JP5943519B2 - 基板ケース洗浄装置 - Google Patents
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Description
Ultra Violet)光を真空中で照射する基板としてのEUVマスクが普及してきているが、このEUVマスクを収納して保管する基板ケースは、図18(a)(b)に示すように、2重構造のケースになっている。この基板ケースCは、インナーベースNb及びこのインナーベースNbを覆うインナーシェルNsからなり内部に基板Dとしてのマスクを収容するインナーポッドNと、インナーポッドNのインナーベースNbを支持するアウターベースMb及びアウターベースMbを覆うアウターシェルMsからなり内部にインナーポッドNを収容するアウターポッドMとを備えて構成されている。このように、基板ケースCに2重構造をとるのは、基板Dが外気に汚染されることから徹底して防御するためである。アウターポッドMは外気に晒されるが、インナーポッドNは意図的にアウターポッドMを開けない限り外気に晒されることはない。
クリーンな空間を形成するブースを備え、該ブース内に、上記アウターポッドのアウターベース及びアウターシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する第一洗浄槽と、上記インナーポッドのインナーベース及びインナーシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する第二洗浄槽とを設け、
上記アウターポッド及びインナーポッドの各部品を対応する第一洗浄槽及び第二洗浄槽に対して搬送を行う搬送機構を備えた構成としている。
該搬送機構を、上記支持台に基板ケースのアウターベースを下にして支持する場合、該基板ケースの洗浄前に、上記アウターシェル,インナーシェル,インナーベース,アウターベースの順にこれらを上記支持台から各々対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内に搬送し、該基板ケースの洗浄後に、上記アウターベース,インナーベース,インナーシェル,アウターシェルの順にこれらを対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内から上記支持台に搬送して組み立てる構成にし、
上記支持台に基板ケースのアウターシェルを下にして支持する場合、該基板ケースの洗浄前に、上記アウターベース,インナーベース,インナーシェル,アウターシェルの順にこれらを上記支持台から各々対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内に搬送し、該基板ケースの洗浄後に、上記アウターシェル,インナーシェル,インナーベース,アウターベースの順にこれらを対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内から上記支持台に搬送して組み立てる構成にしている。
これにより、搬送機構により、洗浄前は、アウターポッド及びインナーポッドの各部品を順次対応する第一洗浄槽及び第二洗浄槽に搬送することができ、洗浄後は、アウターポッド及びインナーポッドの各部品を順次対応する第一洗浄槽及び第二洗浄槽から取り出して搬送することができるので、アウターポッド及びインナーポッドの各部品を確実に分離し、組み立てることができる。
これにより、搬送機構は、制御部の制御により、把持機構を垂直方向(Z軸方向)と、水平一方向(Y軸方向)の2軸方向に移動させるだけで、各部品を搬送できるので、従来のアームロボットに比較して構造を簡易にすることができ、各部品の分離搬送を容易にすることができる。また、スペースを広く取らなくても良くなり、省スペース化を図ることができる。
図1乃至図17に示す本発明の実施の形態に係る基板ケース洗浄装置Sは、上記もしたEUVマスクを収納する基板ケースCを取り扱うものである。図18(a)(b)に示すように、基板ケースCは、略矩形箱状に形成され、インナーベースNb及びこのインナーベースNbを覆うインナーシェルNsからなり内部に基板Dとしてのマスクを収容するインナーポッドNと、インナーポッドNのインナーベースNbを支持するアウターベースMb及びアウターベースMbを覆うアウターシェルMsからなり内部にインナーポッドNを収容するアウターポッドMとを備えて構成されている。本基板ケース洗浄装置Sは、基板ケースCを基板Dが空の状態で洗浄する。
また、ブース10内には、基板ケースCのアウターポッドM及びインナーポッドNの各部品を支持台20と対応する第一洗浄槽40及び第二洗浄槽50との間で搬送する搬送機構60が備えられている。
また、図10に示すように、第一洗浄槽40は、第一洗浄槽40の槽本体42の底部に垂直方向の軸線を中心に回転可能に設けられた第一回転板44と、第一回転板44を回転駆動する第一回転駆動部45と、第一回転板44に立設され所定の高さ位置でアウターベースMbの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のアウターベース支承杆46と、第一回転板44に立設されアウターベース支承杆46とは異なる所定の高さ位置でアウターシェルMsの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のアウターシェル支承杆47とを備えて構成されている。
また、第一洗浄槽40の複数のアウターベース支承杆46と複数のアウターシェル支承杆47とは、互いに回転方向の異なる位置に立設されている。実施の形態では、図10乃至図13に示すように、45°回転方向に位相をずらして立設されている。
図10においては、第一洗浄槽40の内部を示すが、第二洗浄槽50においても第一洗浄槽40と構成が共通するので対応する部位に第二洗浄槽50の符号をカッコ書きで付した。この図10に示すように、第二洗浄槽50は、第二洗浄槽50の槽本体52の底部に垂直方向の軸線を中心に回転可能に設けられた第二回転板54と、第二回転板54を回転駆動する第二回転駆動部55と、第二回転板54に立設され所定の高さ位置でインナーベースNbの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のインナーベース支承杆56と、第二回転板54に立設されインナーベース支承杆56とは異なる所定の高さ位置でインナーシェルNsの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のインナーシェル支承杆57とを備えて構成されている。
また、第二洗浄槽50の複数のインナーベース支承杆56と複数のインナーシェル支承杆57とは、互いに回転方向の異なる位置に立設されている。実施の形態では、図10乃至図13に示すように、45°回転方向に位相をずらして立設されている。
尚、第一洗浄槽40及び第二洗浄槽50内には、周知の洗浄液を噴射する洗浄液ノズル群、ドライエアを噴出して乾燥させるエアノズルが設けられている。
この制御部100は、同様に、第二回転駆動部55を制御し、インナーベースNbの支承及び支承解除時のインナーベースNbの支承杆の停止位置と、インナーシェルNsの支承及び支承解除時のインナーシェル支承杆57の停止位置とを位相を異ならせて設定する機能を備えている。実施の形態では、図12(a1)(b1)に示すように、45°回転方向に位相をずらす。
図14(b),図15及び図16に示すように、把持ハンド70の一対のハンド単体71には、アウターポッドMのアウターベースMb及びアウターシェルMs,インナーポッドNのインナーベースNb及びインナーシェルNsの各把持部の形状に夫々対応して係止する係止部73,74,75,76が形成されている。
尚、制御部100は、上記もしたシャッタ12の開閉制御、移載機構30の駆動制御、搬送機構60の駆動制御、第一洗浄槽40及び第二洗浄槽50の蓋43,53の開閉制御、回転板44,54の回転制御、洗浄,乾燥制御等、種々の制御を行う。
予め、制御部100には、アウターポッドMのアウターベースMbの外側面の洗浄が不要であるか否かを基板ケースCの洗浄前に行うプログラミングしておく。ここでは、先ず、アウターベースMbの外側面の洗浄が必要である場合について説明する。
先ず、図8(a)に示すように、載置台13に洗浄に係る基板ケースCを、他の搬送機等を用いてセッティングする。基板ケースCの洗浄前においては、図8(b)に示すように、ブース10のシャッタ12が開けられ、移載機構30の進退駆動部33が機台31を支持台20とともに初期位置R3から進出位置R1に進出させるとともに、載置台13に載置された基板ケースCを支持台20上に受取る。この際には、図8(c)及び図6(b)に示すように、機台31の進出位置R1で、上下駆動部34が支持台20を上昇させ、支持台20の係合凸部23を基板ケースCのアウターベースMbの係合凹部4に係合させて基板ケースCを持ち上げる。また、アウターベースMbを吸着盤24で吸着する。そのため、基板ケースCが左右前後に動く事態が防止され、確実に支持台20上に位置決めされる。更にまた、支持台20のラッチ駆動部21のラッチピン21aがアウターベースMbの挿入孔2から挿入される。
一方、図13に示すように、第二洗浄槽50においても、インナーベース支承杆56とインナーシェル支承杆57とは異なる所定の高さ位置で各部品を支承しているので、槽本体52内において、インナーベースNb及びインナーシェルNsが夫々これらの外面及び内面を露出させるとともに互いに分離して保持されることになる。そのため、洗浄を行う際には、洗浄液が満遍なくインナーベースNb及びインナーシェルNsに行き届くことから、洗浄を確実に行うことができるようになる。
即ち、従来のように蓋43,53に一方の部品を装着して洗浄する場合には、蓋43,53に装着した部品の特に蓋43,53側の面には十分に洗浄液が行き届きにくいが、本発明の構成では、各部品を槽本体42,52内において離間させて洗浄できるので、洗浄液を満遍に行き届かせて、洗浄を確実に行うことができるようになるのである。
上記と同様に、支持台20に支持されたアウターポッドMのアウターベースMb及びアウターシェルMs,インナーポッドNのインナーベースNb及びインナーシェルNsの各部品を搬送機構60で搬送する。この際は、図1及び図17に示すように、最後のアウターベースMbは、第一洗浄槽40の蓋43の裏面に設けた保持部90に保持する。この場合、保持部90の係合凸部91をアウターベースMbの係合凹部4に係合させるとともに、アウターベースMbを吸着盤92で吸着する。そのため、アウターベースMbが左右前後に動く事態が防止され、確実に保持部90に保持される。
C 基板ケース
N インナーポッド
Nb インナーベース
Ns インナーシェル
M アウターポッド
Mb アウターベース
Ms アウターシェル
D 基板
1 ロック部
2 挿入孔
3 位置決め凹部
4 係合凹部
10 ブース
11 開口
12 シャッタ
13 載置台
14 開放部
15 位置決めピン
16 位置決めブロック
20 支持台
21 ラッチ駆動部
23 係合凸部
24 吸着盤
30 移載機構
31 機台
R1 進出位置
R2 後退位置
R3 初期位置
32 レール
33 進退駆動部
34 上下駆動部
40 第一洗浄槽
41 開口
42 槽本体
43 蓋
44 第一回転板
45 第一回転駆動部
46 アウターベース支承杆
47 アウターシェル支承杆
48 支承体
49 ガイドピン
50 第二洗浄槽
51 開口
52 槽本体
53 蓋
54 第二回転板
55 第二回転駆動部
56 インナーベース支承杆
57 インナーシェル支承杆
58 支承体
59 ガイドピン
60 搬送機構
61 把持機構
62 昇降機構
63 走行移動機構
64 ベース板
65 昇降レール
66 スタンド
67 水平レール
70 把持ハンド
71 ハンド単体
72 駆動部
73,74,75,76 係止部
80 洗浄手段
Q 待機位置
81 噴射ノズル
82 排気ファン
90 保持部
91 係合凸部
92 吸着盤
100 制御部
Claims (5)
- インナーベース及び該インナーベースを覆うインナーシェルからなり内部に基板を収容するインナーポッドと、該インナーポッドのインナーベースを支持するアウターベース及び該アウターベースを覆うアウターシェルからなり内部に該インナーポッドを収容するアウターポッドとを備えた基板ケースを、上記基板が空の状態で洗浄する基板ケース洗浄装置であって、
クリーンな空間を形成するブースを備え、該ブース内に、上記アウターポッドのアウターベース及びアウターシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する第一洗浄槽と、上記インナーポッドのインナーベース及びインナーシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する第二洗浄槽とを設け、
上記アウターポッド及びインナーポッドの各部品を対応する第一洗浄槽及び第二洗浄槽に対して搬送を行う搬送機構を備えたことを特徴とする基板ケース洗浄装置。 - 上記ブース内で上記基板ケースをアウターベース若しくはアウターシェルを下にして垂直方向に分離可能に組み付けた状態で支持する支持台を設け、該基板ケースのアウターポッド及びインナーポッドの各部品を上記支持台と対応する第一洗浄槽及び第二洗浄槽との間で搬送する搬送機構を備え、
該搬送機構を、上記支持台に基板ケースのアウターベースを下にして支持する場合、該基板ケースの洗浄前に、上記アウターシェル,インナーシェル,インナーベース,アウターベースの順にこれらを上記支持台から各々対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内に搬送し、該基板ケースの洗浄後に、上記アウターベース,インナーベース,インナーシェル,アウターシェルの順にこれらを対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内から上記支持台に搬送して組み立てる構成にし、
上記支持台に基板ケースのアウターシェルを下にして支持する場合、該基板ケースの洗浄前に、上記アウターベース,インナーベース,インナーシェル,アウターシェルの順にこれらを上記支持台から各々対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内に搬送し、該基板ケースの洗浄後に、上記アウターシェル,インナーシェル,インナーベース,アウターベースの順にこれらを対応する第一洗浄槽内及び第二洗浄槽内から上記支持台に搬送して組み立てる構成にしたことを特徴とする請求項1記載の基板ケース洗浄装置。 - 上記第一洗浄槽及び第二洗浄槽を、上解放の開口を有した槽本体と、該槽本体の開口を上記基板ケースのアウターポッド及びインナーポッドの各部品を搬送する際に開にし、該各部品の洗浄時に閉にする開閉可能な蓋とを備えて構成し、上記支持台,第一洗浄槽及び第二洗浄槽を水平一方向に沿って直列に設け、上記搬送機構を、上記アウターポッドのアウターベース及びアウターシェル,インナーポッドのインナーベース及びインナーシェルを夫々把持可能な把持機構と、該把持機構を垂直方向に昇降移動させる昇降機構と、該把持機構を水平一方向に走行移動させる走行移動機構と、上記把持機構,昇降機構及び走行移動機構を駆動制御する制御部とを備えて構成したことを特徴とする請求項2記載の基板ケース洗浄装置。
- 上記把持機構を、上記水平一方向に直交する水平他方向に互いに近接離間可能な一対のハンド単体を備えた把持ハンドと、該把持ハンドのハンド単体を近接離間させる駆動部とを備えて構成し、上記制御部の制御により上記把持ハンドのハンド単体に上記アウターポッドのアウターベース及びアウターシェル,インナーポッドのインナーベース及びインナーシェルを個別に把持させることを特徴とする請求項3記載の基板ケース洗浄装置。
- 上記把持ハンドの一対のハンド単体に、上記アウターポッドのアウターベース及びアウターシェル,インナーポッドのインナーベース及びインナーシェルの各把持部の形状に夫々対応して係止する係止部を備えたことを特徴とする請求項4記載の基板ケース洗浄装置。
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