JP6050953B2 - リニアモータおよびリニアモータを含むリソグラフィ構成 - Google Patents
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Description
A.例示的反射型および透過型リソグラフィシステム
[0021] 図1Aおよび図1Bは、それぞれリソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’を概略的に示す。リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’の各々は、放射ビームB(例えば、DUVまたはEUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えば、マスク、レチクルまたは動的パターニングデバイス)MAを支持するように構成され、かつパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されているサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、基板(例えば、レジストコート基板)Wを保持するように構成され、かつ基板Wを正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結されている基板テーブル(例えば、基板テーブル)WTとを備える。リソグラフィ装置100および100’は、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分(例えば、1つ以上のダイを含む)C上に投影するように構成された投影システムPSも有する。リソグラフィ装置100では、パターニングデバイスMAおよび投影システムPSは反射型であり、リソグラフィ装置100’では、パターニングデバイスMAおよび投影システムPSは透過型である。
[0053] 図3は、一実施形態によるIICサブシステム300の機械部の分解図である。IICサブシステム300は、28個の移動フィンガ302を有し、各移動フィンガ302は、フィンガチップ304を有しており、これは、露光の前に照明ビームのごく一部を選択的に遮断して照明凹凸を補正しかつクロススキャン方向に均一ビームを提供する。各フィンガ302は、磁石308を含む単一のフィンガアセンブリ306によって支持される。単一のフィンガアセンブリ306は、合わせてフィンガアセンブリ310を形成する。IICサブシステム300は、マウント314を用いてフィンガアセンブリ310およびIICサブシステム300の残りの部分を保持および支持するためのフレーム312を含む。モータコイルアセンブリ316は、単一のフィンガアセンブリ306を適切な位置に移動させて必要に応じて照明凹凸を補償し、不要な場合は邪魔にならない位置に移動させる。IICサブシステム300は、さらに、フィンガアセンブリ306の動きを極端な位置で停止させるためにフィンガ屈曲部318およびフィンガストップ320を含む。エンコーダボードアセンブリ330は、フィンガアセンブリ306の機械的位置をエンコードするための電気的/機械的インターフェースを提供し、かつモータコイルアセンブリ316に命令を提供する。
[0081] 「発明の概要」および「要約書」の項は、発明者が考える本発明の1つ以上の例示的実施形態を記載できるがそのすべては記載できないため、本発明および添付の特許請求の範囲を決して限定するものではない。
Claims (10)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
前記調整された放射ビームをパターン付けするパターニングデバイスを保持するサポート構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記放射ビームで照明されたときに実質的に一定の瞳を受ける、平面に配置された照明凹凸補正システムであって、均一性補正システムは、前記放射ビームのそれぞれの部分の強度を補正するために前記放射ビームと交差するようにおよび交差しないように移動し得るフィンガと、前記フィンガのうちの対応するものに結合され、かつ対応するフィンガを移動する作動デバイスとを含み、作動デバイスは、
空間的配列にて平面上に配置された第1極、第2極および第3極を含む固定ステータであって、前記第1極および前記第3極は、その上にコイルが巻かれている、固定ステータと、
前記平面に配置された第4極および第5極を含むロータであって、前記ロータは、前記第1極および前記第3極に巻かれた前記コイルに時系列でエネルギーが与えられることに応じて前記固定ステータの前記第1極、前記第2極および前記第3極にエネルギーが与えられた場合、二次元で直線的に移動可能となるように構成され、前記第4極および前記第5極は、前記第1極、前記第2極および前記第3極の反対側に配置されており、前記固定ステータは、前記ロータに対して固定されるように構成される、ロータとを含む、照明凹凸補正システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記ロータは、マイクロステップにおける各コイル内の電流の調整に応じて前記フィンガのうちの少なくとも1つのフィンガを位置決めする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記各コイル内の前記電流は、サインコサイン・マイクロステッピングによって調整される、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記作動デバイスを制御するサーボ制御システムをさらに含み、前記サーボ制御システムは、
フィンガの所望の位置を設定するモジュールと、
前記フィンガの現在の位置を検知するモジュールと、
前記フィンガが前記所望の位置に位置決めされるように前記フィンガの前記位置を制御するのに適切な電流を生成するモジュールと
を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 放射ビームで照明されたときに実質的に一定の瞳を受ける平面に配置された照明凹凸補正システムであって、均一性補正システムは、
前記放射ビームのそれぞれの部分の強度を補正するために前記放射ビームと交差するようにおよび交差しないように移動し得る複数のフィンガと、
前記フィンガのうちの対応するものに結合され、かつ対応するフィンガを移動する複数の作動デバイスと、
空間的配列にて平面上に配置された第1極、第2極および第3極を含む固定ステータであって、前記第1極および前記第3極は、その上にコイルが巻かれている、固定ステータと、
前記平面に配置された第4極および第5極を含むロータであって、前記ロータは、前記第1極および前記第3極に巻かれた前記コイルに時系列でエネルギーが与えられることに応じて前記固定ステータの前記第1極、前記第2極および前記第3極にエネルギーが与えられた場合、二次元で直線的に移動可能となるように構成され、前記第4極および前記第5極は、前記第1極、前記第2極および前記第3極の反対側に配置されており、前記固定ステータは、前記ロータに対して固定されるように構成される、ロータと
を含む、照明凹凸補正システム。 - 前記ロータは、マイクロステップにおける各コイル内の電流の調整に応じて前記フィンガのうちの少なくとも1つのフィンガを位置決めし、前記各コイル内の前記電流はサインコサイン・マイクロステッピングによって調整される、請求項5に記載の照明凹凸補正システム。
- リソグラフィシステムの放射ビームにおける照明凹凸を補正する方法であって、前記方法は、
照明凹凸補正システムを平面に配置することであって、前記照明凹凸補正システムは、放射ビームで照明されたときに実質的に一定の瞳を受けるように構成される、ことと、
前記放射ビームのそれぞれの部分の強度を補正するために前記放射ビームと交差するようにおよび交差しないように移動可能となる複数のフィンガを提供することと、
複数の作動デバイスを前記フィンガのうちの対応するものに結合することであって、前記複数のデバイスは、対応するフィンガを移動するように構成され、作動デバイスは、
空間的配列にて平面上に配置された第1極、第2極および第3極を含む固定ステータであって、前記第1極および前記第3極は、その上にコイルが巻かれている、固定ステータと、
前記平面に配置された第4極および第5極を含むロータであって、前記ロータは、前記第1極および前記第3極に巻かれた前記コイルに時系列でエネルギーが与えられることに応じて前記固定ステータの前記第1極、前記第2極および前記第3極にエネルギーが与えられた場合、二次元で直線的に移動可能となるように構成され、前記第4極および前記第5極は、前記第1極、前記第2極および前記第3極の反対側に配置されており、前記固定ステータは、前記ロータに対して固定されるように構成される、ロータとを含む、ことと
を含む、方法。 - 電流の調整に応じて前記ロータに前記フィンガのうちの少なくとも1つのフィンガを位置決めさせるためにマイクロステップにおいて各コイル内の電流を調整することをさらに含み、前記マイクロステップにおいて前記各コイル内の電流を調整することは、前記各コイル内の前記電流をサインコサイン・マイクロステッピングによって調整することをさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記調整された放射ビームをパターン付けするパターニングデバイスを保持するサポート構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記照明システム内に配置された光学システムであって、前記光学システムは、作動デバイスを含み、前記作動デバイスは、
空間的配列にて平面上に配置された第1極、第2極および第3極を含む固定ステータであって、前記第1極および前記第3極は、その上にコイルが巻かれている、固定ステータと、
前記平面に配置された第4極および第5極を含むロータであって、前記ロータは、前記第1極および前記第3極に巻かれた前記コイルに時系列でエネルギーが与えられることに応じて前記固定ステータの前記第1極、前記第2極および前記第3極にエネルギーが与えられた場合、二次元で直線的に移動可能となるように構成され、前記第4極および前記第5極は、前記第1極、前記第2極および前記第3極の反対側に配置されており、前記固定ステータは、前記ロータに対して固定されるように構成される、ロータとを含む、光学システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを調整する照明システムと、
前記調整された放射ビームをパターン付けするパターニングデバイスを保持するサポート構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記投影システム内に配置された光学システムであって、前記光学システムは、作動デバイスを含み、前記作動デバイスは、
空間的配列にて平面上に配置された第1極、第2極および第3極を含む固定ステータであって、前記第1極および前記第3極は、その上にコイルが巻かれている、固定ステータと、
前記平面に配置された第4極および第5極を含むロータであって、前記ロータは、前記第1極および前記第3極に巻かれた前記コイルに時系列でエネルギーが与えられることに応じて前記固定ステータの前記第1極、前記第2極および前記第3極にエネルギーが与えられた場合、二次元で直線的に移動可能となるように構成され、前記第4極および前記第5極は、前記第1極、前記第2極および前記第3極の反対側に配置されており、前記固定ステータは、前記ロータに対して固定されるように構成される、ロータとを含む、光学システムと
を含む、リソグラフィ装置。
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