JP5970686B2 - 光学モジュールおよび電子機器 - Google Patents
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例えば、特許文献1には固定鏡と、この固定鏡に可変のギャップを有して配置される可動鏡を有し、ギャップに対応する特定の波長の光を選択して透過させるファブリペローフィルター(光フィルター)が開示されている。そして、光フィルターと、フィルターを透過した光の強度を検出する赤外検出器(受光器)とで光学モジュールが構成され、光学モジュールを用いて赤外分析装置などの電子機器を構成している。
このような受光器に入射する光量は、光フィルターから光が出射して受光器に到達するまでの間に光の反射などにより損失が生ずる。このため、受光器で受光する光量が小さい場合には、光を認識できないことや、光を電気エネルギーに変換する際にノイズレベルが拡大するという課題がある。
本発明の一態様の光学モジュールは、複数の波長の光を含む第1光が入射する第1基板と、前記第1基板に対向し前記第1光から選択された第2光を透過する第2基板と、前記第1基板の前記第2基板と対向する面に配置され、前記第1光の光路上に形成された第1反射膜と、前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜とギャップを介して対向する第2反射膜と、前記第2基板の前記第1基板と対向する面と反対の面に接するように配置され、前記第2基板を透過する前記第2光のうちの一部を透過させる開口部が形成された遮光膜と、前記遮光膜の前記開口部に埋められた透光性を有する中間膜と、前記遮光膜の前記開口部に対向して配置され、前記第2基板を透過した前記第2光を受光する受光面を有する受光器と、を備え、前記受光器の前記受光面が前記中間膜に密着しており、前記第2基板がガラス基板であり、前記中間膜は、酸化珪素膜であることを特徴とする。
また、本発明の別の一態様の光学モジュールは、複数の波長の光を含む第1光が入射する第1基板と、前記第1基板に対向し前記第1光から選択された第2光を透過する第2基板と、前記第1基板の前記第2基板と対向する面に配置され、前記第1光の光路上に形成された第1反射膜と、前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜とギャップを介して対向する第2反射膜と、前記第2基板の前記第1基板と対向する面と反対の面に接するように配置され、前記第2基板を透過する前記第2光のうちの一部を透過させる開口部が形成された遮光膜と、前記遮光膜の前記開口部に埋められた透光性を有する中間膜と、前記遮光膜の前記開口部に対向して配置され、前記第2基板を透過した前記第2光を受光する受光面を有する受光器と、を備え、前記受光器の前記受光面が前記中間膜に密着しており、前記第2基板が珪素基板であり、前記中間膜は、酸化チタン膜であることを特徴とする。
また、上記の本発明に係る光学モジュールは、複数の波長の光を含む第1光が入射する第1基板と、前記第1基板に対向し前記第1光から選択された第2光を透過する第2基板と、前記第1基板の前記第2基板と対向する面に配置され、前記第1光の光路上に形成された第1反射膜と、前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜とギャップを介して対向する第2反射膜と、前記第2基板の前記第1基板と対向する面と反対の面に接するように配置され、前記第2基板を透過する前記第2光のうちの一部を透過させる開口部が形成された遮光膜と、前記遮光膜の前記開口部に埋められた透光性を有する中間膜と、前記遮光膜の前記開口部に対向して配置され、前記第2基板を透過した前記第2光を受光する受光面を有する受光器と、を備え、前記受光器の前記受光面が前記中間膜に密着していることを特徴とする。
このため、第2基板の光の出射面から受光器の受光面までの距離を短くすることができ、また、受光器を中間膜に密着させることで受光面を傾きなく配置することができる。よって、受光器に入射する光量の損失を低減することができ、測定に必要な光量を確保することができる。
光が赤外光の場合、シリコンの基板およびTiO2膜の中間膜を赤外線が透過することができる。そして、シリコンとTiO2膜の屈折率が近いため、基板と中間膜の界面での反射が小さくなり、受光器に入射する光量の損失を低減することが可能である。
このように、第1基板はダイヤフラムを有し、第1電極と第2電極の間に電圧を印加することで静電力が働き、薄肉部が撓み、可動部が変位できるように構成され、反射膜間のギャップ寸法を変更することができる。そして、このギャップ寸法に応じた波長の光を分光することができ、数種類の分光を可能とする光学モジュールを提供できる。
[第1実施形態]
図1は本実施形態の光学モジュールの構成を示す平面図である。図2は図1のA−A断線に沿う断面図である。図3は可動基板の構成を示す平面図であり、固定基板と対向する面を表している。図4は固定基板の構成を示す平面図であり、可動基板と対向する面を表している。図5は固定基板の可動基板と対向する面とは反対の面を表す平面図である。
図1、図2に示すように、光学モジュール90Aは波長可変干渉フィルター(以下、エタロンと呼ぶことがある)5と、遮光膜73と、中間膜75と、受光器31とを備えている。
エタロン5は、平面視で正方形状の板状の光学部材であり、一辺が例えば10mmに形成されている。このエタロン5は、図2に示すように、可動基板(第1基板)50および固定基板(第2基板)60を備えている。
これらの可動基板50および固定基板60は、それぞれ例えば、石英ガラスなどの基材からなり、板状の基材をエッチングすることにより形成されている。なお、可動基板50および固定基板60の材料として、他に、ソーダガラス、結晶性ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスを用いることができる。
そして、エタロン5は、可動基板50および固定基板60が接合されて一体に構成される。この接合には、可動基板50および固定基板60に設けられた接合膜71が結合することにより行われ、接合膜71として、ポリオルガノシロキサンを主材料としたプラズマ重合膜が採用されている。
この可動基板50は、正方形状の四隅を切り欠いた切り欠き部57が形成されている。この切り欠き部57は、後述する固定基板60の電極パッド65,67が露出するように設けられている。そして、可動基板50には、基板中央を中心とする円柱状の可動部51と、その周りに可動部51を保持する薄肉部52と、が形成されている。
薄肉部52は、固定基板60と対向する面とは反対の面に円環状の凹部が形成され、可動部51の厚みより薄くなるように形成されている。
そして、可動基板50の固定基板60に対向する面は基材の平面を利用し、エッチング加工された面を有していない。
第1反射膜53は光の反射特性と透過特性とを有し、可動部51に円形状に設けられている。第1反射膜53の材料として、AgまたはAg合金が用いられる。なお、第1反射膜53は50nmの厚みに形成されている。
そして、第1電極54は引き出し電極56を介して、可動基板50の四隅のうちの一つの隅部に形成された電極パッド55に接続されている。
第1電極54、引き出し電極56および電極パッド55は導電膜であり、例えばITO膜が用いられる。また、これらの導電膜はCr膜を下地とし、その上にAu膜を積層したCr/Au膜などを用いても良い。
また、電極形成部61の外縁には、可動基板50との接合において可動基板50を支持する支持部69が形成されている。支持部69は凹部を形成するエッチング加工が施されずに残った部分であり、基材の厚みを有している。そして、支持部69の可動基板50と対向する面には接合膜71が設けられている。
第2電極64、引き出し電極66および電極パッド65は導電膜であり、例えばITO膜が用いられる。また、これらの導電膜はCr膜を下地とし、その上にAu膜を積層したCr/Au膜などを用いても良い。
また、可動基板50の電極パッド55は、固定基板60の電極パッド67とAgペーストなどの導電性部材にて接続され、固定基板60側から第1電極54および第2電極64への電気的接続を可能としている。
遮光膜73はCr膜、Cr/Au膜などの金属膜で形成され、第2反射膜63と対向する位置に膜が形成されていない開口部74が設けられている。このため、開口部74は、遮光膜73から凹んだ形状となっている。
開口部74は、図2、図5に示すように円形に形成され、開口部74の大きさは、第2反射膜63を透過する光のうち有効な光を透過するように、第2反射膜63よりも少し小さく形成されている。
そして、Cr膜、Cr/Au膜などの金属膜が形成された部分では、エタロン5の可動基板50側から入射する光は透過することがなく、開口部74からのみ、光が透過される。
さらに、この中間膜75に密着して光を受光する受光器31が設けられている。受光器31は遮光膜73の開口部74に対向して、受光器31の受光面31aが中間膜75に密着して配置されている。このように、中間膜75はエタロン5と受光器31との間に設けられている。
受光器31の受光面31aは平面で形成され、開口部74よりも大きく、開口部74より出射された光を逃すことなく受光できるように配置される。受光器31はフォトダイオード、CCD(Charge Coupled Device)などの光電変換素子により構成されている。
次に、上記の構成の光学モジュール90Aの動作について説明する(図2参照)。
エタロン5は、第1反射膜53と第2反射膜63との間のギャップを変更することができる。静電アクチュエーター70において、第1電極54と第2電極64の間に電圧を印加すると、両者間に静電力が働く。可動基板50はダイヤフラム構造を有しているため、静電力が働くと薄肉部52が撓んで可動部51が固定基板60に近づくように変位する。このようにして、第1電極54と第2電極64の間に印加する電圧を変えることで反射膜間のギャップを調整して、所望の反射膜間ギャップを得ることができる。
そして、所望の反射膜間のギャップを保持した状態において、第1光(可視光)L1が可動基板50の中央部に入射すると、可動基板50および第1反射膜53を透過する。透過した第1光L1は第1反射膜53と第2反射膜63の間で反射を繰り返し、反射膜間ギャップに対応した波長帯域の第2光L2が第2反射膜63を透過する。第2反射膜63を透過した第2光L2は固定基板60を透過し、遮光膜73の開口部74から特定波長帯域の光がエタロン5から出射される。
エタロン5から出射された第2光L2は、中間膜75を透過して受光器31の受光面31aに入射する。
ここで、光の特性として、2つの物質の間を光が通過する際に、その物質の屈折率の違いからその界面にて光が反射する性質がある。
このことから、本実施形態の場合、エタロン5から出射する光は、その界面において光が反射することになる。
固定基板から出射する光が通過する物質の屈折率をn1、固定基板の屈折率をn2、とすると、界面での反射率Rは、式(1)で表される。
R=(n1−n2)2/(n1+n2)2 ・・・(1)
本実施形態における中間膜75はSiO2膜で形成されていることから、SiO2膜の屈折率n1=1.5であり、固定基板におけるガラスと屈折率に違いがないため、界面の反射率はほぼ0である。このため、固定基板から出射する光は損失なく受光器の受光面に入射することができる。
また、ガラスで形成された固定基板と空気との界面では、上述のように反射率R=0.04であり、ガラスで形成された固定基板と接する中間膜の屈折率n1が、1.00<n1<2.25、の範囲内にあれば、空気よりも小さな反射率が得られる。つまり、この範囲内の屈折率の材料を中間膜に選ぶことで、固定基板から出射する光は空気の場合に比べて、少ない損失で受光器の受光面に入射させることができる。
次に、中間膜の形成方法について説明する。
図8は本実施形態における固定基板に中間膜を設ける工程の一例を示す部分断面図である。
固定基板60の製造工程において、第2反射膜63を形成した後に、第2反射膜63を形成した面とは反対の面に遮光膜73を成膜する。図8(a)に示すように、遮光膜73はCr膜、Cr/Au膜などを蒸着、スパッタリングなどにより成膜し、開口部74を形成する部分の膜をエッチングして除去する。
次に、図8(b)に示すように、遮光膜73の開口部74を埋める中間膜75aを成膜する。中間膜75aとしてはSiO2膜が用いられ、メタルマスクを用いて蒸着、スパッタリングなどにより遮光膜73と同じ膜厚に形成する。
さらに、図8(c)に示すように、遮光膜73および中間膜75aの上に中間膜75bを成膜する。中間膜75bとしては中間膜75aと同じ材料が用いられ、SiO2膜を蒸着、スパッタリングなどにより形成する。
また、中間膜75と受光器31の受光面は密着していれば良く、治具などを用いて受光器31を保持して中間膜75に密着させても良い。さらに、中間膜75に受光器31を接着してもよい。接着には、例えば受光器31の受光面にSiO2膜を形成して、この面と中間膜75とを熱などを加えて結合させてもよい。
また、本実施形態では反射膜間のギャップを変更できる波長可変干渉フィルターを用いた光学モジュールを例示したが、反射膜間のギャップを固定とする干渉フィルターを用いても実施が可能である。
以上、本実施形態によれば以下の効果を有する。
本実施形態の光学モジュールは、光が出射される固定基板60に開口部74を有する遮光膜73を有し、この開口部74に中間膜75が充填され、中間膜75と受光器31の受光面31aが密着している。
このため、固定基板60の光の出射面から受光器31の受光面31aまでの距離を短くすることができ、また、受光器31を中間膜75に密着させることで受光器31の受光面31aを傾きなく配置することができる。よって、受光器31に入射する光量の損失を低減することができ、測定に必要な光量を確保することができる。
さらに、固定基板60の材質をガラス、中間膜75の材質をSiO2とすることで、中間膜75と固定基板60とが同等の屈折率とすることができ、固定基板60と中間膜75との界面での光の反射を防止することができる。よって、受光器31に入射する光量の損失を低減することができる。
[第2実施形態]
図9は光学モジュールの構成を示す断面図である。
光学モジュール91Aは、エタロン6と、遮光膜73と、中間膜88と、受光器89とを備えている。
エタロン6は、可動基板(第1基板)80および固定基板(第2基板)85を備えている。これらの可動基板80および固定基板85は、それぞれシリコンの基材からなり、板状の基材をエッチングすることにより形成されている。
そして、エタロン6は、可動基板80および固定基板85が接合されて一体に構成される。この接合には、可動基板80および固定基板85に設けられたプラズマ重合膜である接合膜71による結合、または陽極接合などの手法により接合される。
この可動基板80には、基板中央を中心とする円柱状の可動部81と、その周りに可動部81を保持する薄肉部82と、が形成されている。
薄肉部82は、固定基板85と対向する面とは反対の面に円環状の凹部が形成され、可動部81の厚みより薄くなるように形成されている。
このように、可動基板80はダイヤフラム構造を持ち、可動部81が可動基板80の厚み方向に移動しやすいように構成されている。
第1反射膜83は光の反射特性と透過特性とを有し、第2反射膜86と対向する可動部81に円形状に設けられている。第1反射膜83として誘電体多層膜が用いられる。
第1電極84は導電膜であり、例えばITO膜が用いられる。また、これらの導電膜はCr膜を下地とし、その上にAu膜を積層したCr/Au膜などを用いても良い。
また、固定基板85には、第1電極84に対向する第2電極87が形成されている。
第2電極87は導電膜であり、例えばITO膜が用いられる。また、これらの導電膜はCr膜を下地とし、その上にAu膜を積層したCr/Au膜などを用いても良い。
遮光膜73はCr膜、Cr/Au膜などの金属膜で形成され、第2反射膜86と対向する位置にCr膜、Cr/Au膜などの膜が形成されていない開口部74が設けられている。このため、Cr膜、Cr/Au膜などの金属膜が形成された部分では光は透過することがなく、開口部74から光が透過される。
開口部74は円形に形成され、開口部74の大きさは、第2反射膜86を透過する光のうち有効な光を透過するように、第2反射膜86よりも少し小さく形成されている。
さらに、この中間膜88に密着して光を受光する受光器89が設けられている。受光器89は遮光膜73の開口部74に対向して、受光器89の受光面89aが中間膜88に密着して配置されている。受光器89の受光面89aは平面で形成され、開口部74よりも大きく、開口部74より出射された光を逃すことなく受光できるように配置される。受光器89はフォトダイオード、CCDなどの光電変換素子を備えて構成されている。
第1実施形態と同様に、第1電極84と第2電極87の間に印加する電圧を変えることで反射膜間のギャップ寸法を調整して、所望の反射膜間ギャップを得ることができる。
そして、所望の反射膜間のギャップを保持した状態において、第1光(赤外光)L3が可動基板80の中央部に入射すると、可動基板80および第1反射膜83を透過する。透過した第1光L3は第1反射膜83と第2反射膜86の間で反射を繰り返し、反射膜間ギャップ寸法に対応した波長帯域の第2光L4が第2反射膜86を透過する。第2反射膜86を透過した第2光L4は固定基板85を透過し、遮光膜73の開口部74から特定波長の光がエタロン6から出射される。
エタロン6から出射された第2光L4は、中間膜88を透過して受光器89の受光面89aに入射する。
上記で説明した本実施形態にかかるエタロン6においても、エタロン6から出射する光は、屈折率の違いから、その界面において光が反射する。
図10は、シリコン(Si)とTiO2の屈折率と波長との関係を示すグラフである。グラフからわかるように、シリコン(Si)およびTiO2の屈折率は進行する光の波長により変化し、波長が長くなるに従い徐々に屈折率が低くなる傾向にある。
例えば、シリコンで形成された固定基板から空気層に赤外光が通過する場合、空気の屈折率n1=1.0、シリコンの屈折率n2=3.7、とすると、前述の式(1)から、界面での反射率R=0.33となる。つまり、固定基板から出射する光の33%が界面で反射して、通過する光量が減少することになる。
本実施形態における中間膜88はTiO2膜で形成されていることから、光の波長が900nmのときTiO2膜の屈折率n1=2.77であり、式(1)から反射率を求めると、R=0.021、となる。つまり、固定基板85から出射する光の2.1%が界面で反射する。
このように、中間膜88としてTiO2膜を設けることで、固定基板85から出射する光は空気の場合に比べて、大きく光の反射を低減させることができ、光の損失を減らして受光器89の受光面89aに入射させることができる。
シリコンで形成された固定基板と空気との界面では、上述のように反射率R=0.33であり、シリコンで形成された固定基板と接する中間膜の屈折率n1が、1.00<n1<13.7、の範囲内にあれば、空気よりも小さな反射率が得られる。つまり、この範囲内の屈折率の材料を中間膜に選ぶことで、固定基板から出射する光は空気の場合に比べて、少ない損失で受光器の受光面に入射させることができる。
[第3実施形態]
図12は測色装置の構成を示すブロック図である。
測色装置1は、検査対象Aに光を照射する光源装置2と、測色センサー3と、測色装置1の全体動作を制御する制御装置4とを備える。
この測色装置1は、検査対象Aに光源装置2から光を照射し、検査対象Aから反射された検査対象光を測色センサー3にて受光し、測色センサー3から出力される検出信号に基づいて、検査対象光の色度を分析して測定する装置である。
なお、本実施形態では、光源装置2を備える測色装置1を例示するが、例えば検査対象Aが発光部材である場合、光源装置2を設けずに測色装置を構成してもよい。
また、測色センサー3は、検査対象Aで反射された反射光(検査対象光)を、エタロン5に導光する光学レンズ(図示せず)を備えている。そして、この測色センサー3は、光学レンズに入射した検査対象光をエタロン5で所定波長帯域の光に分光し、分光した光が受光器31にて受光される。
受光器31は、フォトダイオードなどの光電変換素子により構成されており、受光量に応じた電気信号を生成する。そして、受光器31は制御装置4に接続され、生成した電気信号を受光信号として制御装置4に出力する。
そして、制御装置4は、光源制御部41、測色センサー制御部42、および測色処理部43(分析処理部)などを備えて構成されている。
測色センサー制御部42は、測色センサー3に接続されている。そして、測色センサー制御部42は、例えば利用者の設定入力に基づいて、測色センサー3にて受光させる光の波長を設定し、この波長の受光量を検出する旨の制御信号を測色センサー3に出力する。これにより、測色センサー3の電圧制御部32は、制御信号に基づいて、利用者が所望する光の波長を透過させるよう、静電アクチュエーター70への印加電圧を設定する。
以上、第3実施形態では、電子機器として測色装置1を例示したが、その他、様々な分野に光学モジュール、電子機器を用いることができる。
例えば、特定物質の存在を検出するための光ベースのシステムとして用いることができる。このようなシステムとしては、例えば、エタロン(波長可変干渉フィルター)を用いた分光計測方式を採用して特定ガスを高感度検出する車載用ガス漏れ検出器や、呼気検査用の光音響希ガス検出器などのガス検出装置を例示できる。
[第4実施形態]
図14は、ガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図である。
このガス検出装置100は、図13に示すように、センサーチップ110と、吸引口120A、吸引流路120B、排出流路120C、および排出口120Dを備えた流路120と、本体部130と、を備えて構成されている。
本体部130は、流路120を着脱可能な開口を有するセンサー部カバー131、排出手段133、筐体134、光学部135、フィルター136、エタロン(波長可変干渉フィルター)5および受光素子(受光器)137を含む光学モジュール90Bと、検出された信号を処理し、光学モジュール90Bを制御する制御部138、電力を供給する電力供給部139等から構成されている。また、光学部135は、光を出射する光源135Aと、光源135Aから入射された光をセンサーチップ110側に反射し、センサーチップ側から入射された光を受光素子137側に透過するビームスプリッター135Bと、レンズ135C,135D,135Eと、により構成されている。
さらに、ガス検出装置100の制御部138は、CPU等により構成された信号処理部144、光源135Aを制御するための光源ドライバー回路145、エタロン5を制御するための電圧制御部146、受光素子137からの信号を受信する受光回路147、センサーチップ110のコードを読み取り、センサーチップ110の有無を検出するセンサーチップ検出器148からの信号を受信するセンサーチップ検出回路149、および排出手段133を制御する排出ドライバー回路150などを備えている。
本体部130の上部のセンサー部カバー131の内部には、センサーチップ検出器148が設けられており、このセンサーチップ検出器148でセンサーチップ110の有無が検出される。信号処理部144は、センサーチップ検出器148からの検出信号を検出すると、センサーチップ110が装着された状態であると判断し、表示部141へ検出動作を実施可能な旨を表示させる表示信号を出す。
これらのレイリー散乱光やラマン散乱光は、光学部135を通ってフィルター136に入射し、フィルター136によりレイリー散乱光が分離され、ラマン散乱光がエタロン5に入射する。そして、信号処理部144は、電圧制御部146を制御し、エタロン5に印加する電圧を調整し、検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光をエタロン5で分光させる。この後、分光した光が受光素子137で受光されると、受光量に応じた受光信号が受光回路147を介して信号処理部144に出力される。
信号処理部144は、上記のようにして得られた検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光のスペクトルデータと、ROMに格納されているデータとを比較し、目的のガス分子か否かを判定し、物質の特定をする。また、信号処理部144は、表示部141にその結果情報を表示させたり、接続部142から外部へ出力したりする。
[第5実施形態]
この食物分析装置200は、検出器210と、制御部220と、表示部230と、を備えている。検出器210は、光を出射する光源211と、測定対象物からの光が導入される撮像レンズ212と、撮像レンズ212から導入された光を分光するエタロン(波長可変干渉フィルター)5と、分光された光を検出する撮像部(受光器)213と、を備えている。このエタロン5と撮像部213とで光学モジュール90Cを構成している。
また、制御部220は、光源211の点灯・消灯制御、点灯時の明るさの制御を実施する光源制御部221と、エタロン5を制御する電圧制御部222と、撮像部213を制御し、撮像部213で撮像された分光画像を取得する検出制御部223と、信号処理部224と、記憶部225と、を備えている。
そして、信号処理部224は、得られた検査対象の食物の成分や含有量、カロリーや鮮度等の情報を表示部230に表示させる処理をする。
さらには、鉱物の成分分析を実施する鉱物分析装置としても用いることができる。
例えば、各波長の光の強度を経時的に変化させることで、各波長の光でデータを伝送させることも可能であり、この場合、光学モジュールに設けられたエタロンにより特定波長の光を分光し、受光器で受光させることで、特定波長の光により伝送されるデータを抽出することができ、このようなデータ抽出用光学モジュールを備えた電子機器により、各波長の光のデータを処理することで、光通信を実施することもできる。
[第6実施形態]
図16は、分光カメラの構成を示す斜視図である。分光カメラ300は、カメラ本体310と、撮像レンズユニット320と、撮像部330とを備えている。
カメラ本体310は、利用者により把持、操作される部分である。
撮像レンズユニット320は、カメラ本体310に設けられ、入射した画像光を撮像部330に導光する。また、この撮像レンズユニット320は、対物レンズ321、およびエタロン5を備えて構成されている。
撮像部330は、受光素子により構成され、撮像レンズユニット320により導光された画像光を撮像する。このエタロン5と撮像部330とで光学モジュール90Dを構成している。
このような分光カメラ300では、エタロン5により撮像対象となる波長の光を透過させることで、所望波長の光の分光画像を撮像することができる。
また、本発明の光学モジュールを生体認証装置として用いてもよく、例えば、近赤外領域や可視領域の光を用いた、血管や指紋、網膜、虹彩などの認証装置にも適用できる。
Claims (7)
- 複数の波長の光を含む第1光が入射する第1基板と、
前記第1基板に対向し前記第1光から選択された第2光を透過する第2基板と、
前記第1基板の前記第2基板と対向する面に配置され、前記第1光の光路上に形成された第1反射膜と、
前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜とギャップを介して対向する第2反射膜と、
前記第2基板の前記第1基板と対向する面と反対の面に接するように配置され、前記第2基板を透過する前記第2光のうちの一部を透過させる開口部が形成された遮光膜と、
前記遮光膜の前記開口部に埋められた透光性を有する中間膜と、
前記遮光膜の前記開口部に対向して配置され、前記第2基板を透過した前記第2光を受光する受光面を有する受光器と、
を備え、
前記受光器の前記受光面が前記中間膜に密着しており、
前記第2基板がガラス基板であり、
前記中間膜は、酸化珪素膜であることを特徴とする光学モジュール。 - 請求項1に記載の光学モジュールにおいて、
前記第2基板の厚み方向の平面視で、前記受光器の前記受光面の大きさは、前記遮光膜の前記開口部の大きさより大きく形成され、前記受光面が前記開口部を覆うように配置されていることを特徴とする光学モジュール。 - 複数の波長の光を含む第1光が入射する第1基板と、
前記第1基板に対向し前記第1光から選択された第2光を透過する第2基板と、
前記第1基板の前記第2基板と対向する面に配置され、前記第1光の光路上に形成された第1反射膜と、
前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜とギャップを介して対向する第2反射膜と、
前記第2基板の前記第1基板と対向する面と反対の面に接するように配置され、前記第2基板を透過する前記第2光のうちの一部を透過させる開口部が形成された遮光膜と、
前記遮光膜の前記開口部に埋められた透光性を有する中間膜と、
前記遮光膜の前記開口部に対向して配置され、前記第2基板を透過した前記第2光を受光する受光面を有する受光器と、
を備え、
前記受光器の前記受光面が前記中間膜に密着しており、
前記第2基板が珪素基板であり、
前記中間膜は、酸化チタン膜であることを特徴とする光学モジュール。 - 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光学モジュールにおいて、
前記第1基板に設けられ、前記第1反射膜が設けられた可動部と、
前記第1基板に設けられ、前記可動部よりも厚みが薄く形成された薄肉部と、
前記第1基板の前記第2基板に対向する面に設けられた第1電極と、
前記第2基板に設けられ、前記第1電極とギャップを介して対向する第2電極と、
を備えたことを特徴とする光学モジュール。 - 複数の波長の光を含む第1光が入射する第1基板と、
前記第1基板に対向し前記第1光から選択された第2光を透過する第2基板と、
前記第1基板の前記第2基板と対向する面に配置され、前記第1光の光路上に形成された第1反射膜と、
前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜とギャップを介して対向する第2反射膜と、
前記第2基板の前記第1基板と対向する面と反対の面に接するように配置され、前記第2基板を透過する前記第2光のうちの一部を透過させる開口部が形成された遮光膜と、
前記遮光膜の前記開口部を埋める透光性を有する中間膜と、
前記遮光膜の前記開口部に対向して配置され、前記第2基板を透過した前記第2光を受光する受光面を有する受光器と、
前記受光器から得られる信号に基づき前記光の光特性を分析する分析処理部と、
を備え、
前記受光器の前記受光面が前記中間膜に密着しており、
前記第2基板がガラス基板であり、
前記中間膜は、酸化珪素膜であることを特徴とする電子機器。 - 複数の波長の光を含む第1光が入射する第1基板と、
前記第1基板に対向し前記第1光から選択された第2光を透過する第2基板と、
前記第1基板の前記第2基板と対向する面に配置され、前記第1光の光路上に形成された第1反射膜と、
前記第2基板に設けられ、前記第1反射膜とギャップを介して対向する第2反射膜と、
前記第2基板の前記第1基板と対向する面と反対の面に接するように配置され、前記第2基板を透過する前記第2光のうちの一部を透過させる開口部が形成された遮光膜と、
前記遮光膜の前記開口部を埋める透光性を有する中間膜と、
前記遮光膜の前記開口部に対向して配置され、前記第2基板を透過した前記第2光を受光する受光面を有する受光器と、
前記受光器から得られる信号に基づき前記光の光特性を分析する分析処理部と、
を備え、
前記受光器の前記受光面が前記中間膜に密着しており、
前記第2基板が珪素基板であり、
前記中間膜は、酸化チタン膜であることを特徴とする電子機器。
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