JP5935159B2 - Polishing holding pad - Google Patents
Polishing holding pad Download PDFInfo
- Publication number
- JP5935159B2 JP5935159B2 JP2010085300A JP2010085300A JP5935159B2 JP 5935159 B2 JP5935159 B2 JP 5935159B2 JP 2010085300 A JP2010085300 A JP 2010085300A JP 2010085300 A JP2010085300 A JP 2010085300A JP 5935159 B2 JP5935159 B2 JP 5935159B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- polishing
- polished
- urethane sheet
- surface roughness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 38
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 65
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 43
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 claims description 26
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 claims description 26
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 21
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 14
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims description 11
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 7
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 54
- 239000002585 base Substances 0.000 description 47
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 27
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 23
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 19
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 18
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 18
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 18
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 14
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 12
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 10
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 6
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BJZYYSAMLOBSDY-QMMMGPOBSA-N (2s)-2-butoxybutan-1-ol Chemical compound CCCCO[C@@H](CC)CO BJZYYSAMLOBSDY-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 3
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical class ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001122767 Theaceae Species 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006284 nylon film Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
本発明は、ハードディスク基板、半導体基板または半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用のガラス基板などの各種基板、ＬＣＤなどの表面を研磨する際に、研磨テーブルと研磨対象物との間に介在されて、前記研磨対象物を保持する研磨保持用パッドに関する。 In the present invention, when polishing the surface of a hard disk substrate, a semiconductor substrate or a semiconductor wafer, various substrates such as a glass substrate for a liquid crystal display, an LCD or the like, the polishing table is interposed between a polishing table and an object to be polished. The present invention relates to a polishing holding pad for holding an object.
コンピュータの記憶手段として用いられるハードディスク基板、シリコーン棒から切り出したシリコンウエハ、液晶ディスプレイ用のガラス基板などの研磨対象物を製造する場合には、高い精度での平坦性が求められる。このため、これらの基板の表面は研磨粒子を用いて研磨加工される。この研磨加工では研磨対象物を保持する必要があるが、研磨対象物と研磨テーブルを直接接触させると研磨対象物に傷が発生してしまう。この様な傷の発生を回避するために、従来から研磨対象物の保持に適する多孔質型のポリウレタン発泡体からなる研磨保持用パッドが広く用いられている（例えば、特許文献１、２参照）。
When manufacturing an object to be polished such as a hard disk substrate used as a storage means of a computer, a silicon wafer cut out from a silicone rod, or a glass substrate for a liquid crystal display, flatness with high accuracy is required. For this reason, the surface of these substrates is polished using abrasive particles. In this polishing process, it is necessary to hold the object to be polished. However, if the object to be polished and the polishing table are brought into direct contact, the object to be polished is damaged. In order to avoid the occurrence of such scratches, polishing holding pads made of a porous polyurethane foam suitable for holding an object to be polished have been widely used (see, for example,
また、前記ポリウレタン発泡体は、研磨対象物の吸着面に緻密で、しかも内部より密度の高い発泡表面層（スキン層）を持つことが好ましく、従って、このポリウレタン発泡体は、水混和性の有機溶媒に溶解させた樹脂溶液をシート状の成膜基板に塗布した後、水系凝固液中で凝固再生させる、いわゆる湿式成膜法で製造されている（例えば、特許文献１
参照）。
The polyurethane foam preferably has a foam surface layer (skin layer) that is dense on the surface to be polished and has a higher density than the inside. Therefore, the polyurethane foam is a water-miscible organic layer. A resin solution dissolved in a solvent is applied to a sheet-like film formation substrate, and then coagulated and regenerated in a water-based coagulation liquid.
reference).
一方、ポリエステルポリオール類、ポリイソシアネート類、発泡剤、触媒および撥水付与剤を含むポリウレタン発泡体の原料を反応させ、発泡および硬化させるに際して、発泡時における温度を低く設定することにより、衷面に密度の高い前記スキン層を形成する研磨保持用パッドが提案されている（例えば、特許文献２参照）。 On the other hand, when the polyurethane foam raw material containing polyester polyols, polyisocyanates, foaming agent, catalyst and water repellency imparting agent is reacted, foamed and cured, by setting the temperature during foaming low, A polishing holding pad for forming the skin layer having a high density has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
更に、被着体とバッキング材との間に空気の咬み込みを防止すると共に、バッキング内部への水と研磨粒子のスラリーの侵入しない保持パッドとして、基材の上に弾性体を積層し、次いでこの弾性体の表面を研磨により平滑加工し、その平滑化された面に粘着性の樹脂をコーティングし、その樹脂が完全に硬化する前に凹凸を有するフィルムを圧着し、樹脂の硬化後フィルムを剥離することにより製造する研磨保持用パッドが提案されている（例えば、特許文献３参照）。 Furthermore, while preventing the biting of air between the adherend and the backing material, an elastic body is laminated on the base material as a holding pad from which water and slurry of abrasive particles do not enter the backing, The surface of this elastic body is smoothed by polishing, and an adhesive resin is coated on the smoothed surface, and a film having unevenness is pressure-bonded before the resin is completely cured, and the film is cured after the resin is cured. A polishing holding pad produced by peeling is proposed (see, for example, Patent Document 3).
しかしながら、前記従来の（例えば、特許文献１に記載のような）湿式成膜法は湿式であるため発泡層の密度が高いものしかできず、また厚み精度も悪いために研磨を行う必要があった。さらに塗布された樹脂が水混和性有機溶媒の３０％液で現場発泡方式によって製造されたためか圧縮した場合の復元回復性が悪く、いわゆる「へたり」が生じ、その結果長期間の使用ができないばかりでなく、製造方法が湿式のため低密度のものはできないという不都合があった。また、生産性が悪く、コストが高くなるという課題もあった。 However, since the conventional wet film forming method (for example, as described in Patent Document 1) is wet, only the foam layer has a high density, and the thickness accuracy is poor, so that polishing is necessary. It was. Furthermore, because the applied resin was manufactured by an in-situ foaming method using a 30% solution of a water-miscible organic solvent, the recovery recovery is poor when compressed, so-called “sagging” occurs, and as a result it cannot be used for a long time. In addition, since the manufacturing method is wet, there is a disadvantage that a low-density one cannot be made. In addition, there is a problem that productivity is low and cost is high.
また、前記従来の低温での（例えば、特許文献２に記載のような）スキン形成技術にあっては、連続気泡のため表面皮膜がポーラスとなるため研磨砥粒が皮膜の気孔内に入り込んでしまう。このため、皮膜の密度を上げるために整泡剤を用いない組成でパッド体を製造しているが、密度が６００〜８００ｋｇ／ｍ３と極めて高い製品となってしまい、重量大でしかも原料費が高くなるという課題があった。 Further, in the conventional skin formation technique at a low temperature (for example, as described in Patent Document 2), since the surface film becomes porous due to open cells, the abrasive grains enter the pores of the film. End up. For this reason, in order to increase the density of the film, the pad body is manufactured with a composition that does not use a foam stabilizer, but the density is 600 to 800 kg / m 3 and the product is extremely high, and the weight is large and the material cost is high. There was a problem of increasing the cost.
さらに、前記従来の（例えば、特許文献３に記載のような）被着体とバッキング材との間に空気の咬み込みを防いで平らなバッキング面を得ようとするバッキング材では、前記の粘着性樹脂表面の凹凸形状により、被研磨物と、保持パッド間に噛み込まれたエアーはある程度分散される。しかし、上記弾性体の研磨加工面がスキン層の様に平滑で均一で無い為、樹脂コーティングが平滑にならない。更に、凹凸形状の圧着が場所によりバラツキがある為、出来た保持パッドの平滑性・均一性は劣る。その結果、披研磨物と保持パッドの間に噛み込まれたエアー量が大きくなるとエアーの貯留が発生する。また、被研磨物と保持パッドの間の水量が一定で無い為、一定の保持力が発現できないという課題があった。 Further, in the conventional backing material (for example, as described in Patent Document 3) which prevents air from being caught between the adherend and the backing material, a flat backing surface is obtained. The air entrained between the object to be polished and the holding pad is dispersed to some extent due to the uneven shape on the surface of the conductive resin. However, since the polished surface of the elastic body is not as smooth and uniform as the skin layer, the resin coating is not smooth. Furthermore, since the uneven crimping varies depending on the location, the smoothness and uniformity of the resulting holding pad is poor. As a result, when the amount of air caught between the polished article and the holding pad increases, air is stored. Moreover, since the amount of water between the object to be polished and the holding pad is not constant, there is a problem that a constant holding force cannot be expressed.
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、生産コストを低減でき、低密度でありながら研磨塗粒を含むスラリーが気孔内に浸透することがなく、復元性に優れるため長期使用可能で、溶剤使用量が削減できるので環境汚染を改善できる研磨保持用パッドを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to reduce production cost, and the slurry containing abrasive coating particles does not permeate into the pores while being low in density, so that it can be restored. An object of the present invention is to provide a polishing holding pad that can be used for a long time because it is excellent, and can reduce the amount of solvent used, thereby improving environmental pollution.
前記目的を達成するため、本発明の請求項１に係る研磨保持用パッドは、熱可塑性ポリウレタン樹脂からなる非発泡ウレタンシートの一面側に熱硬化性ポリウレタン樹脂からなるウレタン発泡体が形成されており、研磨対象物を保持するための定盤に前記ウレタン発泡体の他面側を固着させて前記非発泡ウレタンシートの他面側が前記研磨対象物に当接する研磨保持用パッドにおいて、前記非発泡ウレタンシートは表面粗さＲａが０．５〜１７μｍであり、水との接触角が９０°以上であり、圧縮応力が０．０５〜０．５ＭＰａであり、厚みが５〜３０μｍであって、前記ウレタン発泡体は７０℃オーブンにて促進した、５０％圧縮永久歪が１０％以下の独立気泡型ポリウレタン発泡体であることを特徴とする。
To achieve the above object, a polishing retaining pad according to
この構成の研磨保持用パッドによれば、研磨対象物（被研磨物）に当接する非発泡ウレタンシートは表面粗さ（Ｒａ）が０．５〜１７μmの微少な凹凸を有するので、研磨対象物に対する吸着度合を制御できると共に、パッドに研磨対象物を貼着する際に、この凹凸を通して空気を外部へ逃がすことができ、空気の咬み込みを防止することができる。
また、水との接触角が９０°以上の前記非発泡ウレタンシートは、撥水性（疎水性）が高く、吸水性及び水膨潤もなく、水（研磨砥粒を含むスラリー）の下面側に位置するウレタン発泡体への浸入を防止できる。
According to the polishing holding pad of this configuration, the non-foamed urethane sheet that comes into contact with the object to be polished (the object to be polished) has minute irregularities with a surface roughness (Ra) of 0.5 to 17 μm. It is possible to control the degree of adsorption to the air and to allow air to escape to the outside through the irregularities when sticking an object to be polished to the pad, thereby preventing air biting.
The non-foamed urethane sheet having a contact angle with water of 90 ° or more has high water repellency (hydrophobicity), no water absorption and no water swelling, and is located on the lower surface side of water (a slurry containing abrasive grains). Can be prevented from entering the urethane foam.
また、本発明の請求項２に係る研磨保持用パッドは、前記ウレタン発泡体の定盤への固着面が厚み調整平滑処理され、その平滑面に粘着剤が塗工されていることを特徴とする。
この構成により、その表面は比較的平滑であるので、表面精度が良く、基材付き粘着層が確実に貼着でき、ひいては定盤への装着性が向上する。
Further, the polishing holding pad according to
With this configuration, since the surface is relatively smooth, the surface accuracy is good, the adhesive layer with a base material can be reliably attached, and the mounting property to the surface plate is improved.
本発明の研磨保持用パッドによれば、次のような効果を奏する。
（１）研磨時にパッド内部に水やスラリーが浸入しないので、研磨後の洗浄・乾燥時間の短縮が可能である。また、研磨中の吸水による研磨性能の変動も少ない。
（２）軽く扱い易く、低硬度パッドの要求に対応出来る。
（３）復元性に優れ長期使用でも「へたり」が少ない為、コスト低減が出来る。
（４）生産時のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの溶剤使用量を削減できるので、環境面での寄与が出来る。
（５）発泡層は低密度のウレタン発泡体でよいので、安価に提供できる。
The polishing holding pad according to the present invention has the following effects.
(1) Since water and slurry do not enter the pad during polishing, cleaning and drying time after polishing can be shortened. In addition, there is little variation in polishing performance due to water absorption during polishing.
(2) It is light and easy to handle and can meet the demand for low hardness pads.
(3) Since it has excellent recoverability and has less “hang” even during long-term use, cost can be reduced.
(4) Since the amount of solvent used such as N, N-dimethylformamide during production can be reduced, environmental contributions can be made.
(5) Since the foam layer may be a low-density urethane foam, it can be provided at a low cost.
以下、本発明の実施形態にかかる研磨保持用パッドについて、図面を参照して詳細に説明する。
まず、工程１として図１（ａ）においてウレタンシートの作製について説明する。表面粗さ（Ｒａ）０・５〜１７μｍの微小な凹凸の表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ、Ｒ８、１０８ＳＧ、ＰＥＴＬＳＭ−１００ＧＳなど）に熟可塑性ポリウレタン樹脂（ＤｌＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０など）をスキージを用いて塗工し、例えば、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、非発泡ウレタンシート２を得る。あるいは、基材１に熟硬化性ポリウレタン原料を塗布したものを加熱し、反応硬化させ、非発泡のウレタンシート２を得る。
なお、図１中で１としては、片面をサンドマット処理し、更に離型処理を行ったポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）フイルム、紙＋ポリプロピレンラミネート品（微小な凹凸を持つ表面形状）などが使用でき、２は非発泡ウレタンシート（熟可塑性ポリウレタン樹脂又は熟硬化性ポリウレタン樹脂）である。
Hereinafter, a polishing holding pad according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, production of a urethane sheet will be described as
1 in FIG. 1 includes a polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) film, a paper + polypropylene laminate (surface shape with minute irregularities), etc., which has been subjected to sand mat treatment on one side and further subjected to release treatment. 2 is a non-foamed urethane sheet (mature plastic polyurethane resin or mature curable polyurethane resin).
次に図１（ｂ）の工程２のウレタン発泡体の一体成形工程としては、基材１付き非発泡ウレタンシート２の表面にポリウレタン原料を塗布し、さらに基材４を被せ、加熱し（８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ）弾性体３を得る。又は、基材４にポリウレタン原料を塗布し、更に基材１を被せ、加熱し（８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ）発泡させても良い。
図１において、弾性体３は熱硬化性ポリウレタン発泡体である。圧縮永久歪を１０以下にし、長期使用でも「へたり」を少なくするために、このタイプのウレタン発泡体を使用する。なお、４は弾性体から剥離可能な基材であって、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルムが好ましく使用され、この外にポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ナイロンフィルム等を使用可能な基材に挙げられる。
Next, as an integral molding process of the urethane foam in
In FIG. 1, the
次の図１（ｃ）の工程３のウレタン発泡体研磨工程においては、基材４を剥離して取除き、弾性体３の表面を研磨して均一厚みにする。
続く工程４（図１（ｄ））の粘着テープ貼り付け工程においては、研磨加工されたウレタン発泡体（弾性体）３の被研磨面に基材付き粘着層５を貼り合わせる。なお、基材付き粘着層は、粘着剤−ＰＥＴフィルム−粘着剤−セパレータによって構成されている。
In the urethane foam polishing step of
In the subsequent adhesive tape attaching step of Step 4 (FIG. 1 (d)), the
更に、使用形態の一例を図２に示す。
前記図１（ｄ）の工程４で作成した研磨保持用パッドを所定の形状に切り取り、切断面（端部）を防水処理７する。なお、使用条件によってはこの端部の防水処理７は不要である。
このパッドを使用する際には、先ず基材１を剥離し、次いで基材付き粘着層５のセパレータを剥離したもの５’を定盤６に貼り付ける。そして、基材１が剥離された非発泡ウレタンシート２上に水を介して研磨対象物として、例えば、ガラス基盤を水の表面張力により吸着させ、研磨に付される。
Furthermore, an example of the usage pattern is shown in FIG.
The polishing holding pad created in
When using this pad, first, the
前記研磨保持用パッドの研磨対象物（被研磨物）と当接する非発泡低硬度ウレタンシートは、請求項１に記載の特徴を有するものであれば、ジイソシアナートとポリオールの重付加で作られるポリウレタンである限り熱可塑性、熱硬化性のどちらの樹脂であってもよい。
The non-foamed low-hardness urethane sheet that comes into contact with the object to be polished (the object to be polished) of the polishing holding pad is made by polyaddition of diisocyanate and polyol as long as it has the characteristics of
この非発泡ウレタンシートと定盤の間に介在させるポリウレタン発泡体（弾性体）３は、請求項１に記載した圧縮永久歪が１０以下の熱硬化性ポリウレタン発泡体でなければならない。そのためには、密度が３００ｋｇ／ｍ３近辺である必要がある。こうすることで、研磨保持用パッドとしての好適な圧縮応力や長期使用での「へたり」の少なさを維持できるばかりでなく、低吸水性にもなる。密度が３００ｋｇ／ｍ３を可成り下回る場合にはフォーム体の吸水量が増加し、被研磨物との吸着性が低下する。さらに、密度が低くなるほど単位面積当りの塗布量が少なくなり、また発泡倍率も増すため、厚み精度が悪くなる。また、密度が３００ｋｇ／ｍ３を大幅に超えると、フォーム体が硬くなり、十分なクッション性を得ることができなくなる。結果として、研磨時の衝撃で研磨対象のガラス基板が外れる惧れがある。従って、密度は３００ｋｇ／ｍ３前後が好ましい。
The polyurethane foam (elastic body) 3 interposed between the non-foamed urethane sheet and the surface plate must be a thermosetting polyurethane foam having a compression set of 10 or less according to
前記ポリウレタン発泡体（弾性体）３は、ポリオール、ポリイソシアネート、発泡剤、触媒および必要に応じ架橋剤、着色剤、樹脂改質剤、難然剤、紫外線吸収剤、耐久性改良剤から選択される添加剤、等の配合物を混合撹拌して得られた反応原料を、剥離処理を施した工程紙（基材）４の剥離面に均一に塗布した後、この塗布原料の上面に剥離面がくるように工程紙を被せて加熱発泡して硬化させ、自己スキン層を形成したエアリークの無い独立気泡性ポリウレタン発泡体を形成することで製造できる。 The polyurethane foam (elastic body) 3 is selected from polyols, polyisocyanates, foaming agents, catalysts and, if necessary, cross-linking agents, colorants, resin modifiers, refractory agents, ultraviolet absorbers, and durability improvers. After the reaction raw material obtained by mixing and stirring a compound such as an additive is uniformly applied to the release surface of the process paper (base material) 4 subjected to the release treatment, the release surface is applied to the upper surface of the application raw material. It is possible to manufacture by forming a closed-cell polyurethane foam having no air leak and having a self-skin layer formed by covering the process paper so as to be heated and foaming and curing.
前記ポリオール類としては、ポリエステルポリオールあるいはポリエーテルポリオールがあるが、疎水性のポリオールを用いることで、水との接触角が９０°以上のポリウレタン発泡体を得ることができ好ましい。例えば、ポリブタジエン系ポリオール、ダイマー酸系ポリオール、ヒマシ油系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール或いはポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。この中でも、ポリテトラメチレングリコールは強度が出て、長期使用に耐えるため好ましい。また、ダイマー酸系ポリオールは特に疎水性が高くなり好ましい。 Examples of the polyols include polyester polyols and polyether polyols, and using a hydrophobic polyol is preferable because a polyurethane foam having a contact angle with water of 90 ° or more can be obtained. For example, polybutadiene-based polyol, dimer acid-based polyol, castor oil-based polyol, polycarbonate-based polyol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol and the like can be mentioned. Among these, polytetramethylene glycol is preferable because it has high strength and can withstand long-term use. In addition, dimer acid-based polyols are particularly preferred because of their high hydrophobicity.
また、多官能性イソシアナートとしては、分子中にイソシアナート基を２個以上含有する芳香族イソシアナートおよび脂肪酸族イソシアナートそれらの変成物を用いることができる。具体的には、トルエンジイソシアナート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）、キシレンジイソシアナート（ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアナート（ＴＭＸＤＩ）等、およびこれらの混合物等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらをプレポリマーにすることで伸びおよび強度、耐久性が向上し、長期の使用が可能になる。 Moreover, as a polyfunctional isocyanate, the aromatic isocyanate which contains two or more isocyanate groups in a molecule | numerator, and fatty acid group isocyanate those modified products can be used. Specifically, toluene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), isophorone diisocyanate (IPDI), hexamethylene diisocyanate (HDI), xylene diisocyanate (XDI), tetramethylxylylene diene Isocyanate (TMXDI) and the like, and mixtures thereof can be used, but are not limited thereto. Further, by using these as prepolymers, the elongation, strength and durability are improved, and long-term use becomes possible.
前記発泡剤として、水、常圧で気体の窒素ガス、炭酸ガスおよび空気等の不活性ガス、モノフッ化トリ塩化メタンや塩化メタン等のハロゲン化アルカン、ブタンやペンタン等の低沸点アルカン、分解窒素ガス等を発生するアゾビスイソブチルニトリル等およびこれらの混合物が用いられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the blowing agent include water, nitrogen gas at normal pressure, inert gas such as carbon dioxide and air, halogenated alkanes such as monofluorinated trichloromethane and chloromethane, low-boiling alkanes such as butane and pentane, and decomposed nitrogen Azobisisobutylnitrile and the like that generate gas and the like and mixtures thereof are used, but are not limited thereto.
この発明の研磨保持用パッドの固定定盤６に装着するための弾性体としてのポリウレタン発泡体３は、前記実施の形態に示した製造方法だけでなく、前記のような諸原料を使用して、従来から知られているワンショット法、部分プレポリマー法等の方法によって製造してもよい。製造されるポリウレタン発泡体は、モールド成形、連続シート成形等によってシート状に成形すると、研磨保持用パッドのクッション材に使用するのに好都合となるので好ましい。特に、前記実施の形態で示した上下面の離型紙と非発泡ポリウレタンシートとの間にポリウレタン原液を挟み込んで発泡させる「シート状発泡法」が最も適する方法である。
The
次に、本発明を実施例及び比較例により詳細に説明する。以下において、「部」及び「％」は重量基準の単位とする。
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの微小な凹凸の表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを４０μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、厚み５μｍ、表面粗さ（Ｒａ）６μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
次にポリウレタン原料として、ポリオールとしてダイマー酸ポリエステルジオール（分子量１２３６、水酸基価１０４．４、ＤＩＣ株式会社製ＵＡ２８１２）１００部とポリイソシアネートとして４，４−ジフェニルメタンジイソシアネートとＰＰＧとのプレポリマー（イソシアネート含有量１３．１ｗｔ％、日本ポリウレタン株式会社製ＤＣ６９７４）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０５で混合し、３５℃に温調した。更に触媒として１，８−ジアザ・ビシクロ［５，４，０］ウンデセン・７有機酸塩（三洋化成製ＳＡ１０２）を０．４部、発泡剤として水を０．５部添加し、よく攪拌した後に基材４上に塗布し、基材１付き非発泡ウレタンシート２を被せ、８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎｎ加温し、厚み１ｍｍ、密度；３００ｋｇ／ｍ３の弾性体を得た。更に基材４を取除き、弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付き粘着層５を貼り付けた。
Next, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples. In the following, “part” and “%” are units based on weight.
Thermoplastic polyurethane resin 2 (Zoltex PX manufactured by DIC Corporation) with a 1: 2 organic solvent of methylethylketone: toluene on a base material 1 (FN manufactured by Lintec Corporation) having a surface roughness (Ra) of 11 μm and fine irregularities. -550) diluted to a solid content of 20% using a 40 μm gap squeegee, dried for 70 ° C. × 5 min, non-foamed urethane having a thickness of 5 μm and a surface roughness (Ra) of 6
Next, as a polyurethane raw material, 100 parts of dimer acid polyester diol (molecular weight 1236, hydroxyl value 104.4, DIC Corporation UA2812) as polyol and prepolymer (isocyanate content) of 4,4-diphenylmethane diisocyanate and PPG as polyisocyanate 13.1 wt%, Nippon Polyurethane Co., Ltd. DC6974) was mixed at an NCO / OH ratio = 1.05, and the temperature was adjusted to 35 ° C. Further, 0.4 part of 1,8-diaza-bicyclo [5,4,0] undecene-7 organic acid salt (SA102 manufactured by Sanyo Chemical Industries) was added as a catalyst, and 0.5 part of water was added as a blowing agent, and the mixture was stirred well. after coating onto the
表面粗さ（Ｒａ）１７μｍの微小な凹凸の表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製１０８ＳＧ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製クリスボンＮＢ−６３７Ｎ）の固形分が２０％になるように希釈したものを２００μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）１５μｍ、厚み２３μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。以降は実施例１と同じ作業を行い、粘着テープ付きウレタンシートを作製した。
Thermoplastic polyurethane resin 2 (Chrisbon NB manufactured by DIC Corporation) with a 1: 2 organic solvent of methyl ethyl ketone: toluene on a base material 1 (108 SG manufactured by Lintec Corporation) having a surface roughness (Ra) of 17 μm. -637N) diluted to a solid content of 20%, coated with a squeegee with a gap of 200 μm, dried for 70 ° C. × 5 min, and non-foamed urethane having a surface roughness (Ra) of 15 μm and a thickness of 23
表面粗さ（Ｒａ）４．６μｍの微小な凹凸の表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製Ｒ８）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを２００μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）６μｍ、厚み２０μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。以降は実施例１と同じ作業を行い、粘着テープ付きウレタンシートを作製した。
Thermoplastic polyurethane resin 2 (manufactured by DIC Corporation) with a 1: 2 organic solvent of methyl ethyl ketone: toluene on a base material 1 (R8 manufactured by Lintec Corporation) having a surface roughness (Ra) of 4.6 μm and a minute unevenness. Zoltex PX-550) diluted to a solid content of 20% is coated using a squeegee with a gap of 200 μm, dried for 70 ° C. × 5 min, and has a surface roughness (Ra) of 6 μm and a thickness of 20 μm. A foamed
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの微小な凹凸の表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）に熱硬化性ポリウレタン樹脂としてポリオールとしてダイマー酸ポリエステルジオール（分子量１２３６、水酸基価１０４．４、ＤＩＣ株式会社製ＵＡ２８１２）１００部とポリイソシアネート成分のカルボジイミド変性４、４−ジフェニルメタンジイソシアネート（イソシアネート含有量２９．５ｗｔ％、日本ポリウレタン株式会社製Ｃ−９８）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０５で混合し、３５℃で温調し、更に触媒としてジブチルチンジラウレート（Ｕ−１００）を０．３５部添加し、よく攪拌及び脱泡した後にポリウレタン原料を２５０μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、１００℃×１０ｍｉｎ間加温し、表面粗さ（Ｒａ）７．１μｍ、厚み２４μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
次に、ポリオール成分のポリテトレメチレングリコール（分子量２０００、水酸基価５７、三菱化学株式会社製ＰＴＭＧ２０００）１００部及びトリメチロールプロパントリメタクリレート（ＩＲ９４）５部とポリイソシアネートとして４，４−ジフェニルメタンジイソシアネートとＰＰＧとのプレポリマー（イソシアネート含有量１３．１ｗｔ％、日本ポリウレタン株式会社製ＤＣ６９７４）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０５で混ぜ、３５℃に温調した。更に触媒として１，８−ジアザ・ビシクロ［５，４，０］ウンデセン・７有機酸塩（三洋化成製ＳＡ１０２）０．４部、発泡剤として水を０．５部添加し、よく攪拌した後にポリウレタン原料を基材４上に塗布し、基材１付非発泡ウレタンシート２を被せ、８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎｎ加温し、厚み１ｍｍ、密度；３００ｋｇ／ｍ３の弾性体を得た。更に基材４を取除き、弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付き粘着層５を貼り付けた。
Dimer acid polyester diol (molecular weight 1236, hydroxyl value 104.4, DIC) as a polyol as a thermosetting polyurethane resin on a base material 1 (FN) manufactured by Lintec Corporation having a surface roughness (Ra) of 11 μm and fine irregularities. 100 parts of UA2812 manufactured by Co., Ltd. and carbodiimide-modified 4,4-diphenylmethane diisocyanate (isocyanate content 29.5 wt%, C-98 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) of polyisocyanate component were mixed at an NCO / OH ratio = 1.05. The temperature was adjusted at 35 ° C., 0.35 part of dibutyltin dilaurate (U-100) was further added as a catalyst, and after stirring and defoaming, the polyurethane raw material was applied using a squeegee with a gap of 250 μm. Heated for 10 min, surface roughness (Ra) 7.1 μm, thickness To prepare a
Next, 100 parts of polyol component polytetramethylene glycol (molecular weight 2000, hydroxyl value 57, PTMG 2000 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 5 parts of trimethylolpropane trimethacrylate (IR94) and 4,4-diphenylmethane diisocyanate and PPG as polyisocyanate The prepolymer (isocyanate content 13.1 wt%, DC6974 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) was mixed at an NCO / OH ratio = 1.05, and the temperature was adjusted to 35 ° C. Further, 0.4 part of 1,8-diaza-bicyclo [5,4,0] undecene-7 organic acid salt (SA102 manufactured by Sanyo Chemical Industries) as a catalyst and 0.5 part of water as a blowing agent were added and stirred well. A polyurethane raw material is coated on the
表面粗さ（Ｒａ）０．５μｍの微小な凹凸の表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＰＥＴＬＳＭ１００ＧＳ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを２５０μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）０．８μｍ、厚み３０μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
次に実施例１と同様にその上に弾性体を発泡させた。更に基材４を取除き、弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付き粘着層５を貼り付けた。
Thermoplastic polyurethane resin 2 (manufactured by DIC Corporation) with a 1: 2 organic solvent of methylethylketone: toluene on a base material 1 (PETLSM100GS manufactured by Lintec Corporation) having a surface roughness (Ra) of 0.5 μm and minute irregularities. Zoltex PX-550) diluted to a solid content of 20% is coated using a squeegee with a gap of 250 μm, dried for 70 ° C. × 5 min, surface roughness (Ra) 0.8 μm, thickness 30 μm A
Next, an elastic body was foamed thereon as in Example 1. Further, the
表面粗さ（Ｒａ）０μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＰＥＴ１００ＧＳ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを２００μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）０．３μｍ、厚み２０μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。更に実施例１と同様にその上に弾性体を発泡させたあと更に基材４を取除き、弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付粘着層５を貼り付けた。
The surface of the base material 1 (PET100GS manufactured by Lintec Corporation) having a surface roughness (Ra) of 0 μm is coated with a thermoplastic polyurethane resin 2 (Zoltex PX-550 manufactured by DIC Corporation) with a 1: 2 organic solvent of methyl ethyl ketone: toluene.
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）にポリオールＥＰ５５１Ｃ（分子量３０００、水酸基価５７、三井化学株式会社製）１００部とカルボジイミド変性４、４−ジフェニルメタンジイソシアネート（イソシアネート含有量２９．５ｗｔ％、日本ポリウレタン株式会社製Ｃ・９８）を１５部、触媒として１，８−ジアザ・ビシクロ［５，４，０］ウンデセン・７有機酸塩（三洋化成製ＳＡ１０２）を０．４部混合し脱泡したものを１００μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、８０℃×３ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ間加温させ、表面粗さ（Ｒａ）５．５μｍ、厚み２５μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
次に、ポリオール成分の分子量２０００のポリテトレメチレングリコール（分子量２０００、水酸基価５７、三菱化学株式会社製ＰＴＭＧ２０００）とトリメチロールプロパントリメタクリレート（ＩＲ−９４）５部とポリイソシアネート成分のカルボジイミド変性４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート（イソシアネート含有量２９．５ｗｔ％、日本ポリウレタン株式会社製Ｃ・９８）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０５で混合し、３５℃に温調した。触媒として１，８−ジアザ・ビシクロ［５，４，０］ウンデセン・７有機酸塩（三洋化成製ＳＡ１０２）を０．４部、発泡剤として水を０．５部添加し、よく攪拌した後に非発泡ウレタンシート上にポリウレタン原料を塗布し、更に塗布後にその上から別の基材４を被せ、８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ加温し、ポリウレタン熱硬化性ポリウレタン発泡体を作製した。更に基材４を取除き、弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付き粘着層５を貼り付けた。
Next, polytetramethylene glycol having a molecular weight of 2000 (molecular weight 2000, hydroxyl value 57, Mitsubishi Chemical Co., Ltd. PTMG 2000) and 5 parts of trimethylolpropane trimethacrylate (IR-94) and carbodiimide modification of the
表面粗さ（Ｒａ）２０μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製Ｒ８０Ｎ２）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを２００μｍ間隙のスキージ等を用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）１９μｍ、厚み２３μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
次に、熱硬化性ポリウレタン樹脂としてポリオールとしてダイマー酸ポリエステルジオール（分子量１２３６、水酸基価１０４．４、ＤＩＣ株式会社製ＵＡ２８１２）１００部とポリイソシアネートとして４、４−ジフェニルメタンジイソシアネート（イソシアネート含有量１３．１ｗｔ％、日本ポリウレタン株式会社製ＤＣ６９７４）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０５で混合し、３５℃に温調した。触媒として１，８−ジアザ・ビシクロ［５，４，０］ウンデセン・７有機酸塩（三洋化成製ＳＡ１０２）を０．４部、発泡剤として水を０．５部添加し、よく攪拌した後に非発泡ウレタンシート上にポリウレタン原料を塗布し、更に塗布後にその上から別の基材４を被せ、８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ加温し、ポリウレタン熱硬化性ポリウレタン発泡体を作製した。更に基材４を取除き、弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付粘着層５を貼り付けた。
Surface roughness (Ra) of
Next, dimer acid polyester diol (molecular weight 1236, hydroxyl value 104.4, UA2812 manufactured by DIC Corporation) as a polyol as a thermosetting polyurethane resin and 4,4-diphenylmethane diisocyanate (isocyanate content 13.1 wt as polyisocyanate) %, Nippon Polyurethane Co., Ltd. DC6974) was mixed at an NCO / OH ratio = 1.05, and the temperature was adjusted to 35 ° C. After adding 0.4 parts of 1,8-diaza-bicyclo [5,4,0] undecene-7 organic acid salt (SA102 manufactured by Sanyo Chemical Industries) as a catalyst and 0.5 parts of water as a blowing agent, the mixture was stirred well. A polyurethane raw material was applied onto a non-foamed urethane sheet, and after the application, another
ポリオールとしてダイマー酸ポリエステルジオール（ＤＩＣ株式会社製分子量１２５９、水酸基価８９．１、ＤＩＣ株式会社製ＵＡ２７０１）とポリイソシアネートとして４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート（イソシアネート含有量１３．１％、日本ポリウレタン株式会社製ＤＣ６９７４）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０５で混合し、３５℃に温調した。更に触媒として１，８−ジアザ・ビシクロ［５，４，０］ウンデセン・７有機酸塩（三洋化成製ＳＡ１０２）０．４部、発泡剤として水を０．５部添加し、よく攪拌した後にポリウレタン原料を表面粗さ（Ｒａ）０．８μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＴＰ−ＳＧ）上に塗布し、更に塗布後にその上から別の基材４を被せ、８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ加温し、表面粗さ（Ｒａ）１０．２μｍの微小な凹凸の表面形状を接触角１０５度、厚み１ｍｍ、密度；３００ｋｇ／ｍ３の熱硬化性ポリウレタン発泡体を作製した。弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付き粘着層５を貼り付けた。
Dimer acid polyester diol (molecular weight 1259 manufactured by DIC Corporation, hydroxyl value 89.1, UA 2701 manufactured by DIC Corporation) as polyol and 4,4-diphenylmethane diisocyanate (isocyanate content 13.1%, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as polyisocyanate DC6974) was mixed at an NCO / OH ratio = 1.05, and the temperature was adjusted to 35 ° C. Further, 0.4 part of 1,8-diaza-bicyclo [5,4,0] undecene-7 organic acid salt (SA102 manufactured by Sanyo Chemical Industries) as a catalyst and 0.5 part of water as a blowing agent were added and stirred well. A polyurethane raw material is coated on a base material 1 (TP-SG manufactured by Lintec Co., Ltd.) having a surface shape with a surface roughness (Ra) of 0.8 μm. X2 min, 120 ° C. x 4 min heated, surface roughness (Ra) 10.2 μm fine uneven surface shape with a contact angle of 105 degrees,
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを２００μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）４．９μｍ、厚み２６μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
次に、熱硬化性ポリウレタン樹脂としてポリオール成分の分子量２０００のポリテトレメチレングリコール（分子量２０００、水酸基価５７、三菱化学株式会社製ＰＴＭＧ２０００）とポリイソシアネート成分のトルエンジイソシアネート（イソシアネート含有量３０％、日本ポリウレタン株式会社製Ｔ−６５）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０で混合し、３５℃に温調した。触媒としてジブチルチンジラウレート（日東化成株式会社製ネオスタンＵ−１００）を０．１５部添加し、トリエチレンジアミン（花王株式会社製カオーライザーＮｏ．３０Ｐ）を０．１５部、発泡剤として水を０．５部添加し、よく攪拌した後に非発泡ウレタンシート上にポリウレタン原料を塗布し、更に塗布後にその上から別の基材４を被せ、８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ加温し、密度２８０ｋｇ／ｍ３の熱硬化性ポリウレタン発泡体を作製した。弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付き粘着層５を貼り付けた。
Surface roughness (Ra) of
Next, as a thermosetting polyurethane resin, a polytetramethylene glycol having a molecular weight of 2000 (molecular weight 2000, hydroxyl value 57, Mitsubishi Chemical Co., Ltd. PTMG2000) as a thermosetting polyurethane resin and toluene diisocyanate as a polyisocyanate component (isocyanate content 30%, Nippon Polyurethane) T-65) was mixed at an NCO / OH ratio = 1.0, and the temperature was adjusted to 35 ° C. 0.15 parts of dibutyltin dilaurate (Neostan U-100 manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) was added as a catalyst, 0.15 parts of triethylenediamine (Caorizer No. 30P manufactured by Kao Corporation), and water as a foaming agent was added in an amount of 0.15. After adding 5 parts and stirring well, a polyurethane raw material is coated on a non-foamed urethane sheet, and after coating, another
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを６０μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）７μｍ、厚み２．５μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
次に、熱硬化性ポリウレタン樹脂としてポリオールとしてダイマー酸ポリエステルジオール（分子量１２３６、水酸基価１０４．４、ＤＩＣ株式会社製ＵＡ２８１２）１００部とポリイソシアネートとして４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート（イソシアネート含有量１３．１ｗｔ％、日本ポリウレタン株式会社製ＤＣ６９７４）をＮＣＯ／ＯＨ比率＝１．０５で混合し、３５℃に温調した。触媒として１，８−ジアザ・ビシクロ［５，４，０］ウンデセン・７有機酸塩（三洋化成製ＳＡ１０２）を０．４部、発泡剤として水を０．５部添加し、よく攪拌した後に非発泡ウレタンシート上にポリウレタン原料を塗布し、更に塗布後にその上から別の基材４を被せ、８０℃×２ｍｉｎ、１２０℃×４ｍｉｎ加温し、ポリウレタン熱硬化性ポリウレタン発泡体を作製した。更に基材４を取除き、弾性体３の表面を平滑研磨し、厚み公差±０．０１ｍｍに調整した後に基材付き粘着層５を貼り付けた。
Surface roughness (Ra) of
Next, dimer acid polyester diol (molecular weight 1236, hydroxyl value 104.4, UA2812 manufactured by DIC Corporation) as a polyol as a thermosetting polyurethane resin and 4,4-diphenylmethane diisocyanate (isocyanate content 13.1 wt as polyisocyanate) %, Nippon Polyurethane Co., Ltd. DC6974) was mixed at an NCO / OH ratio = 1.05, and the temperature was adjusted to 35 ° C. After adding 0.4 parts of 1,8-diaza-bicyclo [5,4,0] undecene-7 organic acid salt (SA102 manufactured by Sanyo Chemical Industries) as a catalyst and 0.5 parts of water as a blowing agent, the mixture was stirred well. A polyurethane raw material was applied onto a non-foamed urethane sheet, and after the application, another
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈したものを４００μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）５μｍ、厚み５０μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
以降は比較例６と同じ作業を行い、粘着テープ付きウレタンシートを作製した。
Surface roughness (Ra) of
Thereafter, the same operation as in Comparative Example 6 was performed to produce a urethane sheet with an adhesive tape.
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈し、ポリブテン（新日本石油株式会社製ＬＶ−１００）を５部添加し、混合したものを２００μｍ間隙のスキージ等を用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）６．１μｍ、厚み２２μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
以降は比較例６と同じ作業を行い、粘着テープ付きウレタンシートを作製した。
Surface roughness (Ra) of
Thereafter, the same operation as in Comparative Example 6 was performed to produce a urethane sheet with an adhesive tape.
表面粗さ（Ｒａ）１１μｍの表面形状を持つ基材１（リンテック株式会社製ＦＮ）にメチルエチルケトン：トルエンの１：２の有機溶剤で熱可塑性ポリウレタン樹脂２（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＰＸ−５５０）の固形分が２０％になるように希釈し、イソシアネートプレポリマー（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＣＬ−１５）を３部、有機錫触媒（ＤＩＣ株式会社製ゾルテックスＴ・８１Ｅ）を３部添加し、混合したものを２００μｍ間隙のスキージを用いて塗工し、７０℃×５ｍｉｎ間乾燥させ、表面粗さ（Ｒａ）６．１μｍ、厚み２４μｍの非発泡ウレタンシート２を作製した。
以降は比較例６と同じ作業を行い、粘着テープ付きウレタンシートを作製した。
Surface roughness (Ra) of
Thereafter, the same operation as in Comparative Example 6 was performed to produce a urethane sheet with an adhesive tape.
表１、表２及び表３における各用語の意味を以下に示す。
表面粗さ（Ｒａ）：各工程紙で作製した非発泡ウレタンシート表面の表面粗さＲａを表面粗さ計で測定した値を示す。表面粗さ計は、株式会社東京精密製ＳＵＲＦＣＯＭ１１０Ａを使用した。
保持力：試験治具に５０×５０ｍｍ角のサンプル片を貼付け、８ｇ／ｃｍ２の荷重がかかるように調整する。５０μＬの水をガラス上に滴下し、その上にサンプル片を馴染ませ、静値させる。ガラス板と水平方向にサンプル片を引張り、サンプル片がずれる時の引張力のピーク値を測定した。単位；Ｎ（ニュートン） 引張速度；１００ｍｍ／ｍｉｎ。試験機；ＵＴ４−５ＫＮ
エアー残留性：１００×１００ｍｍ角のガラス板を０．１ｍｌの霧状の水で濡らした保持パッド材上に５°の傾きをつけた状態から静かに置く。ガラス上に４００ｇのおもりを１分置いた後、おもりを外し、エアーの有無を確認する。
吸水量：１００×１００ｍｍ角のガラス板上に１ｍｌの水を滴下し、その上に５０×５０ｍｍ角のサンプル片を静置させる。８０ｇ／ｃｍ２の荷重を繰返し１０回かけ、吸水した水の量を測定した。単位；ｍｇ
スラリー残留性：１００×１００ｍｍ角のガラス板上に０．１ｍｌの研磨用スラリー液を滴下し、その上に５０×５０ｍｍ角のサンプル片を静置させる。８０ｇ／ｃｍ２の荷重を繰返し１０回かけた後、流水でスラリーを洗い流す。保持パッド材表面にスラリー（研磨砥粒）を目視にて確認できなければ○、スラリーを目視にて確認できた場合を×とした。
The meaning of each term in Table 1, Table 2 and Table 3 is shown below.
Surface roughness (Ra): A value obtained by measuring the surface roughness Ra of the surface of the non-foamed urethane sheet prepared with each process paper with a surface roughness meter. As the surface roughness meter, SURFCOM110A manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. was used.
Holding power: A 50 × 50 mm square sample piece is attached to the test jig and adjusted so that a load of 8 g / cm 2 is applied. 50 μL of water is dropped on the glass, and the sample piece is conditioned on it and allowed to settle. The sample piece was pulled horizontally with the glass plate, and the peak value of the tensile force when the sample piece was displaced was measured. Unit: N (Newton) Tensile speed: 100 mm / min. Testing machine: UT4-5KN
Air persistence: A 100 × 100 mm square glass plate is gently placed on a holding pad material wetted with 0.1 ml of mist-like water from a 5 ° tilted state. After placing a 400 g weight on the glass for 1 minute, remove the weight and check for air.
Water absorption: 1 ml of water is dropped on a 100 × 100 mm square glass plate, and a 50 × 50 mm square sample piece is allowed to stand on it. A load of 80 g / cm 2 was repeatedly applied 10 times, and the amount of absorbed water was measured. Unit: mg
Slurry persistence: 0.1 ml of slurry liquid for polishing is dropped on a 100 × 100 mm square glass plate, and a 50 × 50 mm square sample piece is allowed to stand on it. After repeatedly applying a load of 80 g / cm 2 10 times, the slurry is washed away with running water. The case where the slurry (abrasive grains) could not be visually confirmed on the surface of the holding pad material was evaluated as “◯”, and the case where the slurry was visually confirmed was evaluated as “x”.
乾燥時間：５０×５０ｍｍ角のガラス板を一定量の霧状の水で濡らした保持パッド材上に静置する。５０％圧縮率でガラス板を１０回／分で４分間上下した後、８０℃のオーブン中に１分間入れ、乾燥しているか否かを確認する。
復元性：７０℃オーブンにて促進した、５０％圧縮永久歪。
非発泡ウレタンシート樹脂：熱可塑性とは熱可塑性ポリウレタン樹脂を用いて作製したものをいい、熱硬化とは熱硬化性ポリウレタン樹脂を用いて作製したシートを言う。
厚み；非発泡ウレタンシートを株式会社ミツトヨ製ＩＤ−Ｈで測定した値である。単位；μｍ
接触角：鏡面仕上げのＰＥＴ上に各ポリウレタン原料を塗布、乾燥し、平滑なフィルム状となしたものを接触角計で測定した値である。接触角計としては協和接触角計ＣＡ―Ａ型（協和科学社製）を使用した。
ポリウレタン発泡体：エステルとは、各種ポリエステルポリオール原料を使用し、所定の条件で発泡させたポリウレタン発泡体をいい、エーテルとはポリエーテルポリオール原料を使用し、所定の条件で発泡させたポリウレタン発泡体いう。
圧縮応力：３０×３０ｍｍのサンプルを１０枚積層し、１ｍｍ／ｍｉｎの速度で２５％圧縮したときの圧縮応力値（ＪＩＳ Ｋ６４００−２準拠）。測定機は島津製作所製ａｕｔｏｇｒａｐｈＡＧ−Ｘを使用した。単位；ＭＰａ
耐磨耗性；ＪＩＳ Ｋ５６００・５・９＜塗膜・機械的性質（第９節；耐磨耗性（磨耗輪法））準拠
磨耗輪；Ｈ・１８、荷重２５０ｇを用い、試験サンプルの重量減少率（％）を測定した値である。耐磨耗試験機はティーバー式（東洋精機製）を使用した。
Drying time: A glass plate of 50 × 50 mm square is left on a holding pad material wetted with a certain amount of mist water. The glass plate is moved up and down at a rate of 50% at 10 times / minute for 4 minutes, and then placed in an oven at 80 ° C. for 1 minute to check whether it is dry.
Restorability: 50% compression set promoted in a 70 ° C. oven.
Non-foamed urethane sheet resin: Thermoplastic means a material made using a thermoplastic polyurethane resin, and thermosetting means a sheet made using a thermosetting polyurethane resin.
Thickness: A value obtained by measuring a non-foamed urethane sheet with ID-H manufactured by Mitutoyo Corporation. Unit: μm
Contact angle: A value obtained by measuring each polyurethane raw material on a mirror-finished PET and drying it to form a smooth film with a contact angle meter. As a contact angle meter, Kyowa contact angle meter CA-A type (manufactured by Kyowa Science Co., Ltd.) was used.
Polyurethane foam: An ester refers to a polyurethane foam that is foamed under specified conditions using various polyester polyol raw materials. An ether is a polyurethane foam that is foamed under predetermined conditions using a polyether polyol raw material. Say.
Compressive stress: Compressive stress value (according to JIS K6400-2) when 10 samples of 30 × 30 mm are stacked and compressed by 25% at a speed of 1 mm / min. The measuring machine used was autograph AG-X manufactured by Shimadzu Corporation. Unit: MPa
Wear resistance; JIS K5600 ・ 5 ・ 9 <Paint / Mechanical properties (Section 9; Wear resistance (wear ring method)) compliant wear wheel; Weight of test sample using H · 18 and load 250g It is a value obtained by measuring the reduction rate (%). A tea bar type (manufactured by Toyo Seiki) was used as an abrasion resistance tester.
表１に示した結果から、実施例１〜５は、研磨対象物を吸着保持する非発泡ウレタンシートの厚み、圧縮応力、接触角及び表面粗さ、並びにポリウレタン発泡体のタイプ、エステルタイプ又はエーテルタイプにより保持力、復元性、耐摩耗性などに若干のバラツキが見られるものの、エアー残留性（空気の咬み込み）、吸水量、スラリー残留性、乾燥時間において十分満足できる結果が得られている。 From the results shown in Table 1, in Examples 1 to 5, the thickness, compression stress, contact angle and surface roughness of the non-foamed urethane sheet that adsorbs and holds the object to be polished, and the type of polyurethane foam, ester type or ether Although there is some variation in holding power, resilience, wear resistance, etc. depending on the type, satisfactory results have been obtained in terms of air persistence (air bite), water absorption, slurry persistence, and drying time. .
一方、表２及び表３に示した結果から比較例１は表面粗さ（Ｒａ）が０．３と小さすぎて表面がほぼ平坦なため保持力が０．８と極めて小さくなるだけでなく、エアー残留性も悪化し不合格と言える。比較例２は接触角が８０°と低いため親水性が生じ、そのため吸水量が大きく乾燥時間が長くなり実用的に非効率的になるばかりでなく、非発泡ウレタンシートの厚みが２５μｍと厚いため圧縮応力も大きくなり、表面粗さが５．５とそこそこの値を有するものの保持力が２．１Ｎと言う不満足で不合格な結果になる。比較例３は、非発泡ウレタンシートの厚みが２３μｍと厚いため、表面粗さ（Ｒａ）が１９もあっても保持力が２Ｎと言う不満足で不合格なものになる。比較例４はポリウレタン発泡体だけからなるために、当然想到されることであるが吸水量が妥当な値であるにもかかわらず乾燥時間が長くなり、しかも耐摩耗性が悪化するだけでなく保持力も２．５Ｎと言う不満足で不合格となる結果を生じる。比較例５はポリウレタン発泡体の密度が２８０ｋｇ／ｍ３と若干低いため復元性（圧縮永久歪）が３０と大きく長期間の使用に耐えないだけでなく、吸水量も大きく乾燥時長時間要し実用性に劣るという不合格となる結果に終わる。 On the other hand, from the results shown in Tables 2 and 3, Comparative Example 1 not only has a surface roughness (Ra) as small as 0.3 and the surface is almost flat, so that the holding force is extremely small as 0.8, Air persistence deteriorates and it can be said that it is rejected. In Comparative Example 2, the contact angle is as low as 80 °, so that hydrophilicity is generated. Therefore, not only is the water absorption amount large and the drying time becomes long and practically inefficient, but also the thickness of the non-foamed urethane sheet is as thick as 25 μm. Although the compressive stress is increased, the surface roughness is 5.5 or so, but the holding force is 2.1 N, which is an unsatisfactory and unsatisfactory result. In Comparative Example 3, since the thickness of the non-foamed urethane sheet is as thick as 23 μm, even if the surface roughness (Ra) is 19, the holding power is 2N, which is unsatisfactory and unacceptable. Since Comparative Example 4 is composed only of polyurethane foam, it is naturally conceived that although the water absorption amount is a reasonable value, the drying time becomes longer and the wear resistance is not only deteriorated but also retained. The result is an unsatisfactory and unsatisfactory force of 2.5N. In Comparative Example 5, the density of the polyurethane foam is slightly low at 280 kg / m 3 , so that the resilience (compression set) is 30 and not only can withstand long-term use, but also has a large water absorption and requires a long time for drying. The result is a rejected result of inferior utility.
比較例６は非発泡ウレタンシートの厚みが２．５μｍと薄すぎたため、表面粗さ（Ｒａ）が７であったので保持力も４．５Ｎと言う良好な性能を有し、エアー残留性から復元性まで良好な性能を示したにもかかわらず、耐摩耗性（重量減少率）が０．５％という実施例に比べて見劣りするという不満足な結果になる。比較例７は比較例６とは反対に非発泡ウレタンシートの厚みが５０μｍと極めて厚過ぎたため、保持力以下耐摩耗性に至るまで良好な性能が得られたにもかかわらず非発泡ウレタンシートが破れるという不合格な結果となる。比較例７は非発泡ウレタンシートの厚みが２２μｍとやや厚かったため表面粗さ（Ｒａ）が６．１という程良い粗さであったにもかかわらず、保持力が２．７Ｎというやや見劣りする結果で不合格となる。比較例９は比較例８と同様に非発泡ウレタンシートの厚みが２４μｍと少々厚かったため表面粗さ（Ｒａ）が６．３という良好な粗さであったにもかかわらず、保持力が２Ｎと言う不満足で不合格な数値になる。 In Comparative Example 6, since the thickness of the non-foamed urethane sheet was too thin, 2.5 μm, the surface roughness (Ra) was 7, so the holding power was 4.5 N, and the performance was restored from the air residual property. In spite of the good performance, the abrasion resistance (weight reduction rate) is inferior to that of the example of 0.5%. In contrast to Comparative Example 6, the thickness of the non-foamed urethane sheet was 50 μm, which was very thick, so that the non-foamed urethane sheet was obtained even though good performance was obtained up to the holding force and the wear resistance. The result is an unacceptable failure. In Comparative Example 7, the thickness of the non-foamed urethane sheet was slightly thick at 22 μm, so the surface roughness (Ra) was as good as 6.1 but the holding power was 2.7 N. Will be rejected. In Comparative Example 9, as in Comparative Example 8, the thickness of the non-foamed urethane sheet was slightly thick at 24 μm, so the surface roughness (Ra) was 6.3, but the holding power was 2N. It becomes an unsatisfactory and unacceptable number.
１ 基材
２ 非発泡ウレタンシート
３ ポリウレタン発泡体
４ 基材
５ 基材付き粘着層（セパレータを付けた状態）
５’ 基材付き粘着層（セパレータで剥離した状態）
６ 定盤
７ 端部の防水処理加工
DESCRIPTION OF
5 'Adhesive layer with substrate (peeled with a separator)
6
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010085300A JP5935159B2 (en) | 2010-04-01 | 2010-04-01 | Polishing holding pad |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010085300A JP5935159B2 (en) | 2010-04-01 | 2010-04-01 | Polishing holding pad |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011212822A JP2011212822A (en) | 2011-10-27 |
| JP5935159B2 true JP5935159B2 (en) | 2016-06-15 |
Family
ID=44943101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010085300A Active JP5935159B2 (en) | 2010-04-01 | 2010-04-01 | Polishing holding pad |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5935159B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6835632B2 (en) * | 2017-03-08 | 2021-02-24 | 富士紡ホールディングス株式会社 | Holding pad and its manufacturing method |
| JP7343886B2 (en) * | 2019-01-11 | 2023-09-13 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Polishing head and polishing device |
| JP7425297B2 (en) | 2020-02-28 | 2024-01-31 | 富士紡ホールディングス株式会社 | work holding sheet |
| KR102594068B1 (en) | 2021-10-12 | 2023-10-24 | 에스케이엔펄스 주식회사 | Polishing pad and preparing method of semiconductor device using the same |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4862189B2 (en) * | 2005-02-14 | 2012-01-25 | 日本発條株式会社 | Polishing pad cushion material |
-
2010
- 2010-04-01 JP JP2010085300A patent/JP5935159B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011212822A (en) | 2011-10-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101455218B1 (en) | Polishing pad | |
| JP5521243B2 (en) | Polishing holding pad | |
| JP5254729B2 (en) | Polishing pad | |
| JP4261586B2 (en) | Polishing pad manufacturing method | |
| TWI415178B (en) | Cushion material for polishing pad | |
| JP5697889B2 (en) | Smoothing sheet | |
| JP2006334745A (en) | Adsorption pad for polishing and its manufacturing method | |
| WO2008029537A1 (en) | Method for production of polishing pad | |
| JP5935159B2 (en) | Polishing holding pad | |
| WO2012077592A1 (en) | Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing method using same | |
| TWI429504B (en) | A polishing pad and a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing the glass substrate | |
| TWI450799B (en) | Polishing pad and manufacturing method thereof, and manufacturing method of semiconductor device | |
| JP2013094929A (en) | Backing material | |
| TWI429503B (en) | Polishing pad and manufacturing method thereof, and manufacturing method of semiconductor device | |
| JP2004253764A (en) | Double-sided pressure sensitive adhesive sheet | |
| JP5810382B2 (en) | Polishing holding pad | |
| KR101730055B1 (en) | Polyurethane resin composition and polyurethane mounting pad | |
| US20230373055A1 (en) | Polishing pad and method for manufacturing polished product | |
| JP5437894B2 (en) | Method for producing perforated sheet | |
| JP5465578B2 (en) | Polishing pad, method for manufacturing the same, and method for manufacturing a semiconductor device | |
| JP2012223856A (en) | Backing material | |
| JP5869264B2 (en) | Method of manufacturing suction pad material for polishing | |
| JP6588785B2 (en) | Polishing pad | |
| JP2022153966A (en) | Abrasive pad and method for producing abrasive pad | |
| JP6513455B2 (en) | Polishing pad |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130220 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140123 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140203 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140401 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140904 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141104 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141104 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150408 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150706 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150722 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150811 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20150818 |
|
| A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20151016 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160308 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160420 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5935159 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |