JP5964182B2 - クラスタによる加工方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、この加工方法は、例えばエッチングレートなどの加工性能が低いという課題がある。
また、大面積を処理する場合、複数本のノズルを用いることが考えられるが、ノズルの本数を増やせば、その分だけガス供給量が多くなる。そうすると、真空処理室内の真空状態を維持するために多量のガスを排気しなければならないが、排気能力の制約から限界があるし、ノズル1本当たりの加工能力が低下することにもなる。このように、加工の目的によっては、少ないガス供給量で所望の加工性能を確保することが求められる場合もある。
本発明の実施の形態に係るクラスタによる加工方法を図1の概略説明図を参照しながら説明する。
混合ガス供給路1に、ガスシリンダー11が、減圧機能を有する圧力調整弁12、流量計13及び圧力計14を介して接続されている。
反応性ガスは三フッ化塩素である。この三フッ化塩素は珪素との反応性が高いので、試料表面41が珪素単結晶である場合に特に有効である。
そして、反応性クラスタを生成するためには、所定の圧力が必要であるが、上記反応性ガスは沸点が高く、圧力を高くすると凝縮(液化)してノズルでの断熱膨張ができないため、反応性ガスのみから反応性クラスタを生成するための必要な圧力を得ることができなかったのである。
本発明では、不活性ガスとして、アルゴンからなる第一の不活性ガスと、キセノンからなる第二の不活性ガスを用いる。
これらの第一の不活性ガス、第二の不活性ガスは、いずれも、ガスシリンダー11内及び混合ガス供給路1内で、反応性ガスと不活性なものである。従って、これらの第一の不活性ガス、第二の不活性ガスは、ガスシリンダー11内や混合ガス供給路1内で反応性ガスと反応せず、反応性クラスタの安定的な生成が可能であり、試料表面41の加工を阻害しない。
しかし、本発明者の実験的検証によれば、アルゴンからなる第一の不活性ガスとともにキセノンからなる第二の不活性ガスを併用することにより、加工性能が向上することが分かったのである(後述する実施例も参照)。
反応性ガスの混合割合が3容積%未満では、反応性ガスと試料との反応が不十分となり、10容積%を超えると、反応性ガスの液化が生じるおそれがある。好ましくは、5容積%以上7容積%以下である。
第一の不活性ガスの混合割合が40容積%未満では、相対的に反応性ガス及び第二の不活性ガスの各混合割合が多くなり、また、94容積%を超えると、相対的に反応性ガス及び第二の不活性ガスの各混合割合が少なくなるので、いずれの場合も反応性ガス及び第二の不活性ガスの各混合割合を所定の範囲内に設定することが困難となる。好ましくは、43容積%以上89容積%以下である。
第二の不活性ガスの混合割合が3容積%未満では、第二の不活性ガスを添加した効果が十分に得られず、反応性ガスと試料との反応が不十分となり、50容積%を超えると、キセノンが比較的高価であるため、コスト高となり、実用性が損なわれる。好ましくは、6容積%以上50容積%以下であり、この範囲では、特に深さ方向での加工性能に優れたものとなる。
まず、真空処理室3には、開閉弁31、ターボ分子ポンプ32及びドライポンプ33を介設した排気路35を接続しており、ターボ分子ポンプ32及びドライポンプ33により真空処理室3内を約10Pa(abs)の二次圧力としている。排気路35には、さらに除害部34が接続しており、排気ガスを無害化して放出するようにしている。
真空処理室3内の圧力は、圧力計36によって測定される。
そして、本発明は、反応性クラスタ37の加工性能を高くするために、反応性ガスと、第一の不活性ガスと、第二の不活性ガスとの3種の混合ガス15を、ノズル出口22から断熱膨張させながら真空処理室3内に噴出させて、中性の反応性クラスタ37を生成するのである。
なお、42は試料4を所定位置に固定する試料台である。
なお、下記実施例において、エッチングレート(重量基準)は、電子天秤「ER−182A」(A&D社製)を用いて、1分間の加工処理前後における試料の重量を測定して、その差として算出した。また、エッチングレート(深さ基準)は、1分間の加工処理において最も深くエッチングされた部分の深さを表したものであり、60μm未満の場合には接触式段差計「DekTak3」(Veeco社製)を用いて測定し、60μm以上の場合には走査型電子顕微鏡「JSM−7505FS」(JEOL社製)を用いて測定した。
また、混合ガスの流量(sccm)は、流量計13で測定された質量流量の値を、混合ガス中の各ガスの容積割合及び分子量から容積流量に換算して得た値であり、1分間当たりの混合ガスの容積流量である。
真空処理室3内で、反応性クラスタ37で加工される試料表面41を珪素単結晶とし、混合ガス15を三フッ化塩素(ClF3)からなる反応性ガスと、アルゴン(Ar)からなる第一の不活性ガスと、キセノン(Xe)からなる第二の不活性ガスとの3種の混合ガスとした。
ノズル出口22と試料表面41との距離を13mmとし、反応性クラスタ37を試料表面41に照射する時間を1minとした。
上記操作を、ノズル入口21での混合ガス15の一次圧力、混合ガス15の混合割合を、様々に変えて実施した。
また、異なる組成の混合ガスについて実験を行う際には、別途、組成の異なる混合ガスをガスシリンダー11内に調製して実験を行った。
なお、キセノンが0容積%の場合はアルゴンが94容積%であり、キセノンが94容積%の場合はアルゴンが0容積%であって、いずれも不活性ガスを1種のみ用いるものであるから、これらは本発明の対象ではない。
図3に、横軸にキセノンの混合割合、縦軸に試料表面41のエッチングレート(深さ基準:μm/min)を表したグラフを示す。
図4に、横軸に混合ガスの流量、縦軸に試料表面41のエッチングレート(深さ基準:μm/min)を表したグラフを示す。
図5に、横軸に混合ガスの流量、縦軸に試料表面41のエッチングレート(重量基準:mg/min)を表したグラフを示す。
少ない流量で優れた加工性能が得られるということは、反応効率(投入された反応性ガスのうち、試料の加工に寄与する割合)が高いものであることを示している。
そして、ノズル一本当たりの混合ガスの流量が少なくてすむので、真空処理室3内を真空状態に維持するための排気能力上の制約が軽減され、ノズル本数を増やして混合ガスの流量を増やすことができ、大面積加工などの更なる用途への応用を可能とするものであると言える。
2 ノズル
3 真空処理室
4 試料
15 混合ガス
21 ノズル入口
22 ノズル出口
37 反応性クラスタ
41 試料表面
Claims (4)
- 三フッ化塩素からなる反応性ガスと、アルゴンからなる第一の不活性ガスと、キセノンからなる第二の不活性ガスとの3種の混合ガスを、ノズルから断熱膨張させながら真空処理室内に噴出させて生成した反応性クラスタにより試料表面を加工する方法であって、
前記ノズル入口における前記混合ガスは、圧力を0.4MPa(abs)以上とし、前記反応性ガスの混合割合を3容積%以上10容積%以下とし、前記第一の不活性ガスの混合割合を40容積%以上94容積%以下とし、前記第二の不活性ガスの混合割合を3容積%以上50容積%以下としたことを特徴とするクラスタによる加工方法。 - 前記ノズル入口における前記混合ガスは、圧力を0.6MPa(abs)以上とし、前記反応性ガスの混合割合を5容積%以上7容積%以下とし、前記第一の不活性ガスの混合割合を43容積%以上89容積%以下とし、前記第二の不活性ガスの混合割合を6容積%以上50容積%以下としたことを特徴とする請求項1に記載のクラスタによる加工方法。
- 前記ノズル入口における前記混合ガスの圧力が、0.4MPa(abs)以上0.95MPa(abs)以下である、請求項1に記載のクラスタによる加工方法。
- 前記ノズル入口における前記混合ガスの圧力が、0.8MPa(abs)以上0.95MPa(abs)以下である、請求項1に記載のクラスタによる加工方法。
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