JP5950904B2 - 高い固形含有量及び優れた流動性を有する被覆剤ならびにそれから製造される多層コート及びその使用 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 165
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 143
- 239000007787 solid Substances 0.000 title description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 124
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 82
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- -1 3-propyltrimethoxysilyl Chemical group 0.000 claims description 39
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 38
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 38
- PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazetidine-2,4-dione Chemical group O=C1NC(=O)N1 PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 36
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 32
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 32
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 23
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 230000008439 repair process Effects 0.000 claims description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 17
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 claims description 12
- 229910003813 NRa Chemical group 0.000 claims description 11
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 11
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 claims description 11
- XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OC)(OC)OC XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 8
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 7
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 4
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 4
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 claims description 4
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims 2
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 claims 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 26
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 23
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 12
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 7
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 5
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 5
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002877 acrylic styrene acrylonitrile Polymers 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 description 3
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical group NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 1-cyclooctyldiazocane Chemical compound C1CCCCCCC1N1NCCCCCC1 NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 3-(cyclononen-1-yl)-4,5,6,7,8,9-hexahydro-1h-diazonine Chemical compound C1CCCCCCC=C1C1=NNCCCCCC1 QDFXRVAOBHEBGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCC KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- BLAKAEFIFWAFGH-UHFFFAOYSA-N acetyl acetate;pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1.CC(=O)OC(C)=O BLAKAEFIFWAFGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 2
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 2
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- VKLNMSFSTCXMSB-UHFFFAOYSA-N 1,1-diisocyanatopentane Chemical compound CCCCC(N=C=O)N=C=O VKLNMSFSTCXMSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUYHWJKHJNFYGV-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanato-3-phenylbenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1N=C=O LUYHWJKHJNFYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZYRZNIYJDKRHO-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(2-isocyanatopropan-2-yl)benzene Chemical compound O=C=NC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)N=C=O)=C1 AZYRZNIYJDKRHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFSYUSUFCBOHGU-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-[(4-isocyanatophenyl)methyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=CC=C1N=C=O LFSYUSUFCBOHGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-(4-isocyanato-3-methylphenyl)-2-methylbenzene Chemical compound C1=C(N=C=O)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N=C=O)=CC=2)=C1 ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXZLHMICGMACLR-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-pentylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCCC(CO)(CO)CO KXZLHMICGMACLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOIXNOMHHWGUTG-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[4-pyridin-4-yl-1-(2,2,2-trifluoroethyl)pyrazol-3-yl]phenoxy]methyl]quinoline Chemical compound C=1C=C(OCC=2N=C3C=CC=CC3=CC=2)C=CC=1C1=NN(CC(F)(F)F)C=C1C1=CC=NC=C1 NOIXNOMHHWGUTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTBWHSFDRJUKTJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropanoyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(O)C(=O)OC(=O)C(C)=C YTBWHSFDRJUKTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRDRFZYKKFYMO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(2-methylbutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(C)OOC(C)(C)CC JJRDRFZYKKFYMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanamine Chemical compound CCO[Si](CCN)(OCC)OCC BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCN QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRRSOFDMHJERAN-UHFFFAOYSA-N 3,3,5-trimethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CC(C)(C)CCOC(=O)C(C)=C RRRSOFDMHJERAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MICGRWJJZLKTMU-UHFFFAOYSA-N 3,3,5-trimethylhexyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CC(C)(C)CCOC(=O)C=C MICGRWJJZLKTMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFQCJVVJRNPSET-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-4-nitro-1h-pyrazole Chemical compound CC1=NNC(C)=C1[N+]([O-])=O OFQCJVVJRNPSET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHNJXLWRTQNIPD-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(O)CCOC(=O)C(C)=C VHNJXLWRTQNIPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)CCOC(=O)C=C JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWDDLRSGGCWDPH-UHFFFAOYSA-N 4-triethoxysilylbutan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCN SWDDLRSGGCWDPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBVMDQYCJXEJCJ-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylbutan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCN RBVMDQYCJXEJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-pyrazole Chemical compound CC1=CC=NN1 XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- OEMVAFGEQGKIOR-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCCCC OEMVAFGEQGKIOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUCRTFHCJZBKBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCC FUCRTFHCJZBKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGOMVSNLFKNSAR-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCCC DGOMVSNLFKNSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSJCBOUEXFVFJ-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCCCC DSSJCBOUEXFVFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGXQOOUIOHVMEJ-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCCCCCCCC SGXQOOUIOHVMEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- XDODWINGEHBYRT-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCCCC1CO XDODWINGEHBYRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940009868 aluminum magnesium silicate Drugs 0.000 description 1
- WMGSQTMJHBYJMQ-UHFFFAOYSA-N aluminum;magnesium;silicate Chemical compound [Mg+2].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] WMGSQTMJHBYJMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAABIJFUKKEJQ-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCC1 WRAABIJFUKKEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCC1 BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSNLCLFPPHBFLV-LBPRGKRZSA-N diethyl (2s)-2-(3-trimethoxysilylpropylamino)butanedioate Chemical compound CCOC(=O)C[C@@H](C(=O)OCC)NCCC[Si](OC)(OC)OC VSNLCLFPPHBFLV-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 230000000447 dimerizing effect Effects 0.000 description 1
- VFFDVELHRCMPLY-UHFFFAOYSA-N dimethyldodecyl amine Natural products CC(C)CCCCCCCCCCCN VFFDVELHRCMPLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OCC UHKJHMOIRYZSTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 210000000540 fraction c Anatomy 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- STBLQDMGPBQTMI-UHFFFAOYSA-N heptane;isocyanic acid Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCCC STBLQDMGPBQTMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical class C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCAMXZBMXVIIQN-UHFFFAOYSA-N octan-3-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(CC)OC(=O)C(C)=C KCAMXZBMXVIIQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJBMMHPCGWCCOH-UHFFFAOYSA-N octan-3-yl dihydrogen phosphate Chemical class CCCCCC(CC)OP(O)(O)=O YJBMMHPCGWCCOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical class OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011527 polyurethane coating Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 210000003660 reticulum Anatomy 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group [CH2]CC[Si](OC)(OC)OC QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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Description
従って本発明の課題は、修理塗装の条件下でも良好な硬化が保証され、高い固体含有量ひいては出来るだけ低い溶剤含有量を有し、良好な流動性もしくはトップコート耐久性を示し、かつ優れた表面特性を有する被覆を生じる被覆剤、特に自動車補修塗装用の被覆剤を提供することである。
上記課題の見地から、少なくとも1つのオリゴマー及び/又はポリマーのヒドロキシル基含有化合物(A)、及びイソシアネート基と式(I)
−X−Si−R''xG3-x (I)
[式中、
G=同じ又は異なる加水分解可能な基、
特にG=アルコキシ基(OR')、
R'=水素、アルキル又はシクロアルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基、又はNRa基により中断されていてもよく、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキル、有利にはR'=エチル及び/又はメチルであり、
X=有機基、特に1〜20個の炭素原子を有する線状及び/又は分枝アルキレン基又はシクロアルキレン基であり、とりわけ有利にはX=1〜4個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
R''=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここでRa=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、有利にはR''=アルキル基、特に1〜6個の炭素原子を有するアルキル基であり、x=0〜2、有利には0〜1、特に有利にはx=0である]
の少なくとも1つのシラン基を有する少なくとも1つの化合物(B)を含有する非プロトン性溶剤をベースとする被覆剤が見出され、該被覆剤は、
(i)イソシアネート基及びシラン基含有化合物(B)はウレットジオン基を有し、かつ
(ii)化合物(B)は線状脂肪族ジイソシアネート(DI)から製造されたこと
を特徴とする。
本発明による被覆剤
本発明による被覆剤は、特に熱硬化性被覆剤、すなわち実質的に放射線硬化性不飽和化合物不含の被覆剤、特に完全に放射線硬化性不飽和化合物不含の被覆剤であるのが有利である。
成分(B)として、本発明による被覆剤は、遊離の、すなわちブロックされていない及び/又はブロックされたイソシアネート基を有する1つ又は複数の化合物(B)を含有する。有利には、本発明による被覆剤は、遊離イソシアネート基を有する化合物(B)を含有する。しかし、イソシアネート基含有化合物(B)の遊離イソシアネート基は、ブロックされた形で使用することもできる。よって本発明による被覆剤が1成分系として使用される場合には、これは有利である。
−X−Si−R''x−G3-x (I)
[式中、
G=同じ又は異なる加水分解可能な基であり、特にG=アルコキシ基(OR')であり、
R'=水素、アルキル又はシクロアルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキル、有利にはR'=エチル及び/又はメチルであり、
X=有機基、特に1〜20個の炭素原子を有する線状及び/又は分枝アルキレン基又はシクロアルキレン基であり、特に有利にはX=1〜4個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
R''=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキル、有利にはR''=アルキル基、特に1〜6個の炭素原子を有するアルキル基であり、x=0〜2、有利には0〜1、特に有利にはx=0である]
の少なくとも1つのシラン基を有する。
−NR−(X−SiR''x(OR')3-x) (II)
の少なくとも1つの構造単位(II)、及び式(III)
−N(X−SiR''x(OR')3-x)n(X'−SiR''y(OR')3-y)m (III)
の少なくとも1つの構造単位(III)
を有する少なくとも1つのイソシアネート基含有化合物(B)を含有するのが有利である。前記式中、R=水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、
Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、
R'=水素、アルキル又はシクロアルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、有利にはR'=エチル及び/又はメチルであり、
X、X'=1〜20個の炭素原子を有する線状及び/又は分枝アルキレン又はシクロアルキレン基であり、有利にはX,X'=1〜4個の炭素原子を有するアルキル基であり、
R''=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、有利にはR'=アルキル基、特に1〜6個の炭素原子を有するアルキル基であり、n=0〜2、m=0〜2、m+n=2ならびにx、y=0〜2である。
H−NR−(X−SiR''x(OR')3-x) (IIa)
の少なくとも1つの化合物及び式(IIIa)
HN(X−SiR''x(OR')3-x)n(X'−SiR''y(OR')3-y)m (IIIa)
の少なくとも1つの化合物の反応により得られるのが特に有利である(置換基は上記の意味を有する)。
H−NR−(X−SiR''x(OR')3-x) (IIa)
の少なくとも1つを反応させ、かつ
ポリイソシアネート基本構造中のイソシアネート基2.5〜90mol%、有利には5〜85mol%、特に有利には7.5〜80mol%と、化合物(IIIa)
HN(X−SiR''x(OR')3-x)n(X'−SiR''y(OR')3-y)m (IIIa)
の少なくとも1つを反応させる(置換基は前記の意味を有する)。
EEW(Bシラン不含)=(100質量%*42g)/イソシアネート含有量(質量%)。
前記式中、
c=B中に元々存在するイソシアネート基の式(I)+(II)+(III)のシラン単位への転化率(mol%)、100mol%で割る、
as1=B中で構造単位(I)に反応したイソシアネート基の割合(mol%)、100mol%で割るが、但し、構造単位(I)+(II)+(III)の合計は、常に100mol%である。
as2=B中で構造単位(II)に反応したイソシアネート基の割合(mol%)、100mol%で割るが、但し、構造単位(I)+(II)+(III)の合計は、常に100mol%である。
as3=B中で構造単位(III)に反応したイソシアネート基の割合(mol%)、100mol%で割るが、但し、構造単位(I)+(II)+(III)の合計は、常に100mol%である。
EEW(I)=構造単位(I):−X−Si−R''xG3-x(式中、X、R''、G及びxは、上記式(I)に記載されている意味を有する)の構造式から決定、
EEW(II)=構造単位(II):−NR−(X−SiR''(OR')3-x(式中、X、R、R''、R'及びxは、上記式(II)に記載されている意味を)の構造式から計算により算出した当量、
EEW(III)=構造単位(III):−N(X−SiR''x(OR')3-x)n(X'−SiR''y(OR')3-y)m(式中、X、R''、R'及びxは、上記式(III)に記載されている意味を有する)の構造式から計算により算出した当量。
EEW(BSシラン不含)=(100質量%*42g)/イソシアネート含有量(質量%)。
前記式中、
c'=(BS)中で元々存在するイソシアネート基の式(I)+(II)+(III)のシラン単位への転化率(mol%)、100mol%で割る、
as'1=BS中で構造単位(I)に反応したイソシアネート基の割合(mol%)、100mol%で割るが、但し、構造単位(I)+(II)+(III)の合計は、常に100mol%である。
as'2=BS中で構造単位(II)に反応したイソシアネート基の割合(mol%)、100mol%で割るが、但し、構造単位(I)+(II)+(III)の合計は、常に100mol%である。
as'3=BS中で構造単位(III)に反応したイソシアネート基の割合(mol%)、100mol%で割るが、但し、構造単位(I)+(II)+(III)の合計は、常に100mol%である。
ヒドロキシ基含有化合物(A)として少なくとも1つのオリゴマー及び/又はポリマーポリオールを使用する。
ポリオール(A)とポリイソシアネート(B)の質量割合は、イソシアネート含有化合物(B)の反応していないイソシアネート基:ヒドロキシル基含有化合物(A)のヒドロキシル基のモル当量比が0.8:1〜1:1.2の間、有利には0.9:1〜1.1:1の間、特に有利には0.95:1〜1.05:1の間であるように有利に選択される。
本発明による被覆剤は、シラン基を架橋するための少なくとも1つの触媒(D)を有利に含有する。例えば、亜鉛又はアルミニウムをベースとするキレート配位子を有する金属錯体である(例えば、WO05/03340に記載されているチタネート又はルイス酸)。しかし、触媒を選択する際に、触媒が被覆剤の黄変を生じないように留意すべきである。更に、公知の方法で使用される幾つかの触媒は、毒性の観点からあまり望ましくない。
− 特にUV吸収剤;
− 特に、光安定剤、例えば、HALS化合物、ベンゾトリアゾール又はオキサルアニリド;
− ラジカルスカベンジャー;
− スリップ添加剤;
− 重合阻害剤;
− 消泡剤;
− 従来技術から一般に公知であるような反応性希釈剤、有利には−Si(OR)3−基に不活性であるもの;
− 湿潤剤、例えば、シロキサン、フッ素含有化合物、カルボン酸半エステル、リン酸エステル、ポリアクリル酸及びそれらのコポリマー又はポリウレタン;
− 接着促進剤、例えば、トリシクロデカンジメタノール;
− 流動調整剤;
− フィルム形成助剤、例えば、セルロース誘導体;
− 充填剤、例えば、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムをベースとするナノ粒子;更なる詳細については、Roempp Lexikon"Lacke und Druckfarben", Georg Thieme Verlag, Stuttgart, 1998、250〜252頁を参照のこと;
− レオロジー調整添加剤、例えば、特許明細書WO94/22968、EP−A−0276501、EP−A−0249201またはWO97/12945から公知の添加剤;例えば、EP−A−0008127に開示されているような架橋ポリマー微粒子;無機層状ケイ酸塩、例えば、アルミニウム−マグネシウム−シリケート、ナトリウム−マグネシウム−層状ケイ酸塩、及びモンモリロナイトのタイプのナトリウム−マグネシウム−フッ素−リチウム−層状ケイ酸塩;シリカ、例えば、Aerosile(登録商標);又はイオン性及び/又は会合作用基を有する合成ポリマー、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリビニルピロリドン、スチレン−無水マレイン酸コポリマー又はエチレン−無水マレイン酸コポリマー及びそれらの誘導体、又は疎水性に変性されたエトキシル化ウレタン又はポリアクリレート;
− 難燃剤;及び/又は
− ウォータースカベンジャー。
ヒドロキシル基(A1)を有するポリ(メタ)アクリレート樹脂の製造
オイル循環サーモスタットにより加熱可能である、サーモメター、アンカー撹拌機、2個の滴下漏斗及び還流冷却器を備えた二重壁の4リットル−ステンレス容器に、重合用の溶剤を予め装入した。滴下漏斗のうちの1つをモノマー混合物で充填し、二番目の滴下漏斗に、適切な開始剤(通常は、過酸化物)を含有している開始溶液を予め装入した。初期充填物を140℃の重合温度まで加熱した。重合温度に達した後に、まず開始剤の供給を始めた。開始剤供給の15分後に、モノマー供給(240分の間)を開始した。開始剤供給は、モノマー供給が終わった後に更に30分間続くように設定した。開始剤供給が終わった後に、混合物を140℃で更に2時間撹拌し、かつ引き続き室温まで冷却した。引き続き、この反応混合物を表2に記載された固体含有量になるまで溶剤で調節した。
アンカー撹拌器及び還流冷却器を備えたステンレス撹拌容器中に、酢酸ブチル290gと溶剤ナフサ290gを予め装入し、かつ撹拌下に窒素雰囲気中3.5バールの絶対圧力で167℃に加熱した。ジ−t−アミルペルオキシド288.8g及び酢酸ブチル10.7g及び溶剤ナフサ10.8gの溶液を275分間にわたり滴加した。スチレン400g、ブチルメタクリレート550g、ヒドロキシエチルアクリレート803.3g、エチルヘキシルアクリレート550g、及びアクリル酸102.9gのモノマー混合物を240分以内に一定に滴加した。この場合に、モノマー供給は開始剤供給の5分後に開始した。供給を開始した後に、反応内容物を167℃で更に20分間保持し、かつ引き続きカプロラクトン993gを1時間以内に供給し、その際、反応温度を150℃まで一定に下げた。供給の終了後150℃で1.5時間更に撹拌した。引き続き、反応器の内容物を冷却し、121℃を下回る温度で圧力を下げ、かつ80℃で反応器を空にした。生じたポリマー溶液は、2400mPasの粘度で81.2%の固体を有した。結合剤は、3.0の多分散度(ポリスチレンキャリブレーションに対するGPCにより決定)で5300g/molの数平均モル質量を有した。
還流冷却器とサーモメターを備えたステンレス反応器中に、ウレットジオン基を有する二量体化ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)48.3部(Bayer社製のDesmoudur N3600)、酢酸ブチル12.1部及びトリエチルオルトホルメート2.4部を予め装入した。引き続き滴下漏斗を介して、ビス−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アミン(Dynasylan 1124, EVONIK, Rheinfelden)30.7部及びトリメトキシシリルプロピル−n−ブチルアミン2.4部(Dynasylan 1189, EVONIK, Rheinfelden)から成る混合物を窒素ブランケット及び撹拌下に滴加した。約40℃までの僅かな温度上昇が観察された。2時間撹拌した後に、NCO−値を滴定により試験した:NCO−含有量:6.6%(溶液)。不揮発性のフラクション(1時間、150℃)は85%である。
還流冷却器とサーモメターを備えたステンレス反応器中に、三量体化ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)57.6部(Bayer社製のDesmoudur N3600)、酢酸ブチル14.8部及びトリエチルオルトホルメート2.8部を予め装入した。引き続き滴下漏斗を介して、ビス−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アミン(Dynasylan 1124, EVONIK, Rheinfelden)39.4部及びトリメトキシシリルプロピル−n−ブチルアミン3.0部(Dynasylan 1189, EVONIK, Rheinfelden)から成る混合物を窒素ブランケット及び撹拌下に滴加した。約40℃までの僅かな温度上昇が観察された。2時間撹拌した後に、NCO−値を滴定により試験した:NCO−含有量:6.6%(溶液);不揮発性のフラクション(1時間、150℃)は85%である。
還流冷却器とサーモメターを備えたステンレス反応器中に、三量体化ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)67.6部(Bayer社製のDesmoudur N3600)、酢酸ブチル16.9部及びトリエチルオルトホルメート3.4部を予め装入した。引き続き滴下漏斗を介して、ビス−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アミン(Dynasylan 1124, EVONIK, Rheinfelden)43.0部及びトリメトキシシリルプロピル−n−ブチルアミン3.3部(Dynasylan 1189, EVONIK, Rheinfelden)から成る混合物を窒素ブランケット及び撹拌下に滴加した。約40℃までの僅かな温度上昇が観察された。2時間撹拌した後に、NCO−値を滴定により試験した:NCO−含有量:6.6%(溶液);不揮発性のフラクション(1時間、150℃)は85%である。
挙げられた順番で(上から開始)、表5と表6に挙げられている成分を適切な容器中で互いによく混合し、かつその直後に黒いベースコートで被覆したミラープレート上に被覆した(ベースコート乾燥80℃で30分、10分間の脱気時間)。引き続き、プレートを60℃で30分間オーブン中で乾燥させた。得られた被覆を室温で24時間貯蔵し、かつBYK−Gardner社製のWave-Scan(登録商標)で測定した。試験結果は表7と表8に記載されている。
本発明による例1の表7中の長波値(LW)及び短波値(SW)と、比較例V1とV2の比較は、両方とも本発明による例1が、比較例V1とV2よりも実質的に優れた値を有することを示した。すなわち、本発明による被覆剤B1は、比較例V1とV2の被覆剤よりも実質的に良好な流動性を有することが示された。
還流冷却器とサーモメターを備えたステンレス反応器中に、ウレットジオン基を有する二量体化ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)50部(Bayer社製のDesmoudur N3400)、酢酸ブチル16部及びトリエチルオルトホルメート3部を予め装入した。引き続き滴下漏斗を介して、ビス−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アミン(Dynasylan 1124, EVONIK, Rheinfelden)24部とトリメトキシシリルプロピル−n−ブチルアミン8部(Dynasylan 1189, EVONIK, Rheinfelden)から成る混合物を窒素ブランケット及び撹拌下に滴加した。約40℃までの僅かな温度上昇が観察された。2時間撹拌した後に、NCO−値を滴定により試験した:不揮発性フラクション(1時間、150℃):80%、NCO−含有量:6.1%(溶液)。
ヘキサメチレンジイソシアネートをベースとする、イソシアヌレート基を有する市販の三量体化ポリイソシアネート40質量部(Bayer社製のDesmoudur N3600)及び酢酸ブチル10部を撹拌により互いに混合することにより、固体含有量80.0質量%を有する溶液が得られた。
還流冷却器とサーモメターを備えたステンレス反応器中に、イソシアヌレート基を有する三量体化ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)50部(Bayer社製のDesmoudur N3600)、酢酸ブチル16部及びトリエチルオルトホルメート3部を予め装入した。引き続き滴下漏斗を介して、ビス−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アミン(Dynasylan 1124, EVONIK, Rheinfelden)24部とトリメトキシシリルプロピル−n−ブチルアミン8部(Dynasylan 1189, EVONIK, Rheinfelden)から成る混合物を窒素ブランケット及び撹拌下に滴加した。約40℃までの僅かな温度上昇が観察された。2時間撹拌した後に、NCO−値を滴定により試験した:不揮発性フラクション(1時間、150℃):80%、NCO−含有量:6.3%(溶液)。
工業的データシートによるDesmodur(登録商標)N3400の当量の計算:
(100*42g)/21.8=193g
工業的データシートによるDesmodur(登録商標)N3600の当量の計算:
(100*42g)/23=183g
ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アミンの計算された当量:341g
トリメトキシシリルプロピル−n−ブチルアミンの計算された当量:234g。
B2におけるシラン単位への転化率c:40mol%。
B2におけるモノシランと反応したイソシアネート基のフラクションas2:
(モノシランの量、mol%)/[全体のフラクション(モノシラン+ビスシラン)=100mol%]=0.2。
B2におけるビスシランと反応したイソシアネート基のフラクションas3:
(ビスシランの量、mol%)/[全体のフラクション(モノシラン+ビスシラン)=100mol%]=0.8。
ウレットジオン基含有化合物B2の当量:
[193g(Desmodur(登録商標)N3400の当量)]+0.4*[(0.2*234g)+(0.8*341g)]=321g。
BS1におけるシラン単位への転化率c':0mol%。
BS1におけるモノシランと反応したイソシアネート基のフラクションas'2:
(モノシランの量、mol%)/[全体のフラクション(モノシラン+ビスシラン)=100mol%]=0
BS1におけるビスシランと反応したイソシアネート基のフラクションas'3:
(ビスシランの量、mol%)/[全体のフラクション(モノシラン+ビスシラン)=100mol%]=0
イソシアヌレート基含有化合物BS1の当量:
[183g(Desmodur(登録商標)N3600の当量)]+0*[(0*234g)+(0*341g)]=183g
BS2におけるシラン単位への転化率c':40mol%。
BS2におけるモノシランと反応したイソシアネート基のフラクションas'2:
(モノシランの量、mol%)/[全体のフラクション(モノシラン+ビスシラン)=100mol%]=0.2
BS2におけるビスシランと反応したイソシアネート基のフラクションas'3:
(ビスシランの量、mol%)/[全体のフラクション(モノシラン+ビスシラン)=100mol%]=0.8
イソシアヌレート基含有化合物BS2の当量:
[183g(Desmodur(登録商標)N3600の当量)]+0.4*[(0.2*234g)+(0.8*341g)]=311g
記載された順番(上から下)で、表10に示された成分を適切な容器中で互いによく混合し、かつその直後に黒いベースコートで被覆したミラープレート上に被覆した(ベースコート乾燥:80℃で30分、10分間のフラッシュオフ時間)。引き続き、プレートをオーブン中60℃で30分間乾燥させた。得られた被覆を室温で24時間乾燥させ、かつBYK−Gardner社のWave Scan(登録商標)で測定した。試験結果は表11に記載されている。
従って、本発明による硬化剤混合物H1とH2では、高い固体含有量を有している場合でも目的とする40μmのフィルム厚で極めて良好な流動性を達成できる。更に、本発明による被覆剤は、修理塗装の条件下でさえも迅速な硬化が保証される。すなわち、被覆は60℃で30分間の乾燥後に指触乾燥していた。
Claims (14)
- 少なくとも1つのオリゴマー及び/又はポリマーのヒドロキシル基含有化合物(A)、及び
イソシアネート基と式(I)
−X−Si−R''xG3-x (I)
[式中、
G=同じ又は異なる加水分解可能な基であり、
X=有機基であり、
R''=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、x=0〜2である]
の少なくとも1つのシラン基を有する少なくとも1つの化合物(B)
を含有している、非プロトン性溶剤をベースとする被覆剤において、
(i)イソシアネート基とシラン基を有している化合物(B)はウレットジオン基を有し、かつ
(ii)化合物(B)は、線状脂肪族ジイソシアネート(DI)から製造されており、
化合物(B)は、構造単位(II)と(III)の全体に対して、式(II)
−NR−(X−SiR'' x (OR') 3-x ) (II)
の少なくとも1つの構造単位を2.5〜90mol%の間、及び式(III)
−N(X−SiR'' x (OR') 3-x ) n (X'−SiR'' y (OR') 3-y ) m (III)
の少なくとも1つの構造単位を10〜97.5mol%の間有し、かつ、式(I)のシラン基は、式(II)と式(III)の構造単位からなり、ここで、
R=水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、
R'=水素、アルキル又はシクロアルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、
X、X'=1〜20個の炭素原子を有する線状及び/又は分枝アルキレン又はシクロアルキレン基であり、
R''=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、その際、炭素鎖は隣接しない酸素基、硫黄基又はNRa基により中断されていてもよく、ここで、Ra=アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルであり、
n=0〜2、m=0〜2、m+n=2ならびにx、y=0〜2である、
ことを特徴とする、非プロトン性溶剤をベースとする被覆剤。 - 化合物(B)は、3〜12個の炭素原子を有する線状脂肪族ジイソシアネート(DI)から製造されている、請求項1に記載の被覆剤。
- 化合物(B)は、線状脂肪族ジイソシアネート(DI)のイソシアネートのオリゴマー化により生じた構造タイプの全体に対して、>50mol%のウレットジオン基含有量を有するポリイシシアネート(PI)から製造されている、請求項1又は2に記載の被覆剤。
- ポリイソシアネート(PI)中、反応して構造単位(II)及び/又は(III)を生じたイソシアネート基の全体の割合は、5〜95mol%の間である、請求項1から3までのいずれか1項に記載の被覆剤。
- 化合物(B)は、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートのウレットジオンとビス(3−プロピルトリメトキシシリル)アミン及びN−(3−(トリメトキシシリル)プロピル)ブチルアミンからの反応生成物である、請求項1から4までのいずれか1項に記載の被覆剤。
- ヒドロキシ含有化合物(A)は、ポリアクリレートポリオール、ポリメタクリレートポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール及び/又はポリシロキサンポリオールのグループから選択される、請求項1から5までのいずれか1項に記載の被覆剤。
- 化合物(A)として、ラクトン変性ヒドロキシル基含有オリゴマー及び/又はポリマー化合物(A)を含有している、請求項1から6までのいずれか1項に記載の被覆剤。
- 被覆剤は、シラン基を架橋するためのリン含有触媒を含有している、請求項1から7までのいずれか1項に記載の被覆剤。
- 被覆剤は、成分(B)とは異なる、遊離及び/又はブロックされたイソシアネート基を有する1つ又は複数の化合物(BS)を更に含有している、請求項1から8までのいずれか1項に記載の被覆剤。
- ウレットジオン基含有成分(B):成分(BS)の混合比は、成分(B)1.0当量:成分(BS)40.0当量〜成分(B)1.0当量:成分(BS)0.01当量である、請求項1から9までのいずれか1項に記載の被覆剤。
- 多工程の被覆法において、場合により予備被覆された基材上に着色ベースコート層を設け、及びその後に請求項1から10までのいずれか1項に記載の被覆剤からの層を設けることを特徴とする、多工程の被覆法。
- 着色ベースコート層を設けた後に、設けられたベースコートをまず室温から80℃の温度で乾燥させ、かつ請求項1から10までのいずれか1項に記載の被覆剤を設けた後に、30〜90℃の温度で1分間〜10時間の間硬化させる、請求項11に記載の多工程の被覆法。
- 自動車補修塗装用の及び/又は自動車部材及び/又はプラスチック基材を被覆するためのクリアコートとしての、請求項1から10までのいずれか1項に記載の被覆剤の使用。
- 自動車補修塗装用の及び/又はプラスチック基材を被覆するための、請求項11又は12に記載の方法の使用。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010015683.3 | 2010-04-21 | ||
DE201010015683 DE102010015683A1 (de) | 2010-04-21 | 2010-04-21 | Beschichtungsmittel mit hohem Festkörpergehalt und gutem Verlauf sowie daraus hergestellte Mehrschichtlackierungen und deren Verwendung |
EP10191890 | 2010-11-19 | ||
EP10191890.2 | 2010-11-19 | ||
PCT/EP2011/054943 WO2011131463A1 (de) | 2010-04-21 | 2011-03-30 | Beschichtungsmittel mit hohem festkörpergehalt und gutem verlauf sowie daraus hergestellte mehrschichtlackierungen und deren verwendung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013525528A JP2013525528A (ja) | 2013-06-20 |
JP5950904B2 true JP5950904B2 (ja) | 2016-07-13 |
Family
ID=44833744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013505385A Active JP5950904B2 (ja) | 2010-04-21 | 2011-03-30 | 高い固形含有量及び優れた流動性を有する被覆剤ならびにそれから製造される多層コート及びその使用 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8790752B2 (ja) |
EP (1) | EP2561001B1 (ja) |
JP (1) | JP5950904B2 (ja) |
CN (1) | CN102844349B (ja) |
AU (1) | AU2011244543A1 (ja) |
BR (1) | BR112012026924A2 (ja) |
MX (1) | MX2012010550A (ja) |
WO (1) | WO2011131463A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010015675A1 (de) * | 2010-04-21 | 2011-10-27 | Basf Coatings Gmbh | Beschichtungsmittel mit verbesserter Ablaufneigung |
US9328257B2 (en) | 2010-11-19 | 2016-05-03 | Basf Coatings Gmbh | Coating composition having a high solids content and good levelling and also multilayer surface coatings produced therefrom and their use |
US9371469B2 (en) | 2011-06-09 | 2016-06-21 | Basf Coatings Gmbh | Coating agent compositions, coatings made therefrom and exhibiting high scratch resistance and good polishability, and use thereof |
US9909029B2 (en) | 2011-06-09 | 2018-03-06 | Basf Coatings Gmbh | Coating material compositions, coatings made therefrom and exhibiting high scratch resistance and good polishability, and use thereof |
US9273214B1 (en) * | 2013-03-04 | 2016-03-01 | Mark Figliozzi | Removable spray coating and application method |
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US9938429B2 (en) | 2014-07-18 | 2018-04-10 | BASF Coating GmbH | Coatings with flexible hyperbranched polyols |
WO2016091633A1 (de) * | 2014-12-08 | 2016-06-16 | Basf Coatings Gmbh | Beschichtungsmittelzusammensetzungen und daraus hergestellte beschichtungen und sowie deren verwendung |
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US10273371B2 (en) | 2016-07-25 | 2019-04-30 | Basf Coatings Gmbh | Method of forming a slurry of encapsulated pigment for an aqueous topcoat coating composition |
WO2018046334A1 (en) | 2016-09-08 | 2018-03-15 | Basf Coatings Gmbh | Coatings with radiation-curable hyperbranched polymers |
WO2018046335A1 (en) | 2016-09-08 | 2018-03-15 | Basf Coatings Gmbh | Radiation-curable hyperbranched polymers with dicarboxylic acid cores |
WO2018050509A2 (en) | 2016-09-15 | 2018-03-22 | Basf Coatings Gmbh | Coatings with wax-modified hyperbranched and flexible hyperbranched polyols |
US20190106592A1 (en) | 2017-10-11 | 2019-04-11 | Basf Coatings Gmbh | Hyperbranched polymers for organic pigment dispersions and water-sensitive pigments |
US20230051933A1 (en) | 2019-12-30 | 2023-02-16 | Basf Coatings Gmbh | Coatings containing branched polyester polyols as plasticizers |
CN112430310A (zh) * | 2020-11-23 | 2021-03-02 | 北京航天新立科技有限公司 | 一种低表面能涂层用有机硅改性固化剂的制备方法 |
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US4598131A (en) | 1984-12-19 | 1986-07-01 | Ppg Industries, Inc. | Catalysts for curable coating vehicle based upon aminoalkyloxy silanes and organic isocyanates |
US4710542A (en) | 1986-05-16 | 1987-12-01 | American Cyanamid Company | Alkylcarbamylmethylated amino-triazine crosslinking agents and curable compositions containing the same |
EP0249201A3 (en) | 1986-06-10 | 1989-07-19 | Union Carbide Corporation | High solids sag resistant cycloaliphatic epoxy coatings containing low molecular weight high tg organic polymeric sag resisting additives |
NO170944C (no) | 1987-01-24 | 1992-12-30 | Akzo Nv | Fortykkede, vandige preparater, samt anvendelse av slike |
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CN101432419A (zh) | 2006-03-20 | 2009-05-13 | 泰根尼克斯股份有限公司 | 保持、改善和恢复软骨细胞的软骨表型的方法 |
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DE102007039648A1 (de) | 2007-08-22 | 2009-02-26 | Sustech Gmbh & Co. Kg | Mischungen, multifunktioneller sternförmiger Präpolymere, deren Herstellung und Verwendung sowie Beschichtungen daraus |
DE102007061855A1 (de) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität |
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US8293836B2 (en) | 2009-05-20 | 2012-10-23 | Basf Coatings Gmbh | Curable coating composition containing a compound having a uretdione group and a different functional group and cured coatings |
-
2011
- 2011-03-30 MX MX2012010550A patent/MX2012010550A/es not_active Application Discontinuation
- 2011-03-30 US US13/642,728 patent/US8790752B2/en active Active
- 2011-03-30 WO PCT/EP2011/054943 patent/WO2011131463A1/de active Application Filing
- 2011-03-30 BR BR112012026924A patent/BR112012026924A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2011-03-30 EP EP11711342.3A patent/EP2561001B1/de active Active
- 2011-03-30 JP JP2013505385A patent/JP5950904B2/ja active Active
- 2011-03-30 CN CN201180019245.3A patent/CN102844349B/zh active Active
- 2011-03-30 AU AU2011244543A patent/AU2011244543A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011131463A1 (de) | 2011-10-27 |
CN102844349A (zh) | 2012-12-26 |
JP2013525528A (ja) | 2013-06-20 |
EP2561001A1 (de) | 2013-02-27 |
BR112012026924A2 (pt) | 2016-07-12 |
AU2011244543A1 (en) | 2012-09-27 |
US20130136865A1 (en) | 2013-05-30 |
EP2561001B1 (de) | 2016-08-03 |
MX2012010550A (es) | 2012-11-16 |
CN102844349B (zh) | 2015-01-14 |
US8790752B2 (en) | 2014-07-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140327 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150428 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160509 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160607 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5950904 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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