JP5947402B2 - 2つのレーザービームを用いた加工片のレーザー加工装置 - Google Patents
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Description
4 レーザービーム源
6 レーザービーム作成装置
8 ビーム案内装置
10 偏光・焦点ユニット
12 Fシータレンズ
14 加工片
16 パッシベーション層
18 偏光ミラー
20 偏光ミラー
22 偏光ミラー
24 偏光ミラー
26 端部ミラー
28 偏光ビーム分割器
30−1 ビーム位置検出器
30−2 ビーム位置検出器
32 制御装置
A 中心点
a 焦点間隔
α 角度
F1 焦点
F2 焦点
L1 レーザービーム
L2 レーザービーム
M1 測定信号
M2 測定信号
Claims (7)
- 互いに角度(α)の傾きをなして伝播し、且つ、互いに垂直方向に直線状に偏光されている第1および第2のレーザービーム(L1、L2)を発生するための装置(6)と、前記レーザービーム(L1、L2)を加工片(14)上に案内するとともに焦点合わせするための偏光・焦点ユニット(10)とを備え、
前記レーザービーム(L1、L2)を発生させるための装置(6)が、前記偏光・焦点ユニットの手前に配置されたビーム案内装置(8)を有し、前記ビーム案内装置が、少なくとも一方のレーザービーム(L2)の伝播方向を変更するため調整可能な可調整ミラー装置を有する前記加工片(14)のレーザー加工装置であって、
前記ビーム案内装置(8)が前記偏光・焦点ユニット(10)の前に配置された部分透過性の端部ミラー(26)を有し、
前記端部ミラーが前記レーザービームのそれぞれ一部を偏光・焦点ユニット(10)に向けて反射し、残部のビームを透過させ、透過された部分ビーム(TL1、TL2)が偏光ビーム分割器(28)に導かれ、前記分割器が透過した部分ビーム(TL1、TL2)を分離し、前記偏光ビーム分割器(28)から出る少なくとも一方の部分ビーム(TL1、TL2)がビーム位置検出器(30−1、30−2)に導かれることを特徴とする前記加工片(14)のレーザー加工装置。 - 前記ミラー装置が、複数の偏光ミラー(18、20)を有し、
前記偏光ミラーが、前記レーザービーム(L1、L2)を角度(α)と無関係に常に同一の交点で交差させるように調整される請求項1記載の装置。 - 前記交点が、前記偏光・焦点ユニット(10)の口径の中心点(A)にある請求項2記載の装置。
- 1つまたは複数の前記ビーム位置検出器(30−1、30−2)から送信される測定信号(M1、M2)に基づいて、前記レーザービームが角度(α)とは無関係に常に同一の交点で交差するように前記可調整ミラー装置を制御するための制御装置(32)を有する請求項1から3の1つに記載の装置。
- 前記交点が、前記偏光・焦点ユニット(10)の口径の中心点(A)にある請求項4記載の装置。
- 前記装置(6)が、2つのレーザービーム源(2、4)を有する請求項1から5の1つに記載の装置。
- 太陽電池の製作時にシリコンウェハの裏面上のパッシベーション層を局部的に切除するための請求項1から6の1つに記載の装置の使用。
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