JP5979350B2 - プラズマ発生装置 - Google Patents
プラズマ発生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5979350B2 JP5979350B2 JP2012080196A JP2012080196A JP5979350B2 JP 5979350 B2 JP5979350 B2 JP 5979350B2 JP 2012080196 A JP2012080196 A JP 2012080196A JP 2012080196 A JP2012080196 A JP 2012080196A JP 5979350 B2 JP5979350 B2 JP 5979350B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- plasma generator
- plasma
- cylindrical
- cylindrical electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Electrotherapy Devices (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
Description
1.プラズマ発生装置の構成
本実施形態のプラズマ発生装置は、注射器のように人体に挿入して、体内の患部にプラズマを照射するためのものである。図1は、本実施形態のプラズマ発生装置100の全体の構成を示す模式図である。図1に示すように、プラズマ発生装置100は、電極体E10と、ホルダー110と、高電圧電源120と、を有している。
図2は、電極体E10の内部構造を示す断面図である。図2に示すように、円筒電極10と、管状絶縁部材20と、内部電極30と、を有している。
ゲージ 外径(mm) 内径(mm)
32G 0.236 0.108
18G 1.273 0.840
07G 4.583 3.819
図3は、円筒電極10と内部電極30との間に電圧を印加した場合を示す図である。これにより、円筒電極10の内側面S2と、内部電極30のホローH1との間で放電が生じる。この放電により、液体中にガスG1が発生する。具体的には、円筒電極10の内側面S2と、内部電極30のホローH1との間にガスG1が発生する。そして、ガスG1の内部にプラズマP1が発生する。
まず、注射針形状の電極体E10を人体に挿す。次に、電極体E10の先端部分、すなわちプラズマを発生させる部分を患部に近づける。そして、そのまま、円筒電極10と、内部電極30との間に電圧を印加する。つまり、円筒電極10および内部電極30を人体内の液体中に浸漬した状態で円筒電極10と内部電極30との間に電圧を印加するのである。これにより、前述したように、ガスG1中にプラズマP1が発生する。このプラズマP1を患部に当てる。これにより、患部を治療することができる。
ここで、本実施形態のプラズマ発生装置100を用いて、水中でプラズマを発生させた実験の観察結果を示す。用いた円筒電極10の外径は、表1の18Gと同じものである。つまり、電極体E10の外径は、1.273mmである。注射針、すなわち、電極体E10の長さは、45mmである。図4は、プラズマ発生装置100を水槽の中に浸けた様子を示す写真である。この段階では、未だ円筒電極10と内部電極30との間に電圧を印加していない。すなわち、プラズマは発生していない。
6−1.円筒電極におけるホローの形成
本実施形態では、内部電極30のホローH1と、円筒電極10の内側面S2との間で放電を生じさせることとした。しかし、図6に示すように、円筒電極10の内側面S2の少なくとも一部に、ホローH2を形成することとしても良い。ホローH2は、微細な凹部を繰り返し形成されたマイクロホローである。この場合には、内部電極30のホローH1と、円筒電極10のホローH2との間で放電が生じる。そのため、プラズマ密度のより高いプラズマを生成させることができる。
図2では、内部電極30の先端部分は、管状絶縁部材20の先端部分よりも円筒電極10の先端から遠い位置にある。しかし、内部電極30の先端部分を、管状絶縁部材20から突出するようにしてもよい。その場合には、管状絶縁部材20の先端面を、円筒電極10の先端から遠い方の位置に配置してやればよい。この場合においても、プラズマの発生は可能である。
以上詳細に説明したように、本実施形態に係るプラズマ発生装置100は、注射針形状の円筒電極10と、その内部に配置されている内部電極30とを有するものである。そのため、注射器による注射のように、人体の内部に注射針形状の電極体E10を挿入しつつ、人体の内部でプラズマを発生させることができる。これにより、ガンの治療に用いることのできるプラズマ発生装置100が実現されている。
1.プラズマ発生装置の構成
第2の実施形態について説明する。第1の実施形態のプラズマ発生装置100では、人体内の液体中で放電することにより、ガスG1とその内部のプラズマP1とを発生させることとした。しかし、プラズマ発生装置からプラズマを発生させるためのガスを供給することとしてもよい。本実施形態のプラズマ発生装置では、ガスを供給するためのガス供給部を有する点が第1の実施形態のプラズマ発生装置100と異なっている。そのため、第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。そして、第1の実施形態と共通する部分については、記載を省略する。
図8は、電極体E30の内部構造を示す断面図である。図8に示すように、円筒電極10と、管状絶縁部材20と、内部電極40と、を有している。
まず、注射針形状の電極体E30を人体に挿す。次に、電極体E30の先端部分、すなわちプラズマを発生させる部分を患部に近づける。そして、そのままの状態で、ガス供給部210からガスを供給するとともに、円筒電極10と、内部電極40との間に電圧を印加する。これにより、前述したように、ガスG1中にプラズマP1が発生する。そして、ガスG1の内部で、治療に好適なラジカル種とその量を制御することができる。このプラズマP1を患部に当てる。これにより、患部を治療することができる。
4−1.円筒電極におけるホローの形成
第1の実施形態のように、円筒電極10の内側面S2に、ホローH2を形成することとしてもよい。
図8では、内部電極40の先端部分は、管状絶縁部材20の先端部分よりも円筒電極10の先端から遠い位置にある。しかし、内部電極40の先端部分を、管状絶縁部材20から突出するようにしてもよい。その場合には、管状絶縁部材20の先端面を、円筒電極10の先端から遠い方の位置に配置してやればよい。この場合においても、プラズマの発生は可能である。
本実施形態では、管状絶縁部材20は、内部電極40を収容しているものの、内部電極40の表面を被覆していない。ガス供給路50があるからである。そのため、内部電極40の表面を被覆する絶縁部材を別途設けることとしてもよい。
以上詳細に説明したように、本実施形態に係るプラズマ発生装置200は、注射針形状の円筒電極10と、その内部に配置されている内部電極40とを有するものである。そのため、注射器による注射のように、人体の内部に注射針形状の電極体E30を挿入しつつ、人体の内部でプラズマを発生させることができる。これにより、ガンの治療に用いることのできるプラズマ発生装置200が実現されている。
110…ホルダー
120…高電圧電源
210…ガス供給部
E10、E20、E30…電極体
10…円筒電極
20…管状絶縁部材
30、40…内部電極
50…ガス供給路
H1、H2…ホロー
S1…端面(傾斜面)
S2…内側面
G1…ガス
P1…プラズマ
Claims (8)
- 円筒形状の円筒電極と、
前記円筒電極の内部に収容されている内部電極と、
前記円筒電極と前記内部電極との間に位置する絶縁部材と、
を有し、
前記円筒電極は、
注射針形状をしている電極であり、
前記内部電極の先端部分に、
マイクロホローが形成されていること
を特徴とするプラズマ発生装置。 - 円筒形状の円筒電極と、
前記円筒電極の内部に収容されている内部電極と、
前記円筒電極と前記内部電極との間に位置する絶縁部材と、
を有し、
前記円筒電極は、
注射針形状をしている電極であり、
前記円筒電極の先端部分の内側面の少なくとも一部は、
前記絶縁部材に覆われずに露出している露出部を有し、
前記露出部に、
マイクロホローが形成されていること
を特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項2に記載のプラズマ発生装置において、
前記内部電極の先端部分に、
マイクロホローが形成されていること
を特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のプラズマ発生装置において、
前記絶縁部材と前記内部電極との間に、
ガスを流すためのガス供給路が設けられていること
を特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のプラズマ発生装置において、
前記内部電極と前記円筒電極との間に電圧を印加する電圧印加部を有すること
を特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項5に記載のプラズマ発生装置において、
前記円筒電極は、
接地されているものであること
を特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項6に記載のプラズマ発生装置において、
電圧印加部は、
前記内部電極および前記円筒電極を液体中に浸漬した状態で前記内部電極と前記円筒電極との間に電圧を印加するものであること
を特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載のプラズマ発生装置において、
前記円筒電極の外径が0.2mm以上5.0mm以下の範囲内であること
を特徴とするプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012080196A JP5979350B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012080196A JP5979350B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | プラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013211153A JP2013211153A (ja) | 2013-10-10 |
JP5979350B2 true JP5979350B2 (ja) | 2016-08-24 |
Family
ID=49528819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012080196A Active JP5979350B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5979350B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6304645B2 (ja) * | 2013-10-06 | 2018-04-04 | 国立大学法人名古屋大学 | プラズマ発生装置 |
WO2015156157A1 (ja) | 2014-04-11 | 2015-10-15 | オリンパス株式会社 | プラズマ処置システム |
WO2016035339A1 (ja) * | 2014-09-04 | 2016-03-10 | 国立大学法人名古屋大学 | プラズマ発生装置および抗腫瘍水溶液の製造方法 |
KR101913025B1 (ko) * | 2016-08-02 | 2018-10-29 | 주식회사 피글 | 플라즈마 자극 장치 및 그를 포함하는 침술 치료기 |
CN110506453B (zh) * | 2017-04-04 | 2022-02-01 | 株式会社富士 | 等离子体发生装置 |
JP7185217B2 (ja) * | 2018-08-09 | 2022-12-07 | 国立大学法人東京工業大学 | ガスのプラズマ化が可能なエンドエフェクタおよび当該エンドエフェクタを備えた内視鏡 |
CN108806084B (zh) * | 2018-09-20 | 2023-08-25 | 深圳洛可可工业设计有限公司 | 一种售货装置 |
WO2021208934A1 (zh) * | 2020-04-14 | 2021-10-21 | 珠海市司迈科技有限公司 | 一种用于中耳炎微创手术的射频消融电极及其使用方法 |
KR102380650B1 (ko) * | 2021-05-13 | 2022-04-01 | 서석배 | 플라즈마 기반의 자극 제공 장치 |
WO2022240233A1 (ko) * | 2021-05-13 | 2022-11-17 | 서석배 | Rf 전류 및 플라즈마 기반의 자극 제공 장치 |
KR102554607B1 (ko) * | 2021-05-13 | 2023-07-12 | 서석배 | 무선 주파수 전류 및 플라즈마 기반의 자극 제공 장치 |
WO2023190775A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 国立大学法人東京農工大学 | プラズマナノミスト生成装置 |
CN117460142B (zh) * | 2023-09-22 | 2024-04-26 | 国电投核力同创(北京)科技有限公司 | 一种多峰场负氢离子源引出结构 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6017952B2 (ja) * | 1980-12-27 | 1985-05-08 | 石川島播磨重工業株式会社 | プラズマエンジン |
JP2001178740A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-03 | Olympus Optical Co Ltd | 内視鏡治療装置 |
ES2528734T3 (es) * | 2009-08-03 | 2015-02-12 | Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. | Dispositivo para la generación de un chorro de plasma frío |
-
2012
- 2012-03-30 JP JP2012080196A patent/JP5979350B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013211153A (ja) | 2013-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5979350B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
EP1933605B1 (en) | Plasma generating device and plasma generating method | |
US20130026137A1 (en) | Device and method for generating a pulsed anisothermal atmospheric pressure plasma | |
Georgescu et al. | Tumoral and normal cells treatment with high-voltage pulsed cold atmospheric plasma jets | |
JP5305274B2 (ja) | 液体にイオンを供給する方法および装置並びに殺菌方法および装置 | |
US20120100524A1 (en) | Tubular floating electrode dielectric barrier discharge for applications in sterilization and tissue bonding | |
KR101056097B1 (ko) | 대기압 플라즈마 발생장치 | |
US20140314621A1 (en) | Methods and devices for treating surfaces with surface plasma | |
Song et al. | Plasma inactivation of Candida albicans by an atmospheric cold plasma brush composed of hollow fibers | |
JP2006526442A (ja) | ガス放電により発生されたプラズマにより生きている細胞を包含する生物学材料の処理 | |
US11517366B2 (en) | Adaptive and self-adaptive plasma cancer therapeutic platform | |
KR101320291B1 (ko) | 국부소독 및 살균 가능한 핸드피스형 플라즈마 장치 | |
CN113329707A (zh) | 用于使用所施加的电场去除纹身的***和方法 | |
JPWO2018230696A1 (ja) | 活性ガス照射装置及びヒトを除く動物の治療方法 | |
US20150112300A1 (en) | Method for enhanced trans-tissue delivery of therapeutic substances | |
KR20150142162A (ko) | 플라즈마 소스를 이용한 무좀균 치료기 | |
JP6304645B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP4902842B2 (ja) | プラズマ発生方法およびプラズマ発生装置 | |
JP2015026574A (ja) | プラズマ生成装置 | |
KR20150146257A (ko) | 플라즈마 머리 빗 | |
JP6917597B2 (ja) | 接触する被処理物を殺菌する殺菌水を生成する装置および接触する被処理物を殺菌する殺菌水を生成する方法 | |
US20220287769A1 (en) | Low-temperature plasma catheter for less-invasive, localized treatment of endocarditis and atherosclerosis | |
KR20150142722A (ko) | 플라즈마를 이용하는 여드름 치료기 | |
JP5937936B2 (ja) | 鋭利部を備える医療用・衛生用器具の製造方法および製造装置 | |
KR20170062566A (ko) | 치아미백기용 노즐 구조 및 휴대용 플라즈마 치아 미백기 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160628 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160712 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5979350 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |