JP6037157B2 - Printing mask cleaning method and apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、フラックスなどで汚れた印刷マスクの下面を拭き取り装置でクリーニングする方法及びその装置の改良に関するものである。 The present invention relates to a method for cleaning a lower surface of a printing mask soiled with a flux or the like with a wiping device and an improvement of the device.
従来より、ボールマウンタにおけるフラックス印刷やクリーム半田の印刷及びボール搭載においては、フラックスやクリーム半田で汚れた印刷マスクの下面をクリーニング布で拭き取ってクリーニングすることが行われていた。クリーニング方法には、一般的にクリーニング布のクリーンな部分に洗浄液を浸し拭き取る湿式クリーニング方法、乾いたクリーンなクリーニング布で拭き取る乾式クリーニング方法、もしくは、湿式及び乾式の両方式を採用したクリーニング方法があった。 Conventionally, in flux printing, cream solder printing, and ball mounting in a ball mounter, the lower surface of a printing mask soiled with flux or cream solder has been wiped with a cleaning cloth for cleaning. The cleaning method generally includes a wet cleaning method in which a cleaning solution is dipped in a clean part of the cleaning cloth, a dry cleaning method in which the cleaning liquid is wiped with a dry clean cleaning cloth, or a cleaning method employing both wet and dry methods. It was.
例えば、湿式のクリーニング方法では、クリーニングユニット1を用い、図4(1)に示されるように往路の拭き取り開始の位置aで、クリーニングヘッド10を上昇させ、洗浄液が付着したクリーニング布2のクリーンな部分を印刷マスク3の下面(裏面)に接触させ、印刷マスク3の下面に付着したフラックスを溶かしつつ、図4(1)の往路での拭き取り終了の位置bまでを拭き取っている。拭き取りは、印刷マスク3の下面にクリーニング布2を接触させて、印刷マスク3の下面の一方の開始の位置aから他方の終了の位置bに向けて移動させることにより行っていた。
For example, in the wet cleaning method, the
往路の拭き取りで移動端、即ち拭き取り終了の位置bまで進むと、クリーニングユニット1のクリーニングヘッド10を下降させて、使用済みのクリーニング布2を巻き取り、接触面を未使用のクリーニング布2にして再度クリーニングヘッド10を上昇させ、図4(2)に示すようにクリーニング布2のクリーンな部分を印刷マスク3の下面に再度接触させて復路の拭き取りを同じように行っていた。
When the wiping of the forward path reaches the moving end, that is, the wiping end position b, the
ここで、クリーニング布2で拭いきれない印刷マスク3の下面のフラックスは、印刷マスク3の下面の拭き取り終了の位置bに集まった状態で汚れとして残されている。そこで、そのままの位置bでクリーンなクリーニング布2に変更した後、クリーニングユニット1のクリーニングヘッド10を上昇させるとクリーニング布2が残された汚れに接触してしまい、折角クリーンな状態としたクリーンニング布2が最初から汚れてしまう。汚れた状態で拭き取り動作に入ってしまうと、クリーニング布2はフラックスを延ばすだけで印刷マスク3の下面を逆に汚してしまうことになる。
Here, the flux on the lower surface of the
このような状態では、印刷マスク3の下面に付着したフラックス等がなくなるまで拭き取り動作を複数回行わなければならなかった。そのため、クリーニング布2の消耗が激しい上、クリーニング時間による生産性の低下が問題となっていた。
In such a state, the wiping operation had to be performed a plurality of times until there was no flux attached to the lower surface of the
往路での拭き取り動作で移動端に集まったフラックスの付着を避けるクリーニング方法として特許文献1には、印刷版の裏面の清掃装置が開示されている。この清掃装置は、溶剤を滲込ませた帯状の布を印刷版の裏面に押し付け、摺動させて汚れを拭き取り、汚れが付着した布を1ステップ分ずつ順次巻き取るようにし、常に新しい布で印刷版の裏面の汚れを拭き取っている。
拭き取り動作は、先ず、清掃装置を上昇させ、拭取ローラの布を印刷版の裏面に押し付ける。次に、印刷版の裏面の一方から他方に向けて清掃装置を移動させる。その際、押し付けられた布が印刷版の裏面を摺動し、汚れを拭き取る。次いで、清掃装置を下降させる。このとき、巻取ローラにより布を1ステップ分だけ巻き取る。更に、下がった状態のまま清掃装置を移動させ、元の位置に復帰させるというものである。 In the wiping operation, first, the cleaning device is raised, and the cloth of the wiping roller is pressed against the back surface of the printing plate. Next, the cleaning device is moved from one side of the back side of the printing plate to the other side. At that time, the pressed cloth slides on the back side of the printing plate and wipes off dirt. Next, the cleaning device is lowered. At this time, the cloth is wound up by one step by the winding roller. Further, the cleaning device is moved in the lowered state and returned to the original position.
この清掃装置は、押し付けられた布が印刷版の裏面を摺動し、汚れを拭き取るのは、印刷版の裏面の一方から他方に向けて清掃装置を往路移動させるときのみである。印刷版の裏面の他方から一方に向けての移動、即ち復路移動時には、清掃は行われず、清掃装置が元の位置に復帰するのみである。無駄な復路動作が含まれることになり、効率的な清掃作業ではなかった。 In this cleaning device, the pressed cloth slides on the back side of the printing plate and wipes off the dirt only when the cleaning device is moved forward from one side of the back side of the printing plate to the other side. At the time of movement from the other side of the printing plate toward the other side, that is, when returning, the cleaning is not performed, and the cleaning device only returns to the original position. It was a wasteful return trip and was not an efficient cleaning task.
本発明は、上記問題点を解決しようとするもので、クリーニングの終了位置に残るフラックスの汚れを次の拭き取り動作開始時に拭き取らないようにクリーニングの終了位置と開始位置を別々にして、綺麗な状態のクリーニング布でクリーニングを開始できるようし、クリーニング布による印刷マスク下面のフラックスの拭き取り回数を減らし、クリーニング布の消耗の低減によるコストダウンを図るとともに、タクト向上により生産性を高めることを目的とする。 The present invention is intended to solve the above-described problems. The cleaning end position and the start position are separated from each other so that the flux remaining at the cleaning end position is not wiped off at the start of the next wiping operation. The purpose is to start cleaning with the cleaning cloth in the state, reduce the frequency of wiping off the flux under the printing mask with the cleaning cloth, reduce the cost by reducing the consumption of the cleaning cloth, and increase the productivity by improving the tact. To do.
上記課題を解決するため、第1の発明は、印刷マスクのクリーニング方法に次の手段を採用する。
第1に、印刷マスクの下方に水平方向に移動可能な拭き取り装置を配置し、該拭き取り装置を前記印刷マスクの下面に当接させた状態で水平に一側から他側まで往路移動させた後、該拭き取り装置を下降させて、拭き取りに使用された部分をクリーンな部分としてから、該拭き取り装置を前記印刷マスクの下面に当接させた状態で水平に他側から一側まで復路移動させて前記印刷マスク下面のクリーニングを行うクリーニング方法とする。
第2に、前記拭き取り装置の復路移動における拭き取り開始位置を、前記往路移動における拭き取り終了位置より往路移動における開始位置方向にずらした位置として往路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れを巻き込まないように拭き取りを開始する。
第3に、前記拭き取り装置の往路移動における拭き取り開始位置を、前記復路移動における拭き取り終了位置より復路移動における開始位置方向にずらした位置として復路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れを巻き込まないように拭き取りを開始する。
In order to solve the above-mentioned problems, the first invention employs the following means as a printing mask cleaning method.
First, after disposing a wiping device that can move in the horizontal direction below the printing mask and moving the wiping device horizontally from one side to the other side in contact with the lower surface of the printing mask , Lowering the wiping device to make the part used for wiping clean, and then moving the wiping device back to the other side horizontally from the other side in contact with the lower surface of the printing mask. A cleaning method for cleaning the lower surface of the printing mask is provided.
Second, the wiping start position in the inward movement of the wiping device is shifted from the wiping end position in the outward movement toward the start position in the outward movement so as not to entrap dirt remaining in the wiping end position in the outward movement. Start wiping.
Third, the wiping start position in the forward movement of the wiping device is shifted from the wiping end position in the backward movement toward the start position in the backward movement so as not to entrap dirt remaining at the wiping end position in the backward movement. Start wiping.
第2の発明は、印刷マスクのクリーニング装置に次の手段を採用する。
第1に、印刷マスクの下方に配置された拭き取り装置と、該拭き取り装置を移動させる移動機構と、該移動機構の制御を行う制御手段と、を備える。
第2に、前記拭き取り装置を前記印刷マスクの下面に当接させた状態で前記移動機構が水平に一側から他側まで往路移動させた後、下降させて、拭き取りに使用された部分がクリーンな部分にされた前記拭き取り装置を前記印刷マスクの下面に当接させた状態で前記移動機構が水平に他側から一側まで復路移動させて前記印刷マスク下面のクリーニングを行うクリーニング装置とする。
第3に、前記制御手段は前記拭き取り装置の復路移動における拭き取り開始位置を、前記往路移動における拭き取り終了位置より往路移動における開始位置方向にずらした位置として往路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れが巻き込まれないように拭き取りが開始される。
第4に、前記制御手段は前記拭き取り装置の往路移動における拭き取り開始位置を、前記復路移動における拭き取り終了位置より復路移動における開始位置方向にずらした位置として復路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れが巻き込まれないように拭き取りが開始される。
The second invention employs the following means for the printing mask cleaning device.
1stly, the wiping apparatus arrange | positioned under the printing mask, the moving mechanism which moves this wiping apparatus, and the control means which controls this moving mechanism are provided.
Second, with the wiping device in contact with the lower surface of the printing mask, the moving mechanism moves downward from one side to the other side in a horizontal direction and then descends to clean the part used for wiping. A cleaning device that cleans the lower surface of the print mask by moving the return mechanism horizontally from the other side to the one side in a state where the wiping device formed as a part is in contact with the lower surface of the print mask.
Third, the control means sets the wiping start position in the backward movement of the wiping device as a position shifted from the wiping end position in the forward movement toward the start position in the forward movement, and dirt remaining at the wiping end position in the forward movement is obtained. wipe off so as not to get involved is Ru is started.
Fourth, the control means sets the wiping start position in the outward movement of the wiping device as a position shifted from the wiping end position in the backward movement toward the start position in the backward movement, and dirt remaining at the wiping end position in the backward movement is detected. wipe off so as not to get involved is Ru is started.
本発明における方法及び装置では、復路移動における拭き取り開始位置を、往路移動における拭き取り終了位置より手前側の往路移動の開始位置方向にずらした位置とし、終了位置に残存する汚れを巻き込まないで次の拭き取り動作を開始できる。又,次の往路移動における拭き取り開始位置を、復路移動における拭き取り終了位置より手前側の復路移動における開始位置方向にずらした位置とし、終了位置に残存する汚れを巻き込まないで次の拭き取り動作に入れる。 In the method and apparatus according to the present invention, the wiping start position in the backward movement is set to a position shifted from the wiping end position in the forward movement toward the start position of the forward movement, and the next position is not entrained with the dirt remaining at the end position. The wiping operation can be started. In addition, the wiping start position in the next forward movement is shifted to the start position direction in the backward movement on the near side from the wiping end position in the backward movement, and the next wiping operation is performed without entraining dirt remaining at the end position. .
このように終了位置に残存する汚れを避けて、拭き取り動作に入ることにより、効率的、効果的なフラックス等の汚れの拭き取り動作となり、全体的な拭き取り回数を減らすことができ、クリーニング布の消耗の低減によるコストダウンに繋がるとともに、クリーニング回数を減らすことによる生産性の向上に繋がった。 Thus, by entering the wiping operation while avoiding the dirt remaining at the end position, the wiping operation of the dirt such as flux becomes efficient and effective, and the overall number of wiping operations can be reduced, and the cleaning cloth is consumed. with joint wants to reduce costs by reducing the were tethered therefore improve productivity by reducing the number of times of cleaning.
以下,図示の実施例と共に実施の形態について説明する。
本発明に係る印刷マスクのクリーニング方法及びその装置が利用される装置は、ボールマウンタ、詳しくは、半田ボールが搭載される基板などのワークの供給部、基板の電極へのフラックスの印刷部、フラックスの印刷された電極に半田ボールを搭載するボール搭載部を有する半田ボール搭載装置などである。実施例は、半田ボール搭載装置のフラックス印刷部における印刷マスクのクリーニング装置である。
Hereinafter, embodiments will be described together with illustrated examples.
The printing mask cleaning method and apparatus using the same according to the present invention is a ball mounter, and more specifically, a work supply unit such as a substrate on which solder balls are mounted, a printing unit for flux to the electrodes on the substrate, a flux A solder ball mounting device having a ball mounting portion for mounting a solder ball on the printed electrode. The embodiment is a printing mask cleaning device in a flux printing section of a solder ball mounting device.
図中符号3は、印刷マスクであり、実施例における印刷マスク3は、フラックス印刷部における印刷マスクであるが、基板上に設置されたボール印刷マスクに半田ボールを落とし込んで、フラックスが印刷された基板の電極に半田ボールを配置するボール搭載部におけるボール印刷マスクも、本発明における印刷マスクである。更には、フラックスと半田ボールという組み合わせだけではなく、基板の電極に半田ペーストを塗布する半田ペースト転写部を有する装置における半田ペースト印刷マスクも本発明における印刷マスクであって、その他の組み合わせであっても適宜利用できるものである。
本発明に係るクリーニング装置は、印刷マスク3の下方に配置されたクリーニングユニット1と、該クリーニングユニット1を移動させる移動機構と、該移動機構の制御を行う制御手段とを備えている。本発明における拭き取り装置となるクリーニングユニット1は、図3に示されるようにクリーニング布2と、クリーニング布2の供給ローラ11及び巻き取りローラ12と、クリーニング布2にクリーニング液を供給するクリーニング液供給パイプ13とクリーニング液供給布14と、クリーニング布2を配列マスク3の下面に押し付けるクリーニングヘッド10とを具備している。
The cleaning apparatus according to the present invention includes a
クリーニングヘッド10は、印刷マスク3の下面(裏面)の拭き取り位置にクリーニング布2を押し付けることが可能な高さまで上昇及び下降可能な昇降機構を有する。クリーニングヘッド10の内部には吸引装置と接続される吸引室16が設けられ、上端面には吸引孔15が開けられている。ここで、拭き取り動作時には吸引装置を動作させ、吸引孔15よりクリーニング布2に印刷マスク3に付着したフラックスを吸い付けている。
The cleaning
クリーニングヘッド10は、上昇して、クリーニング布2を印刷マスク3に押し付けるだけでなく、下降して、クリーニング布2を印刷マスク3から離すと共に、クリーニング液供給パイプ13より供給されるクリーニング液が含まれるクリーニング液供給布14にクリーニング布2を押し付け、クリーニング液をクリーニング布2に供給する。
The cleaning
クリーニングユニット1は、水平方向に移動可能な移動機構を備えている。クリーニングユニット1は、クリーニングヘッド10の作用によりクリーニング布2を印刷マスク3の下面に当接させた状態で水平に拭き取り開始位置Aから拭き取り終了位置Bまでの範囲及び拭き取り開始位置Cから拭き取り終了位置Dまでの範囲で往復移動可能とされ、更に、クリーニング布2を印刷マスク3の下面から離した状態で、拭き取り終了位置Bから次の拭き取り開始位置Cの範囲及び拭き取り終了位置Dから次の拭き取り開始位置Aの範囲で移動可能である。
The
尚、印刷マスク3における往路移動の開始位置A、復路移動の開始位置C及び往路移動の終了位置B、復路移動の終了位置Dは、印刷マスク3の下方に設置されるワーク、即ち、フラックスが印刷されるワークが設置されている範囲の外側であることが好ましい。従って、これらの位置で、フラックスの拭い残しがあっても直接ワークに触れることはなく、ワークが汚染されることはない。
Note that the forward movement start position A, the backward movement start position C, the forward movement end position B, and the backward movement end position D in the
以下、図1及び図2に従って、クリーニング方法の手順について説明する。
図1は、クリーニングユニット1によるクリーニング方法のうち往路移動から復路移動開始までを示す説明図である。
The procedure of the cleaning method will be described below with reference to FIGS.
FIG. 1 is an explanatory diagram showing the process from the forward movement to the start of the backward movement in the cleaning method by the
図1(1)に示されるように、先ず、往路移動の開始位置Aの下方の位置に、クリーニングヘッド10が下降した状態で待機している。開始位置Aは、従来のクリーニング方法における拭き取り開始の位置aと同じであって良い。このときクリーニングヘッド10の上に存在するクリーニング布2は、供給ローラ11より供給されてきた未使用のクリーンな部分であり、クリーニングヘッド10の直前で、クリーニング液供給パイプ13より供給されたクリーニング液をクリーニング液供給布14を介して供給されている。
As shown in FIG. 1A, first, the cleaning
次に、図1(2)に示されるように開始位置Aでクリーニングヘッド10が上昇し、クリーニング布2を印刷マスク3の下面に接触させ、クリーニングヘッド10の力でクリーニング布2を印刷マスク3の下面に押し付ける。このときクリーニングヘッド10の上方に存在するクリーニング布2はクリーニング液が供給されたものであるので、該押し付け動作により、クリーニング液が印刷マスク3の下面に供給される。
Next, as shown in FIG. 1 (2), the cleaning
続いてクリーニングユニット1は、クリーニングヘッド10の上昇状態、即ち、クリーニング布2を印刷マスク3の下面に接触させた状態で、図1(2)の矢印が示すように、往路移動の終了位置Bに向かって移動し、印刷マスク3の下面に存在するフラックスをクリーニング液で溶かしながら拭き取る。尚、印刷マスク3における終了位置Bは、前述したように基板の設置位置の範囲外であることが好ましい。
Subsequently, the
拭き取り動作によるフラックスの量が多い場合、クリーニングヘッド10に別途吸引装置に接続されている吸引室16を設け、吸引装置を動作させて、フラックスをその吸引室16内に吸引して収容するようにしても良い。
When the amount of flux due to the wiping operation is large, a
このような拭き取り動作を行いながら、クリーニングユニット1は、図1(3)に示される往路移動の終了位置Bへ移動し、停止する。この終了位置Bで、図1(4)に示されるようにクリーニングヘッド10は下降し、クリーニング布2を印刷マスク3の下面より離す。
While performing such a wiping operation, the
クリーニング布2が印刷マスク3の下面から離れた状態で、クリーニングユニット1内の巻き取りローラ12を作動させ、クリーニング布2の拭き取りに使用した部分を巻き取り、クリーニングヘッド10の上方部分をクリーニング布2の未使用のクリーンな部分とする。
In a state where the cleaning
クリーニング布2の巻き取り動作と同時又はそれに続いて、クリーニングユニット1は、図1(5)に示されるように、クリーニングヘッド10を下降させた状態で、制御手段に制御されてクリーニングヘッド10が復路移動の開始位置Cの下方に位置するよう移動する。該復路移動の開始位置Cは、往路移動の終了位置Bより往路移動の開始位置Aの方向にずれた位置である。
Simultaneously with or subsequent to the winding operation of the cleaning
このように往路移動に続く復路移動の開始位置Cを、往路移動の終了位置Bとせずに,既にフラックスを拭き取った部分へずらすことにより、終了位置Bに汚れとして残ってしまったフラックスをクリーニング布2に巻き込むことを防止する。残ってしまったフラックスは次の往路移動の終了位置Bの拭き取り動作で拭き取る。 In this way, the start position C of the backward movement following the forward movement is not set to the end position B of the forward movement, but is shifted to the portion where the flux has already been wiped off, so that the flux remaining as dirt at the end position B can be cleaned. 2 is prevented from being caught. The remaining flux is wiped off by the wiping operation at the end position B of the next forward movement.
復路移動の開始位置Cの下方にクリニングヘッド10が下降した状態では、往路移動の開始位置Aと同様、クリーニング液の供給動作が行われている。続いて、図1(6)に示されるように復路移動の開始位置Cでクリーニングヘッド10が上昇し、クリーニング布2が印刷マスク3の下面に接触し、押圧する。
In the state where the cleaning
その後、図1(6)の矢印が示すように、クリニングユニット1は、次の往路移動の開始位置Aより遠方にある復路移動による拭き取り動作の終了位置Dを目指して復路移動を行う。次の往路移動の開始位置Aは、復路移動の終了位置Dより、復路移動の開始位置Cの方向にずらした位置とされる。
Thereafter, as indicated by the arrow in FIG. 1 (6), the
図2は、クリーニング方法のうち復路移動から、それに続く往路移動の開始までを示す説明図である。図2中(1)及び(2)は、図1中(5)及び(6)と同じ状態を示している。即ち、図2中(1)は、復路移動の開始位置Cの下方でクリーニングヘッド10が下降した状態を示し、図2中(2)は、同開始位置Cでクリーニングヘッド10が上昇し、クリーニング布2が印刷マスク3の下面に接触した状態を示している。
FIG. 2 is an explanatory view showing the cleaning method from the return path movement to the start of the subsequent forward path movement. (1) and (2) in FIG. 2 show the same state as (5) and (6) in FIG. That is, (1) in FIG. 2 shows a state where the cleaning
クリーニングユニット1は、図2(3)に示すように復路移動の終了位置Dへと移動し、停止する。クリーニングヘッド10は、図2(4)に示すように復路移動の終了位置Dで下降し、往路移動の終了位置Bでの動作と同様、クリーニング布2を印刷マスク3の下面より離す。
As shown in FIG. 2C, the
クリーニング布2が印刷マスク3の下面から離れた状態で、クリーニングユニット1内の巻き取りローラ12を作動させ、クリーニング布2の拭き取りに使用した部分を巻き取り、クリーニングヘッド10の上方部分をクリーニング布2の未使用のクリーンな部分とする。この点も往路移動の終了位置Bでの動作と同様である。
In a state where the cleaning
クリーニング布2の巻き取り動作と同時又はそれに続いて、クリーニングユニット1は、図2(5)に示されるように、クリーニングヘッド10を下降させた状態で、クリーニングヘッド10が制御手段に制御されて続く往路移動の開始位置Aの下方に位置するよう移動する。該往路移動の開始位置Aは、復路移動の終了位置Dより復路移動の開始位置Cの方向にずれた位置である。復路移動の終了位置Dに汚れとして残ってしまったフラックスをクリーニング布2に巻き込むことを防止する。その後は、先の往路移動によるクリーニング方法と同様の方法が繰り返される。
Simultaneously with or subsequent to the winding operation of the cleaning
1・・・・・・・・クリーニングユニット
2・・・・・・・・クリーニング布
3・・・・・・・・印刷マスク
10・・・・・・・クリーニングヘッド
11・・・・・・・供給ローラ
12・・・・・・・巻き取りローラ
13・・・・・・・クリーニング液供給パイプ
14・・・・・・・クリーニング液供給布
15・・・・・・・吸引孔
16・・・・・・・吸引室
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記拭き取り装置の復路移動における拭き取り開始位置を、前記往路移動における拭き取り終了位置より往路移動における開始位置方向にずらした位置として往路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れを巻き込まないように拭き取りを開始し、
前記拭き取り装置の往路移動における拭き取り開始位置を、前記復路移動における拭き取り終了位置より復路移動における開始位置方向にずらした位置として復路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れを巻き込まないように拭き取りを開始することを特徴とする印刷マスクのクリーニング方法。
A wiping device that is movable in the horizontal direction is disposed below the printing mask, and the wiping device is moved horizontally from one side to the other side in a state where the wiping device is in contact with the lower surface of the printing mask, and then the wiping device the is lowered, after the portion of the clean part used in wiping, the printing mask lower surface horizontally moved backward from the other side to one side in a state that the wiping device is brought into contact with the lower surface of the printing mask In the cleaning method for cleaning
The wiping start position in the backward movement of the wiping device is shifted from the wiping end position in the forward movement toward the start position in the forward movement, and wiping is started so as not to entrap dirt remaining at the wiping end position in the forward movement. ,
The wiping start position in the forward movement of the wiping device is shifted from the wiping end position in the backward movement toward the start position in the backward movement, and wiping is started so as not to entrap dirt remaining at the wiping end position in the backward movement. A method for cleaning a printing mask.
前記拭き取り装置を前記印刷マスクの下面に当接させた状態で前記移動機構が水平に一側から他側まで往路移動させた後、下降させて、拭き取りに使用された部分がクリーンな部分にされた前記拭き取り装置を前記印刷マスクの下面に当接させた状態で前記移動機構が水平に他側から一側まで復路移動させて前記印刷マスク下面のクリーニングを行うクリーニング装置において、
前記制御手段は前記拭き取り装置の復路移動における拭き取り開始位置を、前記往路移動における拭き取り終了位置より往路移動における開始位置方向にずらした位置として往路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れが巻き込まれないように拭き取りが開始されると共に、
前記拭き取り装置の往路移動における拭き取り開始位置を、前記復路移動における拭き取り終了位置より復路移動における開始位置方向にずらした位置として復路移動における拭き取り終了位置に残存する汚れが巻き込まれないように拭き取りが開始されることを特徴とする印刷マスクのクリーニング装置。 A wiping device disposed below the printing mask, a moving mechanism for moving the wiping device, and a control means for controlling the moving mechanism,
With the wiping device in contact with the lower surface of the printing mask, the moving mechanism is moved horizontally from one side to the other side and then lowered to make the part used for wiping a clean part. In the cleaning device for cleaning the lower surface of the printing mask by moving the return mechanism horizontally from the other side to the one side while the wiping device is in contact with the lower surface of the printing mask,
The control means sets the wiping start position in the backward movement of the wiping device as a position shifted from the wiping end position in the forward movement toward the start position in the forward movement so that dirt remaining at the wiping end position in the forward movement is not caught. wiping is started Rutotomoni,
The wiping start position in the forward movement of the wiping device is shifted from the wiping end position in the backward movement toward the start position in the backward movement, and wiping is started so that dirt remaining at the wiping end position in the backward movement is not caught. by cleaning apparatus for a printing mask, wherein Rukoto.
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