JP5932064B2 - 粒子線照射装置、およびそれを備えた粒子線治療装置 - Google Patents
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Description
4…走査情報記憶部、5…走査電磁石電源制御部、
6…粒子線モニタセンサ、7…モニタパルス発生部、
8…走査電磁石制御部、9…粒子線モニタ、
10…治療計画装置、11…被照射体
Claims (5)
- 粒子線が照射対象を走査するための走査電磁石と、
前記照射対象を粒子線が走査する場合の複数の走査位置に関する走査位置情報と、前記複数の走査位置を走査する順番である走査順情報とを記憶する走査情報記憶部と、
この走査情報記憶部に記憶された前記走査位置情報と前記走査順情報に基づいて前記走査電磁石を制御する走査電磁石制御部と、を備えた粒子線照射装置において、
前記走査情報記憶部に記憶された前記走査位置情報は、隣り合う順番の前記走査位置情報が同一の走査位置情報となる部分を含み、
前記走査電磁石制御部は、ある走査位置において、走査位置によって変わることのない一定の照射線量が照射されたと判定するごとに、前記走査情報記憶部に記憶された次の順番の走査位置情報を取り出して、当該次の順番の走査位置情報に基づいて前記走査電磁石を制御することを特徴とする粒子線照射装置。 - 前記同一の走査位置情報が連続して記憶されているときの、当該同一の走査位置情報が連続する個数は、当該同一の走査位置情報に対応した走査位置における粒子線の計画照射線量に比例することを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。
- 所定の量の前記粒子線が通過するごとにモニタパルスを発生する粒子線モニタを備え、前記走査電磁石制御部は、前記モニタパルスが発生するごとに前記走査情報記憶部に記憶された次の順番の走査位置情報を取り出して、当該次の順番の走査位置情報に基づいて前記走査電磁石を制御することを特徴とする請求項2に記載の粒子線照射装置。
- 前記走査位置情報は、前記走査電磁石の前記走査位置に対応した励磁電流値であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の粒子線照射装置。
- 請求項2または請求項3に記載の粒子線照射装置を備えた粒子線治療装置であって、
前記複数の走査位置と、前記複数の走査位置を走査する順番と、前記走査位置毎の前記粒子線の計画照射線量とを決定する治療計画装置を備えたことを特徴とする粒子線治療装置。
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