JP5945886B2 - 積層基板の製造支援方法、積層基板の製造方法、故障原因特定方法、積層基板の製造支援プログラム及び積層基板 - Google Patents
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Description
(1)a層の膜厚を10nm増加、b層の膜厚を10nm増加させた場合
(2)a層の膜厚を10nm増加、b層の膜厚を10nm減少させた場合
(3)a層の膜厚を10nm減少、b層の膜厚を10nm増加させた場合
(4)a層の膜厚を10nm減少、b層の膜厚を10nm減少させた場合
Claims (10)
- 基板と、複数の材料からなる第1積層及び第2積層と、光を吸収する光吸収層とを備え、前記第1積層は前記基板の一方面に設けられ、前記第2積層は前記基板の他方面に設けられ、前記光吸収層は前記第2積層上に設けられた積層基板の製造支援方法であって、
前記第1積層及び前記第2積層に用いる材料、並びに前記材料について光の波長に依存する屈折率及び消衰係数を用いて、前記第1積層側から光が入射した際の前記第1積層及び前記第2積層の反射率及び透過率をマトリクス法により求め、
前記基板の膜厚から当該基板の内部透過率を計算し、
前記第1積層及び前記第2積層の反射率及び透過率並びに前記内部透過率から、前記第1積層側に入射した光が前記光吸収層に吸収される光吸収量を波長ごとに計算し、該光吸収量を積分して総光吸収量を求め、
前記総光吸収量が最大となる前記第1積層及び前記第2積層の材料及び膜厚を求める
ことを特徴とする積層基板の製造支援方法。 - 請求項1に記載する積層基板の製造支援方法において、
前記総光吸収量が最大となる前記第1積層及び前記第2積層の膜厚を求める方法は、
前記第1積層及び前記第2積層の各膜厚に初期値として任意の数値を与え、準ニュートン法を用いて前記第1積層及び前記第2積層の膜厚の最適値を求め、
当該最適値を求める工程を複数回実行することで、複数の最適値からなる準最適値リストを求める
ことを特徴とする積層基板の製造支援方法。 - 請求項1又は請求項2に記載する積層基板の製造支援方法において、
前記第1積層又は前記第2積層について得られた膜厚の最適値と、当該膜厚に対応する総光吸収量との対応を表示すると共に、当該膜厚を一定値で変動させたときの総光吸収量の変動を表示する
ことを特徴とする積層基板の製造支援方法。 - 請求項1〜請求項3の何れか一項に記載する積層基板の製造支援方法を用いて、前記第1積層及び前記第2積層に用いる材料及び膜厚を決定し、
当該材料及び膜厚の積層基板を製造する
ことを特徴とする積層基板の製造方法。 - 請求項2又は請求項3に記載する積層基板の製造支援方法を用いて、前記積層基板を製造する過程での故障原因を特定する故障原因特定方法。
- 請求項4に記載する積層基板の製造方法において、
前記基板としてガラス基板を用い、
前記ガラス基板の一方面上に、94〜114nmのアルミナ、0〜16nmのZnS、及び82〜102nmのMgF2を順次積層した前記第1積層を形成し、
前記ガラス基板の他方面上に、134〜154nmのMgF2、125〜145nmのアルミナ及び25〜45nmのMgF2を順次積層した前記第2積層を形成し、
前記第2積層上に、透明導電膜と太陽電池を設ける
ことを特徴とする積層基板の製造方法。 - 請求項4に記載する積層基板の製造方法において、
前記基板としてガラス基板を用い、
前記ガラス基板の一方面上に、屈折率1.0〜1.1の材料を膜厚2〜22nmで形成した層、屈折率1.15〜1.35の材料を膜厚72〜92nmで形成した層、及び屈折率1.0〜1.8の材料を膜厚204〜224nmで形成した層を順次積層した前記第1積層を形成し、
前記ガラス基板の他方面上に、屈折率2.09〜2.29の材料を膜厚108〜128nmで形成した層、及び屈折率1.01〜1.1の材料を膜厚20〜30nmで形成した層を順次積層した前記第2積層を形成し、
前記第2積層上に、透明導電膜と太陽電池を設ける
ことを特徴とする積層基板の製造方法。 - 基板の一方面に複数の材料からなる第1積層、当該基板の他方面に複数の材料からなる第2積層を設けた積層基板であって、
前記基板は、ガラス基板であり、
前記第1積層は、前記ガラス基板の一方面上に、94〜114nmのアルミナ、0〜16nmのZnS、及び82〜102nmのMgF2を順次積層したものであり、
前記第2積層は、前記ガラス基板の他方面上に、134〜154nmのMgF2、125〜145nmのアルミナ及び25〜45nmのMgF2を順次積層したものであり、
前記第2積層上に、透明導電膜と太陽電池が設けられている
ことを特徴とする積層基板。 - 基板の一方面に複数の材料からなる第1積層、当該基板の他方面に複数の材料からなる第2積層を設けた積層基板であって、
前記基板は、ガラス基板であり、
前記第1積層は、前記ガラス基板の一方面上に、屈折率1.0〜1.1の材料を膜厚2〜22nmで形成した層、屈折率1.15〜1.35の材料を膜厚72〜92nmで形成した層、及び屈折率1.0〜1.8の材料を膜厚204〜224nmで形成した層を順次
積層したものであり、
前記第2積層は、前記ガラス基板の他方面上に、屈折率2.09〜2.29の材料を膜厚108〜128nmで形成した層、及び屈折率1.01〜1.1の材料を膜厚20〜30nmで形成した層を順次積層したものであり、
前記第2積層上に、透明導電膜と太陽電池が設けられている
ことを特徴とする積層基板。 - 請求項1〜請求項3の何れか一項に記載する積層基板の製造支援方法をコンピュータに実行させるための積層基板の製造支援プログラム。
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