JP5947155B2 - Radiation image conversion panel - Google Patents

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Description

本発明は、放射線像変換パネルに関する。   The present invention relates to a radiation image conversion panel.

従来、複数の柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を備えた放射線像変換パネルがある。例えば、特許文献１には、支持体と、支持体上に設けられた輝尽性蛍光体層と、輝尽性蛍光体層上に設けられた耐湿性保護膜と、耐湿性保護膜上に設けられた耐傷性保護膜と、を備える燐光体パネルが開示されている。また、特許文献２には、支持体と、支持体上に設けられた輝尽性蛍光体層と、輝尽性蛍光体層上に設けられた保護膜と、保護膜上に設けられた防汚層と、を備える放射線発光パネルが開示されている。また、特許文献３には、蛍光体層と、蛍光体層上に設けられた保護膜と、保護膜上に設けられた損傷防止膜と、を備える放射線像変換パネルが開示されている。   Conventionally, there is a radiation image conversion panel including a stimulable phosphor layer composed of a plurality of columnar crystals. For example, Patent Document 1 discloses a support, a stimulable phosphor layer provided on the support, a moisture-resistant protective film provided on the stimulable phosphor layer, and a moisture-resistant protective film. A phosphor panel comprising a scratch-resistant protective film provided is disclosed. Patent Document 2 discloses a support, a photostimulable phosphor layer provided on the support, a protective film provided on the stimulable phosphor layer, and a protective film provided on the protective film. A radiation emitting panel comprising a soil layer is disclosed. Patent Document 3 discloses a radiation image conversion panel including a phosphor layer, a protective film provided on the phosphor layer, and a damage preventing film provided on the protective film.

上述の放射線像変換パネルでは、２種類の保護膜によって、輝尽性蛍光体層の耐湿性を確保しつつ、パネルのハンドリング又はスキャナ装置での読み取りにおいて、いずれかの層に破断性の傷が発生することを防止している。   In the above-described radiation image conversion panel, the two types of protective films ensure the moisture resistance of the stimulable phosphor layer, and in handling the panel or reading with the scanner device, either layer has a breakable scratch. It is prevented from occurring.

特開２００４−３４０９２８号公報JP 2004-340928 A 特開２００２−１０７４９５号公報JP 2002-107495 A 特公平６−５２３２０号公報Japanese Patent Publication No. 6-52320

ところで、放射線像変換パネルが例えば歯科用イメージングプレートとして用いられる場合、放射線像変換パネルは患者の口腔内に挿入される。口腔は立体的であるので、詳細な情報を画像として取得するためには、撮影ごとに患者の口腔の形状に合わせて放射線像変換パネルが湾曲される必要がある。   By the way, when the radiation image conversion panel is used as, for example, a dental imaging plate, the radiation image conversion panel is inserted into the oral cavity of the patient. Since the oral cavity is three-dimensional, in order to acquire detailed information as an image, the radiation image conversion panel needs to be curved in accordance with the shape of the patient's oral cavity for each imaging.

しかしながら、上述の放射線像変換パネルでは、損傷を低減するために保護膜の硬度について検討されているが、放射線像変換パネルとしての可撓性に着目されていない。したがって、放射線像変換パネルが十分な可撓性を有しない場合、放射線像変換パネルは患者の口腔の形状に合わせて変形できないので、撮影のセッティングが困難である。また、十分な可撓性を有しない放射線像変換パネルが湾曲されて使用されると、蛍光体層にクラックが生じたり、保護膜に破断が生じたりするおそれがある。   However, in the above-mentioned radiation image conversion panel, the hardness of the protective film has been studied in order to reduce damage, but attention has not been paid to the flexibility as the radiation image conversion panel. Therefore, if the radiation image conversion panel does not have sufficient flexibility, the radiation image conversion panel cannot be deformed in accordance with the shape of the oral cavity of the patient, so that it is difficult to perform imaging settings. In addition, when a radiation image conversion panel that does not have sufficient flexibility is used while being bent, there is a risk that a crack may occur in the phosphor layer or a protective film may break.

そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、スキャナ装置での読み取り及びハンドリングなどの使用による損傷を低減可能であるとともに、湾曲した状態での使用が可能な構造を有する放射線像変換パネルを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and has a structure that can reduce damage due to use such as reading and handling in a scanner device and can be used in a curved state. An object is to provide a radiation image conversion panel.

上記課題を解決するため、本発明に係る放射線像変換パネルは、可撓性を有する支持体と、支持体の主面上に設けられ、複数の柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層と、輝尽性蛍光体層上に設けられた第１保護膜と、第１保護膜上に設けられた第２保護膜と、を備え、輝尽性蛍光体層は、ＥｕをドープしたＣｓＢｒを含む輝尽性蛍光体から構成され、第１保護膜は、輝尽性蛍光体層の上面及び側面を覆い、かつ、輝尽性蛍光体層において複数の柱状結晶の間隙を埋めるように設けられ、第２保護膜の鉛筆硬度は、第１保護膜の鉛筆硬度以下であり、曲げ半径が１５ｍｍまでの可撓性を有する。   In order to solve the above problems, a radiation image conversion panel according to the present invention, a support having flexibility, a stimulable phosphor layer provided on the main surface of the support and made of a plurality of columnar crystals, A first protective film provided on the stimulable phosphor layer; and a second protective film provided on the first protective film, wherein the stimulable phosphor layer includes CsBr doped with Eu. Composed of a stimulable phosphor, the first protective film is provided so as to cover the upper surface and the side surface of the stimulable phosphor layer and fill the gaps between the plurality of columnar crystals in the stimulable phosphor layer, The pencil hardness of the second protective film is not more than the pencil hardness of the first protective film, and has a flexibility with a bending radius of up to 15 mm.

この放射線像変換パネルにおいては、可撓性を有する支持体と、支持体の主面上に設けられ、複数の柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層と、輝尽性蛍光体層の上面及び側面を覆うとともに複数の柱状結晶の間隙を埋めるように設けられた第１保護膜とを備えている。これにより、第１保護膜によって複数の柱状結晶間の隙間が埋められるので、放射線像変換パネルが湾曲された際に、破断の起点をなくすことができる。また、複数の柱状結晶が第１保護膜を介して一体化することにより、支持体の湾曲に対して輝尽性蛍光体層が追従できるようになる。   In this radiation image conversion panel, a flexible support, a photostimulable phosphor layer provided on the main surface of the support and made of a plurality of columnar crystals, an upper surface of the photostimulable phosphor layer, and And a first protective film provided to cover the side surfaces and fill the gaps between the plurality of columnar crystals. Thereby, since the gap between the plurality of columnar crystals is filled by the first protective film, the starting point of breakage can be eliminated when the radiation image conversion panel is curved. In addition, since the plurality of columnar crystals are integrated via the first protective film, the photostimulable phosphor layer can follow the curvature of the support.

さらに、放射線像変換パネルは、第１保護膜上に設けられた第２保護膜を備えている。これにより、使用による損傷を低減することができる。また、第２保護膜の鉛筆硬度は、第１保護膜の鉛筆硬度以下である。これにより、第２保護膜の可撓性（伸び率）は第１保護膜の可撓性（伸び率）以上となり、第２保護膜は、第１保護膜の湾曲に対して追従可能となる。このため、放射線像変換パネルを曲げ半径が１５ｍｍまで湾曲させて使用した場合に第２保護膜が破断することを抑制できる。このように、放射線像変換パネルは、使用による損傷を低減可能であるとともに、湾曲した状態での使用が可能となる。   The radiation image conversion panel further includes a second protective film provided on the first protective film. Thereby, the damage by use can be reduced. The pencil hardness of the second protective film is not more than the pencil hardness of the first protective film. Thereby, the flexibility (elongation rate) of the second protective film becomes equal to or greater than the flexibility (elongation rate) of the first protective film, and the second protective film can follow the curvature of the first protective film. . For this reason, it is possible to prevent the second protective film from being broken when the radiation image conversion panel is used with a bending radius of up to 15 mm. Thus, the radiation image conversion panel can reduce damage due to use and can be used in a curved state.

支持体は、樹脂フィルムから構成されてもよい。また、支持体は、ポリイミドから構成されてもよい。ポリイミドなどの樹脂フィルムから構成される支持体は、可撓性に優れるので、放射線像変換パネルの可撓性を向上できる。   The support may be composed of a resin film. Further, the support may be made of polyimide. Since the support body comprised from resin films, such as a polyimide, is excellent in flexibility, the flexibility of a radiation image conversion panel can be improved.

第１保護膜は、耐湿性の保護膜であってもよい。第１保護膜によって輝尽性蛍光体層の上面及び側面が覆われることにより、耐湿性を向上することができ、輝尽性蛍光体層が空気中の水蒸気を吸湿するのを抑制できる。その結果、輝尽性蛍光体層が潮解するのを防止できる。   The first protective film may be a moisture-resistant protective film. By covering the upper surface and the side surface of the photostimulable phosphor layer with the first protective film, moisture resistance can be improved, and the photostimulable phosphor layer can be prevented from absorbing moisture in the air. As a result, the stimulable phosphor layer can be prevented from deliquescent.

第１保護膜は、ポリパラキシリレンから構成されてもよい。ポリパラキシリレンは耐湿性に優れるので、ポリパラキシリレンから構成される第１保護膜によって輝尽性蛍光体層の上面及び側面が覆われることにより、耐湿性を向上することができ、輝尽性蛍光体層が空気中の水蒸気を吸湿するのを抑制できる。その結果、輝尽性蛍光体層が潮解するのを防止できる。   The first protective film may be made of polyparaxylylene. Since polyparaxylylene is excellent in moisture resistance, the upper surface and side surfaces of the photostimulable phosphor layer are covered with the first protective film made of polyparaxylylene, so that the moisture resistance can be improved. It is possible to suppress the exhaustive phosphor layer from absorbing moisture in the air. As a result, the stimulable phosphor layer can be prevented from deliquescent.

第２保護膜は、耐擦傷性の保護膜であってもよい。第２保護膜が設けられることにより、使用による損傷を低減できる。また、第２保護膜は、ウレタンアクリル系樹脂から構成されてもよい。ウレタンアクリル系樹脂は、耐擦傷性及び可撓性に優れ、鉛筆硬度が小さいので、ウレタンアクリル系樹脂から構成される第２保護膜は、使用による損傷をさらに低減でき、第１保護膜の湾曲に対する追従性をさらに向上できる。このため、放射線像変換パネルの使用による損傷をさらに低減可能とするとともに、湾曲した状態での使用による第２保護膜の破断を抑制できる。   The second protective film may be a scratch-resistant protective film. By providing the second protective film, damage due to use can be reduced. The second protective film may be made of a urethane acrylic resin. Urethane acrylic resin is excellent in scratch resistance and flexibility, and has low pencil hardness. Therefore, the second protective film made of urethane acrylic resin can further reduce damage due to use, and the first protective film can be curved. Can be further improved. For this reason, while being able to further reduce the damage by use of a radiation image conversion panel, the fracture | rupture of the 2nd protective film by use in the curved state can be suppressed.

支持体の主面と反対側の支持体の裏面に設けられた励起光吸収層をさらに備えてもよい。この構成によれば、輝尽性蛍光体層を透過した励起光を、励起光吸収層により吸収することができる。このため、輝尽性蛍光体層及び支持体を透過した励起光を吸収することができるので、励起光の散乱及び反射によってコントラストが低下するのを軽減できる。   You may further provide the excitation light absorption layer provided in the back surface of the support body on the opposite side to the main surface of a support body. According to this configuration, the excitation light transmitted through the stimulable phosphor layer can be absorbed by the excitation light absorption layer. For this reason, since the excitation light which permeate | transmitted the photostimulable fluorescent substance layer and a support body can be absorbed, it can reduce that a contrast falls by scattering and reflection of excitation light.

輝尽性蛍光体層は、柱状結晶が螺旋状に積層した螺旋構造を支持体側に有してもよい。この構成によれば、柱状結晶の螺旋構造により反射層が形成される。このため、輝尽性蛍光体層に励起光が照射されることにより輝尽性蛍光体層において放出された光のうち、支持体側に導光された光を螺旋構造によって反射できるので、反射層を設けることなく、輝尽性蛍光体層の上面から出射される光の光量を増加することが可能となる。また、複数の柱状結晶はそれぞれ、螺旋構造を有している。このため、柱状結晶において放出された光は、その柱状結晶が有する螺旋構造によって反射されるので、輝尽性蛍光体層と反射層との間において散乱することなく、輝尽性蛍光体層の上面から出射される光の光量を増加することができる。   The photostimulable phosphor layer may have a spiral structure in which columnar crystals are spirally stacked on the support side. According to this configuration, the reflective layer is formed by a spiral structure of columnar crystals. Therefore, among the light emitted from the stimulable phosphor layer by irradiating the stimulable phosphor layer with the excitation light, the light guided to the support side can be reflected by the spiral structure. It is possible to increase the amount of light emitted from the upper surface of the photostimulable phosphor layer without providing the light. Each of the plurality of columnar crystals has a spiral structure. For this reason, since the light emitted from the columnar crystal is reflected by the spiral structure of the columnar crystal, it is not scattered between the photostimulable phosphor layer and the reflective layer. The amount of light emitted from the upper surface can be increased.

支持体と輝尽性蛍光体層との間に設けられた輝尽発光反射層をさらに備えてもよい。この構成によれば、輝尽性蛍光体層に励起光が照射されることにより輝尽性蛍光体層において放出された光のうち、支持体側に導光された光を輝尽発光反射層によって反射し、輝尽性蛍光体層の上面側に出射される光の光量を増加することができる。   You may further provide the stimulable light emission reflective layer provided between the support body and the stimulable phosphor layer. According to this configuration, among the light emitted from the stimulable phosphor layer by irradiating the stimulable phosphor layer with the excitation light, the light guided to the support side is reflected by the stimulable light-emitting reflective layer. The amount of light reflected and emitted to the upper surface side of the photostimulable phosphor layer can be increased.

第１保護膜は、支持体の側面上まで延びていてもよい。また、第１保護膜は、支持体及び輝尽性蛍光体層の全体を覆うように設けられてもよい。この構成によれば、第１保護層によって支持体及び輝尽性蛍光体層の全体が覆われるので、耐湿性をさらに向上でき、輝尽性蛍光体層の潮解をさらに防止できる。   The first protective film may extend to the side surface of the support. The first protective film may be provided so as to cover the entire support and the photostimulable phosphor layer. According to this configuration, since the entire support and the photostimulable phosphor layer are covered with the first protective layer, the moisture resistance can be further improved, and the deliquescence of the photostimulable phosphor layer can be further prevented.

第２保護膜は、第１保護膜を覆うように設けられてもよい。この構成によれば、第１保護膜における損傷を低減することができる。   The second protective film may be provided so as to cover the first protective film. According to this configuration, damage in the first protective film can be reduced.

支持体の主面と反対側の支持体の裏面に設けられた第３保護膜をさらに備えてもよく、第３保護膜は耐擦傷性の保護膜であってもよい。この構成によれば、支持体の裏面における損傷を低減することができる。   A third protective film may be further provided on the back surface of the support opposite to the main surface of the support, and the third protective film may be a scratch-resistant protective film. According to this configuration, damage on the back surface of the support can be reduced.

本発明によれば、スキャナ装置での読み取り及びハンドリングなどの使用による損傷を低減可能であるとともに、湾曲した状態で使用できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to reduce the damage by use, such as reading with a scanner apparatus and handling, it can be used in the curved state.

第１実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 1st Embodiment. （ａ）は図１の放射線像変換パネルの曲げた状態の図、（ｂ）は比較例の放射線像変換パネルの曲げた状態の図である。(A) is the figure of the state which bent the radiation image conversion panel of FIG. 1, (b) is the figure of the state which bent the radiation image conversion panel of the comparative example. スキャナ通過試験及び曲げ試験の試験結果を示す図である。It is a figure which shows the test result of a scanner passage test and a bending test. 第２実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 2nd Embodiment. 第３実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 3rd Embodiment. 第４実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 4th Embodiment. 第５実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 5th Embodiment. 第６実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 6th Embodiment. 第７実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 7th Embodiment. 第８実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 8th Embodiment. 第９実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the structure of the radiation image conversion panel which concerns on 9th Embodiment. 図１１の輝尽性蛍光体層を構成する柱状結晶の支持体に直交する方向の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the direction orthogonal to the support body of the columnar crystal which comprises the photostimulable phosphor layer of FIG. 図１２の柱状結晶の螺旋構造部の支持体に直交する方向の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the direction orthogonal to the support body of the helical structure part of the columnar crystal of FIG.

以下、図面を参照して、本発明に係る放射線像変換パネルの実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明においては同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a radiation image conversion panel according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

［第１実施形態］
図１は、第１実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図１に示されるように、放射線像変換パネル１０は、入射したＸ線などの放射線Ｒを光に変換して検出するためのパネルであって、例えば矩形板形状を呈している。放射線像変換パネル１０の長さは１００ｍｍ程度、幅は１００ｍｍ程度、厚さは０．４ｍｍ程度である。放射線像変換パネル１０は、例えば歯科用のイメージングプレートとして用いられる。また、放射線像変換パネル１０は、不図示のＨｅＮｅレーザ及びＰＭＴ（Photomultiplier Tube；光電子増倍管）などと組み合わせることによって、放射線イメージセンサとして用いられる。この放射線像変換パネル１０は、支持体１と、輝尽性蛍光体層２と、第１保護膜３と、第２保護膜４と、を備えている。 [First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic side cross-sectional view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the radiation image conversion panel 10 is a panel for detecting radiation R such as incident X-rays by converting it into light, and has, for example, a rectangular plate shape. The length of the radiation image conversion panel 10 is about 100 mm, the width is about 100 mm, and the thickness is about 0.4 mm. The radiation image conversion panel 10 is used as, for example, a dental imaging plate. The radiation image conversion panel 10 is used as a radiation image sensor by being combined with a HeNe laser (not shown) and a PMT (Photomultiplier Tube). The radiation image conversion panel 10 includes a support 1, a stimulable phosphor layer 2, a first protective film 3, and a second protective film 4.

支持体１は、可撓性を有する基材であり、例えば矩形状を呈している。支持体１は、例えばポリイミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＬＣＰ（液晶ポリマー）、ＰＡ（ポリアミド）、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルファイド）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、厚さ２００μｍ以下の薄板ガラス、厚さ１００μｍ以下のＳＵＳ箔から構成されている。支持体１の厚さは例えば１０μｍ以上であり、例えば５００μｍ以下である。この支持体１は、一定の可撓性を有するものであればよく、樹脂フィルムが好ましい。   The support 1 is a flexible base material, and has a rectangular shape, for example. The support 1 is made of, for example, polyimide, PET (polyethylene terephthalate), PEEK (polyether ether ketone), PEN (polyethylene naphthalate), LCP (liquid crystal polymer), PA (polyamide), PES (polyether sulfone), PPS ( Polyphenylene sulfide), PBT (polybutylene terephthalate), thin glass having a thickness of 200 μm or less, and SUS foil having a thickness of 100 μm or less. The thickness of the support 1 is, for example, 10 μm or more, for example, 500 μm or less. The support 1 may have any flexibility, and a resin film is preferable.

輝尽性蛍光体層２は、入射した放射線Ｒを吸収して蓄積し、励起光が照射されることによって蓄積している放射線Ｒのエネルギーに応じた光Ｌを放出する層である。輝尽性蛍光体層２は、支持体１の表面１ａ（主面）上に設けられ、その厚さは例えば８０μｍ以上であり、例えば６００μｍ以下である。この輝尽性蛍光体層２は、例えばＥｕ（ユウロピウム）をドープしたＣｓＢｒ（臭化セシウム）（以下、「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」という。）から構成され、複数の柱状結晶２５（針状結晶ともいう。）が林立した構造を有する。なお、ＣｓＢｒ：Ｅｕは吸湿性が高く、露出した状態では空気中の水蒸気を吸湿して潮解してしまう。また、輝尽性蛍光体層２に照射される励起光の波長範囲は、５５０〜８００ｎｍ程度であり、輝尽性蛍光体層２によって放出される光Ｌの波長範囲は、３５０〜５００ｎｍ程度である。   The photostimulable phosphor layer 2 is a layer that absorbs and accumulates incident radiation R, and emits light L corresponding to the energy of the accumulated radiation R when irradiated with excitation light. The photostimulable phosphor layer 2 is provided on the surface 1a (main surface) of the support 1 and has a thickness of, for example, 80 μm or more, for example, 600 μm or less. The photostimulable phosphor layer 2 is made of, for example, CsBr (cesium bromide) doped with Eu (europium) (hereinafter referred to as “CsBr: Eu”), and includes a plurality of columnar crystals 25 (also referred to as needle crystals). .) Has a forested structure. CsBr: Eu has high hygroscopicity, and in the exposed state, it absorbs water vapor in the air and deliquesces. The wavelength range of the excitation light irradiated to the photostimulable phosphor layer 2 is about 550 to 800 nm, and the wavelength range of the light L emitted by the photostimulable phosphor layer 2 is about 350 to 500 nm. is there.

第１保護膜３は、耐湿性の保護膜であり、輝尽性蛍光体層２が空気中の水蒸気を吸湿するのを抑制するための防湿膜である。第１保護膜３は、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃを覆い、かつ、輝尽性蛍光体層２の複数の柱状結晶２５の間隙を埋めるように設けられている。第１実施形態では、第１保護膜３は、支持体１及び輝尽性蛍光体層２の全体を覆うように設けられている。換言すると、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ、裏面１ｂ及び側面１ｃ上、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃ上に設けられ、支持体１及び輝尽性蛍光体層２の全体を包み込んでいる。第１保護膜３の厚さは例えば２μｍ以上であり、例えば２０μｍ以下である。また、第１保護膜３の旧ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠した鉛筆硬度（以下、単に「鉛筆硬度」という。）は、２Ｈ程度である。この第１保護膜３は、例えばポリパラキシリレン及びポリ尿素などの有機膜、又は、上記有機膜上に窒化膜(例えばＳｉＮ、ＳｉＯＮ)及び炭化膜（例えばＳｉＣ）などを積層した有機膜と無機膜との混合膜から構成されている。有機膜上に無機膜を形成することで耐湿性をより向上させることができる。   The first protective film 3 is a moisture-resistant protective film and is a moisture-proof film for suppressing the photostimulable phosphor layer 2 from absorbing moisture in the air. The first protective film 3 is provided so as to cover the upper surface 2 a and the side surface 2 c of the photostimulable phosphor layer 2 and to fill the gaps between the plurality of columnar crystals 25 of the photostimulable phosphor layer 2. In the first embodiment, the first protective film 3 is provided so as to cover the entire support 1 and the photostimulable phosphor layer 2. In other words, the first protective film 3 is provided on the front surface 1a, the back surface 1b, and the side surface 1c of the support 1, and on the top surface 2a and the side surface 2c of the stimulable phosphor layer 2, and The entire phosphor layer 2 is encased. The thickness of the first protective film 3 is, for example, 2 μm or more, for example, 20 μm or less. Moreover, the pencil hardness (hereinafter simply referred to as “pencil hardness”) of the first protective film 3 in accordance with the old JIS K5400 is about 2H. The first protective film 3 includes, for example, an organic film such as polyparaxylylene and polyurea, or an organic film in which a nitride film (for example, SiN, SiON) and a carbonized film (for example, SiC) are stacked on the organic film. It is composed of a mixed film with an inorganic film. The moisture resistance can be further improved by forming an inorganic film on the organic film.

第２保護膜４は、耐擦傷性の保護膜であり、ハンドリング及びスキャナ装置による読み取り時に受ける損傷を防止するための保護膜である。第２保護膜４は、第１保護膜３上に設けられている。第１実施形態では、第２保護膜４は、第１保護膜３の全体を覆うように設けられている。換言すると、第２保護膜４は、支持体１の表面１ａ、裏面１ｂ及び側面１ｃ上に設けられ、支持体１、輝尽性蛍光体層２及び第１保護膜３の全体を包み込んでいる。第２保護膜４の厚さは例えば２μｍ以上であり、例えば２０μｍ以下である。また、第２保護膜４の鉛筆硬度は、第１保護膜３の鉛筆硬度以下であり、例えば２Ｈ以下である。この第２保護膜４は、例えばウレタンアクリル系樹脂から構成されており、耐擦傷性及び可撓性に優れている。第２保護膜４として、例えばイサム塗料株式会社のアクセルスピカクリヤーＴ及び関西ペイント株式会社のスーパーダイヤモンドクリヤーＱなどが用いられる。   The second protective film 4 is a scratch-resistant protective film, and is a protective film for preventing damage caused during handling and reading by the scanner device. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3. In the first embodiment, the second protective film 4 is provided so as to cover the entire first protective film 3. In other words, the second protective film 4 is provided on the front surface 1a, the back surface 1b, and the side surface 1c of the support 1, and envelops the entire support 1, the photostimulable phosphor layer 2, and the first protective film 3. . The thickness of the second protective film 4 is, for example, 2 μm or more, for example, 20 μm or less. Further, the pencil hardness of the second protective film 4 is not more than the pencil hardness of the first protective film 3, for example, not more than 2H. The second protective film 4 is made of, for example, urethane acrylic resin, and is excellent in scratch resistance and flexibility. As the second protective film 4, for example, Accel Spica Clear T of Isamu Paint Co., Ltd., Super Diamond Clear Q of Kansai Paint Co., Ltd., or the like is used.

以上のように構成された放射線像変換パネル１０では、第２保護膜４及び第１保護膜３を介して放射線Ｒ（放射線像）が入射すると、入射した放射線Ｒが輝尽性蛍光体層２によって吸収され蓄積される。その後、励起光として赤色レーザ光などが輝尽性蛍光体層２に照射されると、輝尽性蛍光体層２によって蓄積されている放射線Ｒのエネルギーに応じた光Ｌが柱状結晶２５に導光されて、先端から放出される。そして、輝尽性蛍光体層２から放出された光Ｌは、第１保護膜３及び第２保護膜４を順に透過して出射する。   In the radiation image conversion panel 10 configured as described above, when the radiation R (radiation image) is incident through the second protective film 4 and the first protective film 3, the incident radiation R is converted to the stimulable phosphor layer 2. Absorbed and accumulated by Thereafter, when the stimulable phosphor layer 2 is irradiated with red laser light or the like as excitation light, the light L corresponding to the energy of the radiation R accumulated by the stimulable phosphor layer 2 is guided to the columnar crystal 25. It is emitted and emitted from the tip. Then, the light L emitted from the photostimulable phosphor layer 2 sequentially passes through the first protective film 3 and the second protective film 4 and is emitted.

ここで、放射線像変換パネル１０の製造方法の一例を説明する。まず、支持体１の表面１ａに、ＣｓＢｒ：Ｅｕの柱状結晶２５を真空蒸着法などの気相堆積法によって成長させ、輝尽性蛍光体層２を形成する。輝尽性蛍光体層２は、塗布でなく気相堆積法によって形成されることにより、複数の柱状結晶２５を有する構造となる。次に、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法などの気相堆積法によって、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃを覆うように第１保護膜３を形成する。すなわち、輝尽性蛍光体層２が形成された支持体１をＣＶＤ装置に格納し、第１保護膜３を１０μｍ程度の厚さで成膜する。このとき、第１保護膜３は、塗布でなく気相堆積法によって形成されるので、輝尽性蛍光体層２の複数の柱状結晶２５の間隙にも形成される。その後、塗装機を用いて第１保護膜３上に例えばアクリルウレタン系の樹脂を塗布し、塗布した樹脂を硬化させることにより第２保護膜４を形成する。以上のようにして、放射線像変換パネル１０が作製される。   Here, an example of a manufacturing method of the radiation image conversion panel 10 will be described. First, a columnar crystal 25 of CsBr: Eu is grown on the surface 1a of the support 1 by a vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method to form the photostimulable phosphor layer 2. The photostimulable phosphor layer 2 has a structure having a plurality of columnar crystals 25 by being formed not by coating but by vapor deposition. Next, the first protective film 3 is formed so as to cover the upper surface 2a and the side surface 2c of the photostimulable phosphor layer 2 by a vapor deposition method such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. That is, the support 1 on which the photostimulable phosphor layer 2 is formed is stored in a CVD apparatus, and the first protective film 3 is formed with a thickness of about 10 μm. At this time, since the first protective film 3 is formed not by coating but by vapor deposition, it is also formed in the gaps between the plurality of columnar crystals 25 of the photostimulable phosphor layer 2. Thereafter, for example, an acrylic urethane resin is applied onto the first protective film 3 using a coating machine, and the applied resin is cured to form the second protective film 4. The radiation image conversion panel 10 is produced as described above.

図２の（ａ）は放射線像変換パネル１０の曲げた状態を示す図、（ｂ）は比較例の放射線像変換パネル１００の曲げた状態を示す図である。放射線像変換パネル１００は、支持体１０１と、複数の柱状結晶を有する輝尽性蛍光体層１０２とを備える放射線像変換パネルであって、第１保護層及び第２保護層を有しない点で放射線像変換パネル１０と相違する。輝尽性蛍光体層２及び輝尽性蛍光体層１０２は、いずれも複数の柱状結晶からなり、その複数の柱状結晶の間には間隙を有する。   2A is a diagram showing a bent state of the radiation image conversion panel 10, and FIG. 2B is a diagram showing a bent state of the radiation image conversion panel 100 of the comparative example. The radiation image conversion panel 100 is a radiation image conversion panel including a support 101 and a photostimulable phosphor layer 102 having a plurality of columnar crystals, and does not have a first protective layer and a second protective layer. Different from the radiation image conversion panel 10. Each of the photostimulable phosphor layer 2 and the photostimulable phosphor layer 102 is composed of a plurality of columnar crystals, and there are gaps between the plurality of columnar crystals.

放射線像変換パネル１００は、保護層を有しないので、支持体１０１の裏面側に曲げられた際に輝尽性蛍光体層１０２の柱状結晶が開いて、柱状結晶間の間隙を起点として、輝尽性蛍光体層１０２にクラックが生じてしまう。一方、放射線像変換パネル１０では、輝尽性蛍光体層２の柱状結晶２５の間隙に第１保護膜３が設けられているので、支持体１の裏面１ｂ側に曲げられた場合でも柱状結晶２５の開きが抑えられ、輝尽性蛍光体層２にクラックが生じることを抑制できる。   Since the radiation image conversion panel 100 does not have a protective layer, the columnar crystals of the photostimulable phosphor layer 102 are opened when bent to the back side of the support 101, and the luminescence starts from the gap between the columnar crystals. A crack occurs in the stimulable phosphor layer 102. On the other hand, in the radiation image conversion panel 10, since the first protective film 3 is provided in the gap between the columnar crystals 25 of the photostimulable phosphor layer 2, the columnar crystals even when bent to the back surface 1b side of the support 1. The opening of 25 can be suppressed, and the occurrence of cracks in the photostimulable phosphor layer 2 can be suppressed.

図３は、スキャナ通過試験及び曲げ試験の試験結果を示す図である。スキャナ通過試験は、スキャナ装置を用いて各試料を１００回通過させることにより、第２保護膜４の割れが生じたか否かを確認する試験である。曲げ試験は、各試料を曲げ半径１５ｍｍで曲げ伸ばしすることにより、第２保護膜４の割れが生じたか否かを確認する試験である。図中の「○」は第２保護膜４の割れが発生しなかったことを意味し、「×」は第２保護膜４の割れが発生したことを意味する。   FIG. 3 is a diagram showing test results of a scanner passage test and a bending test. The scanner passage test is a test for confirming whether or not the second protective film 4 is cracked by passing each sample 100 times using the scanner device. The bending test is a test for confirming whether or not the second protective film 4 is cracked by bending and stretching each sample with a bending radius of 15 mm. “◯” in the figure means that the second protective film 4 did not crack, and “X” means that the second protective film 4 did not crack.

試料Ａ〜試料Ｄはいずれも放射線像変換パネルであって、第２保護膜４のみが異なる。試料Ａは、熱硬化により形成され、鉛筆硬度がＨＢの第２保護膜４（関西ペイント株式会社 スーパーダイヤモンドクリヤーＱ）を用いた放射線像変換パネルである。試料Ｂは、熱硬化により形成され、鉛筆硬度が２Ｈの第２保護膜４（ＪＵＪＯ ＡＰインキ）を用いた放射線像変換パネルである。試料Ｃは、ＵＶ硬化により形成され、鉛筆硬度が３Ｈの第２保護膜４（出光興産株式会社 Ｘ−ＡＨＣ−０１０ ＵＶ硬化品）を用いた放射線像変換パネルである。試料Ｄは、湿気硬化により形成され、鉛筆硬度が７Ｈの第２保護膜４（Ｎｉｔｔｏｂｏ ＳＳＧコート）を用いた放射線像変換パネルである。なお、試料Ａ〜試料Ｄの支持体１は、ポリイミドからなり、その厚さは１２５μｍである。試料Ａ〜試料Ｄの輝尽性蛍光体層２は、ＣｓＢｒ：Ｅｕから構成され、その厚さは１８０μｍである。試料Ａ〜試料Ｄの第１保護膜３は、ポリパラキシリレンから構成され、鉛筆硬度は２Ｈで、厚さは１５μｍである。   Samples A to D are all radiation image conversion panels, and only the second protective film 4 is different. Sample A is a radiation image conversion panel formed by heat curing and using a second protective film 4 (Kansai Paint Co., Ltd. Super Diamond Clear Q) having a pencil hardness of HB. Sample B is a radiation image conversion panel formed by heat curing and using a second protective film 4 (JUJO AP ink) having a pencil hardness of 2H. Sample C is a radiation image conversion panel formed by UV curing and using a second protective film 4 (Idemitsu Kosan Co., Ltd. X-AHC-010 UV cured product) having a pencil hardness of 3H. Sample D is a radiation image conversion panel formed by moisture curing and using a second protective film 4 (Nittobo SSG coat) having a pencil hardness of 7H. In addition, the support body 1 of the samples A to D is made of polyimide and has a thickness of 125 μm. The photostimulable phosphor layers 2 of Sample A to Sample D are made of CsBr: Eu and have a thickness of 180 μm. The first protective film 3 of Samples A to D is made of polyparaxylylene, has a pencil hardness of 2H, and a thickness of 15 μm.

図３に示されるように、試料Ｃ及び試料Ｄでは、スキャナ通過試験及び曲げ試験の結果、第２保護膜４に割れが生じた。このように、鉛筆硬度が高い膜を第２保護膜４として用いた場合、可撓性が損なわれるので第２保護膜４が破断する可能性が高くなる。   As shown in FIG. 3, in the sample C and the sample D, the second protective film 4 was cracked as a result of the scanner passing test and the bending test. As described above, when a film having a high pencil hardness is used as the second protective film 4, flexibility is impaired, so that the possibility that the second protective film 4 is broken increases.

一方、試料Ａ及び試料Ｂでは、スキャナ通過試験及び曲げ試験の結果、第２保護膜４に割れが生じなかった。試料Ａ及び試料Ｂの第２保護膜４の鉛筆硬度は、第１保護膜３の鉛筆硬度以下であるので、第２保護膜４の可撓性（伸び率）は第１保護膜３の可撓性（伸び率）以上となり、第２保護膜４は第１保護膜３の湾曲に対して追従可能である。このため、試料Ａ及び試料Ｂをスキャナ装置に複数回通過させ、試料Ａ及び試料Ｂを曲げ半径が１５ｍｍで曲げ伸ばした場合でも、第２保護膜４の破断が抑制された。   On the other hand, in Sample A and Sample B, the second protective film 4 did not crack as a result of the scanner passage test and the bending test. Since the pencil hardness of the second protective film 4 of the sample A and the sample B is equal to or lower than the pencil hardness of the first protective film 3, the flexibility (elongation rate) of the second protective film 4 is the possibility of the first protective film 3. It becomes more than flexibility (elongation rate), and the 2nd protective film 4 can follow the curve of the 1st protective film 3. For this reason, even when the sample A and the sample B are passed through the scanner device a plurality of times and the sample A and the sample B are bent and stretched with a bending radius of 15 mm, the breakage of the second protective film 4 is suppressed.

以上説明したように、放射線像変換パネル１０は、可撓性を有する支持体１と、支持体１の表面１ａ上に設けられ、複数の柱状結晶２５からなる輝尽性蛍光体層２と、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃを覆うとともに柱状結晶２５の間隙を埋めるように設けられた第１保護膜３とを備えている。これにより、第１保護膜３によって複数の柱状結晶２５間の隙間が埋められるので、放射線像変換パネル１０が湾曲された際に、破断の起点をなくすことができる。また、複数の柱状結晶２５が第１保護膜３を介して一体化することにより、支持体１の湾曲に対して輝尽性蛍光体層２が追従できるようになる。また、第１保護膜３によって輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃが覆われることにより、耐湿性を向上することができ、輝尽性蛍光体層２が潮解するのを防止できる。   As described above, the radiation image conversion panel 10 includes the flexible support 1, the stimulable phosphor layer 2 provided on the surface 1 a of the support 1, and composed of a plurality of columnar crystals 25, The first protective film 3 is provided so as to cover the upper surface 2 a and the side surface 2 c of the photostimulable phosphor layer 2 and to fill the gaps between the columnar crystals 25. Thereby, since the gap between the plurality of columnar crystals 25 is filled by the first protective film 3, when the radiation image conversion panel 10 is curved, the starting point of breakage can be eliminated. In addition, by integrating the plurality of columnar crystals 25 via the first protective film 3, the photostimulable phosphor layer 2 can follow the curvature of the support 1. In addition, by covering the upper surface 2a and the side surface 2c of the photostimulable phosphor layer 2 with the first protective film 3, it is possible to improve moisture resistance and prevent the photostimulable phosphor layer 2 from deliquescent. .

さらに、放射線像変換パネル１０は、第１保護膜３上に設けられた第２保護膜４を備えている。これにより、使用による損傷を低減することができる。また、第２保護膜４の鉛筆硬度は、第１保護膜３の鉛筆硬度以下である。この場合、第２保護膜４の可撓性（伸び率）は第１保護膜３の可撓性（伸び率）以上となり、第２保護膜４は、第１保護膜３の湾曲に対して追従可能となる。このため、放射線像変換パネル１０を曲げ半径が１５ｍｍまで湾曲させて使用した場合に第２保護膜４が破断することを抑制できる。放射線像変換パネル１０が例えば歯科用イメージングプレートとして用いられる場合、放射線像変換パネル１０は口腔内の形状に追従することが可能となり、撮影時のセッティングを容易化できる。その結果、口腔内の詳細な画像を取得することが可能となる。   Further, the radiation image conversion panel 10 includes a second protective film 4 provided on the first protective film 3. Thereby, the damage by use can be reduced. The pencil hardness of the second protective film 4 is not more than the pencil hardness of the first protective film 3. In this case, the flexibility (elongation rate) of the second protective film 4 is equal to or greater than the flexibility (elongation rate) of the first protective film 3, and the second protective film 4 is against the curvature of the first protective film 3. It becomes possible to follow. For this reason, when the radiation image conversion panel 10 is used while being bent to a bending radius of 15 mm, the second protective film 4 can be prevented from breaking. When the radiation image conversion panel 10 is used as, for example, a dental imaging plate, the radiation image conversion panel 10 can follow the shape in the oral cavity, and the setting at the time of imaging can be facilitated. As a result, a detailed image in the oral cavity can be acquired.

また、放射線像変換パネル１０の厚さは、既存のＧＯＳ：ＴｂやＣｓＩ：Ｔｌなどの瞬時発光性蛍光体とＣＣＤ（Charge Coupled Device）又はＦＰＤ（Flat Panel Detector）とを組み合わせて形成されている放射線検出器と比べて薄いので、放射線像変換パネル１０を口腔内に入れて湾曲させて撮影対象部位に接触させる際における患者の負担の軽減が可能である。   The thickness of the radiation image conversion panel 10 is formed by combining an existing instantaneous phosphor such as GOS: Tb or CsI: Tl and a CCD (Charge Coupled Device) or FPD (Flat Panel Detector). Since it is thinner than the radiation detector, it is possible to reduce the burden on the patient when the radiation image conversion panel 10 is placed in the oral cavity and bent and brought into contact with the region to be imaged.

［第２実施形態］
図４は、第２実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図４に示されるように、第２実施形態の放射線像変換パネル１０は、第２保護膜４が覆う領域において、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。 [Second Embodiment]
FIG. 4 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the second embodiment. As shown in FIG. 4, the radiation image conversion panel 10 of the second embodiment is different from the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above in the region covered by the second protective film 4.

第２実施形態の放射線像変換パネル１０では、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ、裏面１ｂ及び側面１ｃ上、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃ上に設けられ、支持体１及び輝尽性蛍光体層２の全体を包み込んでいる。第２保護膜４は、支持体１の表面１ａ及び側面１ｃを覆うように第１保護膜３上に設けられ、支持体１の裏面１ｂの上には設けられない。換言すれば、第２保護膜４は、支持体１の裏面１ｂ上に開口４ｄを有している。   In the radiation image conversion panel 10 of the second embodiment, the first protective film 3 is on the front surface 1a, the back surface 1b, and the side surface 1c of the support 1, and on the top surface 2a and the side surface 2c of the photostimulable phosphor layer 2. It is provided and encloses the entire support 1 and the photostimulable phosphor layer 2. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3 so as to cover the surface 1 a and the side surface 1 c of the support 1, and is not provided on the back surface 1 b of the support 1. In other words, the second protective film 4 has an opening 4 d on the back surface 1 b of the support 1.

以上の第２実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。   Also by the radiation image conversion panel 10 of the second embodiment described above, the same effects as the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above are exhibited.

［第３実施形態］
図５は、第３実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図５に示されるように、第３実施形態の放射線像変換パネル１０は、第１保護膜３が覆う領域において、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。 [Third Embodiment]
FIG. 5 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the third embodiment. As shown in FIG. 5, the radiation image conversion panel 10 of the third embodiment is different from the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above in the region covered by the first protective film 3.

第３実施形態の放射線像変換パネル１０では、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ及び側面１ｃ、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃを覆うように輝尽性蛍光体層２上に設けられ、支持体１の裏面１ｂの上には設けられない。換言すれば、第１保護膜３は、支持体１の裏面１ｂ上に開口３ｄを有している。また、第２保護膜４は、支持体１の表面１ａ、裏面１ｂ及び側面１ｃを覆うように第１保護膜３上に設けられ、支持体１、輝尽性蛍光体層２及び第１保護膜３の全体を包み込んでいる。また、第２保護膜４は、開口３ｄを介して支持体１の裏面１ｂに接触を成している。   In the radiation image conversion panel 10 of the third embodiment, the first protective film 3 is stimulated so as to cover the surface 1 a and the side surface 1 c of the support 1 and the upper surface 2 a and the side surface 2 c of the stimulable phosphor layer 2. Provided on the phosphor layer 2 and not on the back surface 1 b of the support 1. In other words, the first protective film 3 has an opening 3 d on the back surface 1 b of the support 1. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3 so as to cover the front surface 1a, the back surface 1b, and the side surface 1c of the support 1, and the support 1, the photostimulable phosphor layer 2, and the first protection. The entire membrane 3 is wrapped. The second protective film 4 is in contact with the back surface 1b of the support 1 through the opening 3d.

以上の第３実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。   Also by the radiation image conversion panel 10 of the above third embodiment, the same effects as the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above are exhibited.

［第４実施形態］
図６は、第４実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図６に示されるように、第４実施形態の放射線像変換パネル１０は、第１保護膜３及び第２保護膜４が覆う領域において、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。 [Fourth Embodiment]
FIG. 6 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the fourth embodiment. As shown in FIG. 6, the radiation image conversion panel 10 of the fourth embodiment is different from the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above in the area covered by the first protective film 3 and the second protective film 4. doing.

第４実施形態の放射線像変換パネル１０では、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ及び側面１ｃ、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃを覆うように輝尽性蛍光体層２上に設けられ、支持体１の裏面１ｂの上には設けられない。第２保護膜４は、支持体１の表面１ａ及び側面１ｃを覆うように第１保護膜３上に設けられ、支持体１の裏面１ｂの上には設けられない。換言すれば、第１保護膜３は、支持体１の裏面１ｂ上に開口３ｄを有し、第２保護膜４は、支持体１の裏面１ｂ上に開口４ｄを有している。このため、支持体１の裏面１ｂは、保護膜で覆われておらず、露出している。   In the radiation image conversion panel 10 of the fourth embodiment, the first protective film 3 is stimulated so as to cover the surface 1a and the side surface 1c of the support 1, and the upper surface 2a and the side surface 2c of the stimulable phosphor layer 2. Provided on the phosphor layer 2 and not on the back surface 1 b of the support 1. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3 so as to cover the surface 1 a and the side surface 1 c of the support 1, and is not provided on the back surface 1 b of the support 1. In other words, the first protective film 3 has an opening 3 d on the back surface 1 b of the support 1, and the second protective film 4 has an opening 4 d on the back surface 1 b of the support 1. For this reason, the back surface 1b of the support body 1 is not covered with the protective film but exposed.

以上の第４実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。   The radiation image conversion panel 10 according to the fourth embodiment described above also provides the same effects as those of the radiation image conversion panel 10 according to the first embodiment described above.

［第５実施形態］
図７は、第５実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図７に示されるように、第５実施形態の放射線像変換パネル１０は、第２保護膜４が覆う領域及び第３保護膜６を備える点において、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。 [Fifth Embodiment]
FIG. 7 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the fifth embodiment. As shown in FIG. 7, the radiation image conversion panel 10 of the fifth embodiment includes the region covered by the second protective film 4 and the third protective film 6, and thus the radiation image conversion panel of the first embodiment described above. 10 and different.

第５実施形態の放射線像変換パネル１０では、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ、裏面１ｂ及び側面１ｃ上、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃ上に設けられ、支持体１及び輝尽性蛍光体層２の全体を包み込んでいる。第２保護膜４は、支持体１の表面１ａを覆うように第１保護膜３上に設けられ、支持体１の裏面１ｂ及び側面１ｃの上には設けられない。また、第３保護膜６は、支持体１の裏面１ｂを覆うように第１保護膜３上に設けられている。第３保護膜６は、第２保護膜４と同様に、耐擦傷性の保護膜であり、放射線Ｒの照射後の読み取り過程における表面保護のための保護膜である。第３保護膜６の厚さは例えば２μｍ以上であり、例えば２０μｍ以下である。また、第３保護膜６の鉛筆硬度は、第２保護膜４の鉛筆硬度と同等であって、第１保護膜３の鉛筆硬度以下である。第３保護膜６は、第２保護膜４と同じ材料で構成されてもよい。   In the radiation image conversion panel 10 of the fifth embodiment, the first protective film 3 is formed on the front surface 1a, the back surface 1b, and the side surface 1c of the support 1, and on the top surface 2a and the side surface 2c of the photostimulable phosphor layer 2. It is provided and encloses the entire support 1 and the photostimulable phosphor layer 2. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3 so as to cover the surface 1 a of the support 1, and is not provided on the back surface 1 b and the side surface 1 c of the support 1. The third protective film 6 is provided on the first protective film 3 so as to cover the back surface 1 b of the support 1. Similar to the second protective film 4, the third protective film 6 is a scratch-resistant protective film, and is a protective film for protecting the surface in the reading process after irradiation with the radiation R. The thickness of the third protective film 6 is, for example, 2 μm or more, for example, 20 μm or less. Further, the pencil hardness of the third protective film 6 is equivalent to the pencil hardness of the second protective film 4 and is equal to or lower than the pencil hardness of the first protective film 3. The third protective film 6 may be made of the same material as the second protective film 4.

以上の第５実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。   The radiation image conversion panel 10 according to the fifth embodiment described above also provides the same effects as those of the radiation image conversion panel 10 according to the first embodiment described above.

［第６実施形態］
図８は、第６実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図８に示されるように、第６実施形態の放射線像変換パネル１０は、第１保護膜３が覆う領域において、上述した第５実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。 [Sixth Embodiment]
FIG. 8 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the sixth embodiment. As shown in FIG. 8, the radiation image conversion panel 10 of the sixth embodiment is different from the radiation image conversion panel 10 of the fifth embodiment described above in the region covered by the first protective film 3.

第６実施形態の放射線像変換パネル１０では、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ上、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃ上に設けられ、支持体１の裏面１ｂ及び側面１ｃの上には設けられない。第２保護膜４は、支持体１の表面１ａを覆うように第１保護膜３上に設けられ、支持体１の裏面１ｂ及び側面１ｃの上には設けられない。また、第３保護膜６は、支持体１の裏面１ｂを覆うように裏面１ｂ上に設けられている。このため、支持体１の側面１ｃは、保護膜で覆われておらず、露出している。   In the radiation image conversion panel 10 of the sixth embodiment, the first protective film 3 is provided on the surface 1 a of the support 1 and on the upper surface 2 a and the side surface 2 c of the photostimulable phosphor layer 2. It is not provided on the back surface 1b and the side surface 1c. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3 so as to cover the surface 1 a of the support 1, and is not provided on the back surface 1 b and the side surface 1 c of the support 1. The third protective film 6 is provided on the back surface 1 b so as to cover the back surface 1 b of the support 1. For this reason, the side surface 1c of the support body 1 is not covered with the protective film but exposed.

以上の第６実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。   The radiation image conversion panel 10 according to the sixth embodiment described above also provides the same effects as those of the radiation image conversion panel 10 according to the first embodiment described above.

［第７実施形態］
図９は、第７実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図９に示されるように、第７実施形態の放射線像変換パネル１０は、第２保護膜４が覆う領域において、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。 [Seventh Embodiment]
FIG. 9 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the seventh embodiment. As shown in FIG. 9, the radiation image conversion panel 10 of the seventh embodiment is different from the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above in the region covered by the second protective film 4.

第７実施形態の放射線像変換パネル１０では、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ、裏面１ｂ及び側面１ｃ上、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃ上に設けられ、支持体１及び輝尽性蛍光体層２の全体を包み込んでいる。第２保護膜４は、支持体１の表面１ａを覆うように第１保護膜３上に設けられ、支持体１の裏面１ｂ及び側面１ｃの上には設けられない。   In the radiation image conversion panel 10 of the seventh embodiment, the first protective film 3 is on the front surface 1a, the back surface 1b, and the side surface 1c of the support 1, and on the top surface 2a and the side surface 2c of the photostimulable phosphor layer 2. It is provided and encloses the entire support 1 and the photostimulable phosphor layer 2. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3 so as to cover the surface 1 a of the support 1, and is not provided on the back surface 1 b and the side surface 1 c of the support 1.

以上の第７実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。   The radiation image conversion panel 10 of the seventh embodiment described above also provides the same effects as the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above.

［第８実施形態］
図１０は、第８実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図１０に示されるように、第８実施形態の放射線像変換パネル１０は、第１保護膜３が覆う領域において、上述した第５実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。 [Eighth Embodiment]
FIG. 10 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the eighth embodiment. As shown in FIG. 10, the radiation image conversion panel 10 of the eighth embodiment is different from the radiation image conversion panel 10 of the fifth embodiment described above in the region covered by the first protective film 3.

第８実施形態の放射線像変換パネル１０では、第１保護膜３は、支持体１の表面１ａ及び側面１ｃ、並びに、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ及び側面２ｃを覆うように輝尽性蛍光体層２上に設けられ、支持体１の裏面１ｂの上には設けられない。第２保護膜４は、支持体１の表面１ａを覆うように第１保護膜３上に設けられ、支持体１の裏面１ｂ及び側面１ｃの上には設けられない。また、第３保護膜６は、支持体１の裏面１ｂを覆うように裏面１ｂ上に設けられている。換言すれば、第１保護膜３は、支持体１の裏面１ｂ上に開口３ｄを有し、第３保護膜６は、開口３ｄを介して支持体１の裏面１ｂに接触を成している。   In the radiation image conversion panel 10 of the eighth embodiment, the first protective film 3 is stimulated so as to cover the surface 1a and the side surface 1c of the support 1, and the upper surface 2a and the side surface 2c of the stimulable phosphor layer 2. Provided on the phosphor layer 2 and not on the back surface 1 b of the support 1. The second protective film 4 is provided on the first protective film 3 so as to cover the surface 1 a of the support 1, and is not provided on the back surface 1 b and the side surface 1 c of the support 1. The third protective film 6 is provided on the back surface 1 b so as to cover the back surface 1 b of the support 1. In other words, the first protective film 3 has an opening 3d on the back surface 1b of the support 1, and the third protective film 6 is in contact with the back surface 1b of the support 1 through the opening 3d. .

以上の第８実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。   The radiation image conversion panel 10 according to the eighth embodiment described above provides the same effects as those of the radiation image conversion panel 10 according to the first embodiment described above.

［第９実施形態］
図１１は、第９実施形態に係る放射線像変換パネルの構成を示す概略側断面図である。図１１に示されるように、第９実施形態の放射線像変換パネル１０は、輝尽性蛍光体層２の構成において、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と相違している。すなわち、第９実施形態の放射線像変換パネル１０では、輝尽性蛍光体層２は、複数の柱状結晶２５が林立した構造を有し、この複数の柱状結晶２５によって構成された反射層２１及び柱状層２２を有している。輝尽性蛍光体層２の厚さは、例えば５０μｍ〜１０００μｍ程度で、反射層２１はそのうちの約１％〜１０％程度を占める厚さで、約５μｍ〜約５０μｍ程度の厚さを有している。 [Ninth Embodiment]
FIG. 11 is a schematic sectional side view showing the configuration of the radiation image conversion panel according to the ninth embodiment. As shown in FIG. 11, the radiation image conversion panel 10 of the ninth embodiment is different from the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment described above in the configuration of the photostimulable phosphor layer 2. That is, in the radiation image conversion panel 10 of the ninth embodiment, the photostimulable phosphor layer 2 has a structure in which a plurality of columnar crystals 25 are forested, and the reflective layer 21 configured by the plurality of columnar crystals 25 and It has a columnar layer 22. The stimulable phosphor layer 2 has a thickness of, for example, about 50 μm to 1000 μm, and the reflective layer 21 occupies about 1% to 10% of the thickness, and has a thickness of about 5 μm to about 50 μm. ing.

柱状結晶２５は輝尽性蛍光体（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）の結晶を成長させて得たもので、支持体１側の根元部分が螺旋構造部２３となり、螺旋構造部２３よりも上側（上面２ａ側）の部分が柱状部２４となっている。各柱状結晶２５において、螺旋構造部２３と柱状部２４とは、輝尽性蛍光体の結晶が連続して積層することにより一体的に形成されている。なお、柱状結晶２５は、螺旋構造部２３の外径よりも柱状部２４の外径が小さく、先端側（支持体１と反対側）に行くほど太くなるテーパー状に形成されている。そして、最先端部は尖頭状になっているので、尖頭部分を除いた柱状部２４がテーパー状に形成される。   The columnar crystal 25 is obtained by growing a crystal of a photostimulable phosphor (CsBr: Eu). The base portion on the support 1 side becomes the spiral structure portion 23, and is above the spiral structure portion 23 (on the upper surface 2 a side). ) Is a columnar portion 24. In each columnar crystal 25, the spiral structure portion 23 and the columnar portion 24 are integrally formed by successively laminating crystals of a stimulable phosphor. The columnar crystal 25 is formed in a tapered shape in which the outer diameter of the columnar portion 24 is smaller than the outer diameter of the spiral structure portion 23 and becomes thicker toward the tip side (the side opposite to the support 1). And since the most advanced part has a pointed shape, the columnar part 24 excluding the pointed part is formed in a tapered shape.

螺旋構造部２３は、輝尽性蛍光体の結晶が支持体１の表面１ａから螺旋状に積層されて構成されたもので、中心軸Ｘの回り１周分の部分（螺旋ループ）が表面１ａと直交する方向にほぼ規則的に形成された螺旋構造を有している。図１２では、２３ａ，２３ｂで示された範囲が１つ１つの螺旋ループを構成している。表面１ａと直交する方向の螺旋ループの寸法（以下「螺旋ピッチ」ともいう）は、約０．５μｍ〜約１５μｍ程度であり、ほぼ同様の螺旋ループが複数（例えば５個〜約１５個程度）積み重なって螺旋構造部２３を構成している。   The spiral structure portion 23 is formed by laminating crystals of a stimulable phosphor in a spiral form from the surface 1a of the support 1, and a portion (spiral loop) around the central axis X is a surface 1a. And a spiral structure formed almost regularly in a direction orthogonal to the direction. In FIG. 12, the ranges indicated by 23a and 23b constitute one helical loop. The dimension of the spiral loop in the direction orthogonal to the surface 1a (hereinafter also referred to as “spiral pitch”) is about 0.5 μm to about 15 μm, and there are a plurality of substantially similar spiral loops (for example, about 5 to about 15). The spiral structure portion 23 is formed by stacking.

また、螺旋構造部２３は、図１２に示されたような支持体１の表面１ａに直交する方向（法線軸方向）の断面において、輝尽性蛍光体の結晶が中心軸Ｘを挟んで左右に繰り返しほぼ規則的に屈曲し、複数のＶ字状部分２３ａ，２３ｂがつながって得られる屈曲構造を有している。各Ｖ字状部分２３ａ，２３ｂは、図１２において右側に最も突出する部分が折返部２３ｃとなり、それぞれのつながる部分が接続部２３ｄとなっている。   Further, in the cross section in the direction (normal axis direction) perpendicular to the surface 1a of the support 1 as shown in FIG. Are bent almost regularly and have a bent structure obtained by connecting a plurality of V-shaped portions 23a, 23b. In each V-shaped portion 23a, 23b, the portion that protrudes most to the right in FIG. 12 is a folded portion 23c, and the connecting portion is a connecting portion 23d.

柱状部２４はストレート部として螺旋構造部２３に続いて形成され、輝尽性蛍光体の結晶が表面１ａに交差する方向に沿ってほぼ真っ直ぐに伸びて形成された柱状構造を有している。そして、螺旋構造部２３と柱状部２４とは、蒸着により連続して一体形成されている。   The columnar portion 24 is formed as a straight portion subsequent to the spiral structure portion 23, and has a columnar structure formed by extending the crystal of the stimulable phosphor almost straight along the direction intersecting the surface 1a. And the spiral structure part 23 and the columnar part 24 are integrally formed continuously by vapor deposition.

なお、柱状結晶２５は、入射放射線Ｒに応じた放射線情報が蓄積記録され、励起光として赤色レーザ光などが照射されると、蓄積情報に応じた光が柱状部２４を導光されて先端側（支持体１と反対側）から放出される。反射層２１は、柱状結晶２５を導光される光のうち、反射層２１側に導光される光を反射して、先端側から放出する光量を増加させる。   In the columnar crystal 25, radiation information corresponding to the incident radiation R is accumulated and recorded. When red laser light or the like is irradiated as excitation light, the light corresponding to the accumulated information is guided through the columnar portion 24 and the tip side. Released from the side opposite to the support 1. The reflective layer 21 reflects the light guided to the reflective layer 21 side among the light guided through the columnar crystal 25 and increases the amount of light emitted from the tip side.

そして、柱状結晶２５は、図１３の（ａ）に示されるように、両隣の柱状結晶２６，２７との関係において、一方における上下に離れた部分の間に、もう一方が入り込んだ入込構造を有している。すなわち、図１３の（ａ）を拡大した図１３の（ｂ）に示されように、隣接している柱状結晶２６，２７について、柱状結晶２５の接続部２３ｄの右側の、Ｖ字状部分２３ａ，２３ｂの間に形成される間隙２３ｅに、柱状結晶２６の接続部２３ｄが入り込んだ入込構造を有している。   Then, as shown in FIG. 13A, the columnar crystal 25 has a penetration structure in which the other is inserted between the vertically separated portions on one side in relation to the columnar crystals 26 and 27 on both sides. have. That is, as shown in FIG. 13B, which is an enlarged view of FIG. 13A, the V-shaped portion 23a on the right side of the connection portion 23d of the columnar crystal 25 for the adjacent columnar crystals 26 and 27. , 23b, the connecting portion 23d of the columnar crystal 26 is inserted into the gap 23e formed between them.

この入込構造により、柱状結晶２５の螺旋構造部２３における柱状結晶２６側の部分と、柱状結晶２６の螺旋構造部２３における柱状結晶２５側の部分とが、支持体１の表面１ａと垂直な方向から見て重なり合っている。より具体的には、柱状結晶２５の折返部２３ｃと柱状結晶２６の接続部２３ｄとが上側から見て重なり合っている。そして、柱状結晶２５の螺旋構造部２３と柱状結晶２６の螺旋構造部２３との間隙は、支持体１の表面１ａと平行な方向（支持体１の側面１ｃ側）から見て波線状となっている。   With this penetration structure, the columnar crystal 26 side portion of the spiral structure portion 23 of the columnar crystal 25 and the columnar crystal 25 side portion of the columnar crystal 26 on the columnar crystal 25 side are perpendicular to the surface 1 a of the support 1. It overlaps as seen from the direction. More specifically, the folded portion 23c of the columnar crystal 25 and the connection portion 23d of the columnar crystal 26 overlap each other when viewed from above. The gap between the spiral structure portion 23 of the columnar crystal 25 and the spiral structure portion 23 of the columnar crystal 26 is wavy when viewed from a direction parallel to the surface 1a of the support 1 (side 1c side of the support 1). ing.

以上のような構造を有する柱状結晶２５のうち、螺旋構造部２３によって反射層２１が構成され、柱状部２４によって柱状層２２が構成されている。反射層２１は、光Ｌが入射したときにその光Ｌを不規則に反射させることによって散乱させるため、光Ｌの反射機能を有している。   Among the columnar crystals 25 having the above-described structure, the reflection layer 21 is configured by the spiral structure portion 23, and the columnar layer 22 is configured by the columnar portion 24. The reflection layer 21 has a function of reflecting the light L because the light L is scattered by irregularly reflecting the light L when the light L is incident.

以上の第９実施形態の放射線像変換パネル１０によっても、上述した第１実施形態の放射線像変換パネル１０と同様の効果が奏される。また、第９実施形態の放射線像変換パネル１０は、反射率を高めるための金属膜などの光反射膜を有していなくも良好な光反射特性を発揮し、上面２ａからの発光量を増加させることができるから、放射線を検出する感度を高くすることができる。そして、第９実施形態の放射線像変換パネル１０は、放射線を検出する感度を高めるのに金属膜を形成していないから、金属膜に起因した腐食のおそれがないものとなっている。   The radiation image conversion panel 10 according to the ninth embodiment described above also provides the same effects as the radiation image conversion panel 10 according to the first embodiment described above. In addition, the radiation image conversion panel 10 of the ninth embodiment exhibits good light reflection characteristics without having a light reflection film such as a metal film for increasing the reflectance, and increases the amount of light emitted from the upper surface 2a. Therefore, the sensitivity for detecting radiation can be increased. And since the radiation image conversion panel 10 of 9th Embodiment has not formed the metal film in order to raise the sensitivity which detects a radiation, there is no possibility of the corrosion resulting from a metal film.

しかも、第９実施形態の放射線像変換パネル１０では、反射層２１が柱状結晶２５のうちの螺旋構造部２３によって構成されている。前述したとおり、柱状結晶２５は螺旋構造部２３において隣接しているもの同士が入り込む入込構造を形成しているから、螺旋構造部２３では、輝尽性蛍光体の結晶の存在しない空間を極めて小さくすることができる。そのため、反射層２１における輝尽性蛍光体の結晶の密度が高くなっているため、高い反射率を発揮するようになっている。   Moreover, in the radiation image conversion panel 10 of the ninth embodiment, the reflective layer 21 is configured by the spiral structure portion 23 of the columnar crystal 25. As described above, since the columnar crystal 25 forms a penetration structure in which the adjacent ones in the spiral structure portion 23 enter, the spiral structure portion 23 has a very large space in which no stimulable phosphor crystal exists. Can be small. Therefore, since the density of the photostimulable phosphor crystal in the reflective layer 21 is high, a high reflectance is exhibited.

そして、上述したように、多少の間隙が形成される入込構造を螺旋構造部２３に適用することで、螺旋構造部２３が接触した場合に螺旋構造部２３で反射した光が隣接する柱状結晶２５に導光されてコントラストが低下するのを防止することができる。さらに、螺旋構造部２３においてもパネル面内の形成密度を高くして反射率を向上させることができる。なお、コントラストを高めるためには、パネル面内において全ての柱状結晶２５が螺旋構造部２３を含めて１本１本の柱状結晶２５に分離されていることが望ましい。柱状結晶２５は蒸着により形成されるので、全ての柱状結晶２５を完璧に分離することは困難であるが、凡そ分離されるように形成すれば、良好な放射線像変換パネル１０が得られる。   Then, as described above, by applying the insertion structure in which a slight gap is formed to the spiral structure portion 23, when the spiral structure portion 23 comes into contact, the light reflected by the spiral structure portion 23 is adjacent to the columnar crystal. It is possible to prevent the contrast from being lowered by being guided to 25. Furthermore, also in the spiral structure part 23, the formation density in the panel surface can be increased and the reflectance can be improved. In order to increase the contrast, it is desirable that all the columnar crystals 25 are separated into one columnar crystal 25 including the helical structure portion 23 in the panel surface. Since the columnar crystals 25 are formed by vapor deposition, it is difficult to completely separate all the columnar crystals 25. However, if the columnar crystals 25 are formed so as to be separated approximately, a good radiation image conversion panel 10 can be obtained.

なお、本発明に係る放射線像変換パネルは上記実施形態に記載したものに限定されない。例えば、支持体１は、ＳＵＳ箔又は薄板ガラスなどであってもよい。   The radiation image conversion panel according to the present invention is not limited to the one described in the above embodiment. For example, the support 1 may be SUS foil or thin glass.

また、第１〜第９実施形態の放射線像変換パネル１０は、支持体１の裏面１ｂ上に設けられた励起光吸収層をさらに備えてもよい。放射線像変換パネル１０が第１保護膜３、第２保護膜４及び第３保護膜６のいずれかを有する場合、この励起光吸収層は、第１保護膜３、第２保護膜４及び第３保護膜６と、支持体１の裏面１ｂとの間に設けられてもよい。励起光吸収層は、顔料とバインダー樹脂とからなる着色樹脂層（着色樹脂層以外にも、セラミック、カーボンブラック、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄などのみからなる着色層）から構成され、その厚さは例えば２０μｍ程度である。励起光吸収層に含まれる着色剤は、輝尽性蛍光体層２に照射される励起光の波長範囲によって決定され、励起光の波長範囲における励起光吸収層の光透過率は１０％以下である。この場合、輝尽性蛍光体層２及び支持体１を透過した励起光を吸収することができるので、励起光の散乱及び反射によるコントラストの低下を軽減できる。   Moreover, the radiation image conversion panel 10 of the first to ninth embodiments may further include an excitation light absorbing layer provided on the back surface 1 b of the support 1. When the radiation image conversion panel 10 includes any of the first protective film 3, the second protective film 4, and the third protective film 6, the excitation light absorption layer includes the first protective film 3, the second protective film 4, and the second protective film 4. 3 may be provided between the protective film 6 and the back surface 1 b of the support 1. The excitation light absorption layer is composed of a colored resin layer composed of a pigment and a binder resin (in addition to the colored resin layer, a colored layer composed only of ceramic, carbon black, chromium oxide, nickel oxide, iron oxide, etc.), and its thickness For example, the thickness is about 20 μm. The colorant contained in the excitation light absorption layer is determined by the wavelength range of the excitation light irradiated on the photostimulable phosphor layer 2, and the light transmittance of the excitation light absorption layer in the wavelength range of the excitation light is 10% or less. is there. In this case, since the excitation light transmitted through the photostimulable phosphor layer 2 and the support 1 can be absorbed, a reduction in contrast due to scattering and reflection of the excitation light can be reduced.

また、第１〜第９実施形態の放射線像変換パネル１０は、支持体１と輝尽性蛍光体層２との間に設けられた輝尽発光反射層をさらに備えてもよい。輝尽発光反射層は、白色顔料とバインダー樹脂からなる着色樹脂層、Ａｌなどの金属反射層、ＳｉＯ２及びＴｉＯ２などの酸化物層からなる誘電体多層膜層などから構成され、その厚さは例えば０．００１μｍ以上であり、例えば５０μｍ以下である。この場合、輝尽性蛍光体層２に励起光が照射されることにより輝尽性蛍光体層２において放出された光のうち、支持体１側に導光された光を輝尽発光反射層によって反射し、輝尽性蛍光体層２の上面２ａ側に出射される光の光量を増加することができる。 Moreover, the radiation image conversion panel 10 of the first to ninth embodiments may further include a photostimulated luminescent reflection layer provided between the support 1 and the photostimulable phosphor layer 2. The photostimulated luminescent reflection layer is composed of a colored resin layer composed of a white pigment and a binder resin, a metal reflective layer such as Al, a dielectric multilayer film composed of an oxide layer such as SiO 2 and TiO 2, etc. Is, for example, 0.001 μm or more, for example, 50 μm or less. In this case, among the light emitted from the stimulable phosphor layer 2 by irradiating the stimulable phosphor layer 2 with the excitation light, the light guided to the support 1 side is converted into the stimulable light-emitting reflective layer. The amount of light reflected and emitted to the upper surface 2a side of the photostimulable phosphor layer 2 can be increased.

また、第９実施形態における柱状結晶２５の構成は、第１実施形態の放射線像変換パネル１０だけでなく、第２〜第８実施形態の放射線像変換パネル１０にも適用することが可能である。   The configuration of the columnar crystal 25 in the ninth embodiment can be applied not only to the radiation image conversion panel 10 of the first embodiment but also to the radiation image conversion panels 10 of the second to eighth embodiments. .

１…支持体、１ａ…表面（主面）、１ｂ…裏面、１ｃ…側面、２…輝尽性蛍光体層、２ａ…上面、２ｃ…側面、３…第１保護膜、４…第２保護膜、６…第３保護膜、１０…放射線像変換パネル、２１…反射層、２３…螺旋構造部、２５…柱状結晶。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support body, 1a ... Front surface (main surface), 1b ... Back surface, 1c ... Side surface, 2 ... Stimulable phosphor layer, 2a ... Upper surface, 2c ... Side surface, 3 ... 1st protective film, 4 ... 2nd protection Film: 6 ... 3rd protective film, 10 ... Radiation image conversion panel, 21 ... Reflection layer, 23 ... Spiral structure part, 25 ... Columnar crystal.

Claims (14)

可撓性を有する支持体と、
前記支持体の主面上に設けられ、複数の柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層と、
前記輝尽性蛍光体層上に設けられた第１保護膜と、
前記第１保護膜上に設けられた第２保護膜と、
を備え、
前記輝尽性蛍光体層は、ＥｕをドープしたＣｓＢｒを含む輝尽性蛍光体から構成され、
前記第１保護膜は、前記輝尽性蛍光体層の上面及び側面を覆い、かつ、前記輝尽性蛍光体層において前記複数の柱状結晶の間隙を埋めるように設けられ、
前記第２保護膜の鉛筆硬度は、前記第１保護膜の鉛筆硬度以下であり、
曲げ半径が最小で１５ｍｍまで湾曲させても前記第２保護膜の破断が生じない可撓性を有することを特徴とする放射線像変換パネル。 A flexible support;
A stimulable phosphor layer provided on the main surface of the support, and comprising a plurality of columnar crystals;
A first protective film provided on the photostimulable phosphor layer;
A second protective film provided on the first protective film;
With
The photostimulable phosphor layer is composed of a photostimulable phosphor containing Eu-doped CsBr,
The first protective film is provided so as to cover an upper surface and a side surface of the photostimulable phosphor layer, and to fill gaps between the plurality of columnar crystals in the photostimulable phosphor layer,
The pencil hardness of the second protective film is not more than the pencil hardness of the first protective film,
A radiation image conversion panel characterized by having flexibility that does not cause breakage of the second protective film even when the bending radius is curved to a minimum of 15 mm. 前記支持体は、樹脂フィルムから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the support is made of a resin film. 前記支持体は、ポリイミドから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the support is made of polyimide. 前記第１保護膜は、耐湿性の保護膜であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the first protective film is a moisture-resistant protective film. 前記第１保護膜は、ポリパラキシリレンから構成されていることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the first protective film is made of polyparaxylylene. 前記第２保護膜は、耐擦傷性の保護膜であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 5, wherein the second protective film is a scratch-resistant protective film. 前記第２保護膜は、ウレタンアクリル系樹脂から構成されていることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 6, wherein the second protective film is made of a urethane acrylic resin. 前記支持体の前記主面と反対側の前記支持体の裏面に設けられた励起光吸収層をさらに備えることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion according to any one of claims 1 to 7, further comprising an excitation light absorption layer provided on a back surface of the support opposite to the main surface of the support. panel. 前記輝尽性蛍光体層は、前記柱状結晶が螺旋状に積層した螺旋構造を前記支持体側に有することを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the photostimulable phosphor layer has a spiral structure in which the columnar crystals are spirally stacked on the support side. . 前記支持体と前記輝尽性蛍光体層との間に設けられた輝尽発光反射層をさらに備えることを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 8, further comprising a photostimulated luminescent reflection layer provided between the support and the photostimulable phosphor layer. . 前記第１保護膜は、前記支持体の側面上まで延びていることを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 10, wherein the first protective film extends to a side surface of the support. 前記第１保護膜は、さらに前記支持体及び前記輝尽性蛍光体層の全体を覆うように設けられることを特徴とする請求項１１に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 11, wherein the first protective film is further provided so as to cover the entire support and the photostimulable phosphor layer. 前記第２保護膜は、前記第１保護膜を覆うように設けられることを特徴とする請求項１〜請求項１２のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 12, wherein the second protective film is provided so as to cover the first protective film. 前記支持体の前記主面と反対側の前記支持体の裏面に設けられた第３保護膜をさらに備え、
前記第３保護膜は、耐擦傷性の保護膜であることを特徴とする請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。 A third protective film provided on the back surface of the support opposite to the main surface of the support;
The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 11, wherein the third protective film is a scratch-resistant protective film.
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