JP5918630B2 - 形状シミュレーション装置、形状シミュレーション方法、および形状シミュレーションプログラム - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態の形状シミュレーション方法の手順を示したフローチャート図である。本実施形態の形状シミュレーション方法は、パーソナルコンピュータやワークステーション等の情報処理装置を使用して行われる。
次に、図4を参照し、ステップS3の詳細について説明する。
次に、図6を参照し、ステップS12の詳細について説明する。
次に、以上の説明を踏まえて、第1実施形態における計算時間について説明する。
次に、第1実施形態の変形例について説明する。
図15は、図6のステップS22〜S27の手順の変形例を示したフローチャート図である。
また、本実施形態では、図6や図15のフローにおいて、各計算要素に固有のローカル座標系を使用したが、代わりに、すべての計算要素に共通のグローバル座標系を使用してもよい。
また、本実施形態では、偏角φlocalの分割数Oは極角θlocalによらず一定としたが、代わりに、偏角φlocalの分割数Oは極角θlocalに応じて変化させてもよい。すなわち、偏角φlocalの分割数Oは、極角θlocalの刻みmに依存する変数としてもよい。
最後に、第1実施形態の効果について説明する。
図21は、第2実施形態の形状シミュレーション装置の構成を示す外観図である。
11:制御部、12:表示部、13:入力部、
21:CPU、22:ROM、23:RAM、24:HDD、
25:メモリドライブ、26:メモリI/F
Claims (6)
- 物質の表面を複数の計算要素に分割する分割部と、
各計算要素から複数の方向に直線を伸ばし、各直線が前記物質の表面にぶつかるか否かと、各直線がどの計算要素にぶつかるかとを判定する判定部と、
前記判定の結果に基づいて、各計算要素に直接的に到達する反応種のフラックスである直接フラックスと、前記計算要素同士の位置関係を示す形態係数とを計算する計算部とを備え、
前記計算部は、前記直接フラックスと前記形態係数とを使用して、各計算要素に直接的または間接的に到達する反応種のフラックスである総フラックスと、前記物質の局所的な表面成長速度の少なくともいずれかを計算し、
前記計算部は、前記直接フラックスと前記形態係数を、前記直線の方向を示す極角θと偏角φについてのループ計算により計算し、
前記計算部は、前記ループ計算を前記極角θの大きい方向から前記極角θの小さい方向へと順に行い、前記極角θがθ0となる方向において任意の前記偏角φで各直線が前記物質の表面にぶつからないと判定された場合には、前記極角θがθ0よりも小さい方向についての前記ループ計算を省略する、
形状シミュレーション装置。 - 物質の表面を複数の計算要素に分割する分割部と、
各計算要素から複数の方向に直線を伸ばし、各直線が前記物質の表面にぶつかるか否かと、各直線がどの計算要素にぶつかるかとを判定する判定部と、
前記判定の結果に基づいて、各計算要素に直接的に到達する反応種のフラックスである直接フラックスと、前記計算要素同士の位置関係を示す形態係数とを計算する計算部とを備え、
前記計算部は、前記複数の計算要素のうちの第1計算要素における前記直接フラックスを、前記第1計算要素から伸ばして前記物質の表面にぶつからなかった直線を用いて計算し、
前記計算部は、前記複数の計算要素のうちの前記第1計算要素および第2計算要素に関する前記形態係数を、前記第1計算要素から伸ばして前記第2計算要素にぶつかった直線を用いて計算し、
前記計算部は、前記直接フラックスと前記形態係数とを使用して、各計算要素に直接的または間接的に到達する反応種のフラックスである総フラックスと、前記物質の局所的な表面成長速度の少なくともいずれかを計算する、
形状シミュレーション装置。 - 前記判定部は、前記第1計算要素から複数の方向に直線を伸ばす際に、各直線を伸ばす方向を、前記第2計算要素の位置に基づかずに決定する、
請求項2に記載の形状シミュレーション装置。 - 前記計算部は、前記直接フラックスと前記形態係数を、前記直線の方向を示す極角θと偏角φについてのループ計算により計算し、
前記計算部は、前記ループ計算を前記極角θの大きい方向から前記極角θの小さい方向へと順に行い、前記極角θがθ0となる方向において任意の前記偏角φで各直線が前記物質の表面にぶつからないと判定された場合には、前記極角θがθ0よりも小さい方向についての前記ループ計算を省略する、
請求項2または3に記載の形状シミュレーション装置。 - 形状シミュレーション装置が、物質の表面を複数の計算要素に分割し、
前記形状シミュレーション装置が、各計算要素から複数の方向に直線を伸ばし、各直線が前記物質の表面にぶつかるか否かと、各直線がどの計算要素にぶつかるかとを判定し、
前記形状シミュレーション装置が、前記判定の結果に基づいて、各計算要素に直接的に到達する反応種のフラックスである直接フラックスと、前記計算要素同士の位置関係を示す形態係数とを計算し、
前記形状シミュレーション装置が、前記直接フラックスと前記形態係数とを使用して、各計算要素に直接的または間接的に到達する反応種のフラックスである総フラックスと、前記物質の局所的な表面成長速度の少なくともいずれかを計算する、
ことを含み、
前記形状シミュレーション装置は、前記複数の計算要素のうちの第1計算要素における前記直接フラックスを、前記第1計算要素から伸ばして前記物質の表面にぶつからなかった直線を用いて計算し、
前記形状シミュレーション装置は、前記複数の計算要素のうちの前記第1計算要素および第2計算要素に関する前記形態係数を、前記第1計算要素から伸ばして前記第2計算要素にぶつかった直線を用いて計算する、
形状シミュレーション方法。 - 物質の表面を複数の計算要素に分割し、
各計算要素から複数の方向に直線を伸ばし、各直線が前記物質の表面にぶつかるか否かと、各直線がどの計算要素にぶつかるかとを判定し、
前記判定の結果に基づいて、各計算要素に直接的に到達する反応種のフラックスである直接フラックスと、前記計算要素同士の位置関係を示す形態係数とを計算し、
前記直接フラックスと前記形態係数とを使用して、各計算要素に直接的または間接的に到達する反応種のフラックスである総フラックスと、前記物質の局所的な表面成長速度の少なくともいずれかを計算する、
ことを含む形状シミュレーション方法をコンピュータに実行させる形状シミュレーションプログラムであって、
前記複数の計算要素のうちの第1計算要素における前記直接フラックスは、前記第1計算要素から伸ばして前記物質の表面にぶつからなかった直線を用いて計算され、
前記複数の計算要素のうちの前記第1計算要素および第2計算要素に関する前記形態係数は、前記第1計算要素から伸ばして前記第2計算要素にぶつかった直線を用いて計算される、
形状シミュレーションプログラム。
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