JP6034579B2 - Durable coated tool - Google Patents
Durable coated tool Download PDFInfo
- Publication number
- JP6034579B2 JP6034579B2 JP2012071224A JP2012071224A JP6034579B2 JP 6034579 B2 JP6034579 B2 JP 6034579B2 JP 2012071224 A JP2012071224 A JP 2012071224A JP 2012071224 A JP2012071224 A JP 2012071224A JP 6034579 B2 JP6034579 B2 JP 6034579B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- present
- tool
- hardness
- elastic recovery
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Description
本発明は、耐久性に優れる被覆工具およびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a coated tool having excellent durability and a method for producing the same.
従来、超硬合金、サーメットまたは高速度工具鋼を基材とする切削工具の工具寿命を向上させることを目的に、各種セラミックス皮膜を基材表面に被覆する表面処理が採用されている。中でも、特許文献１に代表されるＴｉとＡｌの複合窒化物からなるＴｉＡｌＮは、ＴｉＮやＴｉＣＮ等からなる硬質皮膜よりも、優れた耐摩耗性および耐熱性を示すため、高速切削用や焼き入れ鋼等の高硬度材切削用の切削工具に広く適用されている。
また、特許文献２、３には、ＴｉＡｌＮの耐摩耗性や耐酸化性をより向上させるために、Ｃｒや、Ｓｉ、Ｂ等の金属（半金属）を添加した多元系からなる皮膜組成が開示されている。
Conventionally, surface treatments for coating various ceramic coatings on the surface of a substrate have been employed for the purpose of improving the tool life of a cutting tool based on cemented carbide, cermet or high-speed tool steel. Among them, TiAlN made of a composite nitride of Ti and Al, as typified by Patent Document 1, shows superior wear resistance and heat resistance than a hard film made of TiN, TiCN, etc. It is widely applied to cutting tools for cutting hard materials such as steel.
Patent Documents 2 and 3 disclose multi-component coating compositions to which metals such as Cr, Si, and B (semi-metals) are added in order to further improve the wear resistance and oxidation resistance of TiAlN. Has been.
特許文献１〜３の硬質皮膜は、耐摩耗性に優れ切削工具の寿命を改善するものである。しかしながら、これらは物理蒸着法の内、アークイオンプレーティング法で成膜しているため、硬質皮膜にはドロップレットといわれる粗大粒子が必然的に含まれてしまう。そのため、平滑な表面状態が求められる金型等に適用する場合、被覆後の磨き作業が必要となる。
また、刃先径が５ｍｍ以下の小径エンドミル等の小径工具に適用すれば、工具径に対して、硬質皮膜の表面に存在するドロップレットの影響が大きくなるため、加工精度および工具寿命が十分でない場合があった。更に、工具への負荷が大きい過酷な使用環境下では、硬質皮膜の内部に存在するドロップレットが起点となり、硬質皮膜の破壊が発生する場合があった。
The hard film of patent documents 1-3 is excellent in abrasion resistance, and improves the lifetime of a cutting tool. However, since these are formed by the arc ion plating method among physical vapor deposition methods, the hard coating inevitably contains coarse particles called droplets. Therefore, when applied to a mold or the like that requires a smooth surface state, a polishing operation after coating is required.
Also, if applied to a small diameter tool such as a small diameter end mill with a cutting edge diameter of 5 mm or less, the influence of droplets existing on the surface of the hard coating increases with respect to the tool diameter, so the machining accuracy and tool life are not sufficient. was there. Furthermore, in a severe use environment where the load on the tool is large, the droplets existing inside the hard coating may be the starting point and the hard coating may be broken.
一方、物理蒸着法の中でもスパッタリング法で被覆した硬質皮膜は、平滑な表面状態が得られることが知られている。しかし、一般的なスパッタリング法は、アークイオンプレーティング法に比べてイオン化率が低く、皮膜の密着性が乏しく皮膜内部に空隙が発生し易いという問題があり、特に硬質皮膜への負荷が大きい切削工具では、工具寿命を改善するのに十分ではない場合があった。 On the other hand, it is known that a hard film coated with a sputtering method among physical vapor deposition methods can obtain a smooth surface state. However, the general sputtering method has a problem that the ionization rate is lower than that of the arc ion plating method, the adhesion of the film is poor, and voids are likely to be generated inside the film. Tools sometimes were not sufficient to improve tool life.
上記の課題に対しては、本願出願人等は、高い電力を瞬間的に投入できる高出力スパッタリング法を適用することを提案している（特許文献４）。
特許文献４に記載されている高出力スパッタリング法で成膜したＴｉＡｌの窒化物皮膜は、通常のスパッタリング法で成膜したＴｉＡｌの窒化物皮膜に比べて切削工具の寿命改善が見込まれる。しかしながら、近年、被加工材の高硬度化、高能率加工化等により切削工具の使用環境は過酷となっており、工具寿命および加工精度が十分でない場合があった。
In order to deal with the above problem, the applicant of the present application has proposed applying a high-power sputtering method capable of instantaneously supplying high power (Patent Document 4).
The TiAl nitride film formed by the high-power sputtering method described in Patent Document 4 is expected to improve the life of the cutting tool as compared with the TiAl nitride film formed by the normal sputtering method. However, in recent years, the working environment of cutting tools has become harsh due to high hardness and high-efficiency machining of workpieces, and tool life and machining accuracy may not be sufficient.
本発明は、上記の課題に鑑み、金型や切削工具等の工具において、表面の平滑性が優れるスパッタリング法で被覆した、耐久性に優れる被覆工具を提供することを目的とする。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a coated tool excellent in durability, which is coated with a sputtering method having excellent surface smoothness in a tool such as a mold or a cutting tool.
本発明者等は、高出力スパッタリング法での成膜条件を制御することで、ＴｉＡｌの窒
化物または炭窒化物からなる硬質皮膜を、特定の硬度と弾性回復率の関係に制御できるこ
とを突き止めた。
すなわち本発明は、工具の基材表面に硬質皮膜が被覆された被覆工具であって、前記硬質皮膜は、金属元素のみの原子比率でＡｌを４０〜６０原子％含有したＴｉとＡｌからなる窒化物であり、ナノインデンテーション法による硬度（Ｈ）が３８〜５０ＧＰａ、弾性回復率（Ｅ）が３４〜４２％、前記硬度と前記弾性回復率の比率（Ｈ／Ｅ）が、１．１≦Ｈ／Ｅ＜１．３であり、表面を１万倍で観察した場合に、円相当径が１μｍ以上のドロップレットが５個／ｍｍ２以下である耐久性に優れる被覆工具である。
The present inventors have found that a hard film made of a TiAl nitride or carbonitride can be controlled to have a relationship between a specific hardness and an elastic recovery rate by controlling the film forming conditions in the high power sputtering method. .
That is, the present invention is a coated tool in which a hard film is coated on the substrate surface of the tool, the hard coating, nitride of Ti and Al containing 40 to 60 atomic% of Al in terms of atomic ratio of only metal elements are those, hardness by the nanoindentation method (H) is 38～50GPa, elastic recovery (E) is 34 to 42%, the ratio of the elastic recovery rate and the hardness (H / E) is, 1.1 ≦ an H / E <1.3, when observing the surface at 10,000 times a coated tool that circle equivalent diameter is excellent in durability 1μm or more droplets is five / mm 2 or less.
本発明は、極めて平滑な表面状態で、かつ耐久性に優れる被覆工具であるため、従来の被覆工具に比べて、加工精度及び工具寿命を飛躍的に向上させることが可能である。 Since the present invention is a coated tool having an extremely smooth surface state and excellent durability, the machining accuracy and tool life can be drastically improved as compared with conventional coated tools.
本発明者等は、硬質皮膜の表面が平滑となるスパッタリング法を用い、ナノインデンテーション法で測定した硬度と弾性回復率を特定の範囲制御することで加工精度および工具寿命を大幅に改善できることを見出した。以下、その詳細について説明する。 The inventors of the present invention are able to significantly improve machining accuracy and tool life by controlling the hardness and elastic recovery rate measured by the nanoindentation method to a specific range using a sputtering method in which the surface of the hard coating becomes smooth. I found it. The details will be described below.
本発明では、硬質皮膜に残留圧縮応力を付与できる物理蒸着法の内、ドロップレットが殆ど発生せず、平滑な表面状態が得られるスパッタリング法で成膜する。
物理蒸着法の内、アーク放電を利用してターゲット表面を蒸発させるアークイオンプレーティング法で被覆した硬質皮膜は、皮膜の内部や表面に必然的にドロップレットが含まれてしまう。また、偏向磁場によってドロップレットを分離するフィルタードアークイオンプレーティングを用いれば、ドロップレットの発生を大幅に減少できるが、完全に除去するのは困難である。
また、ドロップレットは成膜時におけるカソード上でのターゲット材料の溶融に起因するため、工具径と問わず、ドロップレットの大きさは一定となる。つまり、粗加工時などに使用される大径工具もしくは刃先交換式工具においては、工具の大きさに対し、ドロップレットが相対的に小さいくなるため、加工精度および工具寿命への影響は大きくない。しかしながら、仕上げ加工時に使用される小径工具においては、工具の大きさに対し、ドロップレット相対的に大きくなるため、加工精度および工具寿命が低下してしまう。
そのため、スパッタリング法で被覆する本発明の被覆工具は、刃先径が５ｍｍ以下、更には１ｍｍ以下のエンドミル等の小径工具に好適である。
In the present invention, among physical vapor deposition methods capable of imparting a residual compressive stress to a hard coating, the film is formed by a sputtering method in which droplets are hardly generated and a smooth surface state is obtained.
Among physical vapor deposition methods, hard coatings coated with an arc ion plating method that uses arc discharge to evaporate the target surface inevitably contain droplets inside and on the surface of the coating. Further, if filtered arc ion plating that separates droplets by a deflection magnetic field is used, the generation of droplets can be greatly reduced, but it is difficult to completely remove the droplets.
In addition, since the droplet is caused by melting of the target material on the cathode during film formation, the size of the droplet is constant regardless of the tool diameter. In other words, in large-diameter tools or cutting edge-replaceable tools used during rough machining, the impact on machining accuracy and tool life is not significant because the droplets are relatively small relative to the size of the tool. . However, in a small-diameter tool used at the time of finishing, since the size of the tool is relatively large with respect to the size of the tool, machining accuracy and tool life are reduced.
Therefore, the coated tool of the present invention to be coated by the sputtering method is suitable for a small diameter tool such as an end mill having a cutting edge diameter of 5 mm or less, and further 1 mm or less.
本発明の被覆工具では、微細なドロップレットや表面凹凸が極めて少ない。そのため、例えば被覆工具の表面を１万倍の高倍で観察した場合に、円相当径が１μｍ以上のドロップレットは５個／ｍｍ２以下である。更には２個／ｍｍ２以下である。一方、アークイオンプレーティング法で被覆した被覆工具の場合、６０個／ｍｍ２以上にもなる。
また、本発明では皮膜表面だけでなく、硬質皮膜の内部にドロップレットが混入することは殆ど無い。
The coated tool of the present invention has very few fine droplets and surface irregularities. Therefore, for example, when the surface of the coated tool is observed at a magnification of 10,000 times, the number of droplets having an equivalent circle diameter of 1 μm or more is 5 / mm 2 or less. Furthermore, it is 2 pieces / mm 2 or less. On the other hand, in the case of a coated tool coated by the arc ion plating method, the number is 60 pieces / mm 2 or more.
In the present invention, the droplets are hardly mixed not only in the surface of the film but also in the hard film.
本発明の被覆工具は、乾式および湿式での使用環境において優れた耐久性を付与し、汎用性に優れる被覆工具とするため、金属元素のみの原子比率でＡｌを４０〜６０原子％とした、耐熱性と耐摩耗性が優れるＴｉＡｌの窒化物または炭窒化物とする。Ａｌの含有量がこれよりも少ないと耐熱性が十分でない。Ａｌの含有量がこれよりも多いと皮膜硬度が低下する傾向にある。また、Ａｌが多くなると、湿式の切削加工において皮膜剥離が発生し易い傾向にある。より好ましくは４５原子％以上および／または５５原子％以下である。 The coated tool of the present invention provides excellent durability in a dry and wet use environment, and is a coated tool with excellent versatility, so that Al is 40-60 atomic% with an atomic ratio of only metal elements, TiAl nitride or carbonitride with excellent heat resistance and wear resistance is used. If the Al content is less than this, the heat resistance is not sufficient. If the Al content is higher than this, the film hardness tends to decrease. Moreover, when Al is increased, film peeling tends to occur in wet cutting. More preferably, it is 45 atomic% or more and / or 55 atomic% or less.
本発明では、ナノインデンテーション法を用いて、硬度および弾性回復率を測定する。ナノインデンテーション法では、圧子の押込み深さを連続的に測定しながら荷重を最大押込み深さ（ｈｍａｘ）までに徐々に増加させる。その後、荷重を減少させていくことで、荷重ゼロの場合の押込み深さ（ｈｆ）を測定することができ、（ｈｍａｘ−ｈｆ）から硬質皮膜の弾性回復量が分かる。つまり、この値が大きければ弾性変形しやすく、小さければ弾性変形し難い。
本発明では、弾性回復量を表す指標として、弾性回復率（％）＝（ｈｍａｘ−ｈｆ）×１００／ｈｍａｘから評価する。
In the present invention, the hardness and elastic recovery rate are measured using a nanoindentation method. In the nanoindentation method, the load is gradually increased to the maximum indentation depth (hmax) while continuously measuring the indentation indentation depth. Thereafter, by reducing the load, the indentation depth (hf) when the load is zero can be measured, and the elastic recovery amount of the hard coating can be determined from (hmax−hf). That is, if this value is large, it is easy to elastically deform, and if it is small, it is difficult to elastically deform.
In the present invention, the elastic recovery rate (%) = (hmax−hf) × 100 / hmax is evaluated as an index representing the elastic recovery amount.
ナノインデンテーション装置を用いた皮膜の硬度と弾性回復率の測定では、基材の影響を受けないよう、試験片を５度傾けて鏡面研磨後、皮膜の研磨面内で最大押し込み深さが層厚の略１／１０未満となる領域を選定する。そして、１０点測定してその平均値から求める。
本発明では、押込み荷重４９ｍＮの測定条件で１０点測定し、その平均値を求める。
When measuring the hardness and elastic recovery rate of the film using a nano-indentation device, the test piece is tilted 5 degrees and mirror-polished to prevent the influence of the base material. A region that is less than about 1/10 of the thickness is selected. Then, 10 points are measured and obtained from the average value.
In the present invention, 10 points are measured under the measurement condition of an indentation load of 49 mN, and the average value is obtained.
本発明では、ナノインデンテーション法による硬度（Ｈ）を３８〜５０ＧＰａとする。本発明の組成範囲では、ナノインデンテーション法による硬度が本発明の範囲よりも低くなると耐摩耗性が悪く被覆工具の耐久性が低下する。また、本発明の組成範囲では、５０ＧＰａ以上の硬度を得ることは実質的に不可能である。 In the present invention, the hardness (H) by the nanoindentation method is set to 38 to 50 GPa. In the composition range of the present invention, when the hardness by the nanoindentation method is lower than the range of the present invention, the wear resistance is poor and the durability of the coated tool is lowered. Moreover, in the composition range of the present invention, it is practically impossible to obtain a hardness of 50 GPa or more.
本発明では、ナノインデンテーション法による弾性回復率（Ｅ）を３４〜４２％とする。
硬質皮膜は弾性回復率が低い場合、外力に対して容易に塑性変形し、基材から剥離してしまう。本発明の組成範囲では、弾性回復率が本発明の範囲より低い場合は、硬質皮膜の剥離が顕著に見られ、被覆工具の耐摩耗性が悪くなる。本発明では、弾性回復率（Ｅ）が３６％以上であると耐久性に優れて好ましい傾向にある。
また、弾性回復率が高い場合、硬質皮膜はガラスのような脆性を示し、ある程度までの外力に対しては塑性変形をせずに強靭だが、外力が大きくなり、しきい値を超えると一気に破壊されてしまう傾向にある。本発明の組成範囲内では、弾性回復率が本発明の範囲よりも高い場合は、工具への負荷が大きくなる過酷な使用環境下では突発的な欠損が発生し易く、耐摩耗性が悪くなる傾向にある。より好ましくは、弾性回復率（Ｅ）が４０％以下である。
In the present invention, the elastic recovery rate (E) by the nanoindentation method is set to 34 to 42%.
When the hard film has a low elastic recovery rate, it easily plastically deforms against an external force and peels off from the substrate. In the composition range of the present invention, when the elastic recovery rate is lower than the range of the present invention, the hard coating is remarkably peeled, and the wear resistance of the coated tool is deteriorated. In the present invention, when the elastic recovery rate (E) is 36% or more, the durability tends to be excellent.
In addition, when the elastic recovery rate is high, the hard film shows brittleness like glass, and it is strong without any plastic deformation to a certain level of external force, but when the external force increases and exceeds the threshold, it breaks at once. Tend to be. Within the composition range of the present invention, when the elastic recovery rate is higher than the range of the present invention, sudden breakage is likely to occur in a severe use environment where the load on the tool becomes large, and the wear resistance is deteriorated. There is a tendency. More preferably, the elastic recovery rate (E) is 40% or less.
硬質皮膜の硬度と弾性回復率は、皮膜組成、組織形態、結晶粒径、粒界、皮膜内部の空隙等に影響される。本発明者等の検討によると、耐久性が優れる被覆工具の硬質皮膜は何れも柱状組織が極めて微細で、空隙も少なく緻密であり、硬度と弾性回復率が特定の関係にあることを突き止めた。そして、本発明ではナノインデンテーション法による硬度と弾性回復率の比率（Ｈ／Ｅ）が、１．１≦Ｈ／Ｅ＜１．３にあることが必要であることを見出した。
硬度と弾性回復率の比率（Ｈ／Ｅ）が本発明の範囲よりも小さい場合、硬質皮膜は自身の持つ硬度に対して過剰な脆性を示すため、突発的な破壊が発生し易いと考えられる。また、硬度と弾性回復率の比率（Ｈ／Ｅ）が本発明の範囲よりも大きい場合、硬質皮膜は自身の持つ硬度に対して過剰な塑性変形性を示すため、剥離が発生し易くなると考えられる。硬質皮膜の硬度と弾性回復率が上記の範囲内にある場合、両者のバランスが最適となり、これを被覆した被覆工具の耐久性が著しく向上する。
The hardness and elastic recovery rate of the hard film are affected by the film composition, structure morphology, crystal grain size, grain boundary, voids inside the film, and the like. According to the study by the present inventors, it was found that the hard coating of the coated tool having excellent durability has a very fine columnar structure, is fine with few voids, and has a specific relationship between hardness and elastic recovery rate. . And in this invention, it discovered that the ratio (H / E) of the hardness by the nanoindentation method and an elastic recovery rate needed to be 1.1 <= H / E <1.3.
When the ratio of the hardness and the elastic recovery rate (H / E) is smaller than the range of the present invention, the hard coating is excessively brittle with respect to its own hardness, so that it is considered that sudden breakage is likely to occur. . Further, when the ratio of hardness to elastic recovery rate (H / E) is larger than the range of the present invention, it is considered that the hard coating exhibits excessive plastic deformability with respect to its own hardness, so that peeling is likely to occur. It is done. When the hardness and elastic recovery rate of the hard coating are within the above ranges, the balance between the two becomes optimal, and the durability of the coated tool coated therewith is remarkably improved.
続いて本発明の製造方法について説明する。本発明は、物理蒸着法のうち、成膜時にドロップレットを伴わない、スパッタリング法で成膜する。そして、ターゲットに印加する電力を瞬間的に極めて高くするだけでなく、１周期当たりの放電時間と周波数を特定の範囲に制御することで、ターゲット材のイオン化がより促進され、皮膜が緻密で密着性が高まることを見出した。以下、本発明に係る被覆工具の製造方法について、その構成要件毎に説明していく。 Then, the manufacturing method of this invention is demonstrated. In the present invention, a film is formed by a sputtering method without a droplet at the time of film formation among physical vapor deposition methods. And not only instantaneously increasing the power applied to the target, but also controlling the discharge time and frequency per cycle to a specific range, ionization of the target material is further promoted, and the coating is dense and tightly adhered. I have found that the nature is improved. Hereinafter, the manufacturing method of the coated tool which concerns on this invention is demonstrated for every component requirement.
本発明では、成膜時にカソードとなるＴｉＡｌターゲットに瞬間的に印加する最大電力を、最大の電力密度を９〜２５ミリＷ／ｍ２とする。このように極めて高い電力を瞬間的にターゲットに印加することで、ターゲット材がイオン化し、硬質皮膜が緻密で、密着性が向上する。
最大電力密度が本発明の範囲よりも低いと、ターゲット材料のイオン化を促すことができないため、従来のスパッタリング法と同様、皮膜の密着性が乏しく皮膜内部に空隙が発生し易くなってしまう。また、最大電力密度はより高い方が好適であるが、高くなり過ぎるとターゲット材料がオーバーヒートして成膜が安定し難い。より好ましくは１０ミリＷ／ｍ２以上および／または２０ミリＷ／ｍ２以下である。更には１５ミリＷ／ｍ２以上および／または１８ミリＷ／ｍ２以下である。
In the present invention, the maximum power applied instantaneously to the TiAl target serving as the cathode during film formation is set to a maximum power density of 9 to 25 mmW / m 2 . Thus, by applying extremely high power to the target instantaneously, the target material is ionized, the hard coating is dense, and the adhesion is improved.
If the maximum power density is lower than the range of the present invention, ionization of the target material cannot be promoted, so that the adhesion of the film is poor and voids are likely to be generated inside the film, as in the conventional sputtering method. A higher maximum power density is preferable, but if it is too high, the target material is overheated and film formation is difficult to stabilize. More preferably, it is 10 mmW / m 2 or more and / or 20 mmW / m 2 or less. Furthermore, it is 15 mmW / m 2 or more and / or 18 mmW / m 2 or less.
ターゲットに極めて高い最大電力を印加するには、ＨｉＰＩＭＳ（Ｈｉｇｈ Ｐｏｗｅｒ Ｉｍｐｕｌｓｅ Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）やＨＰＰＭＳ（Ｈｉｇｈ Ｐｏｗｅｒ Ｐｕｌｓｅ Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）等のターゲット材料のイオン化率が高い、いわゆる高出力パルススパッタリング法を適用することが好ましい。 In order to apply extremely high maximum power to the target, it is possible to apply a so-called high power pulse sputtering method in which the ionization rate of the target material such as HiPIMS (High Power Impulse Magnet Sputtering) or HPPPMS (High Power Pulse Magnetron Sputtering) is high. preferable.
本発明では、ターゲットに瞬間的に極めて高い電力を印加するだけでなく、ターゲットへ印加する平均の電力密度を０．６〜１．５ミリＷ／ｍ２とする。平均電力が本発明の範囲よりも低いと放電時に十分な出力が得られず、ターゲット材料のイオン化を促すことができないため、従来のスパッタリング法同様、皮膜の密着性が乏しく皮膜内部に空隙が発生し易くなってしまう。より好ましくは０．８ミリＷ／ｍ２以上である。また、印加する平均電力が本発明の範囲よりも高いと、ＴｉＡｌターゲットがオーバーヒートし、再結晶化してしまう。より好ましくは１．２ミリＷ／ｍ２以下である。 In the present invention, not only a very high power is instantaneously applied to the target, but also the average power density applied to the target is 0.6 to 1.5 mmW / m 2 . If the average power is lower than the range of the present invention, sufficient output cannot be obtained at the time of discharge, and ionization of the target material cannot be promoted. Therefore, like the conventional sputtering method, the adhesion of the film is poor and voids are generated inside the film. It becomes easy to do. More preferably, it is 0.8 mmW / m 2 or more. If the average power to be applied is higher than the range of the present invention, the TiAl target is overheated and recrystallized. More preferably, it is 1.2 mmW / m 2 or less.
本発明者等は、特許文献４にある従来の高出力スパッタリング法の条件では、瞬間的に高い電力を投入しても、放電時間が非常に短く、ターゲット材料のイオン化が十分に進行せず、微細かつ緻密な硬質皮膜にならないことを突き止めた。
放電時間を調整するため、ＴｉＡｌターゲットに周波数１００〜２５０Ｈｚで電力を印加する。周波数が本発明の範囲よりも大きいとカソードに出力する時間が長くなり、ＴｉＡｌターゲットがオーバーヒートし、再結晶化してしまう。また、周波数が本発明の範囲よりも小さいとカソードに出力する時間が短くなり、成膜時間が短くなり、製造上好ましくない。
The inventors of the present invention, under the conditions of the conventional high-power sputtering method described in Patent Document 4, even if a high power is instantaneously applied, the discharge time is very short, and the ionization of the target material does not proceed sufficiently. I found out that it was not a fine and dense hard film.
In order to adjust the discharge time, power is applied to the TiAl target at a frequency of 100 to 250 Hz. When the frequency is higher than the range of the present invention, the time for outputting to the cathode becomes long, and the TiAl target is overheated and recrystallized. On the other hand, if the frequency is lower than the range of the present invention, the time for outputting to the cathode is shortened, and the film forming time is shortened, which is not preferable in production.
本発明ではターゲットに印加する１周期あたりの放電時間を０．９〜１．５ミリ秒とする。
１周期あたりの放電時間が本発明の範囲よりも短い場合、カソードに瞬間的に極めて高い電力を印加しても、電流値が最大値に到達する前に放電が終了してしまうため、ターゲット材料のイオン化を促すことができず、従来のスパッタリング法同様、皮膜の密着性が乏しく皮膜内部に空隙が発生し易くなってしまう。
また、全放電時間の内、最大電力に到達するのは一瞬のため、１周期あたりの放電時間が本発明の範囲よりも長い場合、結果としてターゲット材料のイオン化率が低い状態で長時間成膜することとなり、従来のスパッタリング法と同様に、皮膜の密着性が乏しく皮膜内部に空隙が発生し易くなってしまう。
In the present invention, the discharge time per cycle applied to the target is 0.9 to 1.5 milliseconds.
When the discharge time per cycle is shorter than the range of the present invention, even if extremely high power is instantaneously applied to the cathode, the discharge ends before the current value reaches the maximum value. As in the conventional sputtering method, the adhesion of the film is poor and voids are likely to be generated inside the film.
In addition, since the maximum power is reached for a moment in the total discharge time, if the discharge time per cycle is longer than the range of the present invention, as a result, the film is formed for a long time with a low ionization rate of the target material. Thus, like the conventional sputtering method, the adhesion of the film is poor and voids are likely to be generated inside the film.
さらに本発明では、基材に印加する負圧のバイアス電圧を制御することが重要である。つまり、成膜時に基材に印加する負圧のバイアス電圧を１００〜２００Ｖとする。バイアス電圧が本発明の範囲よりも低いと硬質皮膜の硬度が十分でなく、耐摩耗性が低下する傾向にある。より好ましくは１２５Ｖ以上である。また、バイアス電圧が本発明の範囲より高いと、皮膜に過剰な残留圧縮応力が生じるため、皮膜が突発的な欠損を生じてしまい、結果として耐摩耗性が低下する傾向にある。 Furthermore, in the present invention, it is important to control the negative bias voltage applied to the substrate. That is, the negative bias voltage applied to the substrate during film formation is set to 100 to 200V. When the bias voltage is lower than the range of the present invention, the hardness of the hard coating is not sufficient, and the wear resistance tends to decrease. More preferably, it is 125 V or more. On the other hand, if the bias voltage is higher than the range of the present invention, excessive residual compressive stress is generated in the film, so that the film is suddenly damaged and wear resistance tends to be lowered as a result.
本発明の被覆工具を適用すれば、従来のＴｉＡｌＮを適用するよりも優れた工具寿命を示す。本発明では、安価なＴｉＡｌターゲットで評価しているが、本発明の硬度と弾性回復率の関係を満たす範囲で、周期律表の４ａ族元素、５ａ族元素、６ａ族元素、Ｂ、Ｓｉ、Ｙから選択される１種または２種以上の元素を金属（半金属を含む）部分で１０％以下含有してもよい。より好ましくは５％以下である。
また、本発明の被覆工具には、金属またはそれらの化合物からなる中間皮膜を設けても良い。更には、上層に、耐摩耗性の優れる保護皮膜を設けても良い。
When the coated tool of the present invention is applied, the tool life is superior to that of the conventional TiAlN. In the present invention, evaluation is made with an inexpensive TiAl target, but within the range satisfying the relationship between the hardness and the elastic recovery rate of the present invention, the 4a group element, 5a group element, 6a group element, B, Si, One or more elements selected from Y may be contained at 10% or less in the metal (including metalloid) portion. More preferably, it is 5% or less.
Moreover, you may provide the intermediate | middle film which consists of a metal or those compounds in the coated tool of this invention. Further, a protective film having excellent wear resistance may be provided on the upper layer.
皮膜特性の評価をするため、物性評価用の基材としてＪＩＳに規定される高速度鋼ＳＫＨ５１を用意した。これを真空中１１８０℃の加熱保持から窒素ガス冷却により焼き入れ後、５６０℃での焼き戻しにより６４ＨＲＣに調質したものを用いた。物性評価用の基材は、厚さ５ｍｍ、直径２０ｍｍの円筒状に加工した。 In order to evaluate the film properties, high-speed steel SKH51 prescribed by JIS was prepared as a substrate for evaluating physical properties. This was tempered at 1180 ° C. in a vacuum, quenched by cooling with nitrogen gas, and tempered at 560 ° C. to 64 HRC. The substrate for physical property evaluation was processed into a cylindrical shape having a thickness of 5 mm and a diameter of 20 mm.
物性評価用の基材は、表面を＃１０００、＃１５００の研磨紙により磨いた後、電解研磨を行い、最後に株式会社ヤマシタワークス製エアロラップ装置（ＡＥＲＯ ＬＡＰ ＹＴ−３００）を使用して平滑化し、表面粗さをＲａで０．０２μｍ、Ｒｚで０．２μｍに整えた。そして、炭化水素系の溶剤中で超音波洗浄し脱脂した。
また、切削試験には、超微粒子超硬合金製（ＷＣ−Ｃｏ−ＶＣ−Ｃｒ、ＷＣ平均粒径：０．４μｍ、Ｃｏ含有量：６質量％、ＶＣ含有量：０．２質量％、Ｃｒ含有量：０．６質量％）の２枚刃、半径５ｍｍのボールエンドミルを基材として用いた。以下、成膜条件について説明する。
The substrate for physical property evaluation was polished with # 1000 and # 1500 polishing paper, then electropolished, and finally smoothed using an aero lapping device (AERO LAP YT-300) manufactured by Yamashita Towers Co., Ltd. The surface roughness was adjusted to 0.02 μm Ra and 0.2 μm Rz. Then, ultrasonic cleaning and degreasing were performed in a hydrocarbon solvent.
In addition, for the cutting test, ultrafine particle cemented carbide (WC-Co-VC-Cr, WC average particle diameter: 0.4 μm, Co content: 6 mass%, VC content: 0.2 mass%, Cr A ball end mill having a content of 0.6 mass% and 2 blades and a radius of 5 mm was used as a base material. Hereinafter, film forming conditions will be described.
試料Ｎｏ．１〜１３の成膜には、スパッタ蒸発源を４機搭載できるスパッタリング装置を使用した。そのうち、ターゲット蒸発源の１機にターゲットを設置して成膜した。
成膜に用いるターゲットには、１０００ｍｍ×１７０ｍｍ、厚み１２ｍｍのＴｉ粉末とＡｌ粉末を原料とした、Ｔｉ５０Ａｌ５０を準備した（数値は原子比）。
Sample No. For the film formation of 1 to 13, a sputtering apparatus capable of mounting four sputter evaporation sources was used. Among them, a target was installed in one target evaporation source to form a film.
As a target used for the film formation, Ti 50 Al 50 using Ti powder and Al powder of 1000 mm × 170 mm and thickness 12 mm as raw materials was prepared (numerical values are atomic ratios).
バイアス電源は、基材に接続され、独立して基材に負圧のバイアス電圧を印加する。基材は、毎分３回転で自転しかつ、固定治具とサンプルホルダーを介して公転する。基材とターゲット表面間の距離は１３０ｍｍとした。導入ガスは、Ａｒ、Ｎ２を用いガス供給ポートから導入した。 The bias power source is connected to the base material and independently applies a negative bias voltage to the base material. The substrate rotates at 3 revolutions per minute and revolves through a fixing jig and a sample holder. The distance between the substrate and the target surface was 130 mm. The introduced gas was introduced from the gas supply port using Ar and N 2 .
まず成膜装置内のヒーターにより基材温度が５５０°になった状態で９０分間の加熱を行い、真空容器（チャンバー）内の圧力が４．５×１０−３Ｐａに達した後、Ａｒガスを真空容器内に導入し、炉内の圧力を０．１Ｐａとした。そして、基材に−２００Ｖの直流バイアス電圧を印加した。Ａｒイオンによる基材のクリーニングを１時間実施した。 First, heating was performed for 90 minutes with the substrate temperature at 550 ° by the heater in the film forming apparatus, and after the pressure in the vacuum vessel (chamber) reached 4.5 × 10 −3 Pa, Ar gas Was introduced into the vacuum vessel, and the pressure in the furnace was set to 0.1 Pa. Then, a DC bias voltage of −200 V was applied to the substrate. The substrate was cleaned with Ar ions for 1 hour.
容器内の圧力を１×１０−３Ｐａに真空排気して、基材の温度を５５０℃の一定とし、一定流量のＡｒガス４００ｍｌ、のもとで、容器内の圧力が５５０ｍＰａになるようにＮ２ガスを導入した。そして、膜厚は約３μｍになるように成膜した。 The pressure inside the container is evacuated to 1 × 10 −3 Pa, the temperature of the base material is kept constant at 550 ° C., and the pressure inside the container is 550 mPas under a constant flow rate of 400 ml of Ar gas. N 2 gas was introduced. And it formed into a film so that a film thickness might be set to about 3 micrometers.
比較例の試料Ｎｏ．１４、１５は、アークイオンプレーティング法で成膜した。成膜に用いるターゲットには、φ１０５ｍｍ、厚み１６ｍｍのＴｉ粉末とＡｌ粉末を原料とした、Ｔｉ５０Ａｌ５０を準備した（数値は原子比）。
上記のスパッタリング法と同様に、まずＡｒイオンによる基材のクリーニングを１時間実施した。続いて、容器内の圧力を１×１０−３Ｐａに真空排気して、基材の温度を５５０℃の一定とし、容器内の圧力が３ＰａになるようにＮ２ガスを導入した。そして、基材に印加するバイアス電圧を−５０Ｖまたは−１００Ｖに設定し、カソードに１５０Ａの電流を供給して成膜した。膜厚は約３μｍになるように成膜した。
Sample No. of Comparative Example Nos. 14 and 15 were formed by arc ion plating. As a target used for film formation, Ti 50 Al 50 using Ti powder and Al powder of φ105 mm and thickness 16 mm as raw materials was prepared (numerical values are atomic ratios).
Similar to the above sputtering method, the substrate was first cleaned with Ar ions for 1 hour. Subsequently, the pressure in the container was evacuated to 1 × 10 −3 Pa, the base material temperature was kept constant at 550 ° C., and N 2 gas was introduced so that the pressure in the container was 3 Pa. Then, the bias voltage applied to the substrate was set to −50 V or −100 V, and a current of 150 A was supplied to the cathode to form a film. The film thickness was about 3 μm.
比較例の試料Ｎｏ．１６は、従来の高出力パルススパッタリング法で成膜した。成膜に用いるターゲットには、５００ｍｍ×８８ｍｍ、厚み１０ｍｍのＴｉ粉末とＡｌ粉末を原料とした、Ｔｉ５０Ａｌ５０を準備した（数値は原子比）。
上記のスパッタリング法と同様に、まずＡｒイオンによる基材のクリーニングを１時間実施した。続いて、容器内の圧力を１×１０−３Ｐａに真空排気して、基材の温度を５５０℃の一定とし、容器内の圧力が３ＰａになるようにＮ２ガスを導入した。そして、基材に印加するバイアス電圧を−１００Ｖに設定し、平均電力を０．９１ミリＷ／ｍ２、最大電力を１８ミリＷ／ｍ２、放電時間を０．２ミリ秒、周波数を６００Ｈｚとして成膜した。膜厚は約３μｍになるように成膜した。表１に成膜条件の詳細を示す。
Sample No. of Comparative Example No. 16 was formed by a conventional high-power pulse sputtering method. As a target used for film formation, Ti 50 Al 50 using Ti powder and Al powder of 500 mm × 88 mm and thickness 10 mm as raw materials was prepared (numerical values are atomic ratios).
Similar to the above sputtering method, the substrate was first cleaned with Ar ions for 1 hour. Subsequently, the pressure in the container was evacuated to 1 × 10 −3 Pa, the base material temperature was kept constant at 550 ° C., and N 2 gas was introduced so that the pressure in the container was 3 Pa. The bias voltage applied to the substrate is set to −100 V, the average power is 0.91 mW / m 2 , the maximum power is 18 mW / m 2 , the discharge time is 0.2 msec, and the frequency is 600 Hz. As a film formation. The film thickness was about 3 μm. Table 1 shows the details of the film forming conditions.
各試料の皮膜組成を、電子プローブマイクロアナライザー（ＥＰＭＡ：日本電子（株）製ＪＸＡ−８９００Ｒ）を用いて分析した。分析は、皮膜の差異表面に対し、試験片を５度傾けた皮膜断面を鏡面研磨後実施した。そして分析値は、加速電圧１５ｋＶ、試料電流０．２μＡ、計数時間１０秒とした測定を５回実施し、その平均値とした。表２に皮膜組成の分析結果を示す。数値は原子比を示す。 The film composition of each sample was analyzed using an electron probe microanalyzer (EPMA: JXA-8900R manufactured by JEOL Ltd.). The analysis was carried out after mirror polishing of a film cross section in which the test piece was tilted 5 degrees with respect to the differential surface of the film. The analysis value was measured five times with an acceleration voltage of 15 kV, a sample current of 0.2 μA, and a counting time of 10 seconds, and the average value was obtained. Table 2 shows the analysis results of the coating composition. Numerical values indicate atomic ratios.
エリオニクス製のナノインデンテーション装置を用い、硬質皮膜の硬度と弾性回復率を測定した。測定するために、試験片を５度傾けて、鏡面研磨後、皮膜の研磨面内で最大押し込み深さが層厚の略１／１０未満となる領域を選定した。このとき略１／５程度でも基材の影響はなかった。押込み荷重４９ｍＮ／秒の測定条件で１０点測定し、その平均値を求めた。
本試験では、標準試料である単結晶Ｓｉも併せて測定した。そのときの単結晶Ｓｉの皮膜硬さは１２ＧＰａであった。測定結果を表２に示す。
The hardness and elastic recovery rate of the hard coating were measured using an Elionix nanoindentation device. For measurement, the test piece was tilted by 5 degrees, and after mirror polishing, a region where the maximum indentation depth was less than about 1/10 of the layer thickness was selected within the polished surface of the film. At this time, there was no influence of the base material even at about 1/5. Ten points were measured under a measurement condition of an indentation load of 49 mN / sec, and the average value was obtained.
In this test, single crystal Si as a standard sample was also measured. The film hardness of the single crystal Si at that time was 12 GPa. The measurement results are shown in Table 2.
以下の条件で切削試験を実施した。表２に試験結果を示す。
被削材：マルテンサイト系ステンレス鋼（ＨＲＣ５２）
工具回転数：２００００回転／分
テーブル送り量：６０００ｍ／分
切り込み深さ：軸方向：０．４ｍｍ、ピックフィード：０．４ｍｍ
加工方法：ドライ切削
寿命判定：最大摩耗幅が０．１ｍｍに達するまでの切削長
A cutting test was performed under the following conditions. Table 2 shows the test results.
Work material: Martensitic stainless steel (HRC52)
Tool rotation speed: 20000 rotation / min Table feed rate: 6000 m / min Cutting depth: Axial direction: 0.4 mm, Pick feed: 0.4 mm
Processing method: Dry cutting life judgment: Cutting length until maximum wear width reaches 0.1mm
本発明例である試料Ｎｏ．１〜６は、比較例に比べて優れた耐久性であり、工具寿命が延長した。図１に示すように、本発明の硬度と弾性回復率は、比較例と異なることが確認される。
図２、３に試料Ｎｏ．６の走査電子顕微鏡による表面観察写真および断面写真を示す。高倍観察すると、極めて緻密であり、微細な組織形態であることが確認される。また、硬質皮膜の表面を１万倍で観察したとき、円相当径が１μｍ以上のドロップレットは１個／ｍｍ２以下であった。本発明例はいずれも、図２、３に示すような組織であった。
Sample No. which is an example of the present invention. Nos. 1 to 6 are durability superior to the comparative example, and the tool life is extended. As shown in FIG. 1, it is confirmed that the hardness and elastic recovery rate of the present invention are different from those of the comparative example.
In FIGS. 6 shows a surface observation photograph and a sectional photograph by a scanning electron microscope. When observed at high magnification, it is confirmed that the structure is extremely dense and has a fine structure. When the surface of the hard coating was observed at a magnification of 10,000, the number of droplets having an equivalent circle diameter of 1 μm or more was 1 / mm 2 or less. Each of the examples of the present invention had a structure as shown in FIGS.
比較例である試料Ｎｏ．７〜１０は、高出力スパッタリング法で成膜したが、硬度および弾性回復率がともに本発明の規定未満であるため、摩耗の進行が早く低寿命であった。
図４に試料Ｎｏ．１０の走査電子顕微鏡による断面写真を示す。本発明と比較して、硬質皮膜の破断面組織が柱状であり、粒界が明瞭に観察された。
試料Ｎｏ．７〜１０はいずれも同様の組織形態であった。
Sample No. which is a comparative example. Nos. 7 to 10 were formed by a high-power sputtering method, but both the hardness and the elastic recovery rate were less than those of the present invention, so that the wear progressed quickly and had a short life.
In FIG. 10 shows a cross-sectional photograph of 10 scanning electron microscopes. Compared with the present invention, the fracture surface structure of the hard coating was columnar, and the grain boundaries were clearly observed.
Sample No. 7 to 10 all had the same tissue form.
比較例である試料Ｎｏ．１１〜１３は、ＤＣスパッタリング法で成膜したものであり、硬度と弾性回復率の関係（Ｈ／Ｅ）が本発明例とは異なる。
図５に試料Ｎｏ．１３の走査電子顕微鏡による断面写真を示す。本発明と比較して、硬質皮膜の破断面組織が柱状であり、粒界が明瞭に観察された。
試料番号１１〜１３はいずれも同様な組織形態であり、柱状粒径が大きく、皮膜内部に空隙も多くなった。そのため、本発明例に比べて切削寿命が著しく低下した。
Sample No. which is a comparative example. Nos. 11 to 13 are formed by a DC sputtering method, and the relationship between hardness and elastic recovery rate (H / E) is different from the example of the present invention.
In FIG. 13 shows a cross-sectional photograph of 13 scanning electron microscopes. Compared with the present invention, the fracture surface structure of the hard coating was columnar, and the grain boundaries were clearly observed.
Sample Nos. 11 to 13 all had the same structure, columnar particle size was large, and voids were increased inside the film. For this reason, the cutting life is remarkably reduced as compared with the inventive examples.
比較例である試料Ｎｏ．１４、１５は、硬質皮膜の内部や表面にドロップレットが存在し、切削時にドロップレットを起点とした破壊が発生して、本発明例よりも短寿命となった。
図６に試料Ｎｏ．１５の走査電子顕微鏡による表面観察写真を示す。皮膜の表面には、多量のドロップレットが観察された。この皮膜表面に存在するドロップレットが切削時に擦過面に存在する時、容易に脱落し、皮膜の摩耗進行を促進させる要因となっていると推測される。アークイオンプレーティング法で被覆した試料は、硬質皮膜の表面を１万倍で観察したとき、円相当径が１μｍ以上のドロップレットは６０個／ｍｍ２以上であった。
Sample No. which is a comparative example. Nos. 14 and 15 had droplets inside and on the surface of the hard coating, and breakage occurred from the droplets during cutting, resulting in a shorter life than the examples of the present invention.
In FIG. The surface observation photograph by 15 scanning electron microscopes is shown. A large amount of droplets was observed on the surface of the film. When the droplets present on the surface of the film are present on the rubbing surface at the time of cutting, it is presumed that they easily fall off and become a factor for promoting the progress of wear of the film. In the sample coated with the arc ion plating method, when the surface of the hard film was observed at a magnification of 10,000, the number of droplets having an equivalent circle diameter of 1 μm or more was 60 / mm 2 or more.
比較例である試料Ｎｏ．１６は、高出力スパッタリング法で成膜したが、弾性回復率が本発明の範囲外である。そのため、切削時において硬質皮膜が容易に塑性変形し、基材からの剥離が発生したと推定される。
図７に試料Ｎｏ．１６の走査電子顕微鏡による断面写真を示す。本発明と比較して、硬質皮膜の破断面組織は柱状組織が明確であることが確認された。
Sample No. which is a comparative example. No. 16 was formed by a high power sputtering method, but the elastic recovery rate is outside the range of the present invention. Therefore, it is presumed that the hard coating easily plastically deformed during the cutting and peeling from the base material occurred.
In FIG. 16 shows cross-sectional photographs of 16 scanning electron microscopes. Compared to the present invention, it was confirmed that the fracture surface structure of the hard coating had a clear columnar structure.
湿式加工での耐久性を確認するため、実施例１で作製した、本発明例の試料Ｎｏ．３〜６、およびアークイオンプレーティング法で被覆した比較例の試料Ｎｏ．１５について評価した。
基材は実施例１と同様のボールエンドミルとした。また、切削条件は、湿式加工とした以外は実施例１と同様とした。表３に試験結果を示す。
In order to confirm the durability in wet processing, the sample No. 3 to 6 and a comparative sample No. 1 coated with the arc ion plating method. 15 was evaluated.
The base material was the same ball end mill as in Example 1. The cutting conditions were the same as in Example 1 except that wet machining was used. Table 3 shows the test results.
本発明の被覆工具は、湿式加工においても優れた耐久性を示し、従来のアークイオンプレーティング法に比べて２倍以上の耐久性を示した。よって、本発明の被覆工具は、乾式および湿式加工において優れた耐久性を示すことが確認された。 The coated tool of the present invention showed excellent durability even in wet processing, and showed durability twice or more that of the conventional arc ion plating method. Therefore, it was confirmed that the coated tool of the present invention exhibits excellent durability in dry and wet processing.
本発明は、優れた耐久性が要求される用途、例えば切削工具や金型等に用いられる被覆工具およびその製造方法に係る発明である。そして、その優れた耐久性を考慮すると、自動車部品等の部材へ適用しても、優れた耐久性を発揮することが可能である。
The present invention relates to a coated tool used for applications requiring excellent durability, for example, a cutting tool or a die, and a manufacturing method thereof. And considering the outstanding durability, even if it applies to members, such as a motor vehicle part, it is possible to exhibit the outstanding durability.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012071224A JP6034579B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Durable coated tool |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012071224A JP6034579B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Durable coated tool |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013202700A JP2013202700A (en) | 2013-10-07 |
| JP6034579B2 true JP6034579B2 (en) | 2016-11-30 |
Family
ID=49522376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012071224A Active JP6034579B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Durable coated tool |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6034579B2 (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6238131B2 (en) * | 2013-12-26 | 2017-11-29 | 住友電工ハードメタル株式会社 | Coating and cutting tools |
| CN104674169A (en) * | 2015-02-12 | 2015-06-03 | 烟台首钢磁性材料股份有限公司 | Method for electroplating surface of permanent magnet neodymium iron boron magnetic steel with composite coating |
| JP6844704B2 (en) | 2017-08-15 | 2021-03-17 | 株式会社Ｍｏｌｄｉｎｏ | Cover cutting tool |
| EP3670042A4 (en) | 2017-08-15 | 2021-03-24 | Mitsubishi Hitachi Tool Engineering, Ltd. | Coated cutting tool |
| JP7210866B2 (en) * | 2017-09-15 | 2023-01-24 | エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 プフェフィコン | Method for producing a coating with a colored surface |
| JP7368586B2 (en) | 2020-02-21 | 2023-10-24 | 株式会社Moldino | coated tools |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005271190A (en) * | 2003-12-05 | 2005-10-06 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | Surface coated cutting tool |
| JP4405835B2 (en) * | 2004-03-18 | 2010-01-27 | 住友電工ハードメタル株式会社 | Surface coated cutting tool |
| WO2010050374A1 (en) * | 2008-10-28 | 2010-05-06 | 京セラ株式会社 | Surface covered tool |
-
2012
- 2012-03-27 JP JP2012071224A patent/JP6034579B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013202700A (en) | 2013-10-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6687390B2 (en) | Tool with TiAlCrSiN coating by PVD | |
| JP6362003B2 (en) | Coated cutting tool | |
| JP6034579B2 (en) | Durable coated tool | |
| KR102336097B1 (en) | clad cutting tool | |
| JP6525310B2 (en) | Coated tools | |
| CN110691662B (en) | Coated cutting tool | |
| JP2004238736A (en) | Hard film, and hard film-coated tool | |
| EP4292735A1 (en) | Coated tool | |
| JP5765627B2 (en) | Coated tool having excellent durability and method for producing the same | |
| JP2012228735A (en) | Coated tool excellent in wear resistance and method for manufacturing the same | |
| JP2008238281A (en) | Coated tool | |
| Uhlmann et al. | Hard turning of hot work and cold work steels with hipims and dcms TiAlN coated carbide inserts | |
| JP2007224374A (en) | Coated member | |
| JP6969703B2 (en) | Cover cutting tool | |
| JPWO2019035219A1 (en) | Coated cutting tools | |
| JP6528936B2 (en) | Method of manufacturing coated tool | |
| JP2007031779A (en) | Film-coated sintered alloy | |
| JP6510771B2 (en) | Coated cutting tool for milling titanium or titanium alloy and method of manufacturing the same | |
| JP2015208808A (en) | Cutting tool | |
| JP2012136775A (en) | Coated mold excellent in adhesion resistance and method for manufacturing the same | |
| JP7410385B2 (en) | coated cutting tools | |
| JP5649215B2 (en) | Coated member with excellent wear resistance and sliding properties and method for producing the same | |
| PISKA et al. | SUPERIOR COATING TECHNOLOGY FOR ADVANCED COLD WIRE DRAWING OF SPRING STEELS. | |
| JP2024027836A (en) | coated tools | |
| Fleming | Investigation of the wear and failure modes of surface engineered multipoint cutting tools |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150216 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151207 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160201 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160603 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160902 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20160906 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160916 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161007 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161028 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6034579 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |