JP6031742B2 - 滅菌装置と滅菌方法 - Google Patents
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Description
本発明は、過酸化水素を用いる滅菌装置と滅菌方法とに係る。特に過酸化水素を取り扱う手順に特徴のある滅菌装置と滅菌方法とに関する。
対象物を滅菌したいことがある。
例えば、使用後または使用前に医療機器を滅菌する。
対象物を滅菌するのに滅菌装置と滅菌方法を用いる。
これらを滅菌するのに過酸化水素を用いて対象物を滅菌する滅菌装置と滅菌方法とが提案される。
例えば、使用後または使用前に医療機器を滅菌する。
対象物を滅菌するのに滅菌装置と滅菌方法を用いる。
これらを滅菌するのに過酸化水素を用いて対象物を滅菌する滅菌装置と滅菌方法とが提案される。
対象物を真空チャンバーに入れて、内部を真空状態にして、ガス状の過酸化水素を内部に充満させる。
ガス状の過酸化水素は、対象物の表面を殺菌する。
対象物が、複雑な形状をもつことがある。
対象物が入りくんだ形状をもつことがある。
例えば、対象物には、チューブ状の形状をもつものがある。
例えば、チューブ状の形状をもつ対象物の内径の奥深い箇所を効率よく殺菌したいという要請があった。
対象物が、複雑な形状をもつことがある。
対象物が入りくんだ形状をもつことがある。
例えば、対象物には、チューブ状の形状をもつものがある。
例えば、チューブ状の形状をもつ対象物の内径の奥深い箇所を効率よく殺菌したいという要請があった。
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、簡単な手順と簡単な構成により複雑な形状をもつ対象物を効率良く滅菌または殺菌できる滅菌装置と滅菌方法とを提供しようとする。
本発明は、対象物を滅菌できる滅菌装置であって、対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、を備え、前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと、開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする。
また、本発明は、対象物を滅菌できる滅菌装置であって、対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、を備え、前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと、開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程を実施し、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする。
また、本発明は、対象物を滅菌できる滅菌装置であって、対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、を備え、前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程を実施し、前記真空再開工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記真空ポンプを作動させながら前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる一時給気工程を実施し、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であることを特徴とする。
また、本発明は、対象物を滅菌できる滅菌方法であって、対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、前記大気開放弁を開く給気工程と、前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、を備え、前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする。
また、本発明は、対象物を滅菌できる滅菌方法であって、対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、前記大気開放弁を開く給気工程と、前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程と、を備え、前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度の達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記真空再開工程を実施し、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする。
また、本発明は、対象物を滅菌できる滅菌方法であって、対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、前記大気開放弁を開く給気工程と、前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程と、前記真空ポンプを作動させながら前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる一時給気工程と、を備え、前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記真空再開工程を実施し、前記真空再開工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記一時給気工程を実施し、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であることを特徴とする。
本発明によれば、簡単な手順と簡単な構成により複雑な形状をもつ対象物を効率良く滅菌または殺菌できる滅菌装置と滅菌方法とを提供できる。
以上説明したように、本発明に係る滅菌方法は、その構成により、以下の効果を有する。
前記気化弁が対象物を収納可能な前記滅菌室と前記気化室と連通し、前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間である様にしたので、前記気化室で所定の時間内で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で前記滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、前記気化室が所定の真空度を維持する。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開き、その後で大気の導入を停止して前記滅菌室を真空引きする様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、前記気化室が所定の真空度を維持して前記滅菌室を真空引きできる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で前記滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開き、その後で大気の導入を停止して前記滅菌室を真空引きし、その後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記大気開放弁を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、前記気化室が所定の真空度を維持して前記滅菌室を真空引きできる。
また、気化弁が対象物を収納可能な滅菌室と気化室と連通し、前記滅菌室を真空引きし気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁を開き、その後で滅菌室を真空引きし、その後で前記滅菌室の所定の真空度に達しないときに前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室が所定の真空度を維持して滅菌室を真空引きできる。
従って、簡単な手順と簡単な構成により複雑な形状をもつ対象物を効率良く滅菌または殺菌できる滅菌方法を提供できる。
前記気化弁が対象物を収納可能な前記滅菌室と前記気化室と連通し、前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間である様にしたので、前記気化室で所定の時間内で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で前記滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、前記気化室が所定の真空度を維持する。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開き、その後で大気の導入を停止して前記滅菌室を真空引きする様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、前記気化室が所定の真空度を維持して前記滅菌室を真空引きできる。
また、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きし、その後で前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開き、その後で前記滅菌室が所定の真空度に達すると前記気化弁を開き、その後で大気の導入を停止して前記滅菌室を真空引きし、その後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記大気開放弁を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった前記気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り前記滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、前記気化室が所定の真空度を維持して前記滅菌室を真空引きできる。
また、気化弁が対象物を収納可能な滅菌室と気化室と連通し、前記滅菌室を真空引きし気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給し、その後で所定の時間が経過したときに前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁を開き、その後で滅菌室を真空引きし、その後で前記滅菌室の所定の真空度に達しないときに前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が前記気化弁を通過して所定の真空度に達した前記滅菌室に入り滅菌室に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室が所定の真空度を維持して滅菌室を真空引きできる。
従って、簡単な手順と簡単な構成により複雑な形状をもつ対象物を効率良く滅菌または殺菌できる滅菌方法を提供できる。
以下、本発明を実施するための形態を、図面を参照して説明する。
最初に、本発明の第一の実施形態にかかる滅菌装置を説明する。
図１は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌装置の概念図である。図２は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。図５は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その１の概念図である。図６は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その１のタイムチャート図である。図７は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その２の概念図である。
図１は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌装置の概念図である。図２は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。図５は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その１の概念図である。図６は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その１のタイムチャート図である。図７は、本発明の第一の実施形態に係る過酸化水素供給機器その２の概念図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌装置は、対象物を滅菌できる装置である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
対象物は、滅菌したいものである。
例えば、対象物は医療器具である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
対象物は、滅菌したいものである。
例えば、対象物は医療器具である。
滅菌室１０は、対象物を収納可能な真空チャンバーである。真空チャンバーは、医療器具等を収納した状態で３０パスカル程度の真空度を維持できるチャンバーである。
滅菌室１０は、滅菌室本体１１と滅菌室蓋構造１２とで構成される。
滅菌室本体１１は、真空を維持可能な真空チャンバーの本体構造である。
後述する真空ポンプ２１と大気開放弁２２と気化弁４０とが、滅菌室本体１１に連通する。
滅菌室蓋構造１２は、滅菌室１０の開口を開放、閉止できる蓋構造である。
滅菌室蓋構造１２を開口を開いて、滅菌室１０の開口から対象物を入れて、滅菌室蓋構造１２は開口を閉じる。
滅菌室１０は、滅菌室本体１１と滅菌室蓋構造１２とで構成される。
滅菌室本体１１は、真空を維持可能な真空チャンバーの本体構造である。
後述する真空ポンプ２１と大気開放弁２２と気化弁４０とが、滅菌室本体１１に連通する。
滅菌室蓋構造１２は、滅菌室１０の開口を開放、閉止できる蓋構造である。
滅菌室蓋構造１２を開口を開いて、滅菌室１０の開口から対象物を入れて、滅菌室蓋構造１２は開口を閉じる。
真空機器２０は、滅菌室１０を真空引きできる機器である。
真空機器２０は、真空ポンプ２１と大気開放弁２２とで構成される。
真空ポンプ２１は、滅菌室１０から排気できる機器である。
大気開放弁２２は、開いて滅菌室１０と大気との導通を許し、閉じて滅菌室１０と大気との導通を止める弁である。
大気開放弁２２が閉じて滅菌室１０と大気との導通を止め、真空ポンプ２１を作動させると、滅菌室１０を真空引きできる。
大気開放弁２２が開いて滅菌室１０と大気との導通を許すと、滅菌室１０に給気できる。
真空機器２０は、真空ポンプ２１と大気開放弁２２とで構成される。
真空ポンプ２１は、滅菌室１０から排気できる機器である。
大気開放弁２２は、開いて滅菌室１０と大気との導通を許し、閉じて滅菌室１０と大気との導通を止める弁である。
大気開放弁２２が閉じて滅菌室１０と大気との導通を止め、真空ポンプ２１を作動させると、滅菌室１０を真空引きできる。
大気開放弁２２が開いて滅菌室１０と大気との導通を許すと、滅菌室１０に給気できる。
気化室３０は、所定の容積の気化する空間を形成する構造である。
気化室３０は、液体を気化させたガスを収納する空間をもつ。
気化室３０は、液体を溜める溜まり部と溜まり部の上方に液体を気化させたガスを収納する空間をもってもよい。
気化室３０は、後述する気化弁４０を介して、滅菌室１０に連通する。
気化室３０は、後述する過酸化水素供給機器５０により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を供給される。
気化室３０は、過酸化水素供給機器５０により過酸化水素水を供給されてもよい。
後述する過酸化水素供給機器５０が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給すると、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が溜まり部に溜まる。
その後で、所定の時間が経過すると経過すると、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液の全量が気化室３０の空間で気化する。
気化室３０は、液体を気化させたガスを収納する空間をもつ。
気化室３０は、液体を溜める溜まり部と溜まり部の上方に液体を気化させたガスを収納する空間をもってもよい。
気化室３０は、後述する気化弁４０を介して、滅菌室１０に連通する。
気化室３０は、後述する過酸化水素供給機器５０により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を供給される。
気化室３０は、過酸化水素供給機器５０により過酸化水素水を供給されてもよい。
後述する過酸化水素供給機器５０が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給すると、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が溜まり部に溜まる。
その後で、所定の時間が経過すると経過すると、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液の全量が気化室３０の空間で気化する。
気化弁４０は、開いて気化室３０と滅菌室１０との導通を許し、閉じて気化室３０と滅菌室１０との導通を止める機器である。
ガス状の過酸化水素が気化室４０に充満し、滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達しているときに、気化弁４０を開くと、気化室３０と滅菌室１０との導通を許して、気化室３０に充満するガス状の過酸化水素が滅菌室１０に入る。
気化室３０が空の状態で、気化弁４０を開いて気化室３０と滅菌室１０との導通を許して、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作用させると、滅菌室１０と気化室３０の圧力が下がる。
ガス状の過酸化水素が気化室４０に充満し、滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達しているときに、気化弁４０を開くと、気化室３０と滅菌室１０との導通を許して、気化室３０に充満するガス状の過酸化水素が滅菌室１０に入る。
気化室３０が空の状態で、気化弁４０を開いて気化室３０と滅菌室１０との導通を許して、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作用させると、滅菌室１０と気化室３０の圧力が下がる。
過酸化水素供給機器５０は、気化室３０に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる機器である。
以下に２つのタイプの過酸化水素供給機器５０を説明する。
以下に２つのタイプの過酸化水素供給機器５０を説明する。
最初に、第一のタイプの過酸化水素供給機器５０を説明する。
図５は、第一のタイプの過酸化水素供給機器５０を示す。
第一のタイプの過酸化水素供給機器５０は、貯留室５１と計量室５２と第一供給弁５３と第二供給弁５４と第三供給弁５５とで構成される。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できるものである。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できる空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
図５は、第一のタイプの過酸化水素供給機器５０を示す。
第一のタイプの過酸化水素供給機器５０は、貯留室５１と計量室５２と第一供給弁５３と第二供給弁５４と第三供給弁５５とで構成される。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できるものである。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できる空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
計量室５２は、液体を貯留できる貯留空間を形成する。
例えば、計量室５２は、直管部と枝管部とでできる。
直管部は、直線の管状の部分である。
枝管部は、直管部の中間部から枝状に延びた管状の部分である。
計量室５２は、直管部の軸心が垂直になる様に据え付けられる。
直管部と枝管部の内側が貯留空間を形成する。
例えば、計量室５２は、直管部と枝管部とでできる。
直管部は、直線の管状の部分である。
枝管部は、直管部の中間部から枝状に延びた管状の部分である。
計量室５２は、直管部の軸心が垂直になる様に据え付けられる。
直管部と枝管部の内側が貯留空間を形成する。
第一供給弁５３は、開いて貯留室５１と計量室５２との導通を許し、閉じて貯留室５１と計量室５２との導通を止める弁である。
第一供給弁５３は、開いて貯留室５１と計量室５２の頂部との導通を許し、閉じて貯留室５１と計量室５２の頂部との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第一供給弁５３は、開いて貯留室５１と直管部の頂部との導通を許し、閉じて貯留室５１と直管部の頂部との導通を止める。
例えば、第一供給弁５３は、直管部の頂部に設けられ、導通管を介して貯留室５１に連通する。
第一供給弁５３は、開いて貯留室５１と計量室５２の頂部との導通を許し、閉じて貯留室５１と計量室５２の頂部との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第一供給弁５３は、開いて貯留室５１と直管部の頂部との導通を許し、閉じて貯留室５１と直管部の頂部との導通を止める。
例えば、第一供給弁５３は、直管部の頂部に設けられ、導通管を介して貯留室５１に連通する。
第二供給弁５４は、開いて計量室５２の下部と気化室３０との導通を許し、閉じて計量室５２の下部と気化室３０との導通を止める弁である。
第二供給弁５４は、開いて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許し、閉じて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第二供給弁５４は、開いて直管部の下端部と気化室３０との導通を許し、閉じて直管部の下端部と気化室３０との導通を止める弁である。
例えば、第二供給弁５４は、直管部の下端部に設けられ、導通管を介して気化室３０に連通する。
第二供給弁５４は、開いて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許し、閉じて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第二供給弁５４は、開いて直管部の下端部と気化室３０との導通を許し、閉じて直管部の下端部と気化室３０との導通を止める弁である。
例えば、第二供給弁５４は、直管部の下端部に設けられ、導通管を介して気化室３０に連通する。
第三供給弁５５は、開いて計量室５２の上部または中間部と真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の上部または中間部と真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁５５は、開いて計量室５２の上部と真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の上部と真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁５５は、開いて計量室５２の中間部と真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の中間部と真空チャンバーとの導通を止める弁である。
第三供給弁５５は、開いて計量室５２の上部または中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の上部または中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁であってもよい。
第三供給弁５５は、開いて計量室５２の中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁５５は、開いて枝管部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し、閉じて枝管部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁５５は、枝管部に設けられ、導通管を介して真空引きされる真空チャンバーに導通する。
真空チャンバーは、滅菌室１０であってもよいし、別途の真空チャンバーであってもよい。
第三供給弁５５は、開いて計量室５２の上部または中間部と滅菌室１０との導通を許し閉じて計量室５２の上部または中間部と滅菌室１０との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第三供給弁５５は、開いて枝管部と滅菌室１０との導通を許し閉じて枝管部と滅菌室１０との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第三供給弁５５は、枝管部に設けられ、導通管を介して滅菌室１０に導通する。
例えば、第三供給弁５５は、開いて計量室５２の上部と真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の上部と真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁５５は、開いて計量室５２の中間部と真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の中間部と真空チャンバーとの導通を止める弁である。
第三供給弁５５は、開いて計量室５２の上部または中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の上部または中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁であってもよい。
第三供給弁５５は、開いて計量室５２の中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し閉じて計量室の中間部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁５５は、開いて枝管部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を許し、閉じて枝管部と真空引きされる真空チャンバーとの導通を止める弁である。
例えば、第三供給弁５５は、枝管部に設けられ、導通管を介して真空引きされる真空チャンバーに導通する。
真空チャンバーは、滅菌室１０であってもよいし、別途の真空チャンバーであってもよい。
第三供給弁５５は、開いて計量室５２の上部または中間部と滅菌室１０との導通を許し閉じて計量室５２の上部または中間部と滅菌室１０との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第三供給弁５５は、開いて枝管部と滅菌室１０との導通を許し閉じて枝管部と滅菌室１０との導通を止める弁であってもよい。
例えば、第三供給弁５５は、枝管部に設けられ、導通管を介して滅菌室１０に導通する。
以下に第一のタイプの過酸化水素供給機器５０の作動工程を説明する。
図６は、第一のタイプの過酸化水素供給機器５０の作動工程のタイムチャートを示す。
作動工程は、過酸化水素供給機器が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｊを気化室３０に供給するために、実施される。
作動工程は、充填工程と排気工程と供給工程とで構成される。
事前に、第一供給弁５３と第二供給弁５４と第三供給弁５５とを閉じている。第三供給弁５５を開いて所定時間経過後に閉じる。その結果、計量室５２の内部が真空状態になる。
充填工程は、第二供給弁５４と第三供給弁５５とを閉じて第一供給弁５３を開く工程である。その結果、液体が貯留室５１から計量室５２へ移動する。
排気工程は、その後で、第一供給弁５３と第二供給弁５４とを閉じて第三供給弁５５を開く工程である。その結果、計量室５４の内部の気体が第三供給弁５５を経由して吸い出されて、計量室５４の内部のガスコンタミが減少する。
供給工程は、その後で第一供給弁５３と第三供給弁５５を閉じて第二供給弁５４を一時的に開いて閉じる工程である。その結果、定量の液体が気化室４０に落ちる。
図６は、第一のタイプの過酸化水素供給機器５０の作動工程のタイムチャートを示す。
作動工程は、過酸化水素供給機器が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｊを気化室３０に供給するために、実施される。
作動工程は、充填工程と排気工程と供給工程とで構成される。
事前に、第一供給弁５３と第二供給弁５４と第三供給弁５５とを閉じている。第三供給弁５５を開いて所定時間経過後に閉じる。その結果、計量室５２の内部が真空状態になる。
充填工程は、第二供給弁５４と第三供給弁５５とを閉じて第一供給弁５３を開く工程である。その結果、液体が貯留室５１から計量室５２へ移動する。
排気工程は、その後で、第一供給弁５３と第二供給弁５４とを閉じて第三供給弁５５を開く工程である。その結果、計量室５４の内部の気体が第三供給弁５５を経由して吸い出されて、計量室５４の内部のガスコンタミが減少する。
供給工程は、その後で第一供給弁５３と第三供給弁５５を閉じて第二供給弁５４を一時的に開いて閉じる工程である。その結果、定量の液体が気化室４０に落ちる。
液体を計量室５２に充填した後で、第一供給弁５３と第二供給弁５４とを閉じて第三供給弁５５を開いて計量室５２の内部を一時的に真空引きすると、計量室の下部に適量の液体が残留する。
液体が液状の過酸化水素であるときに、上記の手順をおこなうと、操作の途中で過酸化水素に混じった水分を除去できる。
その後で、気化室３０が真空引きされた状態で、第一供給弁５３と第三供給弁５５とを閉じて第二供給弁５４を開くと適量の液体が気化室３０に供給される。
液体が液状の過酸化水素であるときに、上記の手順をおこなうと、操作の途中で過酸化水素に混じった水分を除去できる。
その後で、気化室３０が真空引きされた状態で、第一供給弁５３と第三供給弁５５とを閉じて第二供給弁５４を開くと適量の液体が気化室３０に供給される。
次に、第二のタイプの過酸化水素供給機器５０を説明する。
図７は、第二のタイプの過酸化水素供給機器５０を示す。
第二のタイプの過酸化水素供給機器５０は、貯留室５１と供給弁５６とで構成される。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できるものである。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できる空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、非水の過酸化水素水を貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
図７は、第二のタイプの過酸化水素供給機器５０を示す。
第二のタイプの過酸化水素供給機器５０は、貯留室５１と供給弁５６とで構成される。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できるものである。
貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できる空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
例えば、貯留室５１は、非水の過酸化水素水を貯留できる逆円錐状の空間を形成する。
供給弁５６は、開いて貯留室５１と滅菌室１０との導通を許し、閉じて貯留室５１と滅菌室１０との導通を止める弁である。
以下に、第二のタイプの過酸化水素供給機器５０の作動工程を説明する。
適量の液体を貯留室５１に貯留した後で、供給弁５６を開いて閉じると、適量の液体を気化室３０へ供給できる。
適量の液体を貯留室５１に貯留した後で、供給弁５６を開いて閉じると、適量の液体を気化室３０へ供給できる。
次に、本発明の第一の実施形態にかかる滅菌装置の作用を説明する。
図２は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図そ示す。
滅菌装置の作用を、初期減圧工程と滅菌工程と換気工程との順に、説明する。
図２は、本発明の第一の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図そ示す。
滅菌装置の作用を、初期減圧工程と滅菌工程と換気工程との順に、説明する。
最初に、初期減圧工程を説明する。
初期減圧工程で、真空気化工程を実施する。
（真空気化工程）
真空気化工程は、真空機器２０により滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし、気化弁４０を閉じて過酸化水素供給機器５０により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給する工程である。
真空気化工程は、真空工程と気化工程とで構成してもよい。
初期減圧工程で、真空気化工程を実施する。
（真空気化工程）
真空気化工程は、真空機器２０により滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし、気化弁４０を閉じて過酸化水素供給機器５０により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給する工程である。
真空気化工程は、真空工程と気化工程とで構成してもよい。
（真空工程）
真空工程は、気化弁４０を開いて真空機器２０により滅菌室１０を真空引きする工程である。
滅菌室蓋構造１２で開口を開き、対象物を滅菌室本体に収納し、滅菌室蓋構造１２で開口を閉じる。
大気開放弁２２と気化弁４０とを閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がる。
滅菌室１０の圧力が下がり、所定の真空度Ｐ５に達すると、気化弁４０を開く。
気化室３０は気化弁４０を介して真空引きされ、気化室３０の圧力が下がる。
その結果、滅菌室１０の圧力が一時的に上がった後で、さらに圧力が下がる。
真空工程は、気化弁４０を開いて真空機器２０により滅菌室１０を真空引きする工程である。
滅菌室蓋構造１２で開口を開き、対象物を滅菌室本体に収納し、滅菌室蓋構造１２で開口を閉じる。
大気開放弁２２と気化弁４０とを閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がる。
滅菌室１０の圧力が下がり、所定の真空度Ｐ５に達すると、気化弁４０を開く。
気化室３０は気化弁４０を介して真空引きされ、気化室３０の圧力が下がる。
その結果、滅菌室１０の圧力が一時的に上がった後で、さらに圧力が下がる。
（気化工程）
気化工程は、その後で気化弁を閉じて過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給する工程である。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度Ｐ２に達すると、過酸化水素供給機器５０を作動させて計量室５２に適量の液状の過酸化水素を充填する。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の圧力Ｐ３に達すると、気化弁４０を閉じて、第二供給弁５４を開いて閉じる。
その結果、適量の液状の過酸化水素が気化室３０に入る。
時間の経過に従って、過酸化水素がガス化して気化室３０に充満する。
気化工程は、その後で気化弁を閉じて過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給する工程である。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度Ｐ２に達すると、過酸化水素供給機器５０を作動させて計量室５２に適量の液状の過酸化水素を充填する。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の圧力Ｐ３に達すると、気化弁４０を閉じて、第二供給弁５４を開いて閉じる。
その結果、適量の液状の過酸化水素が気化室３０に入る。
時間の経過に従って、過酸化水素がガス化して気化室３０に充満する。
次に、滅菌工程を実施する。
滅菌工程では、過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とを実施する。
（過酸化水素導入工程）
過酸化水素導入工程は、所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水素が気化室３０に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ２１を停止して、気化弁４０を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
過酸化水素が、対象物の表面に付着して対象物を滅菌する。
滅菌工程では、過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とを実施する。
（過酸化水素導入工程）
過酸化水素導入工程は、所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水素が気化室３０に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ２１を停止して、気化弁４０を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
過酸化水素が、対象物の表面に付着して対象物を滅菌する。
（給気工程）
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁４０を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
大気が滅菌室１０に入ると、過酸化水素が対象物の表面に沿って移動し、さらに対象物を滅菌する。
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁４０を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
大気が滅菌室１０に入ると、過酸化水素が対象物の表面に沿って移動し、さらに対象物を滅菌する。
（気化弁閉止工程）
気化弁閉止工程は、その後で滅菌室１０の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁を閉じる工程である。
大気が大気開放弁２２を介して滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上がる。
滅菌室１０の圧力が所定の真空度Ｐ１に達すると、気化弁４０を閉じる。
その結果、気化室３０の圧力が所定の真空度Ｐ１になる。
気化弁閉止工程は、その後で滅菌室１０の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁を閉じる工程である。
大気が大気開放弁２２を介して滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上がる。
滅菌室１０の圧力が所定の真空度Ｐ１に達すると、気化弁４０を閉じる。
その結果、気化室３０の圧力が所定の真空度Ｐ１になる。
（真空再開工程）
真空再開工程は、その後で大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きする工程である。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過したときに大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過した直後に大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧である。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
真空再開工程は、その後で大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きする工程である。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過したときに大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過した直後に大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧である。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させ、気化弁４０を開く。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
以降、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とを順に実施する手順を複数回実施する。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に管状の部分があるばあいでも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
図２では、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と順に実施する工程を複数回繰り返すのを示している。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に管状の部分があるばあいでも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
図２では、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と順に実施する工程を複数回繰り返すのを示している。
次に、換気工程を実施する。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２が開口を開いて、開口から対象物を取りだす。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２が開口を開いて、開口から対象物を取りだす。
次に、本発明の第二の実施形態にかかる滅菌装置を、図を基に、説明する。
図３は、本発明の第二の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。
本発明の第二の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
図３は、本発明の第二の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。
本発明の第二の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
次に、本発明の第二の実施形態にかかる滅菌装置の作用を説明する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
初期減圧工程と換気工程とは、第一の実施形態にかかる滅菌装置のものと同じなので、説明を省略する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
初期減圧工程と換気工程とは、第一の実施形態にかかる滅菌装置のものと同じなので、説明を省略する。
滅菌工程を説明する。
滅菌工程は、過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と一時給気工程とで構成される。
過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とは第一の実施形態にかかる滅菌装置の作用と同じなので、説明を省略する。
滅菌工程は、過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と一時給気工程とで構成される。
過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とは第一の実施形態にかかる滅菌装置の作用と同じなので、説明を省略する。
（一時給気工程）
図３は、一時給気工程での滅菌室の圧力の変化の詳細を説明する。
一時給気工程は、滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに真空ポンプ２１を作動させさながら大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる工程である。
真空再開工程を実施し、その後で、滅菌室１０の圧力が下がったが所定の時間内に所定の真空度Ｐ４に達しないときに、真空ポンプ２１を作動させながら、大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる。
滅菌室１０に滞留したガスまたは液状のミストが大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
例えば、対象物の表面から蒸発した水蒸気が、大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がって、所定の真空度Ｐ４に達し、その後の滅菌工程を効率良く実施できる。
図３は、一時給気工程での滅菌室の圧力の変化の詳細を説明する。
一時給気工程は、滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに真空ポンプ２１を作動させさながら大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる工程である。
真空再開工程を実施し、その後で、滅菌室１０の圧力が下がったが所定の時間内に所定の真空度Ｐ４に達しないときに、真空ポンプ２１を作動させながら、大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる。
滅菌室１０に滞留したガスまたは液状のミストが大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
例えば、対象物の表面から蒸発した水蒸気が、大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がって、所定の真空度Ｐ４に達し、その後の滅菌工程を効率良く実施できる。
次に、本発明の第三の実施形態に係る滅菌装置を、説明する。
本発明の第三の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
本発明の第三の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
次に、本発明の第三の実施形態にかかる滅菌装置の作用を説明する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
最初に、初期減圧工程を説明する。
（真空気化工程）
真空気化工程は、真空機器２０により滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし、気化弁４０を閉じて過酸化水素供給機器５０により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給する工程である。
滅菌室蓋構造１２が開口を開き、対象物を滅菌室本体に開口から収納し、滅菌室蓋構造１２が開口を閉じる。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がる。
気化室３０は気化弁４０を介して真空引きされ、気化室３０の圧力が下がる。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度Ｐ２に達すると、過酸化水素供給機器５０を作動させて計量室５２に適量の液状の過酸化水素を用意する。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の圧力Ｐ３に達すると、気化弁４０を閉じて、第二供給弁５４を開いて閉じる。
その結果、適量の液状の過酸化水素が気化室３０に入る。
時間の経過に従って、過酸化水素がガス化して気化室３０に充満する。
（真空気化工程）
真空気化工程は、真空機器２０により滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし、気化弁４０を閉じて過酸化水素供給機器５０により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給する工程である。
滅菌室蓋構造１２が開口を開き、対象物を滅菌室本体に開口から収納し、滅菌室蓋構造１２が開口を閉じる。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がる。
気化室３０は気化弁４０を介して真空引きされ、気化室３０の圧力が下がる。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度Ｐ２に達すると、過酸化水素供給機器５０を作動させて計量室５２に適量の液状の過酸化水素を用意する。
滅菌室１０の圧力が下がり所定の圧力Ｐ３に達すると、気化弁４０を閉じて、第二供給弁５４を開いて閉じる。
その結果、適量の液状の過酸化水素が気化室３０に入る。
時間の経過に従って、過酸化水素がガス化して気化室３０に充満する。
次に、滅菌工程を実施する。
滅菌工程は、過酸化水素導入工程と給気工程と真空再開工程とで構成される。
（過酸化水素導入工程）
過酸化水素導入工程は、その後で所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水死が気化室３０に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ２１を停止して、気化弁４０を開く。
その結果。滅菌室１０の圧力が上昇する。気化した過酸化水素が滅菌室１０に入り、過酸化水素が対象物の表面を付着して滅菌する。
滅菌工程は、過酸化水素導入工程と給気工程と真空再開工程とで構成される。
（過酸化水素導入工程）
過酸化水素導入工程は、その後で所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水死が気化室３０に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ２１を停止して、気化弁４０を開く。
その結果。滅菌室１０の圧力が上昇する。気化した過酸化水素が滅菌室１０に入り、過酸化水素が対象物の表面を付着して滅菌する。
（給気工程）
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁４０を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁４０を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
（真空再開工程）
真空再開工程は、その後で大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きする工程である。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過したときに大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過した直後に大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧である。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
真空再開工程は、その後で大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きする工程である。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過したときに大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め設定された所定の時間が経過した直後に大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧である。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させると、気化弁４０を開く。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
以降、気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と真空再開工程とを順次実施する手順を、複数回実施する。
この様にすると対象物に複雑な凹み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に複雑な凹み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
次に、換気工程を実施する。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２を開いて、対象物を取りだす。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２を開いて、対象物を取りだす。
次に、本発明の第四の実施形態にかかる滅菌装置を、図を基に、説明する。
図４は、本発明の第四の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。
本発明の第四の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
図４は、本発明の第四の実施形態に係る滅菌方法の圧力変化図である。
本発明の第四の実施形態にかかる滅菌装置は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０で過酸化水素供給機器５０とで構成される。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とは、第一の実施形態にかかるものと同じなので説明を省略する。
次に、本発明の第四の実施形態にかかる滅菌装置の作用を説明する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
初期減圧工程と換気工程とは、第一の実施形態にかかる滅菌装置のものと同じなので、説明を省略する。
初期減圧工程と滅菌工程と換気工程とに分けて、説明する。
初期減圧工程と換気工程とは、第一の実施形態にかかる滅菌装置のものと同じなので、説明を省略する。
滅菌工程では、過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とを実施する。
（過酸化水素導入工程）
過酸化水素導入工程は、所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水死が気化室３０に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ２１を停止して、気化弁４０を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
過酸化水素が、対象物の表面を付着して滅菌する。
（過酸化水素導入工程）
過酸化水素導入工程は、所定の時間が経過するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
または、所定の時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに真空機器による滅菌室の真空引きを停止して気化弁を開く。
適量の液状の過酸化水死が気化室３０に入った後で、所定の時間が経過すると、真空ポンプ２１を停止して、気化弁４０を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
過酸化水素が、対象物の表面を付着して滅菌する。
（給気工程）
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁４０を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
大気が滅菌室１０に入ると、過酸化水素が対象物の表面に沿って移動し、さらに対象物を滅菌する。
給気工程は、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く工程である。
気化弁４０を開いた後、所定の時間が経過すると大気開放弁を開く。
その結果、大気が滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上昇する。
大気が滅菌室１０に入ると、過酸化水素が対象物の表面に沿って移動し、さらに対象物を滅菌する。
（気化弁閉止工程）
気化弁閉止工程は、その後で滅菌室１０の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁を閉じる工程である。
大気が大気開放弁２２を介して滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上がる。
滅菌室１０の圧力が所定の真空度Ｐ１に達すると、気化弁４０を閉じる。
その結果、気化室３０の圧力が所定の真空度Ｐ１になる。
気化弁閉止工程は、その後で滅菌室１０の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁を閉じる工程である。
大気が大気開放弁２２を介して滅菌室１０に入り、滅菌室１０の圧力が上がる。
滅菌室１０の圧力が所定の真空度Ｐ１に達すると、気化弁４０を閉じる。
その結果、気化室３０の圧力が所定の真空度Ｐ１になる。
（真空再開工程）
真空再開工程は、その後で大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きする工程である。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達したときに、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達した直後に、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧である。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
真空再開工程は、その後で大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きする工程である。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達したときに、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達した直後に、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室１０を真空引きしてもよい。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧である。
例えば、真空度Ｐ０は、大気圧より低い圧力である。
大気開放弁２２を閉じて、真空ポンプ２１を作動させる。
大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させ、気化弁４０を開く。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
以降、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程とを順に実施する手順を複数回実施する。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に管状の部分があるばあいでも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
図４では、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と順に実施する工程を複数回繰り返すのを示している。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に管状の部分があるばあいでも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
図４では、真空気化工程と過酸化水素導入工程と給気工程と気化弁閉止工程と真空再開工程と順に実施する工程を複数回繰り返すのを示している。
次に、本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法を、図を基に、説明する。
図８は、本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０とで構成されてもよい。
図８は、本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０とで構成されてもよい。
準備工程は、滅菌室１０と気化室３０と気化弁４０とを準備する工程である。
準備工程は、滅菌室１０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とを準備しても良い。
準備工程は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とを準備しても良い。
準備工程は、滅菌室１０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とを準備しても良い。
準備工程は、滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０とを準備しても良い。
滅菌室１０は、対象物を収納する真空チャンバーである。
真空機器２０は、滅菌室１０を真空引きする機器である。
気化室３０は、所定の容積の気化する空間を形成する。気化室３０は、所定の容積の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を入れられたときに、全量が気化するのに十分な容積の空間をもつ。
気化弁４０は、開いて気化室３０と滅菌室１０との導通を許し閉じて気化室３０と滅菌室１０との導通を止める弁である。
過酸化水素供給機器５０は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給するための機器である。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０の詳細は、上述した滅菌装置のものであってもよい。
真空機器２０は、滅菌室１０を真空引きする機器である。
気化室３０は、所定の容積の気化する空間を形成する。気化室３０は、所定の容積の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を入れられたときに、全量が気化するのに十分な容積の空間をもつ。
気化弁４０は、開いて気化室３０と滅菌室１０との導通を許し閉じて気化室３０と滅菌室１０との導通を止める弁である。
過酸化水素供給機器５０は、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給するための機器である。
滅菌室１０と真空機器２０と気化室３０と気化弁４０と過酸化水素供給機器５０の詳細は、上述した滅菌装置のものであってもよい。
最初に、滅菌室蓋構造１２が開口を開き、対象物を開口から滅菌室１０に入れて、滅菌室蓋構造１２が開口を閉じる。
対象物は滅菌したいものである。
例えば、対象物は医療機器である。
対象物は滅菌したいものである。
例えば、対象物は医療機器である。
真空気化工程Ｓ１０は、滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし、気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給する工程である。
真空気気化工程Ｓ１０は、真空工程Ｓ１１と気化工程Ｓ１２とで構成してもよい。
真空気気化工程Ｓ１０は、真空工程Ｓ１１と気化工程Ｓ１２とで構成してもよい。
真空工程Ｓ１１は、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きする工程である。
滅菌室１０が真空引きされ、滅菌室１０の圧力が下がる。
気化室３０が気化弁４０を介して真空引きされ、気化室３０の圧力が下がる。
滅菌室１０が真空引きされ、滅菌室１０の圧力が下がる。
気化室３０が気化弁４０を介して真空引きされ、気化室３０の圧力が下がる。
気化工程Ｓ１２は、気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを気化室に供給する工程である。
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを気化室３０に供給するときに、過酸化水素供給機器５０を作動させる。
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈを気化室３０に供給するときに、過酸化水素供給機器５０を作動させる。
滅菌装置の過酸化水素供給機器が第一のタイプであるときに、真空気化工程Ｓ１０または気化工程Ｓ１２は、充填工程と排気工程と供給工程とを有する。
充填工程は、第二供給弁５４と第三供給弁５５とを閉じて第一供給弁５３を開く工程である。
その結果、貯留室５１に貯留される液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が計量室５２に入る。
排気工程は、第一供給弁５３と第二供給弁とを閉じて第三供給弁を開く工程である。
その結果、計量室５２に溜まる液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈのうち計量室５２の上部にあるものが排気され、計量室５２の下部に適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈが残留する。
供給工程は、第一供給弁５３と第三供給弁５５を閉じて第二供給弁５４を一時的に開いて閉じる工程である。
その結果、計量室５２に残留する液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が滅菌室１０に供給される。
充填工程は、第二供給弁５４と第三供給弁５５とを閉じて第一供給弁５３を開く工程である。
その結果、貯留室５１に貯留される液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が計量室５２に入る。
排気工程は、第一供給弁５３と第二供給弁とを閉じて第三供給弁を開く工程である。
その結果、計量室５２に溜まる液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈのうち計量室５２の上部にあるものが排気され、計量室５２の下部に適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液Ｈが残留する。
供給工程は、第一供給弁５３と第三供給弁５５を閉じて第二供給弁５４を一時的に開いて閉じる工程である。
その結果、計量室５２に残留する液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が滅菌室１０に供給される。
滅菌装置の過酸化水素供給機器が第二のタイプであるときに、真空気化工程Ｓ１０または気化工程Ｓ１２は、供給弁５６を一時的に開いて閉じる。
その結果、貯留室５１に貯留する液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が滅菌室１０に供給される。
その結果、貯留室５１に貯留する液状の過酸化水素または過酸化水素溶液が滅菌室１０に供給される。
過酸化水素導入工程Ｓ２０は、滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁を開く工程である。
真空気化工程Ｓ１０を実施し、その後で所定の時間である気化時間が経過したときに過酸化水素導入工程Ｓ２０を実施する。
真空気化工程Ｓ１０を実施し、その後で所定の時間である気化時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに過酸化水素導入工程Ｓ２０を実施してもよい。
気化時間が、気化室３０の中で供給された過酸化水素Ｈが気化するのに十分な時間である、
例えば、大気開放弁２２を閉じたまま、真空ポンプ２１を停止して気化弁４０を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室１０に導入される。
気化した過酸化水素が対象物の表面につき滅菌する。
真空気化工程Ｓ１０を実施し、その後で所定の時間である気化時間が経過したときに過酸化水素導入工程Ｓ２０を実施する。
真空気化工程Ｓ１０を実施し、その後で所定の時間である気化時間が経過しさらに滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに過酸化水素導入工程Ｓ２０を実施してもよい。
気化時間が、気化室３０の中で供給された過酸化水素Ｈが気化するのに十分な時間である、
例えば、大気開放弁２２を閉じたまま、真空ポンプ２１を停止して気化弁４０を開く。
その結果、気化した過酸化水素が滅菌室１０に導入される。
気化した過酸化水素が対象物の表面につき滅菌する。
給気工程Ｓ３０は、大気開放弁２２を開く工程である。
過酸化水素導入工程Ｓ２０を実施したあとで、所定の時間が経過すると給気工程Ｓ３０を実施する。
その結果、大気が滅菌室に入り、過酸化水素Ｈが対象物の表面に沿って移動し、対象物を滅菌する。
例えば、過酸化水素Ｈが対象物の入り込んだ部位に移動し、対象物の入り込んだ部位を滅菌する。
過酸化水素導入工程Ｓ２０を実施したあとで、所定の時間が経過すると給気工程Ｓ３０を実施する。
その結果、大気が滅菌室に入り、過酸化水素Ｈが対象物の表面に沿って移動し、対象物を滅菌する。
例えば、過酸化水素Ｈが対象物の入り込んだ部位に移動し、対象物の入り込んだ部位を滅菌する。
気化弁閉止工程Ｓ４０は、気化弁を閉じる工程である。
給気工程Ｓ３０を実施し、その後で滅菌室１０の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁閉止工程を実施する。
その結果、気化室３０の圧力が所定の真空度になる。
給気工程Ｓ３０を実施し、その後で滅菌室１０の圧力が上がって所定の真空度に達するときに気化弁閉止工程を実施する。
その結果、気化室３０の圧力が所定の真空度になる。
真空再開工程Ｓ５０は、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする工程である。
気化弁閉止工程を実施し、その後で真空再開工程を実施する。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め定められた所定の時間が経過したときに、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め定められた所定の時間が経過した直後に、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
その結果、滅菌室１０が真空引きされる。
気化弁閉止工程を実施し、その後で真空再開工程を実施する。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め定められた所定の時間が経過したときに、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０になった後で、予め定められた所定の時間が経過した直後に、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
その結果、滅菌室１０が真空引きされる。
大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させると、気化弁４０を開く。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
以降、真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０とを順に実施する手順を複数回実施する。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
また、対象物に管状の部分がある場合でも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
また、対象物に管状の部分がある場合でも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
次に、換気工程を実施する。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２を開いて、対象物を取りだす。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２を開いて、対象物を取りだす。
次に、本発明の第二の実施形態にかかる滅菌方法を、図を基に、説明する。
図９は、本発明の第二の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第二の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０と一時給気工程Ｓ６０とで構成されてもよい。
準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０は、第一の実施形態にかかる滅菌方法のものと同じなので、説明を省略する。
図９は、本発明の第二の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第二の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０と一時給気工程Ｓ６０とで構成されてもよい。
準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０は、第一の実施形態にかかる滅菌方法のものと同じなので、説明を省略する。
一時給気工程Ｓ６０は、真空ポンプ２１を作動させながら大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる工程である。
真空再開工程Ｓ５０を実施し、その後で滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに一時給気工程Ｓ６０を実施する。
例えば、真空再開工程Ｓ５０を実施し、その後で、滅菌室１０の圧力が下がったが所定の時間内に所定の真空度Ｐ４に達しないときに、真空ポンプ２１を作動させながら、大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる。
滅菌室１０に滞留したガスまたは液状のミストが大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
例えば、対象物の表面から蒸発した水蒸気が、大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がって、所定の真空度Ｐ４に達そ、その後の滅菌工程を効率良く実施できる。
真空再開工程Ｓ５０を実施し、その後で滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに一時給気工程Ｓ６０を実施する。
例えば、真空再開工程Ｓ５０を実施し、その後で、滅菌室１０の圧力が下がったが所定の時間内に所定の真空度Ｐ４に達しないときに、真空ポンプ２１を作動させながら、大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる。
滅菌室１０に滞留したガスまたは液状のミストが大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
例えば、対象物の表面から蒸発した水蒸気が、大気開放弁２２を介して入ってきた大気に押しだされて、滅菌室１０から排出される。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がって、所定の真空度Ｐ４に達そ、その後の滅菌工程を効率良く実施できる。
以降、真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０と一時給気工程Ｓ６０とを順に実施する手順を複数回繰り返す。
この様にすると対象物に複雑な凹み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に複雑な凹み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
次に、換気工程を実施する。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２を開いて、対象物を取りだす。
気化弁４０を閉じて、真空ポンプを作動させて、大気開放弁２２を繰り返し、開放、閉止させる。
その結果、過酸化水素が滅菌室１０から排出され、また対象物の窪みに入り込んだ過酸化水素も排出される。
滅菌室蓋構造１２を開いて、対象物を取りだす。
次に、本発明の第三の実施形態にかかる滅菌方法を、図を基に、説明する。
図１０は、本発明の第三の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第三の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と真空再開工程Ｓ５０とで構成される。
準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とは第一の実施形態にかかる滅菌方法のものと同じなので、説明を省略する。
図１０は、本発明の第三の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第三の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と真空再開工程Ｓ５０とで構成される。
準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とは第一の実施形態にかかる滅菌方法のものと同じなので、説明を省略する。
真空再開工程Ｓ５０は、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする工程である。
給気工程Ｓ３０を実施し、その後で真空再開工程Ｓ５０を実施する。
その結果、滅菌室１０が真空引きされる。
給気工程Ｓ３０を実施し、その後で真空再開工程Ｓ５０を実施する。
その結果、滅菌室１０が真空引きされる。
次に、本発明の第四の実施形態にかかる滅菌方法を、図を基に、説明する。
図１１は、本発明の第四の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０とで構成されてもよい。
準備工程と準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とは第一の実施形態にかかる滅菌方法と同じなので、説明を省略する。
図１１は、本発明の第四の実施形態にかかる滅菌方法のフローチャート図である。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０とで構成される。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とで構成されてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかる滅菌方法は、準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０とで構成されてもよい。
準備工程と準備工程と真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０とは第一の実施形態にかかる滅菌方法と同じなので、説明を省略する。
真空再開工程Ｓ５０は、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする工程である。
気化弁閉止工程を実施し、その後で真空再開工程を実施する。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達したときに、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達した直後に、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
その結果、滅菌室１０が真空引きされる。
気化弁閉止工程を実施し、その後で真空再開工程を実施する。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達したときに、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
気化室３０の圧力が予め設定された所定の真空度Ｐ０に達した直後に、大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させて滅菌室を真空引きする。
その結果、滅菌室１０が真空引きされる。
大気開放弁２２を閉じて真空ポンプ２１を作動させると、気化弁４０を開く。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
その結果、滅菌室１０の圧力が下がり、気化室３０の圧力が下がる。
以降、真空気化工程Ｓ１０と過酸化水素導入工程Ｓ２０と給気工程Ｓ３０と気化弁閉止工程Ｓ４０と真空再開工程Ｓ５０とを順に実施する手順を複数回実施する。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
また、対象物に管状の部分がある場合でも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
この様にすると対象物に複雑な窪み部があるばあいでも、過酸化水素が窪み部に入り込み、効率良く滅菌できる。
また、対象物に管状の部分がある場合でも、過酸化水素が管の中に入り込み、効率良く滅菌できる。
本発明の実施形態に係る滅菌装置は、その構成により、以下の効果を有する。
気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室４０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、気化室３０で所定の時間内で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、気化室３０が所定の真空度を維持する。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成でき、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
また、気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０を真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室３０を所定の真空度に維持して滅菌室１０を真空引きするので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室４０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、気化室３０で所定の時間内で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、気化室３０が所定の真空度を維持する。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成でき、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
また、気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０を真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室３０を所定の真空度に維持して滅菌室１０を真空引きするので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
また、本発明の実施形態に係る滅菌方法は、その構成により、以下の効果を有する。
気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁を開き、気化時間が気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間である様にしたので、気化室３０で所定の時間内で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、気化室３０が所定の真空度を維持する。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、以下同じ手順を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成でき、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
また、気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０を真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０の所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きするので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０と気化室３０とを真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁を開き、気化時間が気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間である様にしたので、気化室３０で所定の時間内で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過し所定の真空度に達したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開く様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で十分に気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し収納された対象物を滅菌でき、気化室３０が所定の真空度を維持する。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、以下同じ手順を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、気化弁４０を開いて滅菌室１０を真空引きし、その後で気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過しさらに滅菌室１０の圧力が下がって所定の真空度に達するときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定の時間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０が所定の真空度に達すると気化弁４０を開き、その後で大気の導入を停止して滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じ、以下同じ操作を繰り返す様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、滅菌の程度が高まり、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きする操作を繰り返すので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成でき、収納された対象物を繰り返して滅菌できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
また、気化弁４０が対象物を収納可能な滅菌室１０と気化室３０と連通し、滅菌室１０を真空引きし気化弁４０を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給し、その後で所定の時間が経過したときに滅菌室１０の真空引きを停止して気化弁４０を開き、その後で所定期間が経過すると大気開放弁２２を開き、その後で滅菌室１０を真空引きし、その後で滅菌室１０の所定の真空度に達しないときに大気開放弁２２を一時的に開いて閉じる様にしたので、過酸化水素が真空になった気化室３０で気化し、所定の時間で気化した過酸化水素が気化弁４０を通過して所定の真空度に達した滅菌室１０に入り、滅菌室１０に大気が導入され、気化した過酸化水素が対象物の表面を移動し、対象物を滅菌でき、気化室３０が所定の真空度を維持して滅菌室１０を真空引きするので、２回目以降の真空引きでも所望の真空度を達成できる。
また、貯留室５１が液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を貯留でき、液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給するために、滅菌室１０が真空引きされている際に、計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を許し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を許して計量室５２の下部に適量の液体が残留し、その後で計量室５２の頂部と貯留室５１との導通を止めて計量室５２の中間部と滅菌室１０との導通を止めて計量室５２の下端部と気化室３０との導通を許す様にしたので、計量室５２の下部に残留した適量の液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を気化室３０に供給できる。
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
Ｈ 液状の過酸化水素または過酸化水素溶液
１０ 滅菌室
１１ 滅菌室本体
１２ 滅菌室蓋構造
２０ 真空機器
２１ 真空ポンプ
２２ 大気開放弁
３０ 気化室
４０ 気化弁
５０ 過酸化水素供給機器
５１ 貯留室
５２ 計量室
５３ 第一供給弁
５４ 第二供給弁
５５ 第三供給弁
５６ 供給弁
Ｓ１０ 真空気化工程
Ｓ１１ 真空工程
Ｓ１２ 気化工程
Ｓ２０ 過酸化水素導入工程
Ｓ３０ 給気工程
Ｓ４０ 気化弁閉止工程
Ｓ５０ 真空再開工程
Ｓ６０ 一時給気工程
１０ 滅菌室
１１ 滅菌室本体
１２ 滅菌室蓋構造
２０ 真空機器
２１ 真空ポンプ
２２ 大気開放弁
３０ 気化室
４０ 気化弁
５０ 過酸化水素供給機器
５１ 貯留室
５２ 計量室
５３ 第一供給弁
５４ 第二供給弁
５５ 第三供給弁
５６ 供給弁
Ｓ１０ 真空気化工程
Ｓ１１ 真空工程
Ｓ１２ 気化工程
Ｓ２０ 過酸化水素導入工程
Ｓ３０ 給気工程
Ｓ４０ 気化弁閉止工程
Ｓ５０ 真空再開工程
Ｓ６０ 一時給気工程
Claims (6)
- 対象物を滅菌できる滅菌装置であって、
対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、
前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、
所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、
開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、
前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、
を備え、
前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと、開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、
前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌装置。 - 対象物を滅菌できる滅菌装置であって、
対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、
前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、
所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、
開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、
前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、
を備え、
前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと、開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、
前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌装置。 - 対象物を滅菌できる滅菌装置であって、
対象物を収納可能な真空チャンバーである滅菌室と、
前記滅菌室を真空引きできる真空機器と、
所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、
開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、
前記気化室に液状の過酸化水素又は過酸化水素溶液を供給できる過酸化水素供給機器と、
を備え、
前記真空機器が前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有し、
前記気化弁を開いて前記真空機器により前記滅菌室と前記気化室とを真空引きする真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じて前記過酸化水素供給機器により液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記真空機器による前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると大気開放弁を開く給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程を実施し、前記真空再開工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記真空ポンプを作動させながら前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる一時給気工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であることを特徴とする滅菌装置。 - 対象物を滅菌できる滅菌方法であって、
対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、
前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、
前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、
前記大気開放弁を開く給気工程と、
前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、
を備え、
前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、
前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌方法。 - 対象物を滅菌できる滅菌方法であって、
対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、
前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、
前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、
前記大気開放弁を開く給気工程と、
前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、
前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程と、
を備え、
前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、
前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度の達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記真空再開工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であり、
液状の過酸化水素または過酸化水素溶液は前記気化弁が閉じて真空雰囲気の前記気化室の内部で気化するのに十分な時間内に気化し、前記気化室の内部に溜まった気体状態の過酸化水素が前記気化弁を通過して前記気化室から真空引きを停止した真空雰囲気の前記滅菌室に流入して前記滅菌室の内部に置かれた対象物に接触し対象物を滅菌することを特徴とする滅菌方法。 - 対象物を滅菌できる滅菌方法であって、
対象物を収納する真空チャンバーである滅菌室と、所定の容積の気化する空間を形成する気化室と、開いて前記気化室と前記滅菌室との導通を許し閉じて前記気化室と前記滅菌室との導通を止める気化弁と、前記滅菌室から排気できる真空ポンプと開いて前記滅菌室と大気との導通を許し閉じて前記滅菌室と大気との導通を止める大気開放弁とを有する真空機器と、を準備する準備工程と、
前記滅菌室と前記気化室とを真空引きし前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する真空気化工程と、
前記滅菌室の真空引きを停止して前記気化弁を開く過酸化水素導入工程と、
前記大気開放弁を開く給気工程と、
前記気化弁を閉じる気化弁閉止工程と、
前記大気開放弁を閉じて前記真空ポンプを作動させて前記滅菌室を真空引きする真空再開工程と、
前記真空ポンプを作動させながら前記大気開放弁を一時的に開いて閉じる一時給気工程と、
を備え、
前記真空気化工程が、前記気化弁を開いて前記滅菌室を真空引きする真空工程と、前記気化弁を閉じて液状の過酸化水素または過酸化水素溶液を前記気化室に供給する気化工程と、を有し、
前記真空工程を実施し、前記真空工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達するときに前記気化工程を実施し、前記気化工程を実施した後で所定の時間である気化時間が経過し、さらに、前記滅菌室の圧力が下がって所定の真空度に達するときに、前記過酸化水素導入工程を実施し、前記過酸化水素導入工程を実施した後で所定の時間が経過すると前記給気工程を実施し、前記給気工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が上がって所定の真空度に達するときに前記気化弁閉止工程を実施し、前記気化弁閉止工程を実施した後で前記真空再開工程を実施し、前記真空再開工程を実施した後で前記滅菌室の圧力が下がり所定の真空度に達しないときに前記一時給気工程を実施し、
前記気化時間が前記気化室の中で供給された過酸化水素が気化するのに十分な時間であることを特徴とする滅菌方法。
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