5実施形態について、図6及び図7を参照して説明する。
これらの図において、図5に示す第4実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第4実施形態では、第1露光部EX1においてマスクMのパターンを感応基板Pに投影露光し、第2露光部EX2において第2マスクM2の第2パターンを第2感応基板P2に投影露光する構成としたが、本実施形態では、第2露光部EX2においてもマスクMのパターンを感応基板Pに投影露光する場合について説明する。
図6及び図7に示すように、本実施形態における投影露光装置EXは、無端帯状(無限軌道状)の反射型マスクMを周回させる周回保持部MUa、MUbと、感応基板PをXY平面に沿って非接触で支持するステージSTと、2つの第1露光部EX1と2つの第2露光部EX2とを備えている。
なお、感応基板Pを支持する構成としては、マスクMと同様に、無端帯状(無限軌道状)の感応基板Pを周回させる周回保持部を設ける構成としてもよい。
次に、上記の投影露光装置EXを備えたデバイス製造システムについて、図8を参照して説明する。
図8は、デバイス製造システム(フレキシブル・ディスプレー製造ライン)SYSの一部の構成を示す図である。ここでは、供給ロールFR1から引き出された可撓性の基板P(シート、フィルム等)が、順次、n台の処理装置U1,U2,U3,U4,U5,…Unを経て、回収ロールFR2に巻き上げられるまでの例を示している。上位制御装置CONTは、製造ラインを構成する各処理装置U1〜Unを統括制御する。
このように、本発明の各実施形態のような露光装置では、円筒状、又は無端ベルト状のマスクの外周空間、或いは内側の空間内に照明光学系を設ける必要がなくなり、装置構成をシンプル化することができる。
Claims (7)
- 反射型マスクに形成されたパターンを感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、
第1反射型マスクと第1感応基板との間に前記第1反射型マスクのパターンの中間像を形成する第1結像光学系と、該中間像を前記第1感応基板上に再結像する第2結像光学系とを有する第1投影光学系と、
前記第1反射型マスクに向けた照明光を生成する第1照明系と、
前記第1結像光学系と前記第2結像光学系との間の前記中間像が形成される位置に配置され、前記第1照明系で生成される照明光を、前記第1結像光学系を介して前記第1反射型マスクに向かうように導くとともに、前記第1反射型マスクからの結像光を、前記第1結像光学系を介して前記第2結像光学系に向かうように導く第1光分割器と、
第2反射型マスクと第2感応基板との間に前記第2反射型マスクのパターンの中間像を形成する第3結像光学系と、該中間像を前記第2感応基板上に再結像する第4結像光学系とを有する第2投影光学系と、
前記第1光分割器に入射した前記第1照明系からの照明光のうち、前記第1反射型マスクに向かわない照明光を導入して、前記第2反射型マスクに向けた照明光を生成する第2照明系と、
前記第3結像光学系と前記第4結像光学系との間の前記中間像が形成される位置に配置され、前記第2照明系で生成される照明光を、前記第3結像光学系を介して前記第2反射型マスクに向かうように導くとともに、前記第2反射型マスクからの結像光を、前記第3結像光学系を介して前記第4結像光学系に向かうように導く第2光分割器と、
を備えた投影露光装置。 - 前記第1反射型マスクと前記第2反射型マスクとを共に保持するマスク保持部を備え、
前記第1感応基板と前記第2感応基板とは、1つの感応基板の移動方向に離間した2つの部分であり、
前記第1投影光学系の投影領域と前記第2投影光学系の投影領域とは、前記1つの感応基板の移動方向に離間し、且つ前記移動方向と直交する方向に関して一部重複して配置される、請求項1記載の投影露光装置。 - 前記第1反射型マスクと前記第2反射型マスクとを、所定の軸線周りに円筒面状に保持して回転可能なマスク保持部を備える、請求項1記載の投影露光装置。
- 前記第1投影光学系は、前記マスク保持部によって円筒面状に保持される前記第1反射型マスクのパターンの像面形状を、前記円筒面の形状に応じて調整する第1調整部を備え、
前記第2投影光学系は、前記マスク保持部によって円筒面状に保持される前記第2反射型マスクのパターンの像面形状を、前記円筒面の形状に応じて調整する第2調整部を備える、請求項3記載の投影露光装置。 - 前記第1感応基板と前記第2感応基板は、可撓性を有する長尺のシート基板であり、
所定の曲率半径で湾曲した円筒面状の外周面に倣って前記シート基板を支持して回転する回転ドラムを備える、請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載の投影露光装置。 - 前記第1光分割器と前記第2光分割器の各々は、偏光ビームスプリッタを含む、
請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載の投影露光装置。 - 請求項1から6のいずれか一項に記載の投影露光装置を用いて基板を露光することと、 露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012176501A JP6069941B2 (ja) | 2012-08-08 | 2012-08-08 | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012176501A JP6069941B2 (ja) | 2012-08-08 | 2012-08-08 | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014035449A JP2014035449A (ja) | 2014-02-24 |
JP2014035449A5 JP2014035449A5 (ja) | 2015-08-13 |
JP6069941B2 true JP6069941B2 (ja) | 2017-02-01 |
Family
ID=50284466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012176501A Active JP6069941B2 (ja) | 2012-08-08 | 2012-08-08 | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6069941B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7235679B2 (ja) | 2019-03-03 | 2023-03-08 | 広東美的制冷設備有限公司 | 空調室内機及び空気調和機 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6028350B2 (ja) * | 2012-03-16 | 2016-11-16 | 株式会社ニコン | 基板処理装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法 |
CN108604063A (zh) * | 2015-11-30 | 2018-09-28 | 株式会社尼康 | 曝光装置、曝光***、基板处理方法、以及元件制造装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3395801B2 (ja) * | 1994-04-28 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法 |
DE10005189A1 (de) * | 2000-02-05 | 2001-08-09 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage mit reflektivem Retikel |
JP2003241099A (ja) * | 2002-12-02 | 2003-08-27 | Nikon Corp | 反射屈折投影光学系、並びに投影露光方法及び装置 |
WO2005096098A2 (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objective, projection exposure apparatus and reflective reticle for microlithography |
JP4984631B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2012-07-25 | 株式会社ニコン | 露光装置及び方法、露光用マスク、並びにデバイス製造方法 |
KR101422298B1 (ko) * | 2006-09-08 | 2014-08-13 | 가부시키가이샤 니콘 | 마스크, 노광 장치, 노광 방법 및 그 노광 장치 또는 노광 방법을 이용한 디바이스 제조 방법 |
JP5282895B2 (ja) * | 2009-03-06 | 2013-09-04 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP5724564B2 (ja) * | 2010-04-13 | 2015-05-27 | 株式会社ニコン | マスクケース、マスクユニット、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法 |
JP5708179B2 (ja) * | 2010-04-13 | 2015-04-30 | 株式会社ニコン | 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法 |
WO2011129369A1 (ja) * | 2010-04-13 | 2011-10-20 | 株式会社ニコン | 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法 |
-
2012
- 2012-08-08 JP JP2012176501A patent/JP6069941B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7235679B2 (ja) | 2019-03-03 | 2023-03-08 | 広東美的制冷設備有限公司 | 空調室内機及び空気調和機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014035449A (ja) | 2014-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6436216B2 (ja) | 投影露光装置 | |
JP6350687B2 (ja) | 走査露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP6384579B2 (ja) | パターン露光方法、及びパターン形成方法 | |
JP6635167B2 (ja) | 投影露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP6069941B2 (ja) | 投影露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP6493595B2 (ja) | 走査露光装置、及びデバイス製造方法 | |
WO2013150898A1 (ja) | マスク移動装置、マスク保持装置、露光装置及び基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150624 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150624 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160530 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160905 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161219 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6069941 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |