JP6016108B2 - 基板の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
実施の形態の電子デバイスの製造方法は、電子デバイスに用いられる基板2の薄板化に対応するため、基板2の裏面に補強板3を貼り付けた積層板1を構成し、積層板1の基板2の表面に機能層を形成する機能層形成工程と、機能層が形成された基板2と補強板3とを剥離する剥離工程とを有する。前記剥離工程において、実施の形態の基板の剥離装置が使用される。剥離装置については後述する。なお、補強板3は、電子デバイスの一部とはならならず、基板2から剥離された後、基板2の補強用として再利用される。
図1の如く積層板1は、基板2と基板2を補強する補強板3とからなり、基板2の裏面に補強板3を貼り付けることによって構成される。
基板2の表面には、電子デバイスの製造工程の途中で、所定の機能層(例えば、TFT、CF)が形成される。
補強板3は、基板2に貼り付けられると、剥離操作が行われるまで、基板2を補強する機能を備える。補強板3は、機能層の形成後、電子デバイスの製造工程の途中で、実施の形態の基板の剥離装置によって基板2から剥離される。
支持板4は、樹脂層5を介して基板2を支持することによって、基板2が補強板3によって補強される。この支持板4は、電子デバイスの製造工程における基板2の変形、傷付き、破損等を防止する機能も備える。
樹脂層5は、基板2が密着された後、剥離操作が行われるまで、支持板4に対する基板2の位置ずれを防止する機能を備える。また、樹脂層5は、剥離操作によって基板2から容易に剥離する機能も備える。基板2が容易に剥離されることによって、剥離時における基板2の破損を防止できる。更に、樹脂層5は、支持板4との間の結合力が、基板2との結合力よりも相対的に高くなるように形成される。
積層体6は、図1の積層板1の基板2の表面に機能層を形成した2枚の積層板1、1を、各々の機能層を対向させて結合させることによって構成される。機能層の種類は、電子デバイスの種類に応じて選択される。複数の機能層が基板2の表面に順次積層されてもよい。機能層の形成方法としては、一般的な方法が用いられ、例えばCVD法、PVD法等の蒸着法、及びスパッタ法等が用いられる。機能層は、フォトリソグラフィ法、及びエッチング法で所定のパターンに形成される。
まず、実施の形態の基板の剥離装置を説明する前に、本発明の基板の剥離方法について説明する。
図6は、剥離装置20の基本構成を示した要部縦断面図である。図7は、後述する可撓性板22に対する複数の可動体24、24…の配置位置を模式的に示した可撓性板22の平面図である。また、図6は、図7のR−R線に沿う断面図に相当する。
図10(a)は、ステージ26と可撓性板22とからなる剥離手段によって積層板1を保持する前の状態を示した要部縦断面図、図10(b)は、前記剥離手段によって積層板1を保持した状態の要部縦断面図、図10(c)は、前記剥離手段によって界面が完全に剥離された基板2と補強板3とを示した要部縦断面図である。
前記第1の剥離装置の構成に対する、第2の剥離装置の構成の相違点は、可撓性板22の弾性シート34の吸着面、ステージ26の弾性シート52の吸着面が段差無くフラットである点、及び第2の主面1bの外縁1cに位置する可動体24の離間移動開始時間を、外縁1cを除く第2の主面1bに位置する可動体24の離間移動開始時間よりも所定時間遅らせる点である。
図14(a)〜(c)〜図15(a)〜(c)は、積層板1を剥離装置20に搬入する搬入工程、積層板1の剥離工程、及び剥離した基板2と補強板3を剥離装置20から搬出する搬出工程を時系列的に示した説明図である。また、剥離装置20への積層板1の搬入作業、及び剥離した補強板3及び基板2の搬出作業は、図14(a)に示す複数の吸着パッド58、58…を備えた搬送装置60によって行われる。
図16(a)〜(c)〜図17(a)〜(c)〜図18(a)〜(c)は、図2に示した積層体6を剥離装置20に搬入する搬入工程、積層体6の剥離工程、剥離した補強板3A、3Bを剥離装置20から搬出する搬出工程、及び補強板3A、3Bが剥離した基板2A、2Bと液晶層7とからなる電子デバイス用のパネル62を剥離装置20から搬出する搬出工程を時系列的に示した説明図である。また、剥離装置20への積層体6の搬入作業、及び剥離した補強板3A、3B及びパネル62の搬出作業は、図14(a)に示した搬送装置60によって行われる。
Claims (6)
- 基板と、前記基板を補強する補強板との界面を一端側から他端側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する基板の剥離装置において、
前記界面を剥離した剥離領域と未剥離領域との境界線と前記基板の外周との2つの交点を結んだ直線と、前記剥離領域の前記基板の外周の接線と、のなす角度が少なくとも90度以下の剥離範囲において、
前記境界線の端部の接線と、前記剥離領域の前記基板の外周の接線と、のなす角度が90度よりも大きくなるように前記界面を剥離させる剥離手段を備え、
前記剥離手段は、
前記基板及び前記補強板を含む積層体の第1の主面を支持する支持手段と、
前記積層体の第2の主面の外縁を吸着保持する第1の吸着面、及び前記外縁を除く第2の主面を吸着保持する第2の吸着面を有する可撓性板であって、前記第2の吸着面は前記第2の主面に対して平行な面であり、前記第1の吸着面は、前記第2の吸着面に対して所定量突出した突出面である可撓性板と、
前記可撓性板に間隔をおいて固定され、前記支持手段に対して独立に移動可能な複数の可動体と、
前記剥離進行方向の前記一端側に位置する前記可動体から前記剥離進行方向の他端側に位置する前記可動体を、前記支持手段に対して離間させる方向に順次移動させる制御手段と、を備えることを特徴とする基板の剥離装置。 - 前記基板は、厚さが0.2mm以下のガラス基板である請求項1に記載の基板の剥離装置。
- 基板と、前記基板を補強する補強板との界面を一端側から他端側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する基板の剥離方法において、
前記界面を剥離した剥離領域と未剥離領域との境界線と前記基板の外周との2つの交点を結んだ直線と、前記剥離領域の前記基板の外周の接線と、のなす角度が少なくとも90度以下の剥離範囲において、
前記境界線の端部の接線と、前記剥離領域の前記基板の外周の接線と、のなす角度が90度よりも大きくなるように前記界面を剥離手段によって剥離させ、
前記剥離手段による剥離方法は、
前記基板及び前記補強板を含む積層体の第1の主面を支持する支持手段と、
前記積層体の第2の主面の外縁を吸着保持する第1の吸着面、及び前記外縁を除く第2の主面を吸着保持する第2の吸着面を有する可撓性板であって、前記第2の吸着面は前記第2の主面に対して平行な面であり、前記第1の吸着面は、前記第2の吸着面に対して所定量突出した突出面である可撓性板と、
前記可撓性板に間隔をおいて固定され、前記支持手段に対して独立に移動可能な複数の可動体と、を備え、
前記剥離進行方向の前記一端側に位置する前記可動体から前記剥離進行方向の他端側に位置する前記可動体を、前記支持手段に対して離間させる方向に制御手段によって順次移動させることを特徴とする基板の剥離方法。 - 前記基板は、厚さが0.2mm以下のガラス基板である請求項3に記載の基板の剥離方法。
- 補強板で補強した基板の表面に機能層を形成する機能層成形工程と、前記機能層が形成された前記基板と前記補強板とを剥離する剥離工程とを有する電子デバイスの製造方法において、
前記剥離工程は、
前記基板及び前記補強板を含む積層体の第1の主面を支持手段で支持するとともに、前記積層体の第2の主面を吸着保持する可撓性板に間隔をおいて固定された複数の可動体の前記支持手段に対する移動を制御することで、前記基板と前記補強板との界面を一端側から他端側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する工程であって、
前記可撓性板は、前記積層体の第2の主面の外縁を吸着保持する第1の吸着面、及び前記外縁を除く第2の主面を吸着保持する第2の吸着面を有する可撓性板であって、前記第2の吸着面は前記第2の主面に対して平行な面であり、前記第1の吸着面は、前記第2の吸着面に対して所定量突出した突出面を備え、
前記界面を剥離した剥離領域と未剥離領域との境界線と前記基板の外周との2つの交点を結んだ直線と、前記剥離領域の前記基板の外周の接線と、のなす角度が少なくとも90度以下の剥離範囲において、
前記境界線の端部の接線と、前記剥離領域の前記基板の外周の接線と、のなす角度が90度よりも大きくなるように前記界面を剥離する工程であることを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記基板は、厚さが0.2mm以下のガラス基板である請求項5に記載の電子デバイスの製造方法。
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