JP6031742B2 - 滅菌装置と滅菌方法 - Google Patents
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Description
例えば、使用後または使用前に医療機器を滅菌する。
対象物を滅菌するのに滅菌装置と滅菌方法を用いる。
これらを滅菌するのに過酸化水素を用いて対象物を滅菌する滅菌装置と滅菌方法とが提案される。
対象物が、複雑な形状をもつことがある。
対象物が入りくんだ形状をもつことがある。
例えば、対象物には、チューブ状の形状をもつものがある。
例えば、チューブ状の形状をもつ対象物の内径の奥深い箇所を効率よく殺菌したいという要請があった。
前記気化弁が対象物を収納可能な前記滅菌室と前記気化室と連通し、前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間である様にしたので、前記気化室で所定の時間内で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で前記滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、前記気化室が所定の真空度を維持する。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開き、その後で大気の導入を停止して前記滅菌室を真空引きする様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、前記気化室が所定の真空度を維持して前記滅菌室を真空引きできる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で前記滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開き、その後で大気の導入を停止して前記滅菌室を真空引きし、その後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記大気開放弁を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、前記気化室が所定の真空度を維持して前記滅菌室を真空引きできる。
また、気化弁が対象物を収納可能な滅菌室と気化室と連通し、前記滅菌室を真空引きし気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁を開き、その後で滅菌室を真空引きし、その後で前記滅菌室の所定の真空度に達しないときに前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室が所定の真空度を維持して滅菌室を真空引きできる。
従って、簡単な手順と簡単な構成により複雑な形状をもつ対象物を効率良く滅菌または殺菌できる滅菌方法を提供できる。
図1は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌装置の概念図である。図2は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。図5は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その1の概念図である。図6は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その1のタイムチャート図である。図7は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その2の概念図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40で過酸化水素供給機器50とで構成される。
対象物は、滅菌したいものである。
例えば、対象物は医療器具である。
滅菌室10は、滅菌室本体11と滅菌室蓋構造12とで構成される。
滅菌室本体11は、真空を維持可能な真空チャンバーの本体構造である。
後述する真空ポンプ21と大気開放弁22と気化弁40とが、滅菌室本体11に連通する。
滅菌室蓋構造12は、滅菌室10の開口を開放、閉止できる蓋構造である。
滅菌室蓋構造12を開口を開いて、滅菌室10の開口から対象物を入れて、滅菌室蓋構造12は開口を閉じる。
真空機器20は、真空ポンプ21と大気開放弁22とで構成される。
真空ポンプ21は、滅菌室10から排気できる機器である。
大気開放弁22は、開いて滅菌室10と大気との導通を許し、閉じて滅菌室10と大気との導通を止める弁である。
大気開放弁22が閉じて滅菌室10と大気との導通を止め、真空ポンプ21を作動させると、滅菌室10を真空引きできる。
大気開放弁22が開いて滅菌室10と大気との導通を許すと、滅菌室10に給気できる。
気化室30は、液体を気化させたガスを収納する空間をもつ。
気化室30は、液体を溜める溜まり部と溜まり部の上方に液体を気化させたガスを収納する空間をもってもよい。
気化室30は、後述する気化弁40を介して、滅菌室10に連通する。
気化室30は、後述する過酸化水素供給機器50により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を供給される。
気化室30は、過酸化水素供給機器50により過酸化水素水を供給されてもよい。
後述する過酸化水素供給機器50が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給すると、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が溜まり部に溜まる。
その後で、所定の時間が経過すると経過すると、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液の全量が気化室30の空間で気化する。
ガス状の過酸化水素が気化室40に充満し、滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達しているときに、気化弁40を開くと、気化室30と滅菌室10との導通を許して、気化室30に充満するガス状の過酸化水素が滅菌室10に入る。
気化室30が空の状態で、気化弁40を開いて気化室30と滅菌室10との導通を許して、大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作用させると、滅菌室10と気化室30の圧力が下がる。
以下に2つのタイプの過酸化水素供給機器50を説明する。
図5は、第一のタイプの過酸化水素供給機器50を示す。
第一のタイプの過酸化水素供給機器50は、貯留室51と計量室52と第一供給弁53と第二供給弁54と第三供給弁55とで構成される。
貯留室51は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Hを貯留できるものである。
貯留室51は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Hを貯留できる空間を形成する。
例えば、貯留室51は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Hを貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
例えば、貯留室51は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Hを貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
例えば、計量室52は、直管部と枝管部とでできる。
直管部は、直線の管状の部分である。
枝管部は、直管部の中間部から枝状に延びた管状の部分である。
計量室52は、直管部の軸心が垂直になる様に据え付けられる。
直管部と枝管部の内側が貯留空間を形成する。
第一供給弁53は、開いて貯留室51と計量室52の頂部との導通を許し、閉じて貯留室51と計量室52の頂部との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第一供給弁53は、開いて貯留室51と直管部の頂部との導通を許し、閉じて貯留室51と直管部の頂部との導通を止める。
例えば、第一供給弁53は、直管部の頂部に設けられ、導通管を介して貯留室51に連通する。
第二供給弁54は、開いて計量室52の下端部と気化室30との導通を許し、閉じて計量室52の下端部と気化室30との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第二供給弁54は、開いて直管部の下端部と気化室30との導通を許し、閉じて直管部の下端部と気化室30との導通を止める弁である。
例えば、第二供給弁54は、直管部の下端部に設けられ、導通管を介して気化室30に連通する。
例えば、第三供給弁55は、開いて計量室52の上部と真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の上部と真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁55は、開いて計量室52の中間部と真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の中間部と真空チャンバーとの導通を止める弁である。
第三供給弁55は、開いて計量室52の上部または中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の上部または中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁であってもよい。
第三供給弁55は、開いて計量室52の中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁55は、開いて枝管部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し、閉じて枝管部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁55は、枝管部に設けられ、導通管を介して真空引きされる真空チャンバーに導通する。
真空チャンバーは、滅菌室10であってもよいし、別途の真空チャンバーであってもよい。
第三供給弁55は、開いて計量室52の上部または中間部と滅菌室10との導通を許し閉じて計量室52の上部または中間部と滅菌室10との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第三供給弁55は、開いて枝管部と滅菌室10との導通を許し閉じて枝管部と滅菌室10との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第三供給弁55は、枝管部に設けられ、導通管を介して滅菌室10に導通する。
図6は、第一のタイプの過酸化水素供給機器50の作動工程のタイムチャートを示す。
作動工程は、過酸化水素供給機器が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Jを気化室30に供給するために、実施される。
作動工程は、充填工程と排気工程と供給工程とで構成される。
事前に、第一供給弁53と第二供給弁54と第三供給弁55とを閉じている。第三供給弁55を開いて所定時間経過後に閉じる。その結果、計量室52の内部が真空状態になる。
充填工程は、第二供給弁54と第三供給弁55とを閉じて第一供給弁53を開く工程である。その結果、液体が貯留室51から計量室52へ移動する。
排気工程は、その後で、第一供給弁53と第二供給弁54とを閉じて第三供給弁55を開く工程である。その結果、計量室54の内部の気体が第三供給弁55を経由して吸い出されて、計量室54の内部のガスコンタミが減少する。
供給工程は、その後で第一供給弁53と第三供給弁55を閉じて第二供給弁54を一時的に開いて閉じる工程である。その結果、定量の液体が気化室40に落ちる。
液体が液状の過酸化水素であるときに、上記の手順をおこなうと、操作の途中で過酸化水素に混じった水分を除去できる。
その後で、気化室30が真空引きされた状態で、第一供給弁53と第三供給弁55とを閉じて第二供給弁54を開くと適量の液体が気化室30に供給される。
図7は、第二のタイプの過酸化水素供給機器50を示す。
第二のタイプの過酸化水素供給機器50は、貯留室51と供給弁56とで構成される。
貯留室51は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できるものである。
貯留室51は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できる空間を形成する。
例えば、貯留室51は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
例えば、貯留室51は、非水の過酸化水素水を貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
適量の液体を貯留室51に貯留した後で、供給弁56を開いて閉じると、適量の液体を気化室30へ供給できる。
図2は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図そ示す。
滅菌装置の作用を、初期減圧工程と滅菌工程と換気工程との順に、説明する。
初期減圧工程で、真空気化工程を実施する。
(真空気化工程)
真空気化工程は、真空機器20により滅菌室10と気化室30とを真空引きし、気化弁40を閉じて過酸化水素供給機器50により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給する工程である。
真空気化工程は、真空工程と気化工程とで構成してもよい。
真空工程は、気化弁40を開いて真空機器20により滅菌室10を真空引きする工程である。
滅菌室蓋構造12で開口を開き、対象物を滅菌室本体に収納し、滅菌室蓋構造12で開口を閉じる。
大気開放弁22と気化弁40とを閉じて、真空ポンプ21を作動させる。
その結果、滅菌室10の圧力が下がる。
滅菌室10の圧力が下がり、所定の真空度P5に達すると、気化弁40を開く。
気化室30は気化弁40を介して真空引きされ、気化室30の圧力が下がる。
その結果、滅菌室10の圧力が一時的に上がった後で、さらに圧力が下がる。
気化工程は、その後で気化弁を閉じて過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給する工程である。
滅菌室10の圧力が下がり所定の真空度P2に達すると、過酸化水素供給機器50を作動させて計量室52に適量の液状の過酸化水素を充填する。
滅菌室10の圧力が下がり所定の圧力P3に達すると、気化弁40を閉じて、第二供給弁54を開いて閉じる。
その結果、適量の液状の過酸化水素が気化室30に入る。
時間の経過に従って、過酸化水素がガス化して気化室30に充満する。
滅菌工程では、過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とを実施する。
(過酸化水素導入工程)
過酸化水素導入工程は、所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水素が気化室30に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ21を停止して、気化弁40を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室10に入り、滅菌室10の圧力が上昇する。
過酸化水素が、対象物の表面に付着して対象物を滅菌する。
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁40を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室10に入り、滅菌室10の圧力が上昇する。
大気が滅菌室10に入ると、過酸化水素が対象物の表面に沿って移動し、さらに対象物を滅菌する。
気化弁閉止工程は、その後で滅菌室10の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁を閉じる工程である。
大気が大気開放弁22を介して滅菌室10に入り、滅菌室10の圧力が上がる。
滅菌室10の圧力が所定の真空度P1に達すると、気化弁40を閉じる。
その結果、気化室30の圧力が所定の真空度P1になる。
真空再開工程は、その後で大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きする工程である。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0になった後で、予め設定された所定の時間が経過したときに大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きしてもよい。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0になった後で、予め設定された所定の時間が経過した直後に大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きしてもよい。
例えば、真空度P0は、大気圧である。
例えば、真空度P0は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁22を閉じて、真空ポンプ21を作動させる。
その結果、滅菌室10の圧力が下がり、気化室30の圧力が下がる。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に管状の部分があるばあいでも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
図2では、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と順に実施する工程を複数回繰り返すのを示している。
気化弁40を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁22を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室10から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造12が開口を開いて、開口から対象物を取りだす。
図3は、本発明の第二の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。
本発明の第二の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40で過酸化水素供給機器50とで構成される。
滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40と過酸化水素供給機器50とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
初期減圧工程と換気工程とは、第一の実施形態にかかる滅菌装置のものと同じなので、説明を省略する。
滅菌工程は、過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と一時給気工程とで構成される。
過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とは第一の実施形態にかかる滅菌装置の作用と同じなので、説明を省略する。
図3は、一時給気工程での滅菌室の圧力の変化の詳細を説明する。
一時給気工程は、滅菌室10の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに真空ポンプ21を作動させさながら大気開放弁22を一時的に開いて閉じる工程である。
真空再開工程を実施し、その後で、滅菌室10の圧力が下がったが所定の時間内に所定の真空度P4に達しないときに、真空ポンプ21を作動させながら、大気開放弁22を一時的に開いて閉じる。
滅菌室10に滞留したガスまたは液状のミストが大気開放弁22を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室10から排出される。
例えば、対象物の表面から蒸発した水蒸気が、大気開放弁22を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室10から排出される。
その結果、滅菌室10の圧力が下がって、所定の真空度P4に達し、その後の滅菌工程を効率良く実施できる。
本発明の第三の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40で過酸化水素供給機器50とで構成される。
滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40と過酸化水素供給機器50とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
(真空気化工程)
真空気化工程は、真空機器20により滅菌室10と気化室30とを真空引きし、気化弁40を閉じて過酸化水素供給機器50により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給する工程である。
滅菌室蓋構造12が開口を開き、対象物を滅菌室本体に開口から収納し、滅菌室蓋構造12が開口を閉じる。
大気開放弁22を閉じて、真空ポンプ21を作動させる。
その結果、滅菌室10の圧力が下がる。
気化室30は気化弁40を介して真空引きされ、気化室30の圧力が下がる。
滅菌室10の圧力が下がり所定の真空度P2に達すると、過酸化水素供給機器50を作動させて計量室52に適量の液状の過酸化水素を用意する。
滅菌室10の圧力が下がり所定の圧力P3に達すると、気化弁40を閉じて、第二供給弁54を開いて閉じる。
その結果、適量の液状の過酸化水素が気化室30に入る。
時間の経過に従って、過酸化水素がガス化して気化室30に充満する。
滅菌工程は、過酸化水素導入工程と給気工程と真空再開工程とで構成される。
(過酸化水素導入工程)
過酸化水素導入工程は、その後で所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水死が気化室30に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ21を停止して、気化弁40を開く。
その結果。滅菌室10の圧力が上昇する。気化した過酸化水素が滅菌室10に入り、過酸化水素が対象物の表面を付着して滅菌する。
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁40を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室10に入り、滅菌室10の圧力が上昇する。
真空再開工程は、その後で大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きする工程である。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0になった後で、予め設定された所定の時間が経過したときに大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きしてもよい。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0になった後で、予め設定された所定の時間が経過した直後に大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きしてもよい。
例えば、真空度P0は、大気圧である。
例えば、真空度P0は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁22を閉じて、真空ポンプ21を作動させる。
その結果、滅菌室10の圧力が下がり、気化室30の圧力が下がる。
この様にすると対象物に複雑な凹み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
気化弁40を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁22を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室10から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造12を開いて、対象物を取りだす。
図4は、本発明の第四の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。
本発明の第四の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40で過酸化水素供給機器50とで構成される。
滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40と過酸化水素供給機器50とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
初期減圧工程と換気工程とは、第一の実施形態にかかる滅菌装置のものと同じなので、説明を省略する。
(過酸化水素導入工程)
過酸化水素導入工程は、所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水死が気化室30に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ21を停止して、気化弁40を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室10に入り、滅菌室10の圧力が上昇する。
過酸化水素が、対象物の表面を付着して滅菌する。
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁40を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室10に入り、滅菌室10の圧力が上昇する。
大気が滅菌室10に入ると、過酸化水素が対象物の表面に沿って移動し、さらに対象物を滅菌する。
気化弁閉止工程は、その後で滅菌室10の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁を閉じる工程である。
大気が大気開放弁22を介して滅菌室10に入り、滅菌室10の圧力が上がる。
滅菌室10の圧力が所定の真空度P1に達すると、気化弁40を閉じる。
その結果、気化室30の圧力が所定の真空度P1になる。
真空再開工程は、その後で大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きする工程である。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0に達したときに、大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きしてもよい。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0に達した直後に、大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室10を真空引きしてもよい。
例えば、真空度P0は、大気圧である。
例えば、真空度P0は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁22を閉じて、真空ポンプ21を作動させる。
その結果、滅菌室10の圧力が下がり、気化室30の圧力が下がる。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に管状の部分があるばあいでも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
図4では、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と順に実施する工程を複数回繰り返すのを示している。
図8は、本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40と真空再開工程S50とで構成されてもよい。
準備工程は、滅菌室10と気化室30と気化弁40と過酸化水素供給機器50とを準備しても良い。
準備工程は、滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40と過酸化水素供給機器50とを準備しても良い。
真空機器20は、滅菌室10を真空引きする機器である。
気化室30は、所定の容積の気化する空間を形成する。気化室30は、所定の容積の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を入れられたときに、全量が気化するのに十分な容積の空間をもつ。
気化弁40は、開いて気化室30と滅菌室10との導通を許し閉じて気化室30と滅菌室10との導通を止める弁である。
過酸化水素供給機器50は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給するための機器である。
滅菌室10と真空機器20と気化室30と気化弁40と過酸化水素供給機器50の詳細は、上述した滅菌装置のものであってもよい。
対象物は滅菌したいものである。
例えば、対象物は医療機器である。
真空気気化工程S10は、真空工程S11と気化工程S12とで構成してもよい。
滅菌室10が真空引きされ、滅菌室10の圧力が下がる。
気化室30が気化弁40を介して真空引きされ、気化室30の圧力が下がる。
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Hを気化室30に供給するときに、過酸化水素供給機器50を作動させる。
充填工程は、第二供給弁54と第三供給弁55とを閉じて第一供給弁53を開く工程である。
その結果、貯留室51に貯留される液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が計量室52に入る。
排気工程は、第一供給弁53と第二供給弁とを閉じて第三供給弁を開く工程である。
その結果、計量室52に溜まる液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Hのうち計量室52の上部にあるものが排気され、計量室52の下部に適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Hが残留する。
供給工程は、第一供給弁53と第三供給弁55を閉じて第二供給弁54を一時的に開いて閉じる工程である。
その結果、計量室52に残留する液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が滅菌室10に供給される。
その結果、貯留室51に貯留する液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が滅菌室10に供給される。
真空気化工程S10を実施し、その後で所定の時間である気化時間が経過したときに過酸化水素導入工程S20を実施する。
真空気化工程S10を実施し、その後で所定の時間である気化時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに過酸化水素導入工程S20を実施してもよい。
気化時間が、気化室30の中で供給された過酸化水素Hが気化するのに十分な時間である、
例えば、大気開放弁22を閉じたまま、真空ポンプ21を停止して気化弁40を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室10に導入される。
気化した過酸化水素が対象物の表面につき滅菌する。
過酸化水素導入工程S20を実施したあとで、所定の時間が経過すると給気工程S30を実施する。
その結果、大気が滅菌室に入り、過酸化水素Hが対象物の表面に沿って移動し、対象物を滅菌する。
例えば、過酸化水素Hが対象物の入り込んだ部位に移動し、対象物の入り込んだ部位を滅菌する。
給気工程S30を実施し、その後で滅菌室10の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁閉止工程を実施する。
その結果、気化室30の圧力が所定の真空度になる。
気化弁閉止工程を実施し、その後で真空再開工程を実施する。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0になった後で、予め定められた所定の時間が経過したときに、大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室を真空引きする。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0になった後で、予め定められた所定の時間が経過した直後に、大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室を真空引きする。
その結果、滅菌室10が真空引きされる。
その結果、滅菌室10の圧力が下がり、気化室30の圧力が下がる。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
また、対象物に管状の部分がある場合でも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
気化弁40を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁22を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室10から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造12を開いて、対象物を取りだす。
図9は、本発明の第二の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第二の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40と真空再開工程S50と一時給気工程S60とで構成されてもよい。
準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40と真空再開工程S50は、第一の実施形態にかかる滅菌方法のものと同じなので、説明を省略する。
真空再開工程S50を実施し、その後で滅菌室10の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに一時給気工程S60を実施する。
例えば、真空再開工程S50を実施し、その後で、滅菌室10の圧力が下がったが所定の時間内に所定の真空度P4に達しないときに、真空ポンプ21を作動させながら、大気開放弁22を一時的に開いて閉じる。
滅菌室10に滞留したガスまたは液状のミストが大気開放弁22を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室10から排出される。
例えば、対象物の表面から蒸発した水蒸気が、大気開放弁22を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室10から排出される。
その結果、滅菌室10の圧力が下がって、所定の真空度P4に達そ、その後の滅菌工程を効率良く実施できる。
この様にすると対象物に複雑な凹み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
気化弁40を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁22を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室10から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造12を開いて、対象物を取りだす。
図10は、本発明の第三の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第三の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と真空再開工程S50とで構成される。
準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30とは第一の実施形態にかかる滅菌方法のものと同じなので、説明を省略する。
給気工程S30を実施し、その後で真空再開工程S50を実施する。
その結果、滅菌室10が真空引きされる。
図11は、本発明の第四の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40と真空再開工程S50とで構成されてもよい。
準備工程と準備工程と真空気化工程S10と過酸化水素導入工程S20と給気工程S30と気化弁閉止工程S40とは第一の実施形態にかかる滅菌方法と同じなので、説明を省略する。
気化弁閉止工程を実施し、その後で真空再開工程を実施する。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0に達したときに、大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室を真空引きする。
気化室30の圧力が予め設定された所定の真空度P0に達した直後に、大気開放弁22を閉じて真空ポンプ21を作動させて滅菌室を真空引きする。
その結果、滅菌室10が真空引きされる。
その結果、滅菌室10の圧力が下がり、気化室30の圧力が下がる。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
また、対象物に管状の部分がある場合でも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
気化弁40が対象物を収納可能な滅菌室10と気化室30と連通し、滅菌室10と気化室30とを真空引きし気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室40に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開く様にしたので、気化室30で所定の時間内で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して滅菌室10に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して滅菌室10に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10が所定の真空度に達すると気化弁40を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、気化室30が所定の真空度を維持する。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10が所定の真空度に達すると気化弁40を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室10を真空引きし、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室30が所定の真空度を維持して滅菌室10を真空引きする操作を繰り返すので、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10が所定の真空度に達すると気化弁40を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室10を真空引きし、その後で滅菌室10の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに大気開放弁22を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室30が所定の真空度を維持して滅菌室10を真空引きする操作を繰り返すので、2回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成でき、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、貯留室51が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給するために、滅菌室10が真空引きされている際に、計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の頂部と貯留室51との導通を許し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を許して計量室52の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を許す様にしたので、計量室52の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給できる。
また、気化弁40が対象物を収納可能な滅菌室10と気化室30と連通し、滅菌室10を真空引きし気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10を真空引きし、その後で滅菌室10が所定の真空度に達しないときに大気開放弁22を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室30を所定の真空度に維持して滅菌室10を真空引きするので、2回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成できる。
また、貯留室51が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給するために、滅菌室10が真空引きされている際に、計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の頂部と貯留室51との導通を許し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を許して計量室52の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を許す様にしたので、計量室52の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給できる。
気化弁40が対象物を収納可能な滅菌室10と気化室30と連通し、滅菌室10と気化室30とを真空引きし気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁を開き、気化時間が気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間である様にしたので、気化室30で所定の時間内で十分に気化した過酸化水素が気化弁40を通過して滅菌室10に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁40を通過して滅菌室10に入り収納された対象物を滅菌できる
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10が所定の真空度に達すると気化弁40を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、気化室30が所定の真空度を維持する。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10が所定の真空度に達すると気化弁40を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室10を真空引きし、以下同じ手順を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室30が所定の真空度を維持して滅菌室10を真空引きする操作を繰り返すので、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、気化弁40を開いて滅菌室10を真空引きし、その後で気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室10の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10が所定の真空度に達すると気化弁40を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室10を真空引きし、その後で滅菌室10の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに大気開放弁22を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室30が所定の真空度を維持して滅菌室10を真空引きする操作を繰り返すので、2回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成でき、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、貯留室51が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給するために、滅菌室10が真空引きされている際に、計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の頂部と貯留室51との導通を許し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を許して計量室52の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を許す様にしたので、計量室52の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給できる。
また、気化弁40が対象物を収納可能な滅菌室10と気化室30と連通し、滅菌室10を真空引きし気化弁40を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室10の真空引きを停止して気化弁40を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁22を開き、その後で滅菌室10を真空引きし、その後で滅菌室10の所定の真空度に達しないときに大気開放弁22を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室30で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁40を通過して所定の真空度に達した滅菌室10に入り、滅菌室10に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室30が所定の真空度を維持して滅菌室10を真空引きするので、2回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成できる。
また、貯留室51が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給するために、滅菌室10が真空引きされている際に、計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の頂部と貯留室51との導通を許し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を許して計量室52の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室52の頂部と貯留室51との導通を止めて計量室52の中間部と滅菌室10との導通を止めて計量室52の下端部と気化室30との導通を許す様にしたので、計量室52の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室30に供給できる。
10 滅菌室
11 滅菌室本体
12 滅菌室蓋構造
20 真空機器
21 真空ポンプ
22 大気開放弁
30 気化室
40 気化弁
50 過酸化水素供給機器
51 貯留室
52 計量室
53 第一供給弁
54 第二供給弁
55 第三供給弁
56 供給弁
S10 真空気化工程
S11 真空工程
S12 気化工程
S20 過酸化水素導入工程
S30 給気工程
S40 気化弁閉止工程
S50 真空再開工程
S60 一時給気工程
Claims (6)
- 対象物を滅菌できる滅菌装置であって、
対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、
前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、
所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、
開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、
前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、
を備え、
前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと、開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、
前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌装置。 - 対象物を滅菌できる滅菌装置であって、
対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、
前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、
所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、
開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、
前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、
を備え、
前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと、開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、
前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌装置。 - 対象物を滅菌できる滅菌装置であって、
対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、
前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、
所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、
開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、
前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、
を備え、
前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、
前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程を実施し、前記真空再開工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記真空ポンプを作動させながら前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる一時給気工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であることを特徴とする滅菌装置。 - 対象物を滅菌できる滅菌方法であって、
対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、
前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、
前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、
前記大気開放弁を開く給気工程と、
前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、
を備え、
前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、
前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌方法。 - 対象物を滅菌できる滅菌方法であって、
対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、
前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、
前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、
前記大気開放弁を開く給気工程と、
前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、
前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程と、
を備え、
前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、
前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度の達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記真空再開工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌方法。 - 対象物を滅菌できる滅菌方法であって、
対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、
前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、
前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、
前記大気開放弁を開く給気工程と、
前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、
前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程と、
前記真空ポンプを作動させながら前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる一時給気工程と、
を備え、
前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、
前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記真空再開工程を実施し、前記真空再開工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記一時給気工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であることを特徴とする滅菌方法。
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