JP5914445B2 - Decorative material or base material with transparent protective layer, method for producing the same, touch panel and mobile device - Google Patents

Decorative material or base material with transparent protective layer, method for producing the same, touch panel and mobile device Download PDF

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Description

本発明は、加飾材または透明保護層付き基材の製造方法、加飾材または透明保護層付き基材、該加飾材または透明保護層付き基材を備えたタッチパネルおよび該タッチパネルを備えたモバイル機器に関する。   The present invention includes a method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer, a decorative material or a substrate with a transparent protective layer, a touch panel provided with the decorative material or a substrate with a transparent protective layer, and the touch panel. Related to mobile devices.

近年、スマートホンに代表されるモバイル通信機器が普及してきている。モバイル機器の情報表示面側には、表示装置の引き回し回路等を使用者から視認されないようにするため、また見栄えをよくするため、情報表示部（画像表示部）を囲む枠状に加飾材が形成されて、加飾が行われている。モバイル機器のセンサー部位には保護の意味で透明保護層が形成されて、保護が行われている。   In recent years, mobile communication devices represented by smart phones have become widespread. On the information display surface side of the mobile device, a decorative material is formed in a frame surrounding the information display unit (image display unit) so that the display circuit and the like of the display device are not visually recognized by the user and to improve the appearance. Is formed and decorated. A transparent protective layer is formed on the sensor part of the mobile device to protect it.

フィルムやガラスなどの基材の加飾法や保護法には、シルクスクリーン方式やインクジェット方式で基材上に印刷する方法、仮支持体上に加飾層または透明保護層を形成しフィルムなどの基材に転写する方法、インサートやインモールド法で加飾層または透明保護層をフィルムなどの基材に形成する方法、熱転写リボンで基材上に熱転写する方法、等が挙げられる。   For decoration and protection methods for substrates such as film and glass, methods such as printing on the substrate using a silk screen method or inkjet method, forming a decorative layer or transparent protective layer on a temporary support, Examples thereof include a method of transferring to a substrate, a method of forming a decorative layer or a transparent protective layer on a substrate such as a film by an insert or in-mold method, a method of thermally transferring onto a substrate with a thermal transfer ribbon, and the like.

特開２０１２−５６１９３号公報 JP 2012-56193 A

ここで、スマートホンに代表されるモバイル通信機器では、外周形状は丸みを帯びさせるなど特徴的な任意の形状に加工されることが多いため、枠状の加飾材の外周側（枠外部）の境界については、さほどその形状が問題となりにくい。一方、加飾材を設けた枠状の加飾材の内周側（枠内部）の境界は、画像表示部に近接していることが多いために目立ちやすく、加飾材の枠内部の直線部にはシャープな直線性が求められている。画像表示部を覆うように設置する透明保護層は、透明保護層の外周部が枠状の加飾材の内周側（枠内部）の位置にあわせて設けられることがあり、透明部材であっても透明保護層の外周の直線性がシャープではないと屈折率の変化により画像表示の歪みや外光の反射などの影響があるため、加飾材の枠内部に相当する部分に外周部を合わせて透明保護層を配置する場合には透明保護層の外周部の直線部にもシャープな直線性が求められている。
さらに、透明保護層は表示部よりも大きく設けられることもあり、その場合も直線性が悪い場合、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の電極をカバーすることができなくなり、信頼性に問題がでる。 Here, in mobile communication devices typified by smart phones, the outer peripheral shape is often processed into a characteristic arbitrary shape such as rounding, so the outer peripheral side of the frame-shaped decorative material (outside the frame) As for the boundary of, its shape is less likely to be a problem. On the other hand, the boundary on the inner peripheral side (inside the frame) of the frame-shaped decoration material provided with the decoration material is often conspicuous because it is often close to the image display unit, and the straight line inside the frame of the decoration material The part is required to have sharp linearity. The transparent protective layer to be installed so as to cover the image display part is a transparent member in which the outer peripheral part of the transparent protective layer may be provided in accordance with the position on the inner peripheral side (inside the frame) of the frame-shaped decorative material. However, if the linearity of the outer periphery of the transparent protective layer is not sharp, changes in the refractive index may affect image display distortion or reflection of external light. In addition, when a transparent protective layer is disposed, sharp linearity is also required for the linear portion of the outer peripheral portion of the transparent protective layer.
Furthermore, the transparent protective layer may be provided larger than the display portion. In this case, if the linearity is poor, it becomes impossible to cover an electrode such as ITO (Indium Tin Oxide), which causes a problem in reliability.

このような状況のもと、加飾層または透明保護層をシルクスクリーンやインクジェット方式で加飾層を印刷して形成する場合は、加飾材または透明保護層の境界（印刷する部分の境）がぼけやすくなるきらいがある。さらに透明保護層をシルクスクリーンやインクジェット方式で保護層を印刷して形成する場合は、透明保護層の設置、乾燥等の工程が必要で、さらに単純な工程が望まれている。また最外層の保護基材を高機能化し、静電容量型等のタッチパネルとして使用したい期待があるが、印刷方法の場合には加飾材の境界が十分に均質になりにくく、電子回路を形成しづらいことがあった。
実際に本発明者らがスクリーン印刷によってモバイル機器のタッチパネルの形状とした基材上に加飾材を形成し、得られた加飾材付き基材の枠内部の直線性を検討したところ、加飾材の枠内部境界の直線部分に凹凸が多く、直線性が低いものであることがわかった。 Under these circumstances, when the decorative layer or transparent protective layer is formed by printing the decorative layer using a silk screen or inkjet method, the boundary of the decorative material or transparent protective layer (the boundary of the portion to be printed) There is a tendency to become blurred. Furthermore, when forming a transparent protective layer by printing a protective layer by a silk screen or an inkjet system, steps, such as installation of a transparent protective layer and drying, are required, and a simpler process is desired. In addition, there is an expectation that the outermost protective base material should be highly functional and used as a capacitive touch panel, but in the case of printing methods, the border of the decorating material is not sufficiently uniform, and an electronic circuit is formed. It was difficult to do.
When the inventors actually formed a decorative material on a base material in the shape of a touch panel of a mobile device by screen printing and examined the linearity inside the frame of the obtained base material with a decorative material, It turned out that there are many unevenness | corrugations in the linear part of the frame inner boundary of a decoration material, and a linearity is low.

また、インサート法やインモールド法での加飾層または透明保護層の形成は高熱を必要とするため、基材として熱可塑性フィルムなどの熱変形しやすいフィルムを用いたり、熱変形しやすい機能層を有する基材を用いたりしたときに、基材が変形する可能性があり、基材の変形に伴って加飾材の枠内部または透明保護層の外周部の直線性も低くなる方法であった。   In addition, since the formation of a decorative layer or a transparent protective layer by the insert method or in-mold method requires high heat, a film that is easily deformed by heat, such as a thermoplastic film, is used as a base material, or a functional layer that is easily deformed by heat. The base material may be deformed when using a base material having an adhesive, and the linearity of the interior of the decorative material frame or the outer peripheral portion of the transparent protective layer is reduced as the base material is deformed. It was.

これに対し、特許文献１などに記載の熱転写リボンを用い加飾層または透明保護層を熱転写する方法は、仮支持体上にのり付き加飾材または透明保護層の熱転写リボンを準備し、そのリボン上から加飾材または透明保護層を基材上に転写することで加飾部または保護部を形成する。熱転写リボンで加飾材を作製する場合は、１回で作製できる着色部の光学濃度が低く、「透け」を無くすためには複数回転写を行う必要があり、生産性が低かった。熱転写リボンで透明保護層を作製する場合は、１回で作製できる透明保護層の厚みが不足し、複数回転写を行う必要があり、生産性が低かった。   On the other hand, a method for thermally transferring a decorative layer or a transparent protective layer using a thermal transfer ribbon described in Patent Document 1 or the like prepares a thermal transfer ribbon with a glued decorative material or a transparent protective layer on a temporary support, A decorating part or a protective part is formed by transferring a decorating material or a transparent protective layer onto the substrate from above the ribbon. When producing a decorating material with a thermal transfer ribbon, the optical density of the colored portion that can be produced at one time is low, and in order to eliminate “slipping”, it is necessary to perform the transfer a plurality of times, resulting in low productivity. When producing a transparent protective layer with a thermal transfer ribbon, the thickness of the transparent protective layer that can be produced at one time is insufficient, and it is necessary to perform transfer a plurality of times, resulting in low productivity.

本発明が解決しようとする課題は、生産性が高く、加飾材の枠内部または透明保護層の外周部の直線性が高い、加飾材または透明保護層付き基材の製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer, which has high productivity and high linearity inside the frame of the decorative material or the outer peripheral portion of the transparent protective layer. That is.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、着色層または透明樹脂層を含む転写材料の着色層に直線的な切り込みを入れ、着色層または透明樹脂層の一部を取り除き、その残りの着色層または透明樹脂層を含む転写材料を基材に転写することで、加飾材の枠内部または透明保護層の外周部の直線性が高い、加飾材または透明保護層付き基材を生産性良く、製造できることを見出した。
すなわち、以下に示す構成の本発明により、前記課題が解決できることを見出し、本発明の完成に至った。 As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors made a linear cut into the colored layer of the transfer material including the colored layer or the transparent resin layer, and a part of the colored layer or the transparent resin layer. And the transfer material containing the remaining colored layer or transparent resin layer is transferred to the base material, so that the decorating material or transparent protection has high linearity inside the decorative material frame or the outer periphery of the transparent protective layer. It has been found that a substrate with a layer can be produced with high productivity.
That is, it has been found that the above-described problems can be solved by the present invention having the following configuration, and the present invention has been completed.

［１］ （Ａ）仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層のうちいずれかを含む転写材料に対して、少なくとも着色層または透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、
（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層または透明樹脂層を取り除く工程と、
（Ｃ）前記着色層または透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、
（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、
（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程、または、前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記透明樹脂層の残りの領域を硬化して透明保護層を形成する工程を含み、
前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含み、前記透明樹脂層は少なくとも透明バインダー樹脂を含むことを特徴とする加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。
［２］ ［１］に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、（Ａ）仮支持体および着色層を含む転写材料に対して、少なくとも着色層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、
（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層を取り除く工程と、
（Ｃ）前記着色層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、
（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、
（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程を含み、
前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含むことが好ましい。
［３］ ［１］に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記加飾材は、光学濃度が２．６以上であることが好ましい。
［４］ ［１］〜［３］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記加飾材は、基材側より、特定の波長の可視光を吸収して呈色する層と、可視光の波長領域全体にわたって吸収する灰色層を有することが好ましい。
［５］ ［１］に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、
（Ａ）仮支持体および透明樹脂層を含む転写材料に対して、少なくとも透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、
（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記透明樹脂層を取り除く工程と、
（Ｃ）透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、
（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、
（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記透明樹脂層の残りの領域を硬化して透明保護層を形成する工程を含み、
前記透明樹脂層は少なくとも透明バインダー樹脂を含むことが好ましい。
［６］ ［１］または［２］に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、（Ｆ）前記加飾材または透明保護層が形成された部分と前記加飾材または透明保護層が形成されていない部分とを含む領域の外周部を切り取る工程を、さらに含むことが好ましい。
［７］ ［６］に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、加飾材付き基材は、前記加飾材または透明保護層が形成された部分と前記加飾材または透明保護層が形成されていない部分とを含む領域の外周部を、トムソン刃加工およびレーザー光加工から選ばれる方法で切り取ることが好ましい。
［８］ ［１］〜［７］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料は、前記仮支持体、前記熱可塑性樹脂層ならびに前記着色層および透明樹脂層のうちいずれかをこの順で含むことが好ましい。
［９］ ［８］に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料は、前記仮支持体、前記熱可塑性樹脂層、中間層ならびに前記着色層および透明樹脂層のうちいずれかをこの順で含むことが好ましい。
［１０］ ［１］〜［９］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料は、前記着色層または透明樹脂層の前記仮支持体側とは反対側の面上に、さらに、保護剥離層を有することが好ましい。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料への切り込みを、面内方向に４カ所以上直線部分を有するように入れることが好ましい。
［１２］ ［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料への切り込みを、前記転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることが好ましい。
［１３］ ［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料への切り込みを、トムソン刃加工またはレーザー光加工から選ばれる方法で入れることが好ましい。
［１４］ ［１］〜［１３］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料を基材に貼り付ける前に、前記仮支持体の前記着色剤または透明樹脂層と反対側に、さらに支持体を積層する工程を含むことが好ましい。
［１５］ ［１］〜［１４］いずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記加飾材の膜厚は、１．０〜４０．０μｍであり、前記透明保護層の膜厚は１．０〜１００．０μｍであることが好ましい。
［１６］ ［１］〜［１５］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記基材は、全光透過率が、８０％以上であることが好ましい。
［１７］ ［１］〜［１６］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記基材は、ガラス、ＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれることが好ましい。
［１８］ ［１］〜［１７］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記基材は、さらに導電性層を有することが好ましい。
［１９］ ［１］〜［１８］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記基材は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することが好ましい。
［２０］ ［１］〜［１９］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記基材は、膜厚が４０〜２０００μｍであることが好ましい。
［２１］ ［１］〜［２０］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記着色層または透明樹脂層が、さらに重合性化合物を含むことが好ましい。
［２２］ ［１］〜［２１］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記着色層または透明樹脂層が、さらに重合開始剤を含むことが好ましい。
［２３］ ［１］〜［２２］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造されたことを特徴とする加飾材または透明保護層付き基材。
［２４］ ［２３］に記載の加飾材または透明保護層付き基材は、前記加飾材は、光学濃度が２．６以上であることが好ましい。
［２５］ ［２３］に記載の加飾材または透明保護層付き基材は、前記透明保護層は、４００ｎｍでの光透過率が８５％以上であることが好ましい。
［２６］ ［２３］〜［２６］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材は、前記加飾材の膜厚は、１．０〜４０．０μｍであり、
前記透明保護層の膜厚は１．０〜１００．０μｍであることが好ましい。
［２７］ ［２３］〜［２６］のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材を有することを特徴とするタッチパネル。
［２８］ ［２７］に記載のタッチパネルを有することを特徴とするモバイル機器。 [1] (A) A depth that penetrates at least the colored layer or the transparent resin layer in the thickness direction with respect to the transfer material including any one of the temporary support, the colored layer, and the transparent resin layer, and in-plane Making a cut with a straight portion in the direction;
(B) removing the colored layer or transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut;
(C) a step of attaching a transfer material having a remaining region that has not been removed from the colored layer or the transparent resin layer to a substrate;
(D) removing the temporary support from the transfer material affixed to the substrate;
(E) a step of curing a remaining region of the colored layer of the transfer material affixed to the base material to form a decorating material, or the transparency of the transfer material affixed to the base material Including the step of curing the remaining region of the resin layer to form a transparent protective layer;
The colored layer includes at least a coloring material and a binder resin, and the transparent resin layer includes at least a transparent binder resin.
[2] In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to [1], (A) a transfer material including a temporary support and a colored layer penetrates at least the colored layer in the thickness direction. A step of making a cut having a straight portion in the in-plane direction at a depth;
(B) removing the colored layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut;
(C) a step of affixing a transfer material having a remaining area of the colored layer that has not been removed to a substrate;
(D) removing the temporary support from the transfer material affixed to the substrate;
(E) including a step of curing a remaining region of the colored layer of the transfer material attached to the base material to form a decorating material;
The colored layer preferably contains at least a color material and a binder resin.
[3] In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to [1], the decorating material preferably has an optical density of 2.6 or more.
[4] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [3], the decorative material is visible light having a specific wavelength from the substrate side. It is preferable to have a layer that absorbs and colors and a gray layer that absorbs over the entire wavelength range of visible light.
[5] The method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to [1],
(A) For the transfer material including the temporary support and the transparent resin layer, a step of cutting at least a depth penetrating the transparent resin layer in the thickness direction and having a straight portion in the in-plane direction;
(B) removing the transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut;
(C) a step of affixing a transfer material having a remaining area of the transparent resin layer that has not been removed to the substrate;
(D) removing the temporary support from the transfer material affixed to the substrate;
(E) including a step of curing a remaining region of the transparent resin layer of the transfer material attached to the base material to form a transparent protective layer;
The transparent resin layer preferably contains at least a transparent binder resin.
[6] The method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to [1] or [2] includes: (F) a portion where the decorating material or the transparent protective layer is formed and the decorating material or It is preferable that the method further includes a step of cutting an outer peripheral portion of a region including a portion where the transparent protective layer is not formed.
[7] In the method for producing a decorating material or a base material with a transparent protective layer according to [6], the base material with a decorating material is a portion where the decorating material or the transparent protective layer is formed and the decorating material Or it is preferable to cut off the outer peripheral part of the area | region containing the part in which the transparent protective layer is not formed by the method chosen from Thomson blade processing and laser beam processing.
[8] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [7], the transfer material includes the temporary support, the thermoplastic resin layer, and the It is preferable to include any one of a colored layer and a transparent resin layer in this order.
[9] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to [8], the transfer material includes the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer, the colored layer, and the transparent resin layer. It is preferable to include any of them in this order.
[10] In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [9], the transfer material is the temporary support side of the colored layer or the transparent resin layer. It is preferable to further have a protective release layer on the surface opposite to the surface.
[11] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [10], the incision into the transfer material is made at four or more straight portions in an in-plane direction. It is preferable to put so that it has.
[12] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [11], the transfer material is cut into the transfer material, and all layers of the transfer material are in the thickness direction. It is preferable to put it up to a depth penetrating into.
[13] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [12], the cutting into the transfer material is selected from Thomson blade processing or laser beam processing. It is preferable to put in the method.
[14] The method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [13], wherein the temporary support is attached before the transfer material is attached to the substrate. It is preferable to further include a step of laminating a support on the side opposite to the colorant or the transparent resin layer.
[15] In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [14], the thickness of the decorating material is 1.0 to 40.0 μm. The film thickness of the transparent protective layer is preferably 1.0 to 100.0 μm.
[16] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [15], the substrate has a total light transmittance of 80% or more. Is preferred.
[17] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [16], the substrate is selected from glass, TAC, PET, PC, or COP. It is preferable.
[18] In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [17], the substrate preferably further has a conductive layer.
[19] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [18], the substrate is further at least of a scratch-resistant layer and an antiglare layer. It is preferable to have one.
[20] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [19], the substrate preferably has a thickness of 40 to 2000 μm.
[21] In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [20], the colored layer or the transparent resin layer may further contain a polymerizable compound. preferable.
[22] In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of [1] to [21], the colored layer or the transparent resin layer may further contain a polymerization initiator. preferable.
[23] A decorating material or a base material with a transparent protective layer produced by the method for producing a decorating material or a base material with a transparent protective layer according to any one of [1] to [22] .
[24] In the decorative material or the substrate with a transparent protective layer according to [23], the decorative material preferably has an optical density of 2.6 or more.
[25] In the decorating material or the substrate with a transparent protective layer according to [23], the transparent protective layer preferably has a light transmittance of 85% or more at 400 nm.
[26] The decorative material or the substrate with a transparent protective layer according to any one of [23] to [26] has a film thickness of the decorative material of 1.0 to 40.0 μm,
The transparent protective layer preferably has a thickness of 1.0 to 100.0 μm.
[27] A touch panel comprising the decorating material according to any one of [23] to [26] or a substrate with a transparent protective layer.
[28] A mobile device comprising the touch panel according to [27].

本発明によれば、生産性が高く、加飾材の枠内部または透明保護層の外周部の直線性が高い、加飾材または透明保護層付き基材の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the base material with a decorating material or a transparent protective layer with high productivity and the high linearity of the frame inside of a decorating material or the outer peripheral part of a transparent protective layer can be provided.

本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で用いられる、転写材料の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the transfer material used with the manufacturing method of the decorating material of this invention, or the base material with a transparent protective layer. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で用いられる、転写材料の一例の断面を示した概略図である。It is the schematic which showed the cross section of an example of the transfer material used with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で用いられる、転写材料の他の一例の断面を示した概略図である。It is the schematic which showed the cross section of the other example of the transfer material used with the manufacturing method of the decorating material of this invention, or a base material with a transparent protective layer. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で用いられる、転写材料の他の一例の断面を示した概略図である。It is the schematic which showed the cross section of the other example of the transfer material used with the manufacturing method of the decorating material of this invention, or a base material with a transparent protective layer. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料の一例の概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic of an example of the transcription | transfer material punched out inside the frame. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料の一例の断面を示した概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic which showed the cross section of an example of the transcription | transfer material punched out inside the frame. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料の他の一例の断面を示した概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic which showed the cross section of the other example of the transfer material which pierce | punched the inside of a frame. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料の他の一例の断面を示した概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic which showed the cross section of the other example of the transfer material which pierce | punched the inside of a frame. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した態様の一例の概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic of an example of the aspect which transcribe | transferred the transcription | transfer material punched out inside the frame etc. to the base material. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した態様の他の一例の概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic of another example of the aspect which transcribe | transferred to the base material the transcription | transfer material punched out inside the frame. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した後、仮支持体を取り除いた後の態様の一例の概略図である。In the manufacturing method of the decorating material of this invention or the base material with a transparent protective layer, after transferring the transcription | transfer material punched out inside the frame etc. to a base material, the schematic of an example of the aspect after removing a temporary support body It is. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部などを打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した後、仮支持体を取り除いた後の態様の他の一例の概略図である。In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, another example of an embodiment after the temporary support is removed after the transfer material punched out from the inside of the frame is transferred to the substrate. FIG. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造された、加飾材付き基材の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the base material with a decorating material manufactured with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造された、加飾材付き基材の他の一例の概略図である。It is the schematic of another example of the base material with a decorating material manufactured with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造された、加飾材付き基材の他の一例の概略図である。It is the schematic of another example of the base material with a decorating material manufactured with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造された加飾材付き基材を用いた、タッチパネルの一例の構成を示す断面概略図である。It is the cross-sectional schematic which shows the structure of an example of the touchscreen using the base material with a decorating material manufactured with the manufacturing method of the decorating material or the base material with a transparent protective layer of this invention. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造された加飾材付き基材を用いた、タッチパネルの他の一例の構成を示す断面概略図である。It is the cross-sectional schematic which shows the structure of another example of the touch panel using the base material with a decorating material manufactured with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で加飾材付き基材を製造するときに、打ち抜いた転写材料の他の一例の概略図である。It is the schematic of another example of the transcription | transfer material punched when manufacturing the base material with a decorating material with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 実施例３の加飾材付き基材の枠内部の直線部を拡大したものである。The linear part inside the frame of the base material with a decorating material of Example 3 is expanded. 比較例２の加飾材付き基材の枠内部の直線部を拡大したものである。また、直線性の評価方法及び結果を略記したものである。The linear part inside the frame of the base material with a decorating material of the comparative example 2 is expanded. Moreover, the evaluation method and result of linearity are abbreviated. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部が打ち抜かれた転写材料の一例の概略図である。In the manufacturing method of the decorating material of this invention, or the base material with a transparent protective layer, it is the schematic of an example of the transfer material by which the frame exterior was stamped out leaving the frame inside. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部を打ち抜かれた転写材料の一例の断面を示した概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic which showed the cross section of an example of the transcription | transfer material punched out the frame exterior leaving the frame inside. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部を打ち抜かれた転写材料の他の一例の断面を示した概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic which showed the cross section of the other example of the transcription | transfer material punched out the frame exterior leaving the frame inside. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部を打ち抜かれた転写材料の他の一例の断面を示した概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic which showed the cross section of the other example of the transcription | transfer material punched out the frame exterior leaving the frame inside. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部を打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した態様の一例の概略図である。In the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, it is the schematic of an example of the aspect which transcribe | transferred to the base material the transcription | transfer material punched out the frame exterior leaving the inside of a frame. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部を打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した態様の他の一例の概略図である。In the manufacturing method of the decorating material of this invention or the base material with a transparent protective layer, it is the schematic of another example of the aspect which transcribe | transferred to the base material the transcription | transfer material punched out the frame exterior leaving the inside of a frame. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部を打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した後、仮支持体を取り除いた後の態様の一例の概略図である。In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, the transfer material punched out from the outside of the frame leaving the inside of the frame is transferred to the substrate, and then the temporary support is removed. It is a schematic diagram of an example. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法において、枠内部を残して枠外部を打ち抜かれた転写材料を、基材に転写した後、仮支持体を取り除いた後の態様の他の一例の概略図である。In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, the transfer material punched out from the outside of the frame leaving the inside of the frame is transferred to the substrate, and then the temporary support is removed. It is the schematic of another example. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造された、透明保護層付き基材の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the base material with a transparent protective layer manufactured with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で製造された透明保護層付き基材を用いた、タッチパネルの一例の構成を示す断面概略図である。It is the cross-sectional schematic which shows the structure of an example of the touchscreen using the base material with a transparent protective layer manufactured with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. 実施例３０１の透明保護層付き基材の枠内部（透明保護層の外周部）の直線部を拡大したものである。The linear part inside the frame (outer peripheral part of a transparent protective layer) of the base material with a transparent protective layer of Example 301 is enlarged. 比較例３０１の透明保護層付き基材の枠内部（透明保護層の外周部）の直線部を拡大したものである。The linear part inside the frame (outer peripheral part of a transparent protective layer) of the base material with a transparent protective layer of the comparative example 301 is expanded.

以下、本発明の加飾材または透明保護層付き基材およびその製造方法、タッチパネル並びにモバイル機器について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。 Hereinafter, the decorating material or the substrate with a transparent protective layer of the present invention, the manufacturing method thereof, the touch panel, and the mobile device will be described in detail.
The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.

［加飾材または透明保護層付き基材の製造方法］
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法（以下、本発明の製造方法とも言う）は、（Ａ）仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層のうちいずれかを含む転写材料に対して、少なくとも着色層または透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、
（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層または透明樹脂層を取り除く工程と、
（Ｃ）前記着色層または透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、
（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、
（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程、または、前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記透明樹脂層の残りの領域を硬化して透明保護層を形成する工程を含み、
前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含み、前記透明樹脂層は少なくとも透明バインダー樹脂を含むことを特徴とする。
このような構成により、高い生産性で、加飾材の枠内部または透明保護層の外周部の直線性が高い加飾材付き基材を製造することができる。
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法によって加飾材付き基材を製造する場合、（Ａ）仮支持体および着色層を含む転写材料に対して、少なくとも着色層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層を取り除く工程と、（Ｃ）前記着色層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程を含み、前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含むことが好ましい。
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法によって透明保護層付き基材を製造する場合、（Ａ）仮支持体および透明樹脂層を含む転写材料に対して、少なくとも透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記透明樹脂層を取り除く工程と、（Ｃ）透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記透明樹脂層の残りの領域を硬化して透明保護層を形成する工程を含み、前記透明樹脂層は少なくとも透明バインダー樹脂を含むことが好ましい。 [Method for producing decorative material or base material with transparent protective layer]
The method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention (hereinafter also referred to as the production method of the present invention) comprises: (A) a temporary support, and a transfer material comprising any one of a colored layer and a transparent resin layer In contrast, a step of cutting at least a colored layer or a transparent resin layer in the thickness direction and having a straight portion in the in-plane direction; and
(B) removing the colored layer or transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut;
(C) a step of attaching a transfer material having a remaining region that has not been removed from the colored layer or the transparent resin layer to a substrate;
(D) removing the temporary support from the transfer material affixed to the substrate;
(E) a step of curing a remaining region of the colored layer of the transfer material affixed to the base material to form a decorating material, or the transparency of the transfer material affixed to the base material Including the step of curing the remaining region of the resin layer to form a transparent protective layer;
The colored layer includes at least a color material and a binder resin, and the transparent resin layer includes at least a transparent binder resin.
With such a configuration, it is possible to manufacture a base material with a decorating material with high productivity and high linearity inside the frame of the decorating material or the outer peripheral portion of the transparent protective layer.
When manufacturing a base material with a decorating material by the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention, thickness is at least a colored layer with respect to (A) transfer material containing a temporary support body and a colored layer. A step of making a notch having a depth penetrating in the direction and having a straight portion in the in-plane direction; and (B) the colored layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the notch (C) a step of affixing a transfer material having a remaining region that has not been removed in the colored layer to a base material, and (D) a temporary transfer from the transfer material affixed to the base material. Removing the support, and (E) curing the remaining region of the colored layer of the transfer material attached to the substrate to form a decorating material, wherein the colored layer is at least colored Including material and binder resin Preferred.
When producing a substrate with a transparent protective layer by the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer of the present invention, (A) at least a transparent resin layer with respect to a transfer material including a temporary support and a transparent resin layer A notch having a depth penetrating in the thickness direction and having a straight portion in the in-plane direction, and (B) the area from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the notch A step of removing the transparent resin layer, (C) a step of attaching a transfer material having a remaining region that has not been removed from the transparent resin layer, and (D) the transfer material attached to the substrate. Removing the temporary support from the substrate, and (E) curing the remaining region of the transparent resin layer of the transfer material attached to the base material to form a transparent protective layer. The layer must be at least transparent Preferably contains Zehnder resin.

＜（Ａ）工程＞
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、（Ａ）仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層のうちいずれかを含む転写材料に対して、少なくとも着色層または透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程を含む。 <(A) Process>
The method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention comprises (A) at least a colored layer or a transparent resin layer with respect to a temporary support and a transfer material including any of a colored layer and a transparent resin layer. A depth of penetrating in the thickness direction, and a step of making a cut having a straight portion in the in-plane direction.

（転写材料）
前記転写材料は、仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層のうちいずれかを含む。
また、前記転写材料に含まれる前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含む。前記転写材料に含まれる前記透明樹脂層は、透明バインダー樹脂を含む。
図１〜図４に、仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層を含む転写材料の構成を具体的に示す。なお、図１〜図１４には、図１に示した仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層を含む転写材料から、２枚の本発明の加飾材または透明保護層付き基材を製造する場合について説明したが、本発明はこられの具体的な説明によって限定されるものではない。本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法では、仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層を含む転写材料から１または複数の加飾材または透明保護層付き基材を製造することができ、複数の加飾材または透明保護層付き基材を製造することが生産性の観点から好ましい。
図１は、仮支持体および、着色層または透明樹脂層２４を含む転写材料３０を、着色層または透明樹脂層２４側から見た概略図である。前記（Ａ）工程では、着色層または透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを、例えば図１の点線部に入れることができる。
図２〜図４に、図１に示した転写材料のＸ１−Ｘ１’における断面概略図を示す。図２は、仮支持体２６の上に、着色層または透明樹脂層２４のみが積層された転写材料３０の態様である。
図３は、仮支持体２６の上に、後述する熱可塑性樹脂層２７、中間層２８、着色層または透明樹脂層２４および保護剥離層２９が積層された転写材料３０の態様である。
図４は、仮支持体２６の上に、後述する熱可塑性樹脂層２７、中間層２８、着色層または透明樹脂層２４ａ、着色層または透明樹脂層２４ｂおよび保護剥離層２９が積層された転写材料３０の態様であり、着色層または透明樹脂層が２層以上含まれる態様である。２層の着色層２４ａ、２４ｂとしては、特に制限はないが、例えば、特定の波長の可視光を吸収して呈色する層と、可視光の波長領域全体にわたって吸収する灰色層との積層体とすることが好ましい。なお、着色層または透明樹脂層は３層以上の積層体であってもよい。
以下、本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法に用いられる転写材料について、転写材料作製方法と転写材料を構成する各要素について詳細に説明する。 (Transfer material)
The transfer material includes a temporary support and any one of a colored layer and a transparent resin layer.
Further, the colored layer included in the transfer material includes at least a color material and a binder resin. The transparent resin layer contained in the transfer material contains a transparent binder resin.
1 to 4 specifically show the structure of a transfer material including a temporary support, a colored layer, and a transparent resin layer. 1 to 14, two decorative materials of the present invention or a substrate with a transparent protective layer are produced from the temporary support shown in FIG. 1 and a transfer material including a colored layer and a transparent resin layer. Although the case has been described, the present invention is not limited to these specific descriptions. In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, one or more decorating materials or a substrate with a transparent protective layer is produced from a temporary support and a transfer material containing a colored layer and a transparent resin layer. From the viewpoint of productivity, it is preferable to produce a plurality of decorating materials or a substrate with a transparent protective layer.
FIG. 1 is a schematic view of a temporary support and a transfer material 30 including a colored layer or a transparent resin layer 24 as viewed from the colored layer or transparent resin layer 24 side. In the step (A), a cut having a depth penetrating the colored layer or the transparent resin layer in the thickness direction and having a linear portion in the in-plane direction can be made, for example, in the dotted line portion of FIG.
2 to 4 are schematic sectional views taken along line X1-X1 'of the transfer material shown in FIG. FIG. 2 shows an embodiment of the transfer material 30 in which only the colored layer or the transparent resin layer 24 is laminated on the temporary support 26.
FIG. 3 shows an embodiment of a transfer material 30 in which a thermoplastic resin layer 27, an intermediate layer 28, a colored layer or transparent resin layer 24, and a protective release layer 29 described later are laminated on a temporary support 26.
FIG. 4 shows a transfer material in which a thermoplastic resin layer 27, an intermediate layer 28, a colored layer or transparent resin layer 24a, a colored layer or transparent resin layer 24b, and a protective release layer 29, which will be described later, are laminated on a temporary support 26. In this embodiment, two or more colored layers or transparent resin layers are included. The two colored layers 24a and 24b are not particularly limited. For example, a laminated body of a layer that absorbs visible light having a specific wavelength and a gray layer that absorbs the entire visible light wavelength region. It is preferable that The colored layer or transparent resin layer may be a laminate of three or more layers.
Hereinafter, the transfer material used for the decorating material or the method for producing a substrate with a transparent protective layer of the present invention will be described in detail with respect to the transfer material preparation method and each element constituting the transfer material.

−着色層−
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法によって加飾材付き基材を製造する場合に用いられる転写材料は着色層を少なくとも１層有する。
前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含む。
前記着色層は、いかなる色であってもよいが、白層、カラー層、パステル層、グレー層、黒層のいずれか、またはこれらの層の積層体であることが、加飾材の枠内部の直線性が高い加飾材付き基材を、高い生産性で製造する観点から、好ましい。本発明の加飾材付き基材の製造方法によれば、このような様々な態様の着色層を有する転写材料を用いた場合であっても、加飾材の枠内部の直線性が高い加飾材付き基材を、高い生産性で製造することができる。
加飾材が白層、カラー層、パステル層、グレー層、黒層である加飾材付き基材を製造するときには、薄層としつつ、顔料を用いることが多い。スクリーン印刷ではそのような加飾材とした場合に枠内部の直線性が悪くなる傾向にあるが、本発明の加飾材付き基材の製造方法によればこのような場合も加飾材の枠内部の直線性が高い加飾材付き基材を、高い生産性で製造することができる。 -Colored layer-
The transfer material used when manufacturing a base material with a decorating material by the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention has at least one colored layer.
The colored layer includes at least a color material and a binder resin.
The colored layer may be any color, but it is a white layer, a color layer, a pastel layer, a gray layer, a black layer, or a laminate of these layers, and the interior of the decorative material frame From the viewpoint of producing a substrate with a decorating material having a high linearity with high productivity. According to the method for producing a base material with a decorating material of the present invention, the linearity inside the frame of the decorating material is high even when a transfer material having such a colored layer of various aspects is used. A base material with a decoration material can be manufactured with high productivity.
When manufacturing a base material with a decorating material in which the decorating material is a white layer, a color layer, a pastel layer, a gray layer, or a black layer, a pigment is often used while forming a thin layer. In the screen printing, when such a decorating material is used, the linearity inside the frame tends to deteriorate, but according to the method for producing a base material with a decorating material of the present invention, such a decorating material is also used in this case. A base material with a decorating material having high linearity inside the frame can be manufactured with high productivity.

前記転写材料に含まれる前記着色層を、後述する基材に転写することで、本発明の製造方法で得られる加飾材付き基材の加飾材を形成することができる。
白層やカラー層のみを基材に転写して加飾材とする場合、光学濃度が低く、本発明の製造方法で得られる加飾材付き基材を表示装置の基材として用いたときには表示装置の光漏れや回路のすけが見える場合がある。この場合は、本発明の製造方法で得られた加飾材付き基材の基材（フィルムまたはガラス）側よりカラー層−白層／またはカラー層−反射層の構成とすることで光漏れ等を抑えることが出来る。更に後述するグレー層を前記転写材料に追加することで一層、該転写材料を基材に転写して得られる加飾材の光漏れ等を抑えることが出来る。
グレー層は、本発明の製造方法で得られた加飾材付き基材の基材面（フィルム面またはガラス面）から白層の次に、及びカラー層−白層の次に用いることが好ましい。こうすることで、本発明の製造方法で得られる加飾材付き基材を表示装置の基材として用いたときに表示装置側からの光漏れや配線のすけを、加飾材を厚くすることなく防ぐことができる。
黒層のみを基材に転写して加飾材とする場合、単層でも十分に光学濃度が高くすることができ、好ましい。 By transferring the colored layer contained in the transfer material to a base material to be described later, a decorating material for the base material with a decorating material obtained by the production method of the present invention can be formed.
When only a white layer or a color layer is transferred to a base material as a decoration material, the optical density is low, and a display with a decoration material base material obtained by the production method of the present invention is used You may see light leaks from the equipment or the circuit. In this case, light leakage or the like is achieved by forming a color layer-white layer / or color layer-reflective layer from the base material (film or glass) side of the base material with a decorating material obtained by the production method of the present invention. Can be suppressed. Furthermore, by adding a gray layer, which will be described later, to the transfer material, light leakage of a decorative material obtained by transferring the transfer material to a substrate can be suppressed.
The gray layer is preferably used next to the white layer from the substrate surface (film surface or glass surface) of the base material with a decorating material obtained by the production method of the present invention, and next to the color layer-white layer. . In this way, when the base material with a decorating material obtained by the production method of the present invention is used as the base material of the display device, the thickness of the decorating material is increased by leaking light from the display device side or by the wiring. Can be prevented.
When only the black layer is transferred to the base material and used as a decorating material, even a single layer is preferable because the optical density can be sufficiently increased.

本発明の製造方法で得られる加飾材付き基材を表示装置の基材として用いたときに表示装置側からの光漏れを無くす手段としては、本発明の製造方法で得られた加飾材付き基材の加飾層（白層、カラー層、パステル層）の基材側（機器側）に金属光沢を有する反射層を設けることも有効である。反射層を設ける手段としては、金属光沢を有する材料を含む層を設けた転写材料を作製し、本発明の製造方法に使用することで基材に反射層を転写することも可能である。
なお、前記反射層は、本発明の製造方法とは別に、前記転写材料を用いずに、基材上に金属蒸着や金属スパッタリング、鍍金で別途作成してもよい。 As a means for eliminating light leakage from the display device side when the base material with a decoration material obtained by the production method of the present invention is used as the base material of the display device, the decoration material obtained by the production method of the present invention is used. It is also effective to provide a reflective layer having a metallic luster on the substrate side (device side) of the decorative layer (white layer, color layer, pastel layer) of the attached substrate. As a means for providing the reflective layer, it is possible to produce a transfer material provided with a layer containing a material having a metallic luster, and to transfer the reflective layer to the substrate by using it in the production method of the present invention.
In addition, the said reflection layer may be separately produced by metal vapor deposition, metal sputtering, and plating on a base material without using the said transfer material separately from the manufacturing method of this invention.

（１）着色層の材料
前記着色層は、前記色材と前記色材を着色層として形成するためのバインダー樹脂材を含む。また、使用する環境、用途に応じて、前記着色層はさらに重合性化合物および重合開始剤を含むことが好ましい。その他、前記着色層は、酸化防止剤、重合禁止剤、を含むことができる。 (1) Material of colored layer The colored layer includes a binder resin material for forming the colorant and the colorant as a colored layer. Moreover, it is preferable that the said colored layer contains a polymeric compound and a polymerization initiator further according to the environment and use to be used. In addition, the colored layer may contain an antioxidant and a polymerization inhibitor.

（１−１）色材
本発明の製造方法に用いられる着色層に用いられる色材としては、以下に述べる白層、カラー層、パステル層、グレー層、黒層等を構成するための顔料、場合によっては染料を挙げることができる。
色材としては、また、染料を用いることが出来る。染料は、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ２８、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｏｒａｎｇｅ ７、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｂｌｕｅ ９、Ｃ．Ｉ．Ｍｏｒｄａｎｔ Ｒｅｄ １１、Ｃ．Ｉ．Ｍｏｒｄａｎｔ Ｂｌａｃｋ ３、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ Ｂｌｕｅ １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｙｅｌｌｏｗ ７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｏｒａｎｇｅ ３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｒｅｄ １７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｖｉｏｌｅｔ １、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｒｅｄ １、等をあげることができる。染料は、単独でも、他染料との混合物でも、顔料との混合物でも使用することができる。 (1-1) Coloring material As a coloring material used for the colored layer used in the production method of the present invention, a pigment for constituting a white layer, a color layer, a pastel layer, a gray layer, a black layer and the like described below, In some cases, dyes may be mentioned.
A dye can also be used as the color material. Examples of the dye include C.I. I. Direct Red 2, C.I. I. Direct Red 28, C.I. I. Acid Orange 7, C.I. I. Basic Blue 9, C.I. I. Modern Red 11, C.I. I. Modern Black 3, C.I. I. Vat Blue 1, C.I. I. Disperse Yellow 7, C.I. I. Disperse Orange 3, C.I. I. Disperse Red 17, C.I. I. Disperse Violet 1, C.I. I. Reactive Red 1, etc. can be mentioned. The dye can be used alone, in a mixture with other dyes, or in a mixture with a pigment.

（１−１−１）白層用の色材
白層は、特に見栄えがわかりやすいため、以下の白層用の色材を用いることが好ましい。前記白層用の色材としては、白色無機顔料が好ましい。
前記着色層に用いられる前記白色無機顔料としては、特開２００５−７７６５公報の段落［００１５］や［０１１４］に記載の白色顔料を用いることができる。
具体的には、酸化チタン（ルチル型）、酸化チタン（アナターゼ型）、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウムが好ましい。酸化チタン（ルチル型）、酸化チタン（アナターゼ型）、酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタン（ルチル型）、酸化チタン（アナターゼ型）、がさらに好ましく、ルチル型酸化チタンがよりさらに好ましい。 (1-1-1) Coloring material for white layer Since the white layer is particularly easy to see, it is preferable to use the following coloring material for white layer. The color material for the white layer is preferably a white inorganic pigment.
As the white inorganic pigment used in the colored layer, the white pigment described in paragraphs [0015] and [0114] of JP-A-2005-7765 can be used.
Specifically, titanium oxide (rutile type), titanium oxide (anatase type), zinc oxide, lithopone, light calcium carbonate, white carbon, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and barium sulfate are preferable. Titanium oxide (rutile type), titanium oxide (anatase type) and zinc oxide are more preferred, titanium oxide (rutile type) and titanium oxide (anatase type) are more preferred, and rutile type titanium oxide is still more preferred.

酸化チタンの表面はシリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、有機物処理及びそれらを併用することができる。
これにより酸化チタンの触媒活性を抑制でき、耐熱性、褪光性等を改善することができる。
加熱時の加飾層の白色度の観点から、アルミナ処理、ジルコニア処理が好ましく、アルミナ／ジルコニア併用処理が特に好ましい。 The surface of titanium oxide can be used in combination with silica treatment, alumina treatment, titania treatment, zirconia treatment, organic matter treatment and the like.
Thereby, the catalytic activity of titanium oxide can be suppressed, and heat resistance, fluorescence, etc. can be improved.
From the viewpoint of whiteness of the decorative layer during heating, alumina treatment and zirconia treatment are preferred, and alumina / zirconia combined treatment is particularly preferred.

前記着色層の全固形分に対する前記白色無機顔料の含有率が２０〜７５質量％であることで、良好な明度および白色度であって、その他の求められる特性を同時に満たす加飾層を形成することができる。
前記加飾層の全固形分に対する前記白色無機顔料の含有率は、２５〜６０質量％であることがより好ましく、３０〜５０質量％であることが更に好ましい。
本明細書でいう全固形分とは前記着色層から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。 When the content of the white inorganic pigment with respect to the total solid content of the colored layer is 20 to 75% by mass, a decorative layer that has good brightness and whiteness and satisfies other required characteristics at the same time is formed. be able to.
As for the content rate of the said white inorganic pigment with respect to the total solid of the said decoration layer, it is more preferable that it is 25-60 mass%, and it is still more preferable that it is 30-50 mass%.
The total solid content as used in this specification means the total mass of the non-volatile component except the solvent etc. from the said colored layer.

前記白色無機顔料（なお、後述するマスク層に用いられるその他の着色剤についても同様である）は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記白色無機顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を形成する成分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。   The white inorganic pigment (which is the same for other colorants used in the mask layer described later) is desirably used as a dispersion. This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by previously mixing the white inorganic pigment and the pigment dispersant in an organic solvent (or vehicle) described later. The vehicle is a portion of a medium in which a pigment is dispersed when the paint is in a liquid state, and is a liquid component that binds to the pigment to form a coating film (binder) and dissolves and dilutes it. Component (organic solvent).

前記白色無機顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。   The dispersing machine used for dispersing the white inorganic pigment is not particularly limited, and is described in, for example, Asakura Kunizo, “Encyclopedia of Pigments”, first edition, Asakura Shoten, 2000, item 438. Known dispersing machines such as a kneader, a roll mill, an atrider, a super mill, a dissolver, a homomixer, and a sand mill can be used. Further, fine grinding may be performed using frictional force by mechanical grinding described on page 310 of the document.

本発明で用いる前記白色無機顔料（白層用の色材）としての白色無機顔料は、分散安定性及び隠ぺい力の観点から、一次粒子の平均粒径０.１６μｍ〜０．３μｍのものが好ましく、更に０．１８μｍ〜０．２７μｍのものが好ましい。さらに０．１９μｍ〜０．２５μｍのものが特に好ましい。一次粒子の平均粒径が０.１６μｍであると、急激に隠ぺい力が低下してマスク層の下地が見えやすくなったり、粘度上昇を起こすことがある。一方、０．３μｍを超えると白色度が低下すると同時に急激に隠ぺい力が低下し、また塗布した際の面状が悪化する。
尚、ここで言う「一次粒子の平均粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について前記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。
一方、分散液、塗布液中の平均粒径で測定する場合には、レーザー散乱ＨＯＲＩＢＡ Ｈ（株式会社堀場アドバンスドテクノ社製）を用いることができる。 The white inorganic pigment as the white inorganic pigment (coloring material for the white layer) used in the present invention preferably has an average primary particle diameter of 0.16 μm to 0.3 μm from the viewpoint of dispersion stability and hiding power. Furthermore, the thing of 0.18 micrometer-0.27 micrometer is preferable. Furthermore, the thing of 0.19 micrometer-0.25 micrometer is especially preferable. When the average particle size of the primary particles is 0.16 μm, the hiding power is suddenly reduced, and the underlying layer of the mask layer may be easily visible or the viscosity may be increased. On the other hand, when it exceeds 0.3 μm, the whiteness is lowered, and simultaneously the hiding power is suddenly lowered, and the surface condition when applied is deteriorated.
The “average particle size of primary particles” as used herein refers to the diameter when the electron micrograph image of the particles is a circle of the same area, and the “number average particle size” refers to the above-mentioned particle size for many particles. The diameter is obtained and the average value of the 100 pieces is referred to.
On the other hand, when measuring by the average particle diameter in a dispersion liquid and a coating liquid, laser scattering HORIBA H (made by Horiba Advanced Techno Co., Ltd.) can be used.

（１−１−２）カラー層用の色材
前記カラー層用の色材としては、従来公知の種々の無機顔料、有機顔料または染料を用いることができるが、信頼性の観点で有機顔料を用いることが好ましい。前記カラー層用の有機顔料としては、例えば、特開２００９−２５６５７２号公報の段落００９３に記載の有機顔料が挙げられる。
また特に、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７，２２４，２４２，２５４，２５５，２６４、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３８，１３９，１５０，１８０，１８５、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ３６，３８，７１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，３６，５８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３
が色再現性の観点で好適であるが、本発明においてはこれらに限定されるものではない。これら有機顔料は、一種単独で、又は色純度を上げる等のために種々組合せて用いることができる。 (1-1-2) Color Material for Color Layer As the color material for the color layer, conventionally known various inorganic pigments, organic pigments or dyes can be used. From the viewpoint of reliability, organic pigments are used. It is preferable to use it. Examples of the organic pigment for the color layer include organic pigments described in paragraph 0093 of JP-A-2009-256572.
In particular,
C. I. Pigment Red 177, 224, 242, 254, 255, 264,
C. I. Pigment Yellow 138, 139, 150, 180, 185,
C. I. Pigment Orange 36, 38, 71,
C. I. Pigment Green 7, 36, 58,
C. I. Pigment Blue 15: 6,
C. I. Pigment Violet 23
Is preferable from the viewpoint of color reproducibility, but the present invention is not limited thereto. These organic pigments can be used alone or in various combinations in order to increase color purity.

また、上記カラー層用の有機顔料を白色顔料に添加することにより、パステルカラーのカラー層を調整することが出来る。   Moreover, the pastel color layer can be adjusted by adding the organic pigment for the color layer to the white pigment.

（１−１−３）黒層用の色材
黒層用の色材としては、黒色顔料が好ましい。前記黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。 (1-1-3) Color material for black layer As the color material for black layer, a black pigment is preferable. Examples of the black pigment include carbon black, titanium black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, and graphite. Among these, carbon black is preferable.

（１−１−４）グレー層用の色材
グレー層は、白色顔料に黒色顔料を混合することで作製することが好ましい。白色顔料に上記ルチル型酸化チタンを用いる場合、分散液や塗布液の安定性の観点から、黒色顔料はチタンブラックを用いることが好ましい。例えばカーボンブラックを用いる場合、顔料の比重差よりカーボンブラックが時間経過により分離することがあるからである。前記グレー層、黒層に用いることができる黒色顔料分散物は、例えば特開２０１１−９５７０１号公報に記載の分散物を用いることが出来る。 (1-1-4) Color material for gray layer The gray layer is preferably prepared by mixing a black pigment with a white pigment. When using the rutile titanium oxide as the white pigment, it is preferable to use titanium black as the black pigment from the viewpoint of the stability of the dispersion or coating solution. For example, when carbon black is used, the carbon black may be separated over time due to the difference in specific gravity of the pigment. As the black pigment dispersion that can be used for the gray layer and the black layer, for example, a dispersion described in JP 2011-95701 A can be used.

また、グレー層は、白色顔料に赤、緑、青の各有機顔料を適度混合することにより作製することが可能である。この場合、白色顔料は、有機顔料に比重の近いカオリナイトや炭酸カルシウムを用いることが好ましい。   Further, the gray layer can be produced by appropriately mixing red, green, and blue organic pigments with a white pigment. In this case, kaolinite or calcium carbonate having a specific gravity close to that of the organic pigment is preferably used as the white pigment.

（１−２）バインダー樹脂
本発明の製造方法に用いられるバインダー樹脂は、仮支持体上に着色層を形成後に基材に転写できれば、いかなるものを使用することが出来るが、着色層の色味が変わらない、または望ましい色味に変わるものが望ましい。 (1-2) Binder resin As the binder resin used in the production method of the present invention, any binder resin can be used as long as it can be transferred to a substrate after forming a colored layer on a temporary support. It is desirable that the color does not change or changes to a desired color.

（１−２−１）白層用のバインダー樹脂
白層は、特に見栄えがわかりやすいため、以下の白層用のバインダー樹脂を用いることが好ましい。前記白層用のバインダー樹脂としては、シリコーン系レジンが好ましい。
シリコーン系レジンとして公知のものが使用できる。メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、ポリエステル樹脂変性シリコーンレジン、エポキシ樹脂変性シリコーンレジン、アルキッド樹脂、変性シリコーンレジン及びゴム系のシリコーンレジン等が使用できる。
より好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジンであり、特に好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジンである。これらを任意の比率で混合することにより膜物性を制御できる。 (1-2-1) Binder resin for white layer Since the white layer is particularly easy to see, it is preferable to use the following binder resin for white layer. The binder resin for the white layer is preferably a silicone resin.
Known silicone resins can be used. A methyl-based straight silicone resin, a methylphenyl-based straight silicone resin, an acrylic resin-modified silicone resin, a polyester resin-modified silicone resin, an epoxy resin-modified silicone resin, an alkyd resin, a modified silicone resin, and a rubber-based silicone resin can be used.
More preferred are methyl straight silicone resin, methylphenyl straight silicone resin, and acrylic resin-modified silicone resin, and particularly preferred are methyl straight silicone resin and methylphenyl straight silicone resin. The film physical properties can be controlled by mixing these at an arbitrary ratio.

（１−２−２）カラー層、パステル層、グレー層、黒層用のバインダー樹脂
前記着色層に用いるバインダー樹脂は、特にカラー層やパステル層、グレー層、黒層に適用する場合、カラーフィルタのＲＧＢ層に用いるバインダー樹脂を用いることが出来る。 (1-2-2) Binder resin for color layer, pastel layer, gray layer, black layer The binder resin used for the colored layer is a color filter, particularly when applied to a color layer, pastel layer, gray layer, black layer. The binder resin used for the RGB layers can be used.

前記着色層がカラー層、パステル層、グレー層、黒層である場合に該着色層を構成するのに適したバインダー樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／エチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／ブチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／シロクヘキシル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／イソボニル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／スチレン共重合体、などを挙げることができる。
中でも、加熱圧着時の気泡の混入を回避する点で、メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／エチル（メタ）アクリレート共重合体、が好ましい。 As the binder resin suitable for constituting the colored layer when the colored layer is a color layer, a pastel layer, a gray layer, or a black layer, for example, a (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meta ) Acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate / ethyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (Meth) acrylate / butyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate / siloxane (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meta Acrylate / Isobonyl Meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate / styrene copolymer, and the like.
Among them, in order to avoid mixing of bubbles during thermocompression bonding, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / Benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate / ethyl (meth) acrylate copolymer is preferred.

前記バインダー樹脂のガラス転移温度Ｔｇ（ｂ）としては、７０〜１４０℃の範囲が好ましく、より好ましくは８０〜１１０℃の範囲である。Ｔｇ（ｂ）は、７０℃以上であると、加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みを抑止でき、１４０℃以下であると、加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みが充分となり、現像も良好に行なえる。
また、前記バインダー樹脂の重量平均分子量Ｍｗ（ｂ）としては、１００００〜５００００の範囲が好ましく、より好ましくは１５０００〜４００００の範囲である。Ｍｗ（ｂ）は、１００００以上であると加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みを抑止でき、５００００以下であると加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みが充分となり、現像も良好に行える。 As glass transition temperature Tg (b) of the said binder resin, the range of 70-140 degreeC is preferable, More preferably, it is the range of 80-110 degreeC. When Tg (b) is 70 ° C. or higher, air (bubbles) can be prevented from entraining during thermocompression bonding (laminating), and when it is 140 ° C. or lower, air (bubbles) entraining during thermocompression bonding (laminating) can be suppressed. And sufficient development can be achieved.
Moreover, as a weight average molecular weight Mw (b) of the said binder resin, the range of 10000-50000 is preferable, More preferably, it is the range of 15000-40000. When Mw (b) is 10,000 or more, air (bubbles) at the time of thermocompression bonding (lamination) can be suppressed, and when it is 50,000 or less, air (bubbles) at the time of thermocompression bonding (laminating) becomes sufficient. Development can be performed well.

前記バインダー樹脂の前記着色層中における含有量としては、前記着色層の全固形分に対して、３０質量％以上とすることが好ましい。バインダー樹脂の量が前記範囲内であると、加熱圧着（ラミネート）時の感光性樹脂層の溶融粘度を層が柔らかくなり過ぎない程度に維持でき、ある程度の硬さを保って圧着時の気泡の混入を効果的に抑制することができる。
前記バインダー樹脂の含有量としては、１０〜４０質量％がより好ましく、２０〜３５質量％が更に好ましい。 As content in the said colored layer of the said binder resin, it is preferable to set it as 30 mass% or more with respect to the total solid of the said colored layer. When the amount of the binder resin is within the above range, the melt viscosity of the photosensitive resin layer at the time of thermocompression bonding (laminating) can be maintained to such an extent that the layer does not become too soft. Mixing can be effectively suppressed.
As content of the said binder resin, 10-40 mass% is more preferable, and 20-35 mass% is still more preferable.

（１−３）重合性化合物
本発明の製造方法に用いられる前記転写材料の前記着色層には、必要に応じて重合性化合物を添加し、重合することで加飾材の耐傷性向上等、好ましい性質を与えることが出来る。前記着色層に用いる重合性化合物は、例えば特開２００８−２５６７３５号公報に挙げられる重合性化合物を選んで用いることができる。 (1-3) Polymerizable compound To the colored layer of the transfer material used in the production method of the present invention, a polymerizable compound is added as necessary and polymerized to improve the scratch resistance of the decorative material, etc. Favorable properties can be given. As the polymerizable compound used for the colored layer, for example, a polymerizable compound described in JP-A-2008-256735 can be selected and used.

重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応生成物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応生成物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   The polymerizable compound is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or A dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexane Diol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2 -Hydroxypropo ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとして、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   As itaconic acid ester, ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, There is sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241, and JP-A-2-226149. Those having the aromatic skeleton described above and those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ｖ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (V) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ5）ＯＨ ・・・（Ｖ）
（但し、Ｒ4及びＲ5は、Ｈ又はＣＨ3を示す。） CH 2 = C (R 4 ) COOCH 2 CH (R 5 ) OH (V)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。硬化感度の観点から、（メタ）アクリル酸エステル構造を２個以上含有する化合物を用いることが好ましく、３個以上含有する化合物を用いることがより好ましく、４個以上含有する化合物を用いることが最も好ましい。また、硬化感度、および、未露光部の現像性の観点では、ＥＯ変性体を含有することが好ましい。また、硬化感度、および、露光部強度の観点ではウレタン結合を含有することが好ましい。
また、前記着色層中の他の成分（例えばバインダー樹脂、重合開始剤、色材（顔料、染料等）との相溶性、分散性に対しても、前記重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基材や後述のオーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。 About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set in accordance with the performance design of the final photosensitive material. For example, it is selected from the following viewpoint.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective. From the viewpoint of curing sensitivity, it is preferable to use a compound containing two or more (meth) acrylic acid ester structures, more preferably a compound containing three or more, and most preferably a compound containing four or more. preferable. Moreover, it is preferable to contain an EO modified body from a viewpoint of hardening sensitivity and the developability of an unexposed part. Moreover, it is preferable to contain a urethane bond from a viewpoint of hardening sensitivity and exposure part intensity | strength.
In addition, the selection and use of the polymerizable compound is important for compatibility and dispersibility with other components in the colored layer (for example, binder resin, polymerization initiator, colorant (pigment, dye, etc.)). For example, compatibility may be improved by the use of low-purity compounds or a combination of two or more types, and for the purpose of improving the adhesion of the base material and the overcoat layer described later. It is possible to select the structure of

以上の観点より、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレートＥＯ変性体、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＥＯ変性体などが好ましいものとして挙げられ、また、市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＤＰＨＡ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社製）が好ましい。
中でも、ビスフェノールＡジアクリレートＥＯ変性体、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＥＯ変性体などが、市販品としては、ＤＰＨＡ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社製）がより好ましい。 From the above viewpoint, bisphenol A diacrylate, bisphenol A diacrylate EO modified product, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate Acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxy D (I) Isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate EO modified product, dipentaerythritol hexaacrylate EO modified product, etc. are mentioned as preferable ones. Also, as commercially available products, urethane oligomer UAS-10, UAB-140 (Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.) Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, and AI-600 (manufactured by Kyoeisha) are preferred.
Among them, bisphenol A diacrylate EO modified, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate EO modified, di Examples of commercially available modified products such as pentaerythritol hexaacrylate EO include DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (manufactured by Kyoeisha). ) Is more preferable.

更には、前記重合性化合物として好ましくは、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーである。
このようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物が挙げられる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。 Further, the polymerizable compound is preferably a monomer or oligomer that has two or more ethylenically unsaturated double bonds and undergoes addition polymerization upon irradiation with light.
Examples of such monomers and oligomers include compounds having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule and having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure. Examples include monofunctional acrylates and monofunctional methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) ) Acrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexane All di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate; multifunctional such as trimethylolpropane and glycerin Polyfunctional acrylates and polyfunctional methacrylates such as those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to alcohol and then (meth) acrylated can be mentioned.

また、酸性多官能光硬化性化合物も前記重合性化合物として好ましい化合物である。
酸性多官能光硬化性化合物としては、（１）水酸基と共に３つ以上の光硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマーを二塩基酸無水物で変性することによりカルボキシル基を導入したもの、（２）水酸基と共に３つ以上の光硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマーに、グリシジル基もしくはイソシアネート基とＣＯＯＨ基とを併せ持つ化合物等を付加することによってカルボキシル基を導入したもの、あるいは（３）３つ以上の光硬化性官能基を有する芳香族化合物を濃硫酸や発煙硫酸で変性することによりスルホン酸基を導入したもの等を用いることができる。また、酸性多官能光硬化性化合物そのものであるモノマーを繰返し単位として含むオリゴマーを、酸性多官能光硬化性化合物として用いてもよい。
酸性多官能光硬化性化合物の例としては、下記一般式（ｉ）、一般式（ｉｉ）で表されるものが好ましい。なお、一般式（ｉ）及び一般式（ｉｉ）において、Ｔ又はＧがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がＲ、Ｘ及びＷに結合する。 An acidic polyfunctional photocurable compound is also a preferred compound as the polymerizable compound.
Examples of the acidic polyfunctional photocurable compound include (1) a monomer or oligomer having a hydroxyl group and three or more photocurable functional groups, which is modified with a dibasic acid anhydride to introduce a carboxyl group, (2) Introducing a carboxyl group by adding a compound having a glycidyl group or an isocyanate group and a COOH group to a monomer or oligomer having a hydroxyl group and three or more photocurable functional groups, or (3) three or more Those having a sulfonic acid group introduced by modifying an aromatic compound having a photocurable functional group with concentrated sulfuric acid or fuming sulfuric acid can be used. Moreover, you may use the oligomer which contains the monomer which is an acidic polyfunctional photocurable compound itself as a repeating unit as an acidic polyfunctional photocurable compound.
As an example of an acidic polyfunctional photocurable compound, what is represented by the following general formula (i) and general formula (ii) is preferable. In general formula (i) and general formula (ii), when T or G is an oxyalkylene group, the terminal on the carbon atom side is bonded to R, X, and W.

前記一般式（ｉ）中、Ｒは（メタ）アクリロイロキシ基を表し、Ｘは−ＣＯＯＨ基、−ＯＰＯ3Ｈ2基を表す。Ｔはオキシアルキレン基を表し、ここでアルキレン基の炭素数は１〜４である。ｎは０〜２０である。
前記一般式（ｉｉ）中、Ｗは一般式（ｉ）におけるＲ又はＸを表し、６個のＷのうち、３個以上のＷがＲである。Ｇは一般式（ｉ）におけるＴと同義である。Ｚは−Ｏ−もしくは、−ＯＣ＝ＯＮＨ（ＣＨ2）ｑＮＨＣＯＯ−を表す。ｐは０〜２０であり、ｑは１〜８である。一分子内に複数存在するＲ、Ｘ、Ｔ、Ｇは、各々同一であっても、異なっていても良い。） In the general formula (i), R represents a (meth) acryloyloxy group, and X represents a —COOH group or a —OPO 3 H 2 group. T represents an oxyalkylene group, wherein the alkylene group has 1 to 4 carbon atoms. n is 0-20.
In the general formula (ii), W represents R or X in the general formula (i), and 3 or more Ws are R among 6 Ws. G has the same meaning as T in formula (i). Z represents —O— or —OC═ONH (CH 2 ) qNHCOO—. p is 0-20 and q is 1-8. A plurality of R, X, T, and G present in one molecule may be the same or different. )

前記一般式（ｉ）及び（ｉｉ）で表される酸性多官能光硬化性化合物の市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のカルボキシル基含有３官能アクリレートであるＴＯ−７５６、及びカルボキシル基含有５官能アクリレートであるＴＯ−１３８２などが挙げられる。   As a commercial item of the acidic polyfunctional photocurable compound represented by the general formulas (i) and (ii), for example, TO-756 which is a carboxyl group-containing trifunctional acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd., and a carboxyl group And TO-1382 which is a pentafunctional acrylate.

更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、上記カルボキシル基含有５官能アクリレートなどが好ましい。また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。 Further, urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-B-50-6034 and JP-A-51-37193; JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 And polyester acrylates described in Japanese Patent Publication No. 52-30490; polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid.
Among these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, the above carboxyl group-containing pentafunctional acrylate, and the like are preferable. . In addition, “polymerizable compound B” described in JP-A-11-133600 can also be mentioned as a preferable example.

前記重合性化合物の前記着色層を形成するために用いられる組成物中における含有量は、組成物の全固形分に対して、５〜５０質量％であることが好ましく、７〜４０質量％であることがより好ましく、１０〜３５質量％であることが更に好ましい。   It is preferable that content in the composition used in order to form the said colored layer of the said polymeric compound is 5-50 mass% with respect to the total solid of a composition, and is 7-40 mass%. More preferably, it is more preferably 10 to 35% by mass.

（１−４）重合開始剤
前記着色層には、重合性化合物を添加した場合に、それを積極的に重合するための重合開始剤を添加することができる。重合開始剤は、可視光領域に吸収を持っており、加飾材料に望まぬ着色をすることがある。よって、重合開始剤を加飾材料に添加する場合は、その色味に応じて開始剤を選抜する必要がある。
本発明に用いることが出来る重合開始剤は、光重合開始剤（例えば特開２００８−２５６７３５号に記載してある光重合開始剤）や熱重合開始剤を挙げることが出来る。 (1-4) Polymerization initiator When a polymerizable compound is added to the colored layer, a polymerization initiator for positively polymerizing it can be added. The polymerization initiator has absorption in the visible light region, and may undesirably color the decorative material. Therefore, when adding a polymerization initiator to a decorating material, it is necessary to select an initiator according to the color.
Examples of the polymerization initiator that can be used in the present invention include a photopolymerization initiator (for example, a photopolymerization initiator described in JP-A-2008-256735) and a thermal polymerization initiator.

（１−４−１）光重合開始剤
光重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン（オキシド）化合物が挙げられる。 (1-4-1) Photopolymerization initiator Examples of the photopolymerization initiator include organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, Examples include coumarin compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic borate compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and acylphosphine (oxide) compounds.

有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halogenated compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62-58241, JP 62 -212401, JP-A-63-70243, JP-A-63-298339, M.S. P. Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970) ”, and the oxazole compound and s-triazine compound substituted with a trihalomethyl group.

ｓ−トリアジン化合物として、より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−（ジエトキシカルボニルアミノ）−フェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。   As the s-triazine compound, more preferably, an s-triazine derivative in which at least one mono-, di-, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring, specifically, for example, 2,4,6- Tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloro) Til) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- -Triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN, N- (diethoxycarbonylamino) -phenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris ( Tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine and the like. .

オキシジアゾール化合物としては、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（シアノスチリル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ナフト−１−イル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−スチリル）スチリル−１，３，４−オキソジアゾールなどが挙げられる。   Examples of the oxydiazole compound include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3,4-oxodiazole, 2- Examples include trichloromethyl-5- (naphth-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3,4-oxodiazole, and the like. .

カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチル−１−（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキシド、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４−モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy-2 -Phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenylketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy -1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl-1- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-mol Forinophenyl) -butanone-1,2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino- Acetophenone derivatives such as 4-morpholinobutyrophenone, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone And benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

ケタール化合物としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。   Examples of the ketal compound include benzyl dimethyl ketal and benzyl-β-methoxyethyl ethyl acetal.

ベンゾイン化合物としては、ｍ−ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルｏ−ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。   Examples of the benzoin compound include m-benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, and methyl o-benzoyl benzoate.

アクリジン化合物としては、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタンなどを挙げることができる。   Examples of the acridine compound include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, and the like.

有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide compound include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxide). Oxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroper Oxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2 , -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

アゾ化合物としては、例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。   Examples of the azo compound include azo compounds described in JP-A-8-108621.

クマリン化合物としては、例えば、３−メチル−５−アミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−クロロ−５−ジエチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−ブチル−５−ジメチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン等を挙げることができる。   Examples of the coumarin compound include 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s-triazin-2-yl). ) Amino) -3-phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, and the like.

アジド化合物としては、米国特許第２８４８３２８号明細書、米国特許第２８５２３７９号明細書ならびに米国特許第２９４０８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、２，６−ビス（４−アジドベンジリデン）−４−エチルシクロヘキサノン（ＢＡＣ−Ｅ）等が挙げられる。   Examples of the azide compound include organic azide compounds described in U.S. Pat. No. 2,848,328, U.S. Pat. No. 2,852,379 and U.S. Pat. No. 2,940,553, 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-ethyl. And cyclohexanone (BAC-E).

メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニル−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニル−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニル−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl-1-yl, di- Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pe Tafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-tri Fluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3 , 4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   As the hexaarylbiimidazole compound, for example, JP-B-6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, 4,622,286, etc. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetraphenylbi Dazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5 Examples include 5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特開２０００−１３１８３７、特開２００２−１０７９１６、特許第２７６４７６９号、特願２０００−３１０８０８号、等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。   Examples of the organic borate compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A-2000. -131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application No. 2000-310808, etc., and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. Organoboron salts described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, JP-A-6-175554 In Japanese Patent Laid-Open No. 6-175553 Organoboron iodonium complexes, organoboron phosphonium complexes described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7- Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes such as those described in Japanese Patent No. 306527 and Japanese Patent Laid-Open No. 7-292014.

ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特願２００１−１３２３１８号明細書等記載される化合物等が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A No. 61-166544 and Japanese Patent Application No. 2001-132318.

オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ． Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９）１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ． Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９）１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報記載の化合物等が挙げられる。具体例としてはチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュアＯＸＥ−０１、ＯＸＥ−０２、タコマ社製のＬＵＮＡＲ６などが好適である。   Examples of oxime ester compounds include J.M. C. S. Perkin II (1979) 1653-1660), J. MoI. C. S. Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, JP-A 2000-66385, compounds described in JP-A 2000-80068, JP-T 2004-534797 Compounds and the like. Specific examples include Irgacure OXE-01 and OXE-02 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, and LUNAR6 manufactured by Tacoma.

オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。   Examples of onium salt compounds include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in U.S. Pat. No. 4,069,055, ammonium salts described in JP-A-4-365049, U.S. Pat. No. 4,069, No. 055, No. 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, JP Examples include iodonium salts described in JP-A No. -150848 and JP-A-2-296514.

本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基等の電子供与性基で２つ以上置換されていることが好ましい。また、その他の好ましいスルホニウム塩の形態として、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するヨードニウム塩などが好ましい。   The iodonium salt that can be suitably used in the present invention is a diaryl iodonium salt, and is preferably substituted with two or more electron donating groups such as an alkyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group from the viewpoint of stability. . In addition, as another preferable form of the sulfonium salt, an iodonium salt in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin or an anthraquinone structure and absorption at 300 nm or more is preferable.

スルホニウム塩としては、欧州特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性の感度点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が０より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリーロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。 Examples of sulfonium salts include European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161, 811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2,904,626, The sulfonium salts described in the specifications of US Pat. Nos. 3,604,580 and 3,604,581 can be mentioned, and from the viewpoint of stability, it is preferably substituted with an electron-withdrawing group. The electron withdrawing group preferably has a Hammett value greater than zero. Preferred electron-withdrawing groups include halogen atoms and carboxylic acids.
Other preferable sulfonium salts include sulfonium salts in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin or anthraquinone structure and absorbs at 300 nm or more. As another preferable sulfonium salt, a sulfonium salt in which the triarylsulfonium salt has an aryloxy group or an arylthio group as a substituent and has absorption at 300 nm or more can be mentioned.

また、オニウム塩化合物としては、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Moreover, as an onium salt compound, J.M. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

アシルホスフィン（オキシド）化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア８１９、ダロキュア４２６５、ダロキュアＴＰＯなどが挙げられる。   Examples of the acylphosphine (oxide) compound include Irgacure 819, Darocur 4265, Darocur TPO and the like manufactured by Ciba Specialty Chemicals.

光重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン系化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体およびその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。   As photopolymerization initiators, from the viewpoint of exposure sensitivity, trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oximes Compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyloxadiazole compounds, 3-aryl substitution Compounds selected from the group consisting of coumarin compounds are preferred.

さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物であり、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。   More preferably, they are trihalomethyltriazine compounds, α-aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, and trihalo. Most preferred is at least one compound selected from the group consisting of a methyltriazine compound, an α-aminoketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound.

光重合開始剤は、１種単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。
光重合開始剤の感光性組成物中における含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜３０質量％であり、特に好ましくは１〜２０質量％である。前記範囲内であると、良好な感度とパターン形成性が得られる。 A photoinitiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The content of the photopolymerization initiator in the photosensitive composition is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, based on the total solid content of the composition. Especially preferably, it is 1-20 mass%. Within the above range, good sensitivity and pattern formability can be obtained.

（１−４−２）熱重合開始剤
前記着色層には、熱重合開始剤を含有させることも有効である。熱重合開始剤としては、例えば、各種のアゾ系化合物、過酸化物系化合物が挙げられ、前記アゾ系化合物としては、アゾビス系化合物を挙げることができ、前記過酸化物系化合物としては、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネートなどを挙げることができる。 (1-4-2) Thermal polymerization initiator It is also effective to contain a thermal polymerization initiator in the colored layer. Examples of the thermal polymerization initiator include various azo compounds and peroxide compounds. Examples of the azo compounds include azobis compounds. Examples of the peroxide compounds include ketones. Examples thereof include peroxides, peroxyketals, hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxyesters, peroxydicarbonates, and the like.

（１−５）酸化防止剤
前記着色層には、酸化防止剤を添加してもよい。特に前記着色層が白層である場合、酸化防止剤を添加することが好ましい。前記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、セミヒンダードフェノール系、燐酸系、分子内に燐酸/ヒンダードフェノールを持つハイブリッド型酸化防止剤が使用できる。
好ましくは燐酸系、燐酸系とヒンダードフェノール系若しくはセミヒンダードフェノール系の併用、若しくは分子内に燐酸/ヒンダードフェノールを持つハイブリッド型酸化防止剤が好ましい。 (1-5) Antioxidant An antioxidant may be added to the colored layer. In particular, when the colored layer is a white layer, it is preferable to add an antioxidant. As the antioxidant, hindered phenols, semi-hindered phenols, phosphoric acids, and hybrid antioxidants having phosphoric acid / hindered phenol in the molecule can be used.
Preferably, phosphoric acid-based, phosphoric acid-based and hindered phenol-based or semi-hindered phenol-based, or a hybrid type antioxidant having phosphoric acid / hindered phenol in the molecule is preferable.

（２）着色層の厚み
前記着色層の厚みが１〜４０μｍであることが、前記着色層を含む転写材料を基材に転写した後に得られる加飾層の隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。
前記着色層の厚みは１．５〜３８μｍが更に好ましく、１．８〜３５μｍが特に好ましい。 (2) Thickness of colored layer From the viewpoint of enhancing the hiding power of the decorative layer obtained after transferring the transfer material containing the colored layer to a substrate, the thickness of the colored layer is 1 to 40 µm. preferable.
The thickness of the colored layer is more preferably 1.5 to 38 μm, and particularly preferably 1.8 to 35 μm.

（３）着色層のＯＤ
前記着色層の光学濃度（ＯＤとも言う）が２．６以上であることが、前記着色層を含む転写材料を基材に転写した後に得られる加飾層の隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。
前記着色層のＯＤは、３．０〜６．０であることがより好ましく、３．６〜５．５であることが特に好ましい。 (3) OD of colored layer
From the viewpoint of increasing the hiding power of the decorative layer obtained after the transfer material containing the colored layer is transferred to a substrate, the optical density (also referred to as OD) of the colored layer is 2.6 or more. preferable.
The OD of the colored layer is more preferably 3.0 to 6.0, and particularly preferably 3.6 to 5.5.

−透明樹脂層−
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法によって透明保護層付き基材を製造する場合に用いられる転写材料は透明樹脂層を少なくとも１層有する。前記透明樹脂層は、少なくとも透明バインダー樹脂を含む。前記透明樹脂層は、透明性が必要で、４００ｎｍでの光透過率が８５％以上であることが好ましい。また、透明樹脂層は（ｂ）重合性化合物を含むことが好ましく、さらに（ｃ）重合開始剤を含むことがより好ましい。 -Transparent resin layer-
The transfer material used when manufacturing the base material with a transparent protective layer by the decorating material of this invention or the manufacturing method of the base material with a transparent protective layer has at least one transparent resin layer. The transparent resin layer contains at least a transparent binder resin. The transparent resin layer needs to be transparent and preferably has a light transmittance of 85% or more at 400 nm. The transparent resin layer preferably contains (b) a polymerizable compound, and more preferably contains (c) a polymerization initiator.

前記転写材料に含まれる前記透明樹脂層を、後述する基材に転写することで、本発明の製造方法で得られる透明保護層付き基材の透明保護層を形成することができる。   By transferring the transparent resin layer contained in the transfer material to a substrate to be described later, a transparent protective layer of the substrate with a transparent protective layer obtained by the production method of the present invention can be formed.

（１１）透明樹脂層の材料
前記透明樹脂層は、透明樹脂層として形成するための透明バインダー樹脂材を含む。また、使用する環境、用途に応じて、前記透明樹脂層はさらに重合性化合物および重合開始剤を含むことが好ましい。その他、前記透明樹脂層は、酸化防止剤、重合禁止剤、を含むことができる。 (11) Material of transparent resin layer The transparent resin layer contains a transparent binder resin material for forming as a transparent resin layer. Moreover, it is preferable that the said transparent resin layer contains a polymeric compound and a polymerization initiator further according to the environment to be used and a use. In addition, the transparent resin layer may include an antioxidant and a polymerization inhibitor.

（１１−２）透明バインダー樹脂
本発明の製造方法に用いられる透明バインダー樹脂は、仮支持体上に透明樹脂層を形成後に基材に転写でき、透明であれば、いかなるものを使用することが出来るが、熱処理等で保護層の色味が変わらないものが望ましい。 (11-2) Transparent binder resin The transparent binder resin used in the production method of the present invention can be transferred to a substrate after forming a transparent resin layer on a temporary support, and any material can be used as long as it is transparent. However, it is desirable that the color of the protective layer does not change by heat treatment or the like.

適した透明バインダー樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／エチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／ブチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／シロクヘキシル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／イソボニル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／スチレン共重合体、などを挙げることができる。
中でも、加熱圧着時の気泡の混入を回避する点で、メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／エチル（メタ）アクリレート共重合体、が好ましい。
また、硬度の観点から側鎖に「分岐および／または脂環構造を有する基」や、「エチレン性不飽和基」を有していてもよい。
以下、「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」について説明する。
分岐を有する基としては、炭素原子数３〜１２個の分岐状のアルキル基を示し、例えば、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ｉ−アミル基、ｔ−アミル基、３−オクチル、ｔ−オクチル等が挙げられる。これらの中でも、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基等が好ましく、さらにｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が好ましい。 Suitable transparent binder resins include, for example, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (Meth) acrylate / ethyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate / butyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) ) Acrylate / Syrohexyl (meth) acrylate copolymer, (Meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / Methyl (meth) acrylate / Isobonyl (meth) acrylate copolymer, (Meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (Meth) acrylate / styrene copolymer, and the like.
Among them, in order to avoid mixing of bubbles during thermocompression bonding, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / Benzyl methacrylate / methyl (meth) acrylate / ethyl (meth) acrylate copolymer is preferred.
Further, from the viewpoint of hardness, the side chain may have a “group having a branched and / or alicyclic structure” or an “ethylenically unsaturated group”.
Hereinafter, the “group having a branched and / or alicyclic structure in the side chain” will be described.
Examples of the branched group include branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, such as i-propyl group, i-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, and neopentyl group. , 2-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, i-amyl group, t-amyl group, 3-octyl, t-octyl and the like. Among these, i-propyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group and the like are preferable, and i-propyl group, s-butyl group, t-butyl group and the like are more preferable.

脂環構造を有する基としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を示し、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基等が挙げられる。これらの中でも、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基等が好ましく、更にシクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロペンテニル基等が好ましい。   The group having an alicyclic structure represents an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, an adamantyl group. , Tricyclodecyl group, dicyclopentenyl group, dicyclopentanyl group, tricyclopentenyl group, and tricyclopentanyl group. Among these, a cyclohexyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, an adamantyl group, a tricyclodecyl group, a tricyclopentenyl group, a tricyclopentanyl group, and the like are preferable, and a cyclohexyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclopentenyl group, and the like. Is preferred.

前記側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基を含有する単量体としては、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリレート類である。   Examples of the monomer containing a group having a branched and / or alicyclic structure in the side chain include styrenes, (meth) acrylates, vinyl ethers, vinyl esters, (meth) acrylamides, and the like ( (Meth) acrylates, vinyl esters and (meth) acrylamides are preferred, and (meth) acrylates are more preferred.

前記側鎖に分岐構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−アミル、（メタ）アクリル酸ｔ−アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ｉｓｏ−アミル、（メタ）アクリル酸２−オクチル、（メタ）アクリル酸３−オクチル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル等が挙げられ、その中でも、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル等が好ましく、さらに好ましくは、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｔ−ブチル等である。   Specific examples of the monomer containing a group having a branched structure in the side chain include i-propyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, (meth ) T-butyl acrylate, i-amyl (meth) acrylate, t-amyl (meth) acrylate, sec-iso-amyl (meth) acrylate, 2-octyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 3-octyl, t-octyl (meth) acrylate, and the like are mentioned. Among them, i-propyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl methacrylate, and the like are preferable, and more preferable. I-propyl methacrylate, t-butyl methacrylate and the like.

次に、前記側鎖に脂環構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートである。具体的な例としては、（メタ）アクリル酸（ビシクロ〔２．２．１］ヘプチル−２）、（メタ）アクリル酸−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−メチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５−ジメチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−メチル−５−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５，８−トリエチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５−ジメチル−８−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸 ２−メチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸 ２−エチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸 ３−ヒドロキシ−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−５−イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−１−イルメチル、（メタ）アクリル酸−１−メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−ビシクロ〔３．１．１〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸−３，７，７−トリメチル−４−ヒドロキシ−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，５−トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、などが挙げられる。
これら（メタ）アクリル酸エステルのなかでも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸１−メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシルなどが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチルが特に好ましい。 Next, a specific example of the monomer containing a group having an alicyclic structure in the side chain is (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms. Specific examples include (meth) acrylic acid (bicyclo [2.2.1] heptyl-2), (meth) acrylic acid-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-2-adamantyl, (meth) acrylic. Acid-3-methyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3,5-dimethyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3-ethyladamantyl, (meth) acrylic acid-3-methyl-5-ethyl -1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3,5,8-triethyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3,5-dimethyl-8-ethyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid 2- Methyl-2-adamantyl, (meth) acrylic acid 2-ethyl-2-adamantyl, (meth) acrylic acid 3-hydroxy-1-adamantyl, (meth) acrylic acid o Tahydro-4,7-mentanoinden-5-yl, octahydro-4,7-mentanoinden-1-ylmethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate-1-menthyl, tricyclo (meth) acrylate Decyl, (meth) acrylic acid-3-hydroxy-2,6,6-trimethyl-bicyclo [3.1.1] heptyl, (meth) acrylic acid-3,7,7-trimethyl-4-hydroxy-bicyclo [ 4.1.0] heptyl, (nor) bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, fuentyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-2,2,5-trimethylcyclohexyl, (meth) And cyclohexyl acrylate.
Among these (meth) acrylates, cyclohexyl (meth) acrylate, (nor) bornyl (meth) acrylic acid, isobornyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-1-adamantyl, (meth) acrylic acid -2-adamantyl, (meth) acrylic acid fuentyl, (meth) acrylic acid 1-menthyl, (meth) acrylic acid tricyclodecyl, etc. are preferred, (meth) acrylic acid cyclohexyl, (meth) acrylic acid (nor) bornyl Particularly preferred are isobornyl (meth) acrylate and 2-adamantyl (meth) acrylate.

「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」は１０〜７０モル％が好ましく、１５〜６５モル％が更に好ましく、２０〜６０モル％が特に好ましい。側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基が前記範囲内であると、良好な硬度が得られる。   The “group having a branched and / or alicyclic structure in the side chain” is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 15 to 65 mol%, particularly preferably 20 to 60 mol%. When the group having a branched and / or alicyclic structure in the side chain is within the above range, good hardness can be obtained.

前記「エチレン性不飽和基」としては、特に制限はないが、（メタ）アクリロイル基が好ましい。また、エチレン性不飽和基と単量体との連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの２価の連結基であれば特に制限はない。側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ化合物（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸等）にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ基（例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート等）にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加した付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
「側鎖にエチレン性不飽和基」を有する繰り返し単位の含有量は１０〜７０モル％が好ましく、２０〜７０モル％が更に好ましく、３０〜７０モル％が特に好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を有する基が前記範囲内であると、硬化性も良好である。 The “ethylenically unsaturated group” is not particularly limited, but a (meth) acryloyl group is preferable. The connection between the ethylenically unsaturated group and the monomer is not particularly limited as long as it is a divalent linking group such as an ester group, an amide group, or a carbamoyl group. The method for introducing an ethylenically unsaturated group into the side chain can be appropriately selected from known ones. For example, a compound having an acidic group (for example, acrylic acid, methacrylic acid, vinylbenzoic acid, maleic acid, maleic acid) A method of adding a (meth) acrylate having an epoxy group to a monoalkyl ester, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, sorbic acid, α-cyanocinnamic acid, etc., a group having a hydroxyl group (for example, 2- Examples thereof include a method of adding (meth) acrylate having an isocyanate group to hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, etc., and a method of adding (meth) acrylate having a hydroxy group to a group having an isocyanate group.
The content of the repeating unit having an “ethylenically unsaturated group in the side chain” is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 20 to 70 mol%, and particularly preferably 30 to 70 mol%. When the group having an ethylenically unsaturated group in the side chain is within the above range, curability is also good.

前記３種の繰り返し単位の他、他の単量体に由来する繰り返し単位を含んでもよい。そのような他の単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐および／または脂環構造をもたない（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。   In addition to the three types of repeating units, repeating units derived from other monomers may be included. Such other monomer is not particularly limited, for example, (meth) acrylic acid ester having no branched and / or alicyclic structure, styrene, vinyl ether, dibasic acid anhydride group, vinyl ester group, And monomers having a hydrocarbon alkenyl group.

前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。
前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。 There is no restriction | limiting in particular as said vinyl ether group, For example, a butyl vinyl ether group etc. are mentioned.
The dibasic acid anhydride group is not particularly limited, and examples thereof include a maleic anhydride group and an itaconic anhydride group.
There is no restriction | limiting in particular as said vinyl ester group, For example, a vinyl acetate group etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as said hydrocarbon alkenyl group, For example, a butadiene group, an isoprene group, etc. are mentioned.

その他の単量体の含有率としては、モル組成比が、０〜３０ｍｏｌ％であることが好ましく、０〜２０ｍｏｌ％であることがより好ましい。   As content rate of another monomer, it is preferable that molar composition ratio is 0-30 mol%, and it is more preferable that it is 0-20 mol%.

具体例としては、例えば、特開２００８−１４６０１８公報の段落番号［００５７］〜［００６３］に記載される化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５で表される化合物が挙げられる。   Specific examples include compounds represented by compounds P-1 to P-35 described in paragraph numbers [0057] to [0063] of JP-A-2008-146018.

透明バインダー樹脂は、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から作られる。まず、（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。   The transparent binder resin is made from a two-stage process including a monomer (co) polymerization reaction process and an ethylenically unsaturated group introduction process. First, the (co) polymerization reaction is made by a (co) polymerization reaction of various monomers, and is not particularly limited and can be appropriately selected from known ones. For example, radical polymerization, cationic polymerization, anionic polymerization, coordination polymerization and the like can be appropriately selected for the active species of polymerization. Among these, radical polymerization is preferable from the viewpoint of easy synthesis and low cost. Moreover, there is no restriction | limiting in particular also about the polymerization method, It can select suitably from well-known things. For example, a bulk polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, a solution polymerization method and the like can be appropriately selected. Among these, the solution polymerization method is more desirable.

前記透明バインダー樹脂の含有量としては、透明樹脂層を形成するために用いられる組成物の全固形分に対して、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。
なお、ここで固形分とは、透明樹脂層を形成するために用いられる組成物において溶剤を除いた他の成分の合計量を指す。 As content of the said transparent binder resin, 5-70 mass% is preferable with respect to the total solid of the composition used in order to form a transparent resin layer, and 10-50 mass% is more preferable.
Here, the solid content refers to the total amount of other components excluding the solvent in the composition used for forming the transparent resin layer.

前記透明バインダー樹脂のガラス転移温度Ｔｇ（ｂ）としては、７０〜１４０℃の範囲が好ましく、より好ましくは８０〜１１０℃の範囲である。Ｔｇ（ｂ）は、７０℃以上であると、加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みを抑止でき、１４０℃以下であると、加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みが充分となり、現像も良好に行なえる。
また、前記透明バインダー樹脂の重量平均分子量Ｍｗ（ｂ）としては、１００００〜５００００の範囲が好ましく、より好ましくは１５０００〜４００００の範囲である。Ｍｗ（ｂ）は、１００００以上であると加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みを抑止でき、５００００以下であると加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みが充分となり、現像も良好に行える。 As glass transition temperature Tg (b) of the said transparent binder resin, the range of 70-140 degreeC is preferable, More preferably, it is the range of 80-110 degreeC. When Tg (b) is 70 ° C. or higher, air (bubbles) can be prevented from entraining during thermocompression bonding (laminating), and when it is 140 ° C. or lower, air (bubbles) entraining during thermocompression bonding (laminating) can be suppressed. And sufficient development can be achieved.
Moreover, as a weight average molecular weight Mw (b) of the said transparent binder resin, the range of 10000-50000 is preferable, More preferably, it is the range of 15000-40000. When Mw (b) is 10,000 or more, air (bubbles) at the time of thermocompression bonding (lamination) can be suppressed, and when it is 50,000 or less, air (bubbles) at the time of thermocompression bonding (laminating) becomes sufficient. Development can be performed well.

前記透明バインダー樹脂の前記透明樹脂層中における含有量としては、前記透明樹脂層の全固形分に対して、３０質量％以上とすることが好ましい。バインダー樹脂の量が前記範囲内であると、加熱圧着（ラミネート）時の透明樹脂層の溶融粘度を層が柔らかくなり過ぎない程度に維持でき、ある程度の硬さを保って圧着時の気泡の混入を効果的に抑制することができる。
前記透明バインダー樹脂の含有量としては、１０〜４０質量％がより好ましく、２０〜３５質量％が更に好ましい。 As content in the said transparent resin layer of the said transparent binder resin, it is preferable to set it as 30 mass% or more with respect to the total solid of the said transparent resin layer. When the amount of the binder resin is within the above range, the melt viscosity of the transparent resin layer at the time of thermocompression bonding (laminating) can be maintained to such an extent that the layer does not become too soft. Can be effectively suppressed.
As content of the said transparent binder resin, 10-40 mass% is more preferable, and 20-35 mass% is still more preferable.

（１１−３）重合性化合物
本発明の製造方法に用いられる前記転写材料の前記透明樹脂層には、必要に応じて重合性化合物を添加し、重合することで透明樹脂層の耐傷性向上等、好ましい性質を与えることが出来る。前記透明樹脂層に用いる重合性化合物は、例えば特開２００８−２５６７３５号公報に挙げられる重合性化合物を選んで用いることができる。透明樹脂層に用いられる重合性化合物の好ましい範囲は、前記着色層に用いられる重合性化合物の好ましい範囲と同様である。 (11-3) Polymerizable compound The transparent resin layer of the transfer material used in the production method of the present invention is added with a polymerizable compound as necessary, and polymerized to improve the scratch resistance of the transparent resin layer. , Can give favorable properties. As the polymerizable compound used in the transparent resin layer, for example, a polymerizable compound described in JP 2008-256735 A can be selected and used. The preferred range of the polymerizable compound used for the transparent resin layer is the same as the preferred range of the polymerizable compound used for the colored layer.

前記重合性化合物の前記透明樹脂層を形成するために用いられる組成物中における含有量は、組成物の全固形分に対して、５〜５０質量％であることが好ましく、７〜４０質量％であることがより好ましく、１０〜３５質量％であることが更に好ましい。   It is preferable that content in the composition used in order to form the said transparent resin layer of the said polymeric compound is 5-50 mass% with respect to the total solid of a composition, 7-40 mass% It is more preferable that it is 10-35 mass%.

（１−４）重合開始剤
前記透明樹脂層には、重合性化合物を添加した場合に、それを積極的に重合するための重合開始剤を添加することができる。重合開始剤は、可視光領域に吸収を持っており、透明樹脂層または保護層に望まぬ着色をすることがある。よって、重合開始剤を透明樹脂層に添加する場合は、その色味に応じて開始剤を選抜する必要がある。
透明樹脂層に用いられる光重合開始剤の好ましい範囲は、前記着色層に用いられる光重合開始剤の好ましい範囲と同様である。
透明樹脂層に用いられる熱重合開始剤の好ましい範囲は、前記着色層に用いられる熱重合開始剤の好ましい範囲と同様である。 (1-4) Polymerization initiator When a polymerizable compound is added to the transparent resin layer, a polymerization initiator for positively polymerizing it can be added. The polymerization initiator has absorption in the visible light region, and may cause the transparent resin layer or the protective layer to be undesirably colored. Therefore, when adding a polymerization initiator to a transparent resin layer, it is necessary to select an initiator according to the color.
The preferred range of the photopolymerization initiator used for the transparent resin layer is the same as the preferred range of the photopolymerization initiator used for the colored layer.
The preferred range of the thermal polymerization initiator used for the transparent resin layer is the same as the preferred range of the thermal polymerization initiator used for the colored layer.

（１１−５）酸化防止剤
前記透明樹脂層には、酸化防止剤を添加してもよい。透明樹脂層に用いられる酸化防止剤の好ましい範囲は、前記着色層に用いられる酸化防止剤の好ましい範囲と同様である。 (11-5) Antioxidant An antioxidant may be added to the transparent resin layer. The preferable range of the antioxidant used for the transparent resin layer is the same as the preferable range of the antioxidant used for the colored layer.

（１２）透明樹脂層の厚み
前記透明樹脂層の厚みが１〜１００μｍであることが、前記透明樹脂層を含む転写材料を基材に転写した後に得られる保護層の隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。
前記透明樹脂層の厚みは１．５〜３８μｍが更に好ましく、１．８〜３５μｍが特に好ましい。 (12) Thickness of the transparent resin layer The thickness of the transparent resin layer is 1 to 100 μm, and the viewpoint for enhancing the hiding power of the protective layer obtained after the transfer material including the transparent resin layer is transferred to the base material Therefore, it is preferable.
The thickness of the transparent resin layer is more preferably 1.5 to 38 μm, particularly preferably 1.8 to 35 μm.

（１３）透明樹脂層の光学特性
前記透明樹脂層の４００ｎｍでの光透過率が８０％以上であることが、前記保護層を含む転写材料を基材に転写した後に得られる透明樹脂層の透明性を高めるための観点から、好ましい。
前記透明樹脂層の４００ｎｍでの光透過率は、８５％以上であることが特に好ましい。 (13) Optical properties of transparent resin layer The transparent resin layer has a light transmittance at 80 nm of 80% or more, and the transparent resin layer obtained after the transfer material including the protective layer is transferred to a substrate is transparent. From the viewpoint of enhancing the properties, it is preferable.
The light transmittance at 400 nm of the transparent resin layer is particularly preferably 85% or more.

−仮支持体−
前記転写材料は仮支持体を有する。
前記仮支持体としては、可撓性を有し、加圧、若しくは加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮若しくは伸びを生じないことが好ましい。そのような仮支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
仮支持体の厚みには特に限定はないが、５〜３００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがより好ましい。
また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。 -Temporary support-
The transfer material has a temporary support.
The temporary support is preferably flexible and does not cause significant deformation, contraction or elongation even under pressure, or under pressure and heating. Examples of such a temporary support include a polyethylene terephthalate film, a cellulose triacetate film, a polystyrene film, a polycarbonate film, etc. Among them, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.
Although there is no limitation in particular in the thickness of a temporary support body, 5-300 micrometers is preferable and 20-200 micrometers is more preferable.
Further, the temporary support may be transparent or may contain dyed silicon, alumina sol, chromium salt, zirconium salt or the like.
Further, the temporary support can be provided with conductivity by a method described in JP-A-2005-221726.

−熱可塑性樹脂層−
前記転写材料は、熱可塑性樹脂層を少なくとも１層有していてもよい。該熱可塑性樹脂層は、前記仮支持体と、前記着色層または透明樹脂層との間に設けられることが好ましい。すなわち、前記転写材料は、前記仮支持体、前記熱可塑性樹脂層ならびに前記着色層および透明樹脂層のうちいずれかをこの順で含むことが好ましい。
前記熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。 -Thermoplastic resin layer-
The transfer material may have at least one thermoplastic resin layer. The thermoplastic resin layer is preferably provided between the temporary support and the colored layer or the transparent resin layer. That is, it is preferable that the transfer material includes any one of the temporary support, the thermoplastic resin layer, the colored layer, and the transparent resin layer in this order.
The component used in the thermoplastic resin layer is preferably an organic polymer substance described in JP-A-5-72724, and polymer softening by the Viker Vicat method (specifically, American Material Testing Method ASTM D1 ASTM D1235). It is particularly preferred that the softening point by point measuring method is selected from organic polymer substances having a temperature of about 80 ° C. or less.

具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。   Specifically, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, ethylene copolymers such as ethylene and vinyl acetate or saponified products thereof, ethylene and acrylic acid esters or saponified products thereof, polyvinyl chloride, vinyl chloride and vinyl acetate and saponified products thereof. Vinyl chloride copolymer such as fluoride, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride copolymer, polystyrene, styrene copolymer such as styrene and (meth) acrylic acid ester or saponified product thereof, polyvinyl toluene, vinyl toluene and (meta ) Vinyl toluene copolymer such as acrylic ester or saponified product thereof, poly (meth) acrylic ester, (meth) acrylic ester copolymer such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, vinyl acetate copolymer Combined nylon, copolymer nylon, N-alkoxyme Le nylon, and organic polymeric polyamide resins such as N- dimethylamino nylon.

熱可塑性樹脂層の厚みは６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。熱可塑性樹脂層の厚みが６〜１００μｍの範囲では、基材上に凹凸がある場合であっても該凹凸を完全に吸収することができる。   The thickness of the thermoplastic resin layer is preferably 6 to 100 μm, and more preferably 6 to 50 μm. When the thickness of the thermoplastic resin layer is in the range of 6 to 100 μm, the unevenness can be completely absorbed even if the substrate has unevenness.

−中間層−
前記転写材料は、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を少なくとも１層有していてもよい。該中間層は、前記仮支持体と、前記着色層または透明樹脂層との間（前記熱可塑性樹脂層を有する場合には、該熱可塑性樹脂層と、前記着色層または透明樹脂層との間）に設けられることが好ましい。すなわち、前記転写材料は、前記仮支持体、前記熱可塑性樹脂層、中間層ならびに前記着色層および透明樹脂層のうちいずれかをこの順で含むことが好ましい。
該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。 -Intermediate layer-
The transfer material may have at least one intermediate layer for the purpose of preventing mixing of components during application of a plurality of application layers and during storage after application. The intermediate layer is between the temporary support and the colored layer or transparent resin layer (in the case of having the thermoplastic resin layer, between the thermoplastic resin layer and the colored layer or transparent resin layer). ) Is preferably provided. That is, the transfer material preferably includes any one of the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer, the colored layer, and the transparent resin layer in this order.
As the intermediate layer, it is preferable to use an oxygen-blocking film having an oxygen-blocking function, which is described as “separation layer” in JP-A-5-72724. This reduces the time load and improves productivity.
The oxygen barrier film is preferably one that exhibits low oxygen permeability and is dispersed or dissolved in water or an aqueous alkali solution, and can be appropriately selected from known ones. Among these, a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable.

中間層の厚みは、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．５〜２．０μｍがより好ましい。０．１〜５．０μｍの範囲では酸素遮断能が低下することもなく、現像時または中間層除去時に時間がかかりすぎることもない。   The thickness of the intermediate layer is preferably 0.1 to 5.0 μm, and more preferably 0.5 to 2.0 μm. In the range of 0.1 to 5.0 μm, the oxygen blocking ability does not decrease, and it does not take too much time during development or removal of the intermediate layer.

−保護剥離層−
前記転写材料には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために前記着色層または透明樹脂層を覆うようにして、保護剥離層（カバーフィルムとも言う）が設けられることが好ましい。前記保護剥離層は仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、前記着色層または透明樹脂層から容易に分離されねばならない。前記保護剥離層の材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。 -Protective release layer-
The transfer material is preferably provided with a protective release layer (also referred to as a cover film) so as to cover the colored layer or the transparent resin layer in order to protect it from contamination and damage during storage. The protective release layer may be made of the same or similar material as the temporary support, but it must be easily separated from the colored layer or the transparent resin layer. Suitable materials for the protective release layer include, for example, silicone paper, polyolefin, or polytetrafluoroethylene sheet.

前記保護剥離層のヘイズ度の最大値は３．０％以下であることが好ましく、前記着色層の現像後の白抜け発生をより効果的に抑制する観点からは、２．５％以下が好ましく、２．０％以下がより好ましく、１．０％以下が特に好ましい。   The maximum haze value of the protective release layer is preferably 3.0% or less, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of white spots after development of the colored layer, 2.5% or less is preferable. 2.0% or less is more preferable, and 1.0% or less is particularly preferable.

本発明において、前記保護剥離層の厚みは１〜１００μｍであることが好ましく、５〜５０μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることが特に好ましい。この厚みが１μｍ以上であれば前記保護剥離層の強度が十分なため、着色層または透明樹脂層にカバーフィルムを張り合わせる際に、前記保護剥離層が破断しにくい。１００μｍ以下であると前記保護剥離層の価格が高くならず、また、前記保護剥離層をラミネートする際にシワが発生しにくい。   In this invention, it is preferable that the thickness of the said protective peeling layer is 1-100 micrometers, It is more preferable that it is 5-50 micrometers, It is especially preferable that it is 10-30 micrometers. If the thickness is 1 μm or more, the strength of the protective release layer is sufficient, and therefore the protective release layer is not easily broken when the cover film is attached to the colored layer or the transparent resin layer. When the thickness is 100 μm or less, the price of the protective release layer does not increase, and wrinkles are unlikely to occur when the protective release layer is laminated.

このような保護剥離層は市販のものとして、例えば、王子製紙（株）製アルファンＭＡ−４１０、Ｅ−２００Ｃ、Ｅ−５０１、信越フィルム（株）製等のポリプロピレンフィルム、帝人（株）製ＰＳ−２５等のＰＳシリーズなどのポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられるがこれに限られたものではない。また、市販のフィルムをサンドブラスト加工することにより、簡単に製造することが可能である。   Such a protective release layer is commercially available, for example, polypropylene films such as those manufactured by Oji Paper Co., Ltd. Alphan MA-410, E-200C, E-501 and Shin-Etsu Film Co., Ltd., manufactured by Teijin Limited. Examples thereof include polyethylene terephthalate films such as PS series such as PS-25, but are not limited thereto. Moreover, it can be easily manufactured by sandblasting a commercially available film.

本発明においては、前記保護剥離層としてポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムを用いることができる。また通常前記保護剥離層として用いられるポリオレフィンフィルムは、原材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸、キャスティングまたはインフレーション法によって製造される。   In the present invention, a polyolefin film such as a polyethylene film can be used as the protective release layer. The polyolefin film usually used as the protective release layer is produced by heat-melting raw materials, kneading, extrusion, biaxial stretching, casting or inflation.

以上、本発明における転写材料を説明したが、前記転写材料は、必要に応じてネガ型材料又はポジ型材料であってもよい。   Although the transfer material according to the present invention has been described above, the transfer material may be a negative type material or a positive type material as necessary.

＜転写材料の製造方法＞
以上で説明した本発明の製造方法に用いられる転写材料を製造する方法としては、特に限定はないが、例えば特開２００５−３８６１号公報の段落［００６４］〜［００６６］に記載の工程によって製造することができる。また、本発明の製造方法に用いられる転写材料は、例えば特開２００９−１１６０７８号公報に記載の方法で作成することもできる。
本発明の製造方法に用いられる転写材料の製造方法の一例としては、仮支持体上に樹脂組成物を塗布し、乾燥させて着色層または透明樹脂層を形成する工程と、形成された前記着色層または透明樹脂層を前記保護剥離層で覆う工程と、を有して構成される方法が挙げられる。 <Method for producing transfer material>
The method for producing the transfer material used in the production method of the present invention described above is not particularly limited. For example, the transfer material is produced by the steps described in paragraphs [0064] to [0066] of JP-A-2005-3861. can do. Further, the transfer material used in the production method of the present invention can be prepared by the method described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-116078.
As an example of a method for producing a transfer material used in the production method of the present invention, a step of applying a resin composition on a temporary support and drying to form a colored layer or a transparent resin layer, and the formed coloring And a step of covering the layer or the transparent resin layer with the protective release layer.

ここで、着色層または透明樹脂層は２層以上形成してもよい。また、着色層または透明樹脂層の形成前に、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層（酸素遮断層）を塗布形成してもよい。
仮支持体上に、前記着色層または透明樹脂層形成用の組成物、前記熱可塑性樹脂層形成用の塗布液、前記中間層形成用の塗布液を塗布する方法としては公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。 Here, two or more colored layers or transparent resin layers may be formed. Further, a thermoplastic resin layer and / or an intermediate layer (oxygen barrier layer) may be applied and formed before forming the colored layer or the transparent resin layer.
As a method of applying the colored layer or transparent resin layer forming composition, the thermoplastic resin layer forming coating solution, and the intermediate layer forming coating solution on the temporary support, a known coating method is used. be able to. For example, it can be formed by applying and drying these coating liquids using a coating machine such as a spinner, a wheeler, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, a wire bar coater, or an extruder.

（溶剤）
前記転写材料の着色層を形成するための着色層形成用組成物は、着色層形成用組成物に含まれる各成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。前記転写材料の透明樹脂層を形成するための透明樹脂層形成用組成物は、着色感光性組成物に含まれる各成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。 (solvent)
The colored layer forming composition for forming the colored layer of the transfer material can be suitably prepared using a solvent together with each component contained in the colored layer forming composition. The composition for forming a transparent resin layer for forming the transparent resin layer of the transfer material can be suitably prepared using a solvent together with each component contained in the colored photosensitive composition.

溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、３−オキシプロピオン酸メチル及び３−オキシプロピオン酸エチルなどの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル）、並びに、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、及び２−オキシプロピオン酸プロピルなどの２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等；   Examples of the solvent include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, and lactic acid. Ethyl, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, and methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate 3-oxypropionic acid alkyl esters (for example, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate), and 2-oxypropionic acid 2-oxypropionic acid alkyl esters such as til, ethyl 2-oxypropionate, and propyl 2-oxypropionate (eg, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, Methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy 2-methyl methyl propionate), and methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate and the like;

エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等； Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol mono Ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, etc .;

ケトン類、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等； Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone and the like;

芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン；等が挙げられる。 Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;

これらのうち、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 Of these, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, xylene, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are preferable.
A solvent may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

前記保護剥離層で前記着色層または透明樹脂層を覆う方法としては特に限定はないが、仮支持体上の着色層または透明樹脂層に前記保護剥離層を重ね、圧着する方法を用いることができる。
圧着には、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
前記圧着の条件としては、雰囲気温度２０〜４５℃、線圧１０００〜１００００Ｎ／ｍが好ましい。 The method of covering the colored layer or the transparent resin layer with the protective release layer is not particularly limited, but a method of overlaying the protective release layer on the colored layer or the transparent resin layer on the temporary support and press-bonding can be used. .
For the pressure bonding, a known laminator such as a laminator, a vacuum laminator, or an auto-cut laminator capable of further improving productivity can be used.
As the pressure bonding conditions, an atmospheric temperature of 20 to 45 ° C. and a linear pressure of 1000 to 10,000 N / m are preferable.

（直線部分を有する切り込みを入れる方法）
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法における前記（Ａ）仮支持体および着色層または透明樹脂層を含む転写材料に対して、少なくとも着色層または透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる方法としては、特に制限はなく、切り込みの深さも特に制限はない。 (How to make a cut with a straight line)
With respect to the transfer material containing the (A) temporary support and the colored layer or the transparent resin layer in the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer of the present invention, at least the colored layer or the transparent resin layer in the thickness direction. There is no particular limitation on the method of making a cut that has a penetration depth and has a straight portion in the in-plane direction, and the depth of the cut is not particularly limited.

本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料への切り込みを、面内方向に４カ所以上直線部分（本明細書中、「直線部分」とは直線状の部分を意味し、線分と同義である）を有するように入れることが好ましい。なお、前記転写材料への切り込みは、「大半径の円弧」や「正弦波」で構成することもできるが、本発明の製造方法は特に直線部分を有する切り込みを入れるときに有用である。   In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, the transfer material is cut into four or more straight portions in the in-plane direction (in the present specification, the “straight portion” is a straight line). It is preferable to put it so that it has a part and is synonymous with a line segment. The incision into the transfer material can be constituted by a “large radius arc” or a “sinusoidal wave”, but the manufacturing method of the present invention is particularly useful when making an incision having a straight portion.

本発明の製造方法は、前記転写材料への切り込みを入れる方法としては特に制限はないが、トムソン刃加工またはレーザー光加工から選ばれる方法で入れることが好ましい。   The production method of the present invention is not particularly limited as a method for cutting into the transfer material, but it is preferable to use a method selected from Thomson blade processing or laser beam processing.

前記転写材料への切り込みの深さとしては、（Ａ−１）前記転写材料への切り込みを前記転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れてもよく、（Ａ−２）前記着色層または透明樹脂層を貫通し、かつ前記仮支持体を貫通しない深さの切り込みを入れてもよい。
（Ａ−１）前記転写材料への切り込みを前記転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることを打ち抜きともいう。なお、前記打ち抜きを（Ａ）工程で行う場合は、後述の（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層または透明樹脂層を取り除く工程も同時に行われることが好ましい。なお、打ち抜きと着色層または透明樹脂層の除去を同時に行うことを、くり抜きとも言う。
一方、（Ａ−２）前記着色層または透明樹脂層を貫通し、かつ前記仮支持体を貫通しない深さの切り込みを入れることをハーフカットともいう。
これらの中でも、本発明の加飾材付き基材の製造方法は、（Ａ−１）前記転写材料への切り込みを、前記転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることが好ましい。 As the depth of the cut into the transfer material, (A-1) the cut into the transfer material may be made to a depth penetrating all layers of the transfer material in the thickness direction, and (A-2) the coloring You may make the notch | incision of the depth which penetrates a layer or a transparent resin layer, and does not penetrate the said temporary support body.
(A-1) Cutting the transfer material into a depth that penetrates all layers of the transfer material in the thickness direction is also referred to as punching. In the case where the punching is performed in the step (A), the step (B) to remove the colored layer or the transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut is also performed at the same time. Preferably, it is done. Note that simultaneously performing the punching and the removal of the colored layer or the transparent resin layer is also referred to as hollowing out.
On the other hand, (A-2) Inserting a cut having a depth that penetrates the colored layer or the transparent resin layer and does not penetrate the temporary support is also referred to as half-cut.
Among these, it is preferable that the manufacturing method of the base material with a decorating material of this invention (A-1) inserts the cut | notch to the said transfer material to the depth which penetrates all the layers of the said transfer material in the thickness direction.

（打ち抜き方法）
本発明の加飾材付き基材の製造方法における前記転写材料のうち抜きには、公知の手段を用いることが出来る。
機械式打ち抜き方法としては、例えば、トムソン刃による平抜き、ダイカットロールによる円筒抜きが挙げられる。
光学式打ち抜き方法としては、ＣＯ2レーザーカッターを上げることができる。
また、毎葉式でも連続式（ロールトゥロール式）でもよい。 (Punching method)
A known means can be used to remove the transfer material in the method for producing a base material with a decorating material of the present invention.
Examples of the mechanical punching method include flat punching with a Thomson blade and cylindrical punching with a die cut roll.
As an optical punching method, a CO 2 laser cutter can be raised.
Further, it may be a leaf type or a continuous type (roll to roll type).

機械式打ち抜き方法に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 Ｌ−ＣＰＮＣ５５０などを挙げることができる。   Examples of the apparatus used for the mechanical punching method include L-CPNC550 manufactured by Climb Products Co., Ltd.

（ハーフカット方法）
前記ハーフカット方法において切り込みを入れる方法としては特に制限は無く、刃、レーザーなど任意の方法で切り込みを入れることができ、刃で切り込みを入れることが好ましい。また、刃の構造は特に限定されることはない。
前記転写材料が、例えば、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、着色層または透明樹脂層、保護剥離層の順に積層されて構成されるとき、例えば、刃もしくはレーザーを用いて、保護剥離層の上から、保護剥離層、着色層または透明樹脂層、中間層を貫き、熱可塑性樹脂層の一部にまで至る切り込みを入れることで、転写する着色層または透明樹脂層（画像部）と転写しない着色層または透明樹脂層（非画像部）の間を分離することができる。 (Half cut method)
There is no restriction | limiting in particular as a method of making an incision in the said half cut method, Incision can be made by arbitrary methods, such as a blade and a laser, and it is preferable to make an incision with a blade. Further, the structure of the blade is not particularly limited.
When the transfer material is constituted by laminating, for example, a temporary support, a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, a colored layer or a transparent resin layer, and a protective peeling layer in this order, for example, protective peeling using a blade or a laser. A colored layer or transparent resin layer (image part) to be transferred by cutting through the protective release layer, colored layer or transparent resin layer, intermediate layer and part of the thermoplastic resin layer from above the layer A colored layer or a transparent resin layer (non-image portion) that is not transferred can be separated.

＜（Ｂ）工程＞
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層または透明樹脂層を取り除く工程を含む。
図５に、（Ｂ）工程を行った後の転写材料の構成の概略図を示す。図５は、仮支持体および着色層２４を含む転写材料３０を、着色層２４側から見た概略図である。図５において、前記（Ｂ）工程により、着色層が取り除かれた領域２５と、着色層（前記着色層のうち取り除かれなかった領域）２４が形成される。図２１は、仮支持体および透明樹脂層２４を含む転写材料３０を、透明樹脂層２４側から見た概略図である。図５において、前記（Ｂ）工程により、透明樹脂層が取り除かれた領域２５と、透明樹脂層（前記透明樹脂層のうち取り除かれなかった領域）２４が形成される。
前記（Ａ）工程で入れられた、着色層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込み（図１の点線部）で囲まれた前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層を取り除くことで、図５の形状の転写材料を得ることができる。本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法によれば、図５の枠内部２１の直線性が高い、加飾材付き基材を、高い生産性で製造することができる。一方、前記（Ａ）工程で入れられた、着色層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込み（図１の点線部）で囲まれた以外の前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層または透明樹脂層を取り除くことで、図２１の形状の転写材料を得ることができる。本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法によれば、図２１の枠内部２１（透明樹脂層または透明保護層の外周部に相当）の直線性が高い、透明保護層付き基材を、高い生産性で製造することができる。
なお、本発明において、前記配線取出し部２３が直線部分を有する場合は、その直線性も高くすることができる。
図６および図７に、図５に示した転写材料のＸ２−Ｘ２’における断面概略図を示す。また、図２２および図２３に、図２１に示した転写材料のＸ２−Ｘ２’における断面概略図を示す。図６および図２２は、仮支持体２６の上に、着色層または透明樹脂層２４のみが積層された転写材料３０を用いたときにおける、前記＜Ｂ工程＞後の転写材料の態様である。図６および図２２には、前記（Ａ）工程でハーフカットによって前記着色層または透明樹脂層２４を貫通し、かつ前記仮支持体２６を貫通しない深さの切り込みを入れた場合に、前記（Ｂ）工程後に得られる転写材料の態様を示した。
図７および図２３は、仮支持体２６の上に、後述する熱可塑性樹脂層２７、中間層２８、着色層または透明樹脂層２４および保護剥離層２９が積層された転写材料３０を用いたときにおける、前記＜Ｂ工程＞後の転写材料の態様である。なお、図７および図２３では、前記（Ａ）工程で打ち抜きによって、前記転写材料への切り込みを前記転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れた場合に、前記（Ｂ）工程後に得られる転写材料の態様を示した。 <(B) Process>
The method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention includes (B) a step of removing the colored layer or the transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut. including.
FIG. 5 shows a schematic diagram of the configuration of the transfer material after performing the step (B). FIG. 5 is a schematic view of the transfer material 30 including the temporary support and the colored layer 24 as viewed from the colored layer 24 side. In FIG. 5, a region 25 from which the colored layer has been removed and a colored layer (region that has not been removed from the colored layer) 24 are formed by the step (B). FIG. 21 is a schematic view of the transfer material 30 including the temporary support and the transparent resin layer 24 as viewed from the transparent resin layer 24 side. In FIG. 5, the area | region 25 from which the transparent resin layer was removed by the said (B) process, and the transparent resin layer (area | region which was not removed among the said transparent resin layers) 24 are formed.
The surface of the transfer material, which is inserted in the step (A) and has a depth penetrating the colored layer in the thickness direction, and is surrounded by a notch having a straight line portion in the in-plane direction (dotted line portion in FIG. 1) By removing the colored layer from a partial region in the inward direction to the depth of the cut, a transfer material having the shape of FIG. 5 can be obtained. According to the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer of the present invention, a decorating material-provided substrate having a high linearity in the frame interior 21 of FIG. 5 can be produced with high productivity. On the other hand, it is the depth which penetrated the colored layer in the thickness direction, and was enclosed in the incision (dotted line portion in FIG. 1) having a linear portion in the in-plane direction, which was put in the step (A). By removing the colored layer or the transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut, the transfer material having the shape of FIG. 21 can be obtained. According to the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, the linearity of the frame interior 21 (corresponding to the outer periphery of the transparent resin layer or the transparent protective layer) in FIG. The substrate can be manufactured with high productivity.
In the present invention, when the wiring lead-out portion 23 has a straight portion, the linearity can be enhanced.
6 and 7 are schematic sectional views taken along line X2-X2 'of the transfer material shown in FIG. 22 and 23 are schematic cross-sectional views taken along X2-X2 'of the transfer material shown in FIG. FIGS. 6 and 22 show aspects of the transfer material after the <B step> when the transfer material 30 in which only the colored layer or the transparent resin layer 24 is laminated on the temporary support 26 is used. In FIG. 6 and FIG. 22, when the notch of the depth which penetrates the said colored layer or the transparent resin layer 24 by the half cut at the said (A) process and does not penetrate the said temporary support body 26 is put, B) An embodiment of a transfer material obtained after the process is shown.
7 and 23 show a case where a transfer material 30 in which a thermoplastic resin layer 27, an intermediate layer 28, a colored layer or transparent resin layer 24 and a protective release layer 29 described later are laminated on a temporary support 26 is used. The transfer material after <Step B> in FIG. In FIGS. 7 and 23, when the notch in the transfer material is cut to the depth penetrating all the layers of the transfer material in the thickness direction by punching in the step (A), after the step (B). The mode of the obtained transfer material was shown.

前記（Ｂ）工程としては、特に制限はないが、前記（Ａ）工程において打ち抜き方法を用いることにより、前記（Ａ）工程と同時に前記（Ｂ）工程を行うことが好ましい。
一方、ハーフカット方法によってプレカットした場合、着色層または透明樹脂層の画像部を選択的に基材に転写するには非画像部を転写させない工夫が必要となる。一つの方法は転写前に非画像部の着色層または透明樹脂層を除去する方法であり、保護剥離層を除去した後、非画像部の着色層または透明樹脂層と中間層を同時に剥離する方法である。もう一つは非画像部上の保護フィルムを剥がし、引き続いて着色層または透明樹脂層と中間層を同時に剥離し、さらに画像部上の保護フィルムを剥がす方法である。着色層または透明樹脂層の画像部を転写直前まで保護する観点から、後者の方が好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular as said (B) process, It is preferable to perform said (B) process simultaneously with said (A) process by using the punching method in said (A) process.
On the other hand, when pre-cut by the half-cut method, a device that does not transfer the non-image portion is necessary to selectively transfer the image portion of the colored layer or the transparent resin layer to the substrate. One method is to remove the colored layer or the transparent resin layer in the non-image area before transfer, and after removing the protective release layer, the colored layer or transparent resin layer and the intermediate layer in the non-image area are simultaneously peeled off. It is. The other is a method of peeling off the protective film on the non-image area, subsequently peeling off the colored layer or transparent resin layer and the intermediate layer at the same time, and further peeling off the protective film on the image area. From the viewpoint of protecting the image portion of the colored layer or the transparent resin layer until just before transfer, the latter is preferred.

本発明の加飾材付き基材の製造方法は、前記転写材料が、前記着色層または透明樹脂層の上に前記保護剥離層を有する場合は、前記転写材料を基材に貼り付ける前に、前記保護剥離層を剥離することが好ましい。
前記保護剥離層を剥離する方法としては特に制限はなく、公知のテープを用いて取り除く方法などを挙げることができる。
図８に、図７の着色層（前記着色層のうち取り除かれなかった残りの領域）２４の上に保護剥離層２９を有する転写材料３０から、保護剥離層２９を取り除いた後に得られる、転写材料の断面の概略図を示す。図２４に、図２３の透明樹脂層（前記透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域）２４の上に保護剥離層２９を有する転写材料３０から、保護剥離層２９を取り除いた後に得られる、転写材料の断面の概略図を示す。 When the transfer material has the protective release layer on the colored layer or the transparent resin layer, the manufacturing method of the base material with a decorating material of the present invention, before attaching the transfer material to the base material, It is preferable to peel off the protective release layer.
There is no restriction | limiting in particular as a method of peeling the said protective peeling layer, The method of removing using a well-known tape etc. can be mentioned.
FIG. 8 shows a transfer obtained after removing the protective release layer 29 from the transfer material 30 having the protective release layer 29 on the colored layer 24 of FIG. 7 (the remaining area of the colored layer that has not been removed) 24. 1 shows a schematic diagram of a cross section of a material. 24 is obtained after removing the protective release layer 29 from the transfer material 30 having the protective release layer 29 on the transparent resin layer (the remaining region of the transparent resin layer that has not been removed) 24 shown in FIG. The schematic of the cross section of a transfer material is shown.

＜（Ｃ）工程＞
本発明の加飾材付き基材の製造方法は、（Ｃ）前記着色層または透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程を含む。
図９に、図６に示した前記（Ｂ）工程後の転写材料を用いて、前記（Ｃ）工程を行った後の態様を示した。図２５に、図２２に示した前記（Ｂ）工程後の転写材料を用いて、前記（Ｃ）工程を行った後の態様を示した。
図１０に、図８に示した前記（Ｂ）工程後の転写材料から、前記保護剥離層を取り除いた後の転写材料を用いて、前記（Ｃ）工程を行った後の態様を示した。図２６に、図２４に示した前記（Ｂ）工程後の転写材料を用いて、前記（Ｃ）工程を行った後の態様を示した。
図９および図１０中、基材１は、前記着色層（取り除かれなかった領域）２４と隣接することが好ましい。図２５および図２６中、基材１は、前記透明樹脂層（取り除かれなかった領域）２４と隣接することが好ましい。 <Process (C)>
The manufacturing method of the base material with a decorating material of this invention includes the process of affixing the transfer material which has the remaining area | region which was not removed among (C) the said colored layer or transparent resin layer to a base material.
FIG. 9 shows an aspect after performing the step (C) using the transfer material after the step (B) shown in FIG. FIG. 25 shows a mode after performing the step (C) using the transfer material after the step (B) shown in FIG.
FIG. 10 shows an aspect after the step (C) is performed using the transfer material after the protective release layer is removed from the transfer material after the step (B) shown in FIG. FIG. 26 shows a mode after performing the step (C) using the transfer material after the step (B) shown in FIG.
9 and 10, the substrate 1 is preferably adjacent to the colored layer (region that has not been removed) 24. In FIGS. 25 and 26, the substrate 1 is preferably adjacent to the transparent resin layer (region not removed) 24.

（ラミネート方法）
前記（Ｃ）工程は、公知のラミネート方法を用いることが好ましい。
着色層または透明樹脂層の基材表面への転写（貼り合わせ）は、着色層または透明樹脂層を基材表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
ラミネート方法は、打ち抜いた着色層または透明樹脂層を基材に転写することから、毎葉式で精度良く、基材と、着色層または透明樹脂層との間に気泡が入らない方法が、得率を上げられる観点から好ましい。
具体的には、真空ラミネータの使用を好ましく挙げることができる。 (Lamination method)
In the step (C), a known laminating method is preferably used.
Transfer (bonding) of the colored layer or the transparent resin layer to the surface of the substrate is performed by stacking the colored layer or the transparent resin layer on the surface of the substrate, pressurizing and heating. For laminating, known laminators such as a laminator, a vacuum laminator, and an auto-cut laminator that can further increase productivity can be used.
The lamination method transfers the punched colored layer or transparent resin layer to the base material, so that a method that does not contain air bubbles between the base material and the colored layer or transparent resin layer can be obtained. It is preferable from the viewpoint of increasing the rate.
Specifically, the use of a vacuum laminator can be preferably mentioned.

ラミネート（連続式／枚葉式）に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 Ｖ−ＳＥ３４０ａａＨなどを挙げることができる。
真空ラミネータ装置としては、例えば、高野精機有限会社製のものや、大成ラミネーター株式会社製、ＦＶＪ−５４０Ｒ、ＦＶ７００などを挙げることができる。 As an apparatus used for laminating (continuous type / single-wafer type), for example, V-SE340aaH manufactured by Climb Products Co., Ltd. can be exemplified.
Examples of the vacuum laminator device include those manufactured by Takano Seiki Co., Ltd., Taisei Laminator Co., Ltd., FVJ-540R, and FV700.

本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、前記転写材料を基材に貼り付ける前に、前記仮支持体の前記着色層または透明樹脂層と反対側に、さらに支持体を積層する工程を含むことが、ラミネート時に気泡を入れない好ましい効果を得ることが出来ることがある。このときに用いる支持体としては特に制限はないが、例えば、以下のものを挙げることができる。
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー。
また、膜厚は、５０〜２０００μｍの範囲で選ぶことが出来、５０〜２００μｍの範囲で選ぶこともできる。 The method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention is further provided on the opposite side of the temporary support from the colored layer or the transparent resin layer before the transfer material is attached to the substrate. Including the step of laminating may sometimes provide a preferable effect of eliminating bubbles during lamination. Although there is no restriction | limiting in particular as a support body used at this time, For example, the following can be mentioned.
Polyethylene terephthalate, polycarbonate, triacetyl cellulose, cycloolefin polymer.
The film thickness can be selected in the range of 50 to 2000 μm, and can be selected in the range of 50 to 200 μm.

（基材）
本発明に用いる基材には、種々のものを用いることが出来るが、前記基材はガラス、フィルム基材であることが好ましく、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましい。本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法では、前記基材は、全光透過率が、８０％以上であることが好ましい。 (Base material)
Various substrates can be used as the substrate used in the present invention, but the substrate is preferably a glass or film substrate, and one having no optical distortion or one having high transparency is used. Is more preferable. In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, the substrate preferably has a total light transmittance of 80% or more.

前記基材がフィルム基材である場合の具体的な素材には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマーをあげることができる。
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法では、前記基材は、ガラス、ＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれることが好ましい。 Specific materials when the substrate is a film substrate include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, triacetyl cellulose, and cycloolefin polymer.
In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer of the present invention, the substrate is preferably selected from glass, TAC, PET, PC, or COP.

また、基材表面には、種々の機能を付加しても良い。具体的には、反射防止層、防眩層、位相差層、視野角向上層、耐傷層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層をあげることができる。
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法では、前記基材は、さらに導電性層を有することが好ましい。前記導電性層としては、特表２００９−５０５３５８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法では、前記基材は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することが好ましい。
さらに、本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法によって透明保護層付き基材を製造するときの基材としては、後述の静電容量型入力装置において、前面板と、前記前面板の非接触側に少なくとも上記（１）〜（５）の要素を有するもの全体を基材として用い、その上に透明保護層を形成することも好ましい。 Various functions may be added to the substrate surface. Specifically, an antireflection layer, an antiglare layer, a retardation layer, a viewing angle improving layer, a scratch resistant layer, a self-healing layer, an antistatic layer, an antifouling layer, an antimagnetic wave layer, and a conductive layer can be exemplified.
In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer of the present invention, the substrate preferably further has a conductive layer. As the conductive layer, those described in JP-T-2009-505358 can be preferably used.
In the method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, the substrate preferably further includes at least one of a scratch-resistant layer and an antiglare layer.
Furthermore, as a base material when manufacturing a base material with a transparent protective layer by the method for manufacturing a decorative material or a base material with a transparent protective layer of the present invention, in the capacitance type input device described later, the front plate, It is also preferable to use as a base material the whole having at least the elements (1) to (5) on the non-contact side of the front plate, and to form a transparent protective layer thereon.

本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法では、前記基材は、膜厚が４０〜２０００μｍであることが好ましく、４０〜１５００μｍであることがより好ましく、５０〜１１００μｍであることが特に好ましい。   In the method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to the present invention, the substrate preferably has a thickness of 40 to 2000 μm, more preferably 40 to 1500 μm, and 50 to 1100 μm. It is particularly preferred.

また、転写工程におけるラミネートによる着色層または透明樹脂層の密着性を高めるために、予め基材（前面板）の非接触面に表面処理を施すことができる。前記表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基材予備加熱でも反応を促進できる。   Moreover, in order to improve the adhesiveness of the colored layer or transparent resin layer by the lamination in a transfer process, it can surface-treat to the non-contact surface of a base material (front plate) previously. As the surface treatment, it is preferable to perform a surface treatment (silane coupling treatment) using a silane compound. As the silane coupling agent, those having a functional group that interacts with the photosensitive resin are preferable. For example, a silane coupling solution (N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane 0.3 mass% aqueous solution, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is sprayed for 20 seconds by a shower, and pure water shower washing is performed. To do. Thereafter, the reaction is carried out by heating. A heating tank may be used, and the reaction can be promoted by preheating the base material of the laminator.

＜（Ｄ）工程＞
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程を含む。
図１１に、図９に示した前記（Ｃ）工程後の転写材料および基材の積層体を用いて、前記（Ｄ）工程を行い、前記仮支持体２６を取り除いた後の態様を示した。図２７に、図２５に示した前記（Ｃ）工程後の転写材料および基材の積層体を用いて、前記（Ｄ）工程を行い、前記仮支持体２６を取り除いた後の態様を示した。
図１２に、図１０に示した前記（Ｃ）工程後の転写材料および基材の積層体を用いて、前記（Ｄ）工程を行い、前記仮支持体２６を取り除いた後の態様を示した。図２８に、図２６に示した前記（Ｃ）工程後の転写材料および基材の積層体を用いて、前記（Ｄ）工程を行い、前記仮支持体２６を取り除いた後の態様を示した。 <(D) Process>
The manufacturing method of the decorating material of this invention or the base material with a transparent protective layer includes the process of removing the said temporary support body from the said transfer material affixed on the said base material (D).
FIG. 11 shows a mode after the step (D) is performed and the temporary support 26 is removed using the laminate of the transfer material and the base material after the step (C) shown in FIG. . FIG. 27 shows an embodiment after the step (D) is performed and the temporary support 26 is removed using the laminate of the transfer material and the base material after the step (C) shown in FIG. .
FIG. 12 shows an aspect after the step (D) is performed and the temporary support 26 is removed using the laminate of the transfer material and the base material after the step (C) shown in FIG. . FIG. 28 shows an aspect after the step (D) is performed and the temporary support 26 is removed using the laminate of the transfer material and the base material after the step (C) shown in FIG. .

＜（Ｅ）工程＞
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程、または、前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記透明樹脂層の残りの領域を硬化して透明保護層を形成する工程を含む。
また、図１３に、前記基材１に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層２４の残りの領域を硬化して、加飾材２を形成した後の態様を示す。本発明の製造方法で得られる加飾材付き基材は、図１３における加飾材２の枠内部２１の直線部分における直線性が高い。図２９に、前記基材１に貼りつけられた前記転写材料の透明樹脂層２４の残りの領域を硬化して、透明保護層７を形成した後の態様を示す。本発明の製造方法で得られる加飾材付き基材は、図２９における透明保護層７の枠内部２１の直線部分における直線性が高い。
本発明の製造方法に用いられる転写材料は、着色層または透明樹脂層が光硬化性樹脂や重合性単量体を含んでいても含んでいなくてもよく、いずれの場合でも前記着色層または透明樹脂層の前記（Ｂ）工程で除去されなかった残りの領域（パターン）を硬化して加飾層または透明保護層を形成することができる。
一般的な転写材料を用いる場合、着色層または透明樹脂層が光硬化性樹脂や重合性単量体を含んでいれば通常のフォトリソグラフィーの方法によって加飾材または透明保護層を形成することができ、露光工程および現像工程を含むことが好ましい。 <(E) Process>
The manufacturing method of the decorating material of this invention or the base material with a transparent protective layer is (E) Curing the remaining area | regions of the said colored layer of the said transfer material affixed on the said base material, and forming a decorating material. A step of curing a remaining region of the transparent resin layer of the transfer material attached to the base material to form a transparent protective layer.
FIG. 13 shows a mode after the remaining region of the colored layer 24 of the transfer material attached to the substrate 1 is cured to form the decorating material 2. The base material with a decorating material obtained by the manufacturing method of the present invention has high linearity in the straight portion of the frame inside 21 of the decorating material 2 in FIG. FIG. 29 shows a mode after the remaining region of the transparent resin layer 24 of the transfer material attached to the substrate 1 is cured to form the transparent protective layer 7. The base material with a decorating material obtained by the production method of the present invention has high linearity in the straight portion of the frame inside 21 of the transparent protective layer 7 in FIG.
The transfer material used in the production method of the present invention may or may not contain a photocurable resin or a polymerizable monomer in the colored layer or the transparent resin layer. The remaining region (pattern) that has not been removed in the step (B) of the transparent resin layer can be cured to form a decorative layer or a transparent protective layer.
When a general transfer material is used, if the colored layer or the transparent resin layer contains a photocurable resin or a polymerizable monomer, a decorating material or a transparent protective layer may be formed by an ordinary photolithography method. It is preferable to include an exposure step and a development step.

前記露光工程は、基材上に転写された前記着色層または透明樹脂層を露光する工程である。
具体的には、前記基材上に形成された前記着色層または透明樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスク、熱可塑性樹脂層、および中間層を介してマスク上方から露光する方法が挙げられる。
ここで、前記露光の光源としては、前記着色層または透明樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。 The exposure step is a step of exposing the colored layer or the transparent resin layer transferred onto the substrate.
Specifically, a predetermined mask is disposed above the colored layer or transparent resin layer formed on the substrate, and then exposed from above the mask through the mask, the thermoplastic resin layer, and the intermediate layer. A method is mentioned.
Here, the light source for the exposure can be appropriately selected and used as long as it can irradiate light in a wavelength region capable of curing the colored layer or the transparent resin layer (for example, 365 nm, 405 nm, etc.). Specifically, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are mentioned. As an exposure amount, it is about 5-200 mJ / cm < 2 > normally, Preferably it is about 10-100 mJ / cm < 2 >.

尚、パターニング露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。   The patterning exposure may be performed after the temporary support is peeled off, or may be exposed before the temporary support is peeled off, and then the temporary support may be peeled off. Exposure through a mask or digital exposure using a laser or the like may be used.

前記現像工程は、露光された前記着色層または透明樹脂層を現像する工程である。
前記現像は、現像液を用いて行うことができる。前記現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は前記着色層または透明樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。 The developing step is a step of developing the exposed colored layer or transparent resin layer.
The development can be performed using a developer. The developer is not particularly limited, and known developers such as those described in JP-A-5-72724 can be used. In addition, the developer preferably has a coloring type or transparent resin layer that exhibits a dissolution type development behavior, for example, preferably contains a pKa = 7 to 13 compound at a concentration of 0.05 to 5 mol / L. Further, a small amount of an organic solvent miscible with water may be added. Examples of organic solvents miscible with water include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, and benzyl alcohol. , Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like. The concentration of the organic solvent is preferably 0.1% by mass to 30% by mass.
Further, a known surfactant can be added to the developer. The concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.

前記現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等のいずれでもよい。ここで、前記シャワー現像について説明すると、露光後の前記着色層または透明樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。   The development method may be any of paddle development, shower development, shower & spin development, dip development, and the like. Here, the shower development will be described. An uncured portion can be removed by spraying a developer onto the colored layer or the transparent resin layer after exposure.

前記転写材料が熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、引続き、現像により熱可塑性樹脂層と中間層を除去することで加飾層パターンまたは透明保護層パターンを形成することが可能である。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよく、ポストベークを行うことが好ましい。   When the transfer material includes a thermoplastic resin layer or an intermediate layer, it is possible to subsequently form a decorative layer pattern or a transparent protective layer pattern by removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer by development. You may combine well-known image development facilities, such as a brush and a high pressure jet, as needed. After the development, post-exposure and post-bake may be performed as necessary, and post-bake is preferably performed.

（熱可塑性樹脂層を除去する工程、中間層を除去する工程）
さらに、前記転写材料が熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、前記（Ｅ）工程の後、前記（Ｆ）工程の前に、熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程と有することが好ましい。
これらの工程により、図１１または図２７のように基材１上に、着色層または透明樹脂層（取り除かれなかった領域）２４、熱可塑性樹脂層２７および中間層２８を有する構成の積層体から、熱可塑性樹脂層２７および中間層２８を取り除いて、図１２または図２８のように基材１に着色層または透明樹脂層２４の残りの領域（取り除かれなかった領域）が積層された態様とすることができる。
前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程は、一般にフォトリソ方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。前記アルカリ現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は着色層または透明樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前記アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。 (The process of removing the thermoplastic resin layer, the process of removing the intermediate layer)
Furthermore, when the transfer material includes a thermoplastic resin layer or an intermediate layer, it may include a step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer after the step (E) and before the step (F). preferable.
Through these steps, from the laminate having the structure having the colored layer or transparent resin layer (region not removed) 24, the thermoplastic resin layer 27 and the intermediate layer 28 on the substrate 1 as shown in FIG. 11 or FIG. The embodiment is such that the thermoplastic resin layer 27 and the intermediate layer 28 are removed, and the remaining region (region that has not been removed) of the colored layer or the transparent resin layer 24 is laminated on the substrate 1 as shown in FIG. can do.
The step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer can be performed using an alkaline developer generally used in a photolithography method. The alkaline developer is not particularly limited, and known developers such as those described in JP-A-5-72724 can be used. The developer preferably has a colored layer or a transparent resin layer that exhibits a dissolution type development behavior. For example, a developer containing a pKa = 7 to 13 compound at a concentration of 0.05 to 5 mol / L is preferable. A small amount of an organic solvent miscible with water may be added. Examples of organic solvents miscible with water include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, and benzyl alcohol. , Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like. The concentration of the organic solvent is preferably 0.1% by mass to 30% by mass.
Further, a known surfactant can be further added to the alkali developer. The concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.

前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程の方式としては、パドル、シャワー、シャワー＆スピン、ディプ等のいずれでもよい。ここで、前記シャワーについて説明すると、熱可塑性樹脂層や中間層を、現像液をシャワーにより吹き付けることにより除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、残渣を除去することが好ましい。液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、のｐＨは８〜１３が好ましい。   The method of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer may be any of paddle, shower, shower & spin, dip and the like. Here, the shower will be described. The thermoplastic resin layer and the intermediate layer can be removed by spraying a developer with a shower. Further, after the development, it is preferable to remove the residue while spraying a cleaning agent or the like with a shower and rubbing with a brush or the like. The liquid temperature is preferably 20 ° C. to 40 ° C., and the pH is preferably 8 to 13.

（ポストベーク工程）
前記転写工程後にポストベーク工程を含むことが好ましく、前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去工程後にポストベークを行う工程を含むことがより好ましい。
本発明の製造方法は、前記（１）加飾層を、本発明の製造方法に用いられる転写フィルムの前記着色層を０．０８〜１．２ａｔｍの環境下で１８０〜３００℃に加熱して形成することが白色度と生産性の両立の観点から好ましい。一方、前記保護層を、本発明の製造方法に用いられる転写フィルムの前記透明樹脂層を０．０８〜１．２ａｔｍの環境下で１８０〜３００℃に加熱して形成することが硬度の観点から好ましい。
前記ポストベークの加熱は０．５ａｔｍ以上の環境下で行うことがより好ましい。一方、１．１ａｔｍ以下の環境下で行うことがより好ましく、１．０ａｔｍ以下の環境下で行うことが特に好ましい。さらに、約１ａｔｍ（大気圧）環境下で行うことが特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点からより特に好ましい。ここで、従来は前記（１）加飾層を加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の白色度を維持していたが、本発明の製造方法に用いられる転写フィルムを用いることにより、上記圧力の範囲でベークした後も加飾層の白色度を高めることができる。一方、保護層を加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の着色を抑制できる。
前記ポストベークの温度は、基板の耐熱温度で決まり、１３０〜２８０℃であることがより好ましく、１４０〜２６０℃であることが特に好ましい。
前記ポストベークの時間は、２０〜１５０分であることがより好ましく、３０〜１００分であることが特に好ましい。
前記ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。 (Post bake process)
It is preferable to include a post-baking step after the transfer step, and it is more preferable to include a step of performing post-baking after the thermoplastic resin layer and intermediate layer removing step.
In the production method of the present invention, (1) the decorative layer is heated to 180 to 300 ° C. in an environment of 0.08 to 1.2 atm and the colored layer of the transfer film used in the production method of the present invention. It is preferable to form it from the viewpoint of achieving both whiteness and productivity. On the other hand, from the viewpoint of hardness, the protective layer is formed by heating the transparent resin layer of the transfer film used in the production method of the present invention to 180 to 300 ° C. in an environment of 0.08 to 1.2 atm. preferable.
The post-baking is more preferably performed in an environment of 0.5 atm or more. On the other hand, it is more preferable to carry out in an environment of 1.1 atm or less, and it is particularly preferred to carry out in an environment of 1.0 atm or less. Furthermore, it is more preferable to carry out in an environment of about 1 atm (atmospheric pressure) from the viewpoint of reducing the manufacturing cost without using a special decompression device. Here, conventionally, when the decorative layer (1) is formed by curing by heating, it is performed under a reduced pressure environment of a very low pressure, and the whiteness after baking is maintained by lowering the oxygen concentration. However, by using the transfer film used in the production method of the present invention, the whiteness of the decorative layer can be increased even after baking in the above pressure range. On the other hand, when the protective layer is formed by curing by heating, it is performed in a reduced pressure environment with a very low pressure, and coloring after baking can be suppressed by lowering the oxygen concentration.
The post-baking temperature is determined by the heat-resistant temperature of the substrate, more preferably from 130 to 280 ° C, and particularly preferably from 140 to 260 ° C.
The post-baking time is more preferably 20 to 150 minutes, and particularly preferably 30 to 100 minutes.
The post-baking may be performed in an air environment or a nitrogen substitution environment, but it is particularly preferable to perform the post-bake from the viewpoint of reducing the manufacturing cost without using a special decompression device.

（その他の工程）
本発明の製造方法は、ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
前記着色層または透明樹脂層が光硬化性樹脂層を有する場合に前記加飾層または透明保護層を形成するときは、ポスト露光工程を含むことが好ましい。前記ポスト露光工程は前記着色層または透明樹脂層の前記基材と接している側の表面方向のみから行っても、前記透明基材と接していない側の表面方向のみから行っても、両面方向から行ってもよい。 (Other processes)
The manufacturing method of this invention may have other processes, such as a post-exposure process.
When the colored layer or the transparent resin layer has a photocurable resin layer, the post-exposure step is preferably included when the decorative layer or the transparent protective layer is formed. The post-exposure step may be performed only from the surface direction of the colored layer or the transparent resin layer on the side in contact with the base material, or from only the surface direction of the side not in contact with the transparent base material. You may go from.

なお、前記露光工程、現像工程、前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００３５］〜［００５１］に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。   Examples of the exposure step, the development step, the step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer, and other steps are described in paragraph numbers [0035] to [0051] of JP-A-2006-23696. This method can also be suitably used in the present invention.

＜（Ｆ）工程＞
本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法は、加飾材付き基材を製造する場合は、（Ｆ）前記加飾材が形成された部分と前記加飾材が形成されていない部分とを含む領域の外周部を切り取る工程を、さらに含むことが好ましい。
前記（Ｆ）工程では、例えば、図１３に記載の加飾材付き基材に対して、点線部で示した前記加飾材が形成された部分と前記加飾材が形成されていない部分とを含む領域の外周部を切り取ることができる。
図１４に、図１３に記載の加飾材付き基材の点線部を切り取った後の、Ｘ３−Ｘ３’における断面概略図を示す。図１４では、前記（Ｆ）工程により、２枚の加飾材付き基材が得られる。また、図１５に、前記（Ｆ）工程後の各加飾材付き基材を、前記加飾材側から見た概略図を示す。
前記加飾材が形成された部分とは、図１３および１４の加飾材２を示す。また、前記加飾材が形成されていない部分とは、図１３において基材１が見えている部分を示す。
前記（Ｆ）工程により、加飾材付き基材の枠外部２２を、後述するタッチパネルの用途に応じた所望の形状となるように形成することができる。 <(F) Process>
The manufacturing method of the decorating material of this invention or the base material with a transparent protective layer, when manufacturing a base material with a decorating material, the part and the said decorating material in which the (F) said decorating material was formed are formed. It is preferable that the method further includes a step of cutting out the outer peripheral portion of the region including the portion that is not.
In the step (F), for example, with respect to the base material with a decorating material shown in FIG. 13, a portion where the decorating material shown by a dotted line portion is formed and a portion where the decorating material is not formed, The outer peripheral part of the area | region containing can be cut off.
In FIG. 14, the cross-sectional schematic in X3-X3 'after cutting off the dotted-line part of the base material with a decorating material of FIG. 13 is shown. In FIG. 14, two base materials with a decorating material are obtained by the said (F) process. Moreover, the schematic which looked at each base material with a decorating material after the said (F) process from the said decorating material side in FIG. 15 is shown.
The part in which the said decorating material was formed shows the decorating material 2 of FIG. Moreover, the part in which the said decorating material is not formed shows the part which the base material 1 can be seen in FIG.
By the said (F) process, the frame exterior 22 of a base material with a decorating material can be formed so that it may become a desired shape according to the use of the touch panel mentioned later.

前記前記加飾材が形成された部分と前記加飾材が形成されていない部分とを含む領域の外周部を切り取る方法としては特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
本発明の加飾材付き基材の製造方法では、加飾材付き基材は、前記加飾材が形成された部分と前記加飾材が形成されていない部分とを含む領域の外周部を、トムソン刃加工およびレーザー光加工から選ばれる方法で切り取ることが好ましい。
また、加飾材料付きの基材の切り出しでも、前記転写材料の打ち抜きにおける毎葉式の方法と同様の方法を使用することが出来る。 There is no restriction | limiting in particular as a method of cutting out the outer peripheral part of the area | region containing the part in which the said decorating material was formed, and the part in which the said decorating material is not formed, A well-known method can be used.
In the manufacturing method of the base material with a decorating material of the present invention, the base material with the decorating material includes an outer peripheral portion of a region including a portion where the decorating material is formed and a portion where the decorating material is not formed. It is preferable to cut by a method selected from Thomson blade processing and laser beam processing.
Further, even when the base material with a decorative material is cut out, the same method as the leaf-by-leaf method in punching the transfer material can be used.

［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、本発明の加飾材または透明保護層付き基材を有することを特徴とする。
このようなタッチパネルは、静電容量型入力装置であることが好ましい。 [Touch panel]
The touch panel of this invention has the decorating material of this invention, or a base material with a transparent protective layer, It is characterized by the above-mentioned.
Such a touch panel is preferably a capacitive input device.

《静電容量型入力装置、および静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置》
前記静電容量型入力装置は、前面板と、前記前面板の非接触側に少なくとも下記（１）〜（５）の要素を有する静電容量型入力装置であって、前面板と前記（１）加飾層が本発明の加飾材付き基材であることが好ましい。
（１）加飾層
（２）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
（３）前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
（４）前記第一の透明電極パターンと前記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
（５）前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
また、前記静電容量型入力装置は、「前面板と、前記前面板の非接触側に少なくとも上記（１）〜（５）の要素を有する基材」の上にさらに透明保護層が形成されたものであって、「前面板と、前記前面板の非接触側に少なくとも上記（１）〜（５）の要素を有する基材」と前記透明保護層が、本発明の透明保護層付き基材であることが好ましい。 << Capacitance Input Device and Image Display Device Comprising Capacitance Input Device as Components >>
The capacitance-type input device is a capacitance-type input device having a front plate and at least the following elements (1) to (5) on the non-contact side of the front plate. ) It is preferable that the decorative layer is a base material with a decorative material of the present invention.
(1) Decorative layer (2) A plurality of first transparent electrode patterns formed by extending a plurality of pad portions in a first direction via connecting portions (3) The first transparent electrode pattern and A plurality of second transparent electrode patterns comprising a plurality of pad portions that are electrically insulated and extend in a direction crossing the first direction. (4) The first transparent electrode pattern and the first An insulating layer that electrically insulates the second transparent electrode pattern (5) electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern; The conductive element different from the second transparent electrode pattern Further, the capacitance-type input device may include “a front plate and at least the elements (1) to (5) above on the non-contact side of the front plate”. A transparent protective layer is formed on the substrate The “front substrate and a substrate having at least the elements (1) to (5) on the non-contact side of the front plate” and the transparent protective layer are provided with the transparent protective layer of the present invention. A substrate is preferred.

＜静電容量型入力装置の構成＞
まず、本発明の製造方法によって形成される静電容量型入力装置の構成について説明する。図１６および図１７は、本発明の加飾材または透明保護層付き基材を用いる本発明の静電容量型入力装置の中でも好ましい構成を示す断面図である。さらに、図３０は、本発明の透明保護層付き基材を用いる本発明の静電容量型入力装置の中でも、透明樹脂層７に直線性が求められる態様の構成を示す断面図である。なお、図３０の構成においては、さらに不図示の他の保護層を用いて全ての部材を覆ってもよい。図１６および図３０において静電容量型入力装置１０は、前面板１と、加飾層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、透明保護層７と、から構成されている。 <Configuration of capacitance type input device>
First, the configuration of a capacitive input device formed by the manufacturing method of the present invention will be described. FIG. 16 and FIG. 17 are cross-sectional views showing a preferable configuration among the capacitance-type input device of the present invention using the decorating material of the present invention or the substrate with a transparent protective layer. Furthermore, FIG. 30 is a cross-sectional view showing a configuration of an embodiment in which linearity is required for the transparent resin layer 7 in the capacitance-type input device of the present invention using the substrate with a transparent protective layer of the present invention. In addition, in the structure of FIG. 30, you may cover all the members using the other protective layer which is not illustrated further. 16 and 30, the capacitive input device 10 includes a front plate 1, a decorative layer 2, a first transparent electrode pattern 3, a second transparent electrode pattern 4, an insulating layer 5, and a conductive layer. It is composed of a sex element 6 and a transparent protective layer 7.

前面板１は、フィルム基材等の透光性基材で構成されていることが好ましい。また、フィルム基材の電極の反対側に、更にカバーガラス１’を設けることが出来る。ガラス基材としては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、図１６および図１７において、前面板１の各要素が設けられている側を非接触面１ａと称する。本発明の静電容量型入力装置１０においては、前面板１の接触面（１ａ非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。以下、前面板を、「基材」と称する場合がある。   The front plate 1 is preferably composed of a translucent substrate such as a film substrate. Further, a cover glass 1 ′ can be further provided on the opposite side of the film base electrode. As the glass substrate, tempered glass typified by gorilla glass manufactured by Corning Inc. can be used. Moreover, in FIG. 16 and FIG. 17, the side where each element of the front plate 1 is provided is referred to as a non-contact surface 1a. In the capacitive input device 10 of the present invention, input is performed by bringing a finger or the like into contact with the contact surface of the front plate 1 (the surface opposite to the non-contact surface 1a). Hereinafter, the front plate may be referred to as a “base material”.

また、前面板１の非接触面上には加飾層２が設けられている。加飾層２は、タッチパネル前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにする目的や、加飾を目的として形成される。
本発明の静電容量型入力装置１０には、不図示の配線取出し口を設けることができる。配線取出し部を有する静電容量型入力装置の加飾材付き基材を形成する場合、加飾層形成用液体レジストやスクリーン印刷インクを用いて加飾層２を形成しようとすると、配線取出し部からのレジスト成分のモレや、加飾層でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しを生じ、基材裏側を汚染してしまうという問題が起こることがあるが、配線取出し部を有する加飾材付き基材を用いる場合、このような問題も解決することができる。 A decorative layer 2 is provided on the non-contact surface of the front plate 1. The decoration layer 2 is a frame-like pattern around the display area formed on the non-contact side of the touch panel front plate, and is formed for the purpose of preventing the lead-out wiring and the like from being seen and for the purpose of decoration.
The capacitive input device 10 of the present invention can be provided with a wiring outlet (not shown). When forming a base material with a decorating material for a capacitance-type input device having a wiring take-out part, when trying to form the decorating layer 2 using a liquid resist for decorating layer formation or screen printing ink, the wiring take-out part There may be a problem that the resist component leaks from the glass and the resist component protrudes from the glass edge in the decorative layer, and the back side of the substrate may be contaminated. Such a problem can also be solved when a substrate is used.

前面板１の非接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。前記第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、前記第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、前記導電性繊維を用いた着色層または透明樹脂層を有する転写フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落［００１４］〜［００１６］等を参考にすることができる。 On the non-contact surface of the front plate 1, a plurality of first transparent electrode patterns 3 formed by extending a plurality of pad portions in the first direction via connection portions, and a first transparent electrode pattern 3 And a plurality of second transparent electrode patterns 4 comprising a plurality of pad portions formed extending in a direction crossing the first direction, the first transparent electrode pattern 3 and the second And an insulating layer 5 that electrically insulates the transparent electrode pattern 4. The first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and the conductive element 6 to be described later are, for example, translucent conductive materials such as ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide). It can be made of a conductive metal oxide film. Examples of such metal films include ITO films; metal films such as Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, and Mo; metal oxide films such as SiO 2 . At this time, the film thickness of each element can be 10 to 200 nm. Further, since the amorphous ITO film is made into a polycrystalline ITO film by firing, the electrical resistance can be reduced. Moreover, said 1st transparent electrode pattern 3, the 2nd transparent electrode pattern 4, and the electroconductive element 6 mentioned later use the transfer film which has the colored layer or transparent resin layer using the said electroconductive fiber. It can also be manufactured. In addition, when the first conductive pattern or the like is formed of ITO or the like, paragraphs [0014] to [0016] of Japanese Patent No. 4506785 can be referred to.

また、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１の非接触面および加飾層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図１においては、第二の透明電極パターンが、前面板１の非接触面および加飾層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。このように、一定の厚みが必要な加飾層２と前面板裏面とにまたがって転写フィルムをラミネートする場合でも、本発明の特定の層構成を有する転写フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程で加飾層２の部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。   Further, at least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 spans both the non-contact surface of the front plate 1 and the region of the surface opposite to the front plate 1 of the decorative layer 2. Can be installed. In FIG. 1, a diagram is shown in which the second transparent electrode pattern is installed across both areas of the non-contact surface of the front plate 1 and the surface of the decorative layer 2 opposite to the front plate 1. ing. Thus, even when the transfer film is laminated across the decorative layer 2 and the back surface of the front plate that require a certain thickness, the use of the transfer film having the specific layer structure of the present invention makes it expensive such as a vacuum laminator. Even without using a simple facility, it is possible to perform a laminate in which bubbles are not generated at the partial boundary of the decorative layer 2 by a simple process.

図１において、加飾材２の前面板１とは逆側の面側には導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４とは別の要素である。図１においては、導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている図が示されている。   In FIG. 1, a conductive element 6 is installed on the surface of the decorating material 2 opposite to the front plate 1. The conductive element 6 is electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4, and is different from the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4. Is another element. In FIG. 1, a view in which the conductive element 6 is connected to the second transparent electrode pattern 4 is shown.

また、図１においては、各構成要素の全てを覆うように透明保護層７が設置されている。透明保護層７は、図３０に示すように各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよく、その場合は透明保護層７として外周部の直線性が高い透明保護層を、本発明の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法で形成することが好ましい。絶縁層５と透明保護層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５を構成する材料としては、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが用いられる。   Moreover, in FIG. 1, the transparent protective layer 7 is installed so that all of each component may be covered. The transparent protective layer 7 may be configured to cover only a part of each component as shown in FIG. 30, and in that case, a transparent protective layer having high linearity at the outer peripheral portion as the transparent protective layer 7, It is preferable to form with the manufacturing method of the decorating material or base material with a transparent protective layer of this invention. The insulating layer 5 and the transparent protective layer 7 may be made of the same material or different materials. The material constituting the insulating layer 5 is preferably a material having high surface hardness and high heat resistance, and a known photosensitive siloxane resin material, acrylic resin material, or the like is used.

前記静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。   The capacitance type input device and the image display device including the capacitance type input device as a component are “latest touch panel technology” (Techno Times, issued on July 6, 2009), supervised by Yuji Mitani. The configurations disclosed in “Technology and Development of Touch Panels”, CMC Publishing (2004, 12), FPD International 2009 Forum T-11 Lecture Textbook, Cypress Semiconductor Corporation Application Note AN2292, and the like can be applied.

［モバイル機器］
本発明のモバイル機器は、本発明のタッチパネルを有することを特徴とする。
本発明のタッチパネルを使用することができるモバイル機器の例としては、例えば、以下のモバイル機器を挙げることができる。
ｉＰｈｏｎｅ４、ｉＰａｄ（以上、米国 アップル社製）、Ｘｐｅｒｉａ（ＳＯ−０１Ｂ）（ソニー・エリクソン・モバイルコミュニケーション社製）、Ｇａｌａｘｙ Ｓ（ＳＣ−０２Ｂ）、Ｇａｌａｘｙ Ｔａｂ（ＳＣ−０１Ｃ）（以上、韓国 サムスン電子社製）、ＢｌａｃｋＢｅｒｒｙ ８７０７ｈ（加国 リサーチ・イン・モーション社製）、Ｋｉｎｄｌｅ（米国 アマゾン社製）、Ｋｏｂｏ Ｔｏｕｃｈ（楽天株式会社製）。 [Mobile devices]
The mobile device of the present invention has the touch panel of the present invention.
Examples of mobile devices that can use the touch panel of the present invention include the following mobile devices.
iPhone4, iPad (above Apple Inc., USA), Xperia (SO-01B) (Sony Ericsson Mobile Communications Inc.), Galaxy S (SC-02B), Galaxy Tab (SC-01C) (above, Samsung Electronics Korea) BlackBerry 8707h (manufactured by Kankoku Research in Motion), Kindle (manufactured by Amazon, USA), Kobo Touch (manufactured by Rakuten, Inc.).

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。下記実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は、本発明の範囲から逸脱しない限り適宜変更することができ、したがって本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例において、特に断りのない限り、「％」及び「部」はいずれも質量基準であり、分子量は重量平均分子量を表す。
まず、以下の顔料分散物を調製した。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The materials, reagents, ratios, instruments, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the scope of the present invention, and therefore the present invention is not limited to the examples shown below. In the following examples, unless otherwise specified, both “%” and “part” are based on mass, and the molecular weight represents a weight average molecular weight.
First, the following pigment dispersion was prepared.

［調製例１］
（黒色顔料分散物１：Ｋ１）
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） ： １３．１質量％
・下記分散剤１ ： ０．６５質量％
・ポリマー ： ６．７２質量％
（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ： ７９．５３質量％ [Preparation Example 1]
(Black pigment dispersion 1: K1)
Carbon black (Nippex 35 manufactured by Degussa): 13.1% by mass
・ The following dispersant 1: 0.65% by mass
-Polymer: 6.72% by mass
(Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio, weight average molecular weight 37,000)
Propylene glycol monomethyl ether acetate: 79.53% by mass

［調製例２］
（黒色顔料分散物２：Ｋ２）
黒色顔料分散物２として、ＦＰ Ｂｌａｃｋ ＧＢ４０１６（山陽色素株式会社製）を用いた。なお、ＦＰ Ｂｌａｃｋ ＧＢ４０１６は、以下の組成である。
黒色顔料（カーボンブラック） ２５．０質量％
分散剤 ９．５質量％
分散溶媒（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）６５．５質量％ [Preparation Example 2]
(Black pigment dispersion 2: K2)
As the black pigment dispersion 2, FP Black GB4016 (manufactured by Sanyo Color Co., Ltd.) was used. Note that FP Black GB4016 has the following composition.
Black pigment (carbon black) 25.0 mass%
Dispersant 9.5% by mass
Dispersing solvent (propylene glycol monomethyl ether acetate) 65.5% by mass

［調製例３］
（黒色顔料分散物３：Ｋ３）
黒色顔料分散物３として、ＣＤＰ−Ｋ１０６（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）を用いた。なお、ＣＤＰ−Ｋ１０６は、以下の組成である。
黒色顔料（二酸化チタン） ２５．０質量％
分散剤 ７．０質量％
分散溶媒（メチルエチルケトン） ６８．０質量％ [Preparation Example 3]
(Black pigment dispersion 3: K3)
As the black pigment dispersion 3, CDP-K106 (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) was used. CDP-K106 has the following composition.
Black pigment (titanium dioxide) 25.0% by mass
Dispersant 7.0% by mass
Dispersion solvent (methyl ethyl ketone) 68.0% by mass

［調製例４］
（赤色顔料分散物：Ｒ）
赤色顔料分散物Ｒは、下記組成となるように顔料、ポリマー及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて調製した。
〈赤顔料分散物Ｒの組成〉
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７） ： １８質量％
・ポリマー ： １２質量％
（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、重量平均分子量３．７万）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ： ７０質量％ [Preparation Example 4]
(Red pigment dispersion: R)
The red pigment dispersion R was prepared by mixing a pigment, a polymer and a solvent so as to have the following composition and using a three-roll and bead mill.
<Composition of red pigment dispersion R>
Red pigment (CI Pigment Red 177): 18% by mass
・ Polymer: 12% by mass
(Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio, weight average molecular weight 37,000)
Propylene glycol monomethyl ether acetate: 70% by mass

［調製例５］
（白色顔料分散物：Ｗ）
白色顔料分散剤Ｗとして、以下３成分を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて調製した。
白色顔料 酸化チタン ＪＲ−８０５（テイカ株式会社製） ８５３．５ｇ
メチルエチルケトン ３３６ｇ
分散剤 ソルスパース３２０００（日本ルーブリゾール株式会社製） ２５．５ｇ [Preparation Example 5]
(White pigment dispersion: W)
As the white pigment dispersant W, the following three components were mixed and prepared using a three roll and bead mill.
White pigment Titanium oxide JR-805 (manufactured by Teika Co., Ltd.) 853.5g
336 g of methyl ethyl ketone
Dispersant Solsperse 32000 (Nippon Lubrizol Corporation) 25.5 g

［調製例６］
（緑色顔料分散物：Ｇ）
緑色顔料分散物は、[調製例４]の赤色顔料を緑色顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６としたほかは、[調製例４]と同様にして、緑色顔料分散物Ｇを調製した。 [Preparation Example 6]
(Green pigment dispersion: G)
The green pigment dispersion is obtained by changing the red pigment of [Preparation Example 4] to green pigment C.I. I. A green pigment dispersion G was prepared in the same manner as in [Preparation Example 4] except that CI Pigment Green 36 was used.

［調製例７］
（黄色顔料分散物：Ｙ）
黄色顔料分散物は、[調製例４]の赤色顔料を黄色顔料Ｃ．Ｉ．イエロー１５０としたほかは、[調製例４]と同様にして、黄色顔料分散物Ｙを調製した。 [Preparation Example 7]
(Yellow pigment dispersion: Y)
The yellow pigment dispersion was obtained by changing the red pigment of [Preparation Example 4] to yellow pigment C.I. I. A yellow pigment dispersion Y was prepared in the same manner as in [Preparation Example 4] except that Yellow 150 was used.

［調製例８］
（青色顔料分散物：Ｂ）
青色顔料分散物は、[調製例４]の赤色顔料を青色顔料Ｃ．Ｉ．ブルー１５：６としたほかは、[調製例４]と同様にして、青色顔料分散物Ｂを調製した。 [Preparation Example 8]
(Blue pigment dispersion: B)
The blue pigment dispersion is obtained by changing the red pigment of [Preparation Example 4] into a blue pigment C.I. I. A blue pigment dispersion B was prepared in the same manner as in [Preparation Example 4] except that Blue 15: 6 was used.

調製例１〜８で調製した顔料分散物を用いて、転写材料の着色層形成用の塗布液として、以下の塗布液を調製した。
［調製例１１］
（黒塗布液１：Ｋの調製）
黒色顔料分散物１ ３１２ｇ
赤色顔料分散物Ｒ ３３．２ｇ
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート ６１．９ｇ
メチルエチルケトン ３４０ｇ
シクロヘキサノン ８５．１ｇ
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体（モル比７８／２２、重量平均分子量 ３８，０００） ２７質量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 １０８ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製） ７６質量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 ５４．８ｇ
フェノチアジン ０．０５７ｇ
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４´−Ｎ，Ｎ−（ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ−３´−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン ４．４８ｇ
メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業株式会社製） ０．６ｇ Using the pigment dispersions prepared in Preparation Examples 1 to 8, the following coating solutions were prepared as coating solutions for forming a colored layer of a transfer material.
[Preparation Example 11]
(Preparation of black coating solution 1: K)
Black pigment dispersion 1 312g
Red pigment dispersion R 33.2 g
61.9 g of propylene glycol monomethyl ether acetate
340 g of methyl ethyl ketone
85.1 g of cyclohexanone
Benzyl methacrylate / methacrylic acid random copolymer (molar ratio 78/22, weight average molecular weight 38,000) 27% by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 108 g
Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 76% by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 54.8 g
Phenothiazine 0.057g
2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4'-N, N- (bis (ethoxycarbonylmethyl) amino-3'-bromophenyl) -s-triazine 4.48 g
Megafuck F780F (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 0.6g

［調製例１２］
（ピンク塗布液：Ｗ／Ｒ＝９９／１（質量比）の調製）
白色顔料分散物Ｗ ３１０ｇ
赤色顔料分散物Ｒ １２．２ｇ
メチルエチルケトン １４７ｇ
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体（モル比７２／２８、重量平均分子量 ３７，０００） ４０．５質量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 ３７６ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製） ７６重量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 １５６ｇ
ＬＵＮＡＲ６（ＤＫＳＨ社製） ０．４ｇ
メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業株式会社製） ２．０ｇ [Preparation Example 12]
(Preparation of pink coating solution: W / R = 99/1 (mass ratio))
White pigment dispersion W 310g
Red pigment dispersion R 12.2 g
147 g of methyl ethyl ketone
Benzyl methacrylate / methacrylic acid random copolymer (molar ratio 72/28, weight average molecular weight 37,000) 40.5% by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 376 g
Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 76% by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 156 g
LUNAR6 (manufactured by DKSH) 0.4g
Megafuck F780F (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 2.0g

［調製例１３］
（灰色塗布液：Ｗ／Ｋ＝９６／４（質量比）の調製）
白色顔料分散物Ｗ ３８８ｇ
黒色顔料分散物３（ＣＤＰ−Ｋ１０６） ４８．５ｇ
メチルエチルケトン ４８３ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製） ７６重量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 ５０．４ｇ
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体（モル比７８／２２、重量平均分子量 ３８，０００） ２７質量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 １５３ｇ
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製） ４．１１ｇ
ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．０５３ｇ
メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業株式会社製） １．６１ｇ [Preparation Example 13]
(Preparation of gray coating solution: W / K = 96/4 (mass ratio))
White pigment dispersion W 388 g
Black pigment dispersion 3 (CDP-K106) 48.5 g
Methyl ethyl ketone 483g
Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 76% by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 50.4 g
Benzyl methacrylate / methacrylic acid random copolymer (molar ratio 78/22, weight average molecular weight 38,000) 27% by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 153 g
Irgacure 907 (BASF) 4.11g
Hydroquinone monomethyl ether 0.053g
Megafuck F780F (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 1.61g

［調製例１４］
（白塗布液の調製）
白色顔料分散物Ｗ ３８８ｇ
メチルエチルケトン ４８３ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製） ７６重量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 ５０．４ｇ
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体（モル比７８／２２、重量平均分子量 ３８，０００） ２７質量％ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液 １５３ｇ
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製） ４．１１ｇ
ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．０５３ｇ
メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業株式会社製） １．６１ｇ [Preparation Example 14]
(Preparation of white coating solution)
White pigment dispersion W 388 g
Methyl ethyl ketone 483g
Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 76% by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 50.4 g
Benzyl methacrylate / methacrylic acid random copolymer (molar ratio 78/22, weight average molecular weight 38,000) 27% by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate solution 153 g
Irgacure 907 (BASF) 4.11g
Hydroquinone monomethyl ether 0.053g
Megafuck F780F (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 1.61g

［調製例１５］
（黒塗布液２の調製）
黒塗布液２は、［調製例１１］の黒色顔料分散物１ ３１２ｇ、及び赤色顔料分散物Ｒ ３３．２ｇの代わりに黒色顔料組成物２ を３４５ｇ使用するほかは、同様に調製を行い、黒塗布液２を得た。 [Preparation Example 15]
(Preparation of black coating solution 2)
Black coating solution 2 was prepared in the same manner except that 312 g of black pigment dispersion 1 in [Preparation Example 11] and 345 g of black pigment composition 2 were used instead of 33.2 g of red pigment dispersion R. A coating solution 2 was obtained.

［調製例１６］
（黒塗布液３の調製）
黒塗布液３は、［調製例１１］の黒色顔料分散物１ ３１２ｇ、及び赤色顔料分散物Ｒ ３３．２ｇの代わりに黒色顔料組成物３を４３６ｇ使用するほかは、同様に調製を行い、黒塗布液３を得た。 [Preparation Example 16]
(Preparation of black coating solution 3)
Black coating solution 3 was prepared in the same manner except that 312 g of black pigment dispersion 1 in [Preparation Example 11] and 436 g of black pigment composition 3 were used instead of 33.2 g of red pigment dispersion R. A coating solution 3 was obtained.

［調製例１７］
（赤塗布液の調製）
赤塗布液は、［調製例１１］の黒色顔料分散物１ ３１２ｇ、及び赤色顔料分散物Ｒ ３３．２ｇの代わりに赤色顔料組成物Ｒを３４５ｇ使用するほかは、同様に調製を行い、赤塗布液を得た。 [Preparation Example 17]
(Preparation of red coating solution)
The red coating solution was prepared in the same manner except that 312 g of black pigment dispersion 1 in [Preparation Example 11] and 345 g of red pigment dispersion R were used instead of 33.2 g of red pigment dispersion R. A liquid was obtained.

［調製例１８］
（緑塗布液の調製）
緑塗布液は、［調製例１１］の黒色顔料分散物１ ３１２ｇ、及び赤色顔料分散物Ｒ ３３．２ｇの代わりに緑色顔料組成物Ｇ ２０７ｇ、及び黄色顔料組成物Ｙ １３８ｇ使用するほかは、同様に調製を行い、緑塗布液を得た。 [Preparation Example 18]
(Preparation of green coating solution)
The green coating solution is the same except that 312 g of the black pigment dispersion 1 of [Preparation Example 11] and 207 g of the green pigment composition G and 138 g of the yellow pigment composition Y are used instead of 33.2 g of the red pigment dispersion R. The green coating solution was obtained.

［調製例１９］
（青塗布液の調製）
青塗布液は、［調製例１１］の黒色顔料分散物１ ３１２ｇ、及び赤色顔料分散物Ｒ ３３．２ｇの代わりに青色顔料組成物Ｂ ３４５ｇ使用するほかは、同様に調製を行い、青塗布液を得た。 [Preparation Example 19]
(Preparation of blue coating solution)
The blue coating solution was prepared in the same manner except that 312 g of black pigment dispersion 1 in [Preparation Example 11] and 3345 g of red pigment dispersion R were used, and 345 g of blue pigment composition B was used. Got.

調製例１１〜１９で調製した塗布液を着色層形成用の塗布液として用いて、転写材料を作製した。   A transfer material was prepared using the coating solution prepared in Preparation Examples 11 to 19 as a coating solution for forming a colored layer.

［作製例１］
＜転写材料黒１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記黒塗布液１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．２μｍの着色層（黒色感光層）を設け、最後に保護剥離層として保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の着色層および保護剥離層とが一体となった転写材料を作製し、サンプル名を転写材料黒１とした。
なお、転写材料黒１の構成は、図３に示す構成である。 [Production Example 1]
<Preparation of transfer material black 1>
On a 75 μm thick polyethylene terephthalate film temporary support, a coating solution for a thermoplastic resin layer having the following formulation H1 was applied and dried using a slit nozzle. Next, an intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was applied and dried. Further, the black coating solution 1 was applied and dried. Thus, a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 15.1 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a colored layer having a dry film thickness of 2.2 μm (black photosensitive layer) on the temporary support. Finally, a protective film (12 μm thick polypropylene film) was pressure-bonded as a protective release layer. In this way, a transfer material in which the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer (oxygen barrier film), the black (K) colored layer, and the protective release layer were integrated was prepared, and the sample name was designated as transfer material black 1. .
The structure of the transfer material black 1 is the structure shown in FIG.

（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール ： １１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ： ６．３６質量部
・メチルエチルケトン ： ５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃） ： ５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ： １３．６質量部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製） ： ９．１質量部
・フッ素系ポリマー ： ０．５４質量部
（Ｃ6Ｆ13ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ４０部と Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ５５部と Ｈ（ＯＣＨＣＨ2）7ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2 ５部との共重合体、重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液、大日本インキ化学工業製、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ） (Coating solution for thermoplastic resin layer: Formulation H1)
Methanol: 11.1 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate: 6.36 parts by mass Methyl ethyl ketone: 52.4 parts by mass Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio) (Molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 100,000, Tg≈70 ° C.): 5.83 parts by mass. Styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (mol) Ratio) = 63/37, weight average molecular weight = 10,000, Tg≈100 ° C.): 13.6 parts by mass, 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. )): 9.1 parts by mass / Fluoropolymer: 0.54 parts by mass (C 6 F 13 CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2 40 parts and H (OC H (CH 3) CH 2) 7 OCOCH = CH 2 55 parts of H (copolymer of OCHCH 2) 7 OCOCH = CH 2 5 parts, weight average molecular weight 30,000, methyl ethyl ketone 30 wt% solution, Dainippon Ink and Chemicals (Product name: Megafuck F780F)

（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ＰＶＡ２０５ ： ３２．２質量部
（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン ： １４．９質量部
（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）
・蒸留水 ： ５２４質量部
・メタノール ： ４２９質量部 (Coating liquid for intermediate layer: prescription P1)
PVA205: 32.2 parts by mass (polyvinyl alcohol, manufactured by Kuraray Co., Ltd., degree of saponification = 88%, degree of polymerization 550)
Polyvinyl pyrrolidone: 14.9 parts by mass (manufactured by ISP Japan, K-30)
-Distilled water: 524 parts by mass-Methanol: 429 parts by mass

［作製例２］
＜転写材料白１の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「白塗布液」を使用して乾燥膜厚が２７．０μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料白１を製造した。 [Production Example 2]
<Preparation of transfer material white 1>
In Preparation Example 1, the transfer material White 1 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that the above “white coating solution” was used instead of the black coating solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 27.0 μm. Manufactured.

［作製例３］
＜転写材料ピンクの作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「ピンク塗布液」を使用して乾燥膜厚が１０．０μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料ピンクを製造した。 [Production Example 3]
<Production of transfer material pink>
In Production Example 1, a transfer material pink was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the above “pink coating solution” was used instead of the black coating solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 10.0 μm. did.

［作製例４］
＜転写材料灰色の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「灰色塗布液」を使用して乾燥膜厚が５．３μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料灰色を製造した。 [Production Example 4]
<Production of transfer material gray>
In Production Example 1, a transfer material gray was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the above-mentioned “gray coating solution” was used instead of the black coating solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 5.3 μm. did.

［作製例５］
＜転写材料黒２の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「黒塗布液２」を使用して乾燥膜厚が１．８μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料黒２を製造した。 [Production Example 5]
<Preparation of transfer material black 2>
In Production Example 1, the transfer material Black 2 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the above-described “Black Coating Solution 2” was used instead of the Black Coating Solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 1.8 μm. Manufactured.

［作製例６］
＜転写材料黒３の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「黒塗布液３」を使用して乾燥膜厚が１．１μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料黒３を製造した。 [Production Example 6]
<Preparation of transfer material black 3>
In Production Example 1, the transfer material Black 3 was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the above-described “Black Coating Solution 3” was used instead of the Black Coating Solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 1.1 μm. Manufactured.

［作製例７］
＜転写材料赤の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「赤塗布液」を使用して乾燥膜厚が２．０μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料赤を製造した。 [Production Example 7]
<Production of transfer material red>
In Preparation Example 1, a transfer material red was produced in the same manner as in Preparation Example 1, except that the above-mentioned “red coating liquid” was used instead of the black coating liquid 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 2.0 μm. did.

［作製例８］
＜転写材料緑の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「緑塗布液」を使用して乾燥膜厚が２．０μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料緑を製造した。 [Production Example 8]
<Production of green transfer material>
In Production Example 1, a green transfer material is produced in the same manner as in Production Example 1 except that the above “green coating solution” is used instead of the black coating solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 2.0 μm. did.

［作製例９］
＜転写材料青の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「青塗布液」を使用して乾燥膜厚が２．０μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料青を製造した。 [Production Example 9]
<Preparation of blue transfer material>
In Production Example 1, a blue transfer material blue was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the above “blue coating solution” was used instead of the black coating solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 2.0 μm. did.

［作製例１０］
＜転写材料灰色／ピンクの作製＞
上記作製例４で得られた転写材料灰色を２０ｍＪ／ｃｍ2（高圧水銀ランプ ｉ線 ３６５ｎｍ）で露光したのち、更に作製例３と同様にして上記ピンク塗布液を使用して乾燥膜厚が灰色１０．０μｍおよびピンク５．３μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料灰色／ピンクを製造した。
なお、転写材料灰色／ピンクの構成は、図４に示す構成である。 [Production Example 10]
<Production of transfer material gray / pink>
After exposing the transfer material gray obtained in Preparation Example 4 to 20 mJ / cm 2 (high pressure mercury lamp i-line 365 nm), the dry coating thickness is gray using the above pink coating solution in the same manner as in Preparation Example 3. A transfer material gray / pink was produced in the same manner as in Production Example 1 except that a colored layer of 10.0 μm and pink 5.3 μm was formed.
The structure of the transfer material gray / pink is the structure shown in FIG.

［作製例１１］
＜転写材料白２の作製＞
作製例１において、黒塗布液１の代わりに上記「白塗布液」を使用して乾燥膜厚が１３．５μｍの着色層を形成する以外は作製例１と同様にして、転写材料白２を製造した。 [Production Example 11]
<Preparation of transfer material white 2>
In Preparation Example 1, the transfer material White 2 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that the above “white coating solution” was used instead of the black coating solution 1 to form a colored layer having a dry film thickness of 13.5 μm. Manufactured.

＜転写材料の膜厚／光学濃度＞
（転写材料黒１の膜厚および光学濃度の測定）
基材として用いる無アルカリガラス基板（厚み０．７ｍｍ）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板（基材）を基材予備加熱装置で１００℃２分加熱した。得られたシランカップリング処理ガラス基板（基材）に、作製例１の製法にて作製された転写材料黒１からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した着色層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板（基材）の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した基板（基材）に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板（基材）を垂直に立てた状態で、露光面と着色層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2で露光した。 <Thickness of transfer material / optical density>
(Measurement of film thickness and optical density of transfer material black 1)
A non-alkali glass substrate (thickness 0.7 mm) used as a base material is washed with a rotating brush having nylon hair while spraying a glass detergent solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds with a shower, and after washing with pure water, a silane cup A ring solution (0.3% by mass aqueous solution of N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed for 20 seconds with a shower and washed with pure water. This substrate (base material) was heated at 100 ° C. for 2 minutes with a base material preheating device. The cover film is removed from the transfer material black 1 produced by the production method of Production Example 1 on the obtained silane coupling treated glass substrate (base material), and the surface of the colored layer exposed after the removal and the silane coupling treatment The glass substrate (base material) is laminated so that the surface is in contact with the substrate (base material) heated at 100 ° C. for 2 minutes using a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd. (Lamic II type)). Lamination was performed at a roller temperature of 130 ° C., a linear pressure of 100 N / cm, and a conveyance speed of 2.2 m / min. Subsequently, the polyethylene terephthalate temporary support was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the temporary support. After peeling off the temporary support, the distance between the exposed surface and the colored layer in a proximity-type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp with the substrate (base material) standing upright Was set to 200 μm and exposed at an exposure amount of 70 mJ / cm 2 .

次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で２０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基板（基材）の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板（基材）上の液だまりを減らした。   Next, a triethanolamine developer (containing 30% by mass of triethanolamine, trade name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) 12 times with pure water (1 part of T-PD2 and 11 parts of pure water) The mixture was diluted at 30 ° C. for 20 seconds at a flat nozzle pressure of 0.1 MPa to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer. Subsequently, after air was blown off on the upper surface of the glass substrate (base material), pure water was sprayed for 10 seconds by a shower, pure water shower washing was performed, and air was blown to remove a liquid pool on the substrate (base material). Reduced.

その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ−ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、３０秒現像し、純水で洗浄した。   Thereafter, a sodium carbonate / sodium hydrogencarbonate developer (trade name: T-CD1 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.)) is added five times with pure water (mixed in a ratio of 1 part of T-CD1 and 4 parts of pure water). The shower pressure was set to 0.1 MPa at 30 ° C. using a diluted solution), developed for 30 seconds, and washed with pure water.

引き続き、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．１ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、更にやわらかいナイロン毛を有する回転ブラシにより、形成された膜を擦って残渣除去を行った。さらに、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で超純水を噴射して残渣除去を行い、所望の膜を得た。   Subsequently, using a surfactant-containing cleaning solution (trade name: T-SD3 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) diluted 10-fold with pure water) at 33 ° C. for 20 seconds, cone-type nozzle pressure of 0.1 MPa The residue was removed by rubbing the formed film with a rotating brush having soft nylon bristles. Furthermore, ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultrahigh pressure washing nozzle to remove residues, and a desired film was obtained.

次いで、得た膜をガラス基板（基材）ごと、１５０℃、３０分加熱処理したものに付いて、膜厚と光学濃度を測定した。
結果を以下の表１に示す。
膜厚測定は、テンコールインストルメンツ社製 Ｐ−１０を用いて行った。
光学濃度は、サカタインクス株式会社製 ＢＭＴ−１を用いて行った。 Next, the film thickness and optical density were measured by attaching the obtained film together with the glass substrate (base material) to 150 ° C. for 30 minutes.
The results are shown in Table 1 below.
The film thickness was measured using P-10 manufactured by Tencor Instruments.
The optical density was measured using BMT-1 manufactured by Sakata Inx Corporation.

（その他の転写材料の膜厚および光学濃度の測定）
転写材料黒１の代わりに、作製例１〜９で作製した転写材料を用いた以外は上記の方法と同様にして、その他の転写材料の膜厚および光学濃度の測定を行った。得られた結果を下記表１に示す。 (Measurement of film thickness and optical density of other transfer materials)
Instead of the transfer material black 1, the film thickness and optical density of other transfer materials were measured in the same manner as described above except that the transfer materials prepared in Preparation Examples 1 to 9 were used. The obtained results are shown in Table 1 below.

［実施例１］
＜転写材料の打ち抜き／ラミネート／樹脂・中間層除去／試料完成＞
（黒）
Ａ４大の転写材料黒１（図１にその一部を拡大した概略図を示し、図３に図１のＸ１−Ｘ１’での断面の概略図を示す）を、ＣＯ2レーザーカッター（クライムプロダクツ株式会社製 Ｌ−ＣＰＮＣ５５０）を用い、打ち抜かれた後に図５の直線部分を有する枠内部２１および直線部分を有する配線取出し部２３の形状が形成されるように、図１に示した転写材料黒１の点線部分を、保護フィルム側から保護フィルム、着色層（黒色感光層）、中間層、熱可塑性樹脂層および仮支持体をすべて貫通させて、打ち抜いた。この打ち抜きにより、図５の形状の転写材料が形成され、同時に図５における４辺の枠内部２１で囲まれた部分（内側の白色部分）と配線取出し部２３から、「仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、着色層（黒色感光層）および保護フィルム」からなる積層体が取り除かれた。打ち抜き後の図５に示した形状の転写材料における、Ｘ２−Ｘ２’での断面形状は、図７の形状であった。
次に、真空ラミネーター（クライムプロダクツ株式会社製 Ｖ−ＳＥ３４０ａａＨ）を用い、基材であるＡ４大のＰＥＴフィルム（ルミラー（東レ）Ｔ６０、１００μｍ、全光透過率８９％）に、ＰＥＴフィルムを９０℃に暖めた。次に、転写材料から、テープを用いて保護フィルム２９を剥離し、図８の形状とした。その後、上記で打ち抜いて取り除かれた領域以外の、残りの領域を有する転写材料黒１の保護フィルム２９を剥離後に露出した着色層２４の表面と前記９０℃で予備加熱したＰＥＴフィルムの表面とを重ね合わせ、上記ラミネータで図１０のように貼り付けた。
次に、転写材料の仮支持体２６を薄刃カミソリを用いて除去し、図１１の構成とした。その後、転写材料の熱可塑性樹脂層２７側よりＵＶ（ｉ線、４０ｍＪ）で全面露光した後、上記転写材料黒１の膜厚および光学濃度の測定でシャワー現像時に用いたＰＤ２液で熱可塑性樹脂層２７と中間層２８を除去し、引き続き純水で洗浄し、転写材料黒１の着色層をＰＥＴフィルムに転写した、図１２の形状の黒色の着色層２４付き基材（加飾材付き基材）を得た。得られた加飾材付き基材の、着色層２４（加飾層２）側からの概略図は図１３の形状であった。
これを１５０℃３０分加熱した（ポストベーク）。
その後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、図１３の点線部に相当する、ＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）を打ち抜くことで、図１４に示す形状の複数の加飾材黒付きフィルムを得た。枠外部を打ち抜かれた加飾材黒付きフィルムを、加飾材２側から見た平常を図１５に示した。なお、図１５の形状は、枠外部の縦幅：１００ｍｍ、枠外部の横幅：６０ｍｍ、上枠幅：１０ｍｍ、下枠幅：１２ｍｍ、左右枠幅：３ｍｍ、四隅半径：６ｍｍ、配線取り出し部（縦×横）：３×５ｍｍである。
得られた加飾材黒付きフィルムを、実施例１の加飾材付き基材とした。
なお、上記のポストベークや、枠外部の所望の形状への打ち抜きは、本発明では必須の工程ではない。 [Example 1]
<Punching of transfer material / laminate / resin / intermediate layer removal / sample completion>
(black)
A4 large transfer material black 1 (FIG. 1 shows a partially enlarged schematic view, and FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view taken along line X1-X1 ′ of FIG. 1), and a CO 2 laser cutter (Climb Products). L-CPNC550) manufactured by Co., Ltd. is used to form the transfer material black shown in FIG. 1 so that the shape of the inside of the frame 21 having the straight portion and the wiring extraction portion 23 having the straight portion shown in FIG. The dotted line portion 1 was punched from the protective film side through the protective film, the colored layer (black photosensitive layer), the intermediate layer, the thermoplastic resin layer, and the temporary support. By this punching, a transfer material having the shape shown in FIG. 5 is formed. At the same time, from the portion surrounded by the four-side frame inside 21 in FIG. 5 (inner white portion) and the wiring extraction portion 23, “temporary support, thermoplasticity The laminate composed of the resin layer, intermediate layer, colored layer (black photosensitive layer) and protective film ”was removed. The cross-sectional shape at X2-X2 ′ in the transfer material having the shape shown in FIG. 5 after punching was the shape shown in FIG.
Next, using a vacuum laminator (V-SE340aaH manufactured by Climb Products Co., Ltd.), the PET film is 90 ° C. on an A4 large PET film (Lumirror (Toray) T60, 100 μm, total light transmittance 89%) as a base material. Warmed up. Next, the protective film 29 was peeled off from the transfer material using a tape to obtain the shape shown in FIG. Thereafter, the surface of the colored layer 24 exposed after peeling off the protective film 29 of the transfer material black 1 having the remaining region other than the region removed by punching and the surface of the PET film preheated at 90 ° C. They were overlaid and pasted with the laminator as shown in FIG.
Next, the temporary support 26 of the transfer material was removed using a thin blade razor to obtain the configuration of FIG. Thereafter, the entire surface is exposed with UV (i-line, 40 mJ) from the thermoplastic resin layer 27 side of the transfer material, and then the thermoplastic resin is used in the PD2 liquid used during shower development by measuring the film thickness and optical density of the transfer material black 1. The layer 27 and the intermediate layer 28 were removed, and subsequently washed with pure water, and the colored layer of the transfer material black 1 was transferred to the PET film, and the substrate with the black colored layer 24 in the shape of FIG. Material). The schematic view from the colored layer 24 (decorative layer 2) side of the obtained base material with a decorating material was the shape of FIG.
This was heated at 150 ° C. for 30 minutes (post-bake).
After that, by using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer corresponding to the dotted line part in FIG. A film with a black decorative material was obtained. FIG. 15 shows a normal view of the film with a decorative material black punched out of the frame from the decorative material 2 side. The shape of FIG. 15 is as follows: vertical width outside the frame: 100 mm, horizontal width outside the frame: 60 mm, upper frame width: 10 mm, lower frame width: 12 mm, left and right frame width: 3 mm, four corner radius: 6 mm, wiring take-out portion ( (Length × width): 3 × 5 mm.
The obtained black film with decorating material was used as the base material with decorating material of Example 1.
Note that the post-baking and punching to a desired shape outside the frame are not essential steps in the present invention.

［実施例２］
（ピンク）
実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料ピンクを用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料ピンクをＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材ピンク付きフィルムを得た。
得られた加飾材ピンク付きフィルムを、実施例２の加飾材付き基材とした。 [Example 2]
(pink)
The transfer material pink punched out in the same manner as in Example 1 except that transfer material pink was used instead of transfer material black 1 in Example 1, was transferred onto a PET film, and after UV exposure, the resin / intermediate layer was removed. After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. The film with the decorating material pink of FIG. 15 was obtained by punching out only.
The obtained film with decorating material pink was used as the base material with decorating material of Example 2.

［実施例３］
（白）
実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料白１を用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料白１をＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材白付きフィルムを得た。
得られた加飾材白付きフィルムを、実施例３の加飾材付き基材とした。 [Example 3]
(White)
Transfer material white 1 punched in the same manner as in Example 1 except that transfer material white 1 is used in place of transfer material black 1 in Example 1, and is transferred onto a PET film. After UV exposure, the resin / intermediate layer is removed. did. After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. By punching out only, the decorative material white film of FIG. 15 was obtained.
The obtained decorative material-whitened film was used as a base material with a decorative material of Example 3.

［実施例４］
（ピンク、灰色逐次）
実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料ピンクを用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料ピンクをＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。
その後、実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料ピンクを用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料灰色を転写材料ピンクの着色層の上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材ピンク／灰色付きフィルムを得た。
得られた加飾材ピンク／灰色付きフィルムを、実施例４の加飾材付き基材とした。 [Example 4]
(Pink, gray sequential)
The transfer material pink punched out in the same manner as in Example 1 except that transfer material pink was used instead of transfer material black 1 in Example 1, was transferred onto a PET film, and after UV exposure, the resin / intermediate layer was removed.
Thereafter, the transfer material gray stamped in the same manner as in Example 1 except that the transfer material pink is used instead of the transfer material black 1 in Example 1, is transferred onto the colored layer of the transfer material pink, and after UV exposure, the resin -The intermediate layer was removed. After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. By punching out only, the decorative material pink / gray film of FIG. 15 was obtained.
The obtained film with decorating material pink / gray was used as the base material with decorating material of Example 4.

［実施例５］
（ピンク、灰色一括）
実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料灰色／ピンクを用いる以外は実施例１と同様に、打ち抜いた転写材料灰色／ピンクをＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材ピンク／灰色付きフィルムを得た。
得られた加飾材ピンク／灰色付きフィルムを、実施例５の加飾材付き基材とした。 [Example 5]
(Pink, gray batch)
The punched transfer material gray / pink was transferred onto a PET film in the same manner as in Example 1 except that the transfer material gray / pink was used instead of the transfer material black 1 in Example 1, and after UV exposure, the resin / intermediate layer was transferred. Was removed. After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. By punching out only, the decorative material pink / gray film of FIG. 15 was obtained.
The obtained film with decorating material pink / gray was used as the base material with decorating material of Example 5.

［実施例６］
（白、灰色逐次：トムソン刃による打ちぬき実施例）
ダイカット装置（ＭＨＡ−３００、株式会社エム・シー・ケー製）に、転写材料が図１８の形に枠内部および配線取出し部を打ち抜ける様にトムソン刃を設置し、転写材料白１を打ち抜いた。
打ち抜いた転写材料を、ラミネート装置（Ｖ−ＳＥ３４０ａａＨ、クライムプロダクツ株式会社製）で、ガラス基板（基材）上に転写した。
次いで、高圧水銀灯でＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。
さらに、転写材料白１と同様にしてトムソン刃で転写材料灰色を、図１８の形に枠内部および配線取出し部を打ち抜いた。打ち抜いた転写材料灰色を転写材料白１の着色層の上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。
１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材白／灰色付きフィルムを得た。 [Example 6]
(White, gray sequential: Punching example with Thomson blade)
A Thomson blade was installed in a die-cutting device (MHA-300, manufactured by MCK Co., Ltd.) so that the transfer material was punched through the inside of the frame and the wire takeout portion in the shape of FIG. .
The punched transfer material was transferred onto a glass substrate (base material) with a laminating apparatus (V-SE340aaH, manufactured by Crime Products Co., Ltd.).
Next, after UV exposure with a high-pressure mercury lamp, the resin / intermediate layer was removed.
Further, in the same manner as the transfer material white 1, the transfer material gray was punched out with a Thomson blade in the shape of FIG. The punched transfer material gray was transferred onto the colored layer of the transfer material white 1, and after UV exposure, the resin / intermediate layer was removed.
After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. By punching out only, the decorative material white / gray film of FIG. 15 was obtained.

［実施例７］
（黒）
実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料黒２を用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料白をＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材黒付きフィルムを得た。
得られた加飾材黒付きフィルムを、実施例７の加飾材付き基材とした。 [Example 7]
(black)
The transfer material white punched out in the same manner as in Example 1 except that transfer material black 2 was used instead of transfer material black 1 in Example 1 was transferred onto a PET film, and after UV exposure, the resin / intermediate layer was removed. . After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. By punching out only, the black film with the decorative material of FIG. 15 was obtained.
The obtained film with a decorative material black was used as a base material with a decorative material of Example 7.

［実施例８］
（黒）
実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料黒３を用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料白をＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材黒付きフィルムを得た。
得られた加飾材黒付きフィルムを、実施例８の加飾材付き基材とした。 [Example 8]
(black)
The transfer material white punched out in the same manner as in Example 1 except that transfer material black 3 was used instead of transfer material black 1 in Example 1 was transferred onto a PET film, and after UV exposure, the resin / intermediate layer was removed. . After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. By punching out only, the black film with the decorative material of FIG. 15 was obtained.
The obtained film with a decorative material black was used as a base material with a decorative material of Example 8.

［実施例９］
（赤、白、灰色逐次）
実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料赤を用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料ピンクをＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。
その後、実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料白２を用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料灰色を転写材料赤の着色層の上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。
その後、実施例１において転写材料黒１の代わりに転写材料灰色を用いる以外は実施例１と同様にして打ち抜いた転写材料灰色を転写材料白２の着色層の上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。１５０℃３０分加熱した後、更に、ＣＯ2レーザーカッター（上記）を用い、実施例１と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材赤／白／灰色付きフィルムを得た。
得られた加飾材赤／白／灰色付きフィルムを、実施例９の加飾材付き基材とした。 [Example 9]
(Red, white, gray sequential)
The transfer material pink punched out in the same manner as in Example 1 except that the transfer material red was used in place of the transfer material black 1 in Example 1, was transferred onto a PET film, and the resin / intermediate layer was removed after UV exposure.
Thereafter, the transfer material gray punched in the same manner as in Example 1 except that the transfer material white 2 was used instead of the transfer material black 1 in Example 1, was transferred onto the colored layer of the transfer material red, and after UV exposure, The resin / intermediate layer was removed.
Thereafter, the transfer material gray stamped in the same manner as in Example 1 except that the transfer material gray is used instead of the transfer material black 1 in Example 1, is transferred onto the colored layer of the transfer material white 2, and after UV exposure, The resin / intermediate layer was removed. After heating at 150 ° C. for 30 minutes, using a CO 2 laser cutter (above), the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer so as to have the shape of FIG. 15 as in Example 1. By punching out only, the decorative material red / white / grey attached film of FIG. 15 was obtained.
The obtained film with decorating material red / white / gray was used as the base material with decorating material of Example 9.

［実施例１０］
（緑、白、灰色逐次）
実施例９において転写材料赤の代わりに転写材料緑を用いる以外は実施例９と同様にして打ち抜いた転写材料ピンクをＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。
その後、実施例９と同様にして、転写材料緑の緑色の着色層の上に、白色の着色層と灰色の着色層を逐次積層し、実施例９と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材緑／白／灰色付きフィルムを得た。
得られた加飾材緑／白／灰色付きフィルムを、実施例１０の加飾材付き基材とした。 [Example 10]
(Green, white, gray sequential)
The transfer material pink punched in the same manner as in Example 9 except that the transfer material green was used instead of the transfer material red in Example 9, was transferred onto a PET film, and after UV exposure, the resin / intermediate layer was removed.
Thereafter, in the same manner as in Example 9, a white colored layer and a gray colored layer are sequentially laminated on the green colored layer of the transfer material so that the shape shown in FIG. 15 is obtained in the same manner as in Example 9. By punching out only the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer, the green / white / grey-attached film of the decorating material of FIG. 15 was obtained.
The obtained film with decorating material green / white / gray was used as the base material with decorating material of Example 10.

［実施例１１］
（青、白、灰色逐次）
実施例９において転写材料赤の代わりに転写材料青を用いる以外は実施例９と同様にして打ち抜いた転写材料ピンクをＰＥＴフィルム上に転写し、ＵＶ露光後、樹脂・中間層を除去した。
その後、実施例９と同様にして、転写材料青の青色の着色層の上に、白色の着色層と灰色の着色層を逐次積層し、実施例９と同様にして図１５の形状となるようにＰＥＴフィルムと着色層の積層体の枠外部（外周部）のみを打ち抜くことで、図１５の加飾材青／白／灰色付きフィルムを得た。
得られた加飾材青／白／灰色付きフィルムを、実施例１１の加飾材付き基材とした。 [Example 11]
(Blue, white, gray sequentially)
The transfer material pink punched out in the same manner as in Example 9 except that the transfer material blue was used instead of the transfer material red in Example 9, was transferred onto a PET film, and the resin / intermediate layer was removed after UV exposure.
Thereafter, in the same manner as in Example 9, a white colored layer and a gray colored layer are sequentially laminated on the blue colored layer of the transfer material blue so that the shape shown in FIG. 15 is obtained in the same manner as in Example 9. By punching out only the outside of the frame (outer peripheral part) of the laminate of the PET film and the colored layer, a film with a decorative material blue / white / grey in FIG. 15 was obtained.
The obtained film with decorating material blue / white / gray was used as the base material with decorating material of Example 11.

［比較例１］
（白（スクリーン印刷））
スクリーン印刷機（ＤＰ−３２０、ニューロング精密工業株式会社製）に、２５メッシュのマスクで図１５の型を作製、設置し、ガラス基板（基材）上に上記にて調製した白塗布液のスクリーン印刷を行った。
得られた加飾材白付きガラス基板を、比較例１の加飾材付き基材とした。 [Comparative Example 1]
(White (screen printing))
The mold shown in FIG. 15 was prepared with a 25 mesh mask on a screen printer (DP-320, manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd.), and the white coating solution prepared above was applied to the glass substrate (base material). Screen printing was performed.
The obtained white glass substrate with a decorative material was used as a base material with a decorative material of Comparative Example 1.

［比較例２］
（白、灰色逐次（スクリーン印刷））
スクリーン印刷機（ＤＰ−３２０、ニューロング精密工業株式会社製）に、２５メッシュのマスクで図１５に相当する形状の型を作製、設置し、ガラス基板上に上記にて調製した白塗布液のスクリーン印刷を行った。
その後、スクリーン印刷された型の上に、さらに上記にて調製した灰色塗布液のスクリーン印刷を行った。
得られた加飾材白／灰色付きガラス基板を、比較例２の加飾材付き基材とした。 [Comparative Example 2]
(White, gray sequential (screen printing))
On a screen printing machine (DP-320, manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd.), a mold having a shape corresponding to FIG. 15 was prepared and placed with a 25 mesh mask, and the white coating solution prepared above was applied to a glass substrate. Screen printing was performed.
Thereafter, the gray coating liquid prepared above was further screen-printed on the screen-printed mold.
The obtained decorative white / gray glass substrate was used as a base material with a decorative material of Comparative Example 2.

＜評価＞
上記で得た加飾材付き基材（各実施例加飾材付きフィルムおよび各比較例１の加飾材付きガラス基板）の特性の評価方法を以下に示す。
また、得られた結果を下記表２にそれぞれ記載した。 <Evaluation>
The evaluation method of the characteristic of the base material with a decorating material obtained above (the film with a decorating material in each example and the glass substrate with a decorating material in each comparative example 1) is shown below.
The obtained results are shown in Table 2 below.

（色度）
上記で作製した各実施例および比較例の加飾材付き基材の色度は測色計（ＣＭ−７００ｄ、コニカミノルタセンシング株式会社製、ＳＣＩモード、Ｄ６５光源、１０°測定）で測定を行った。 (Chromaticity)
The chromaticity of the base material with a decorating material of each Example and Comparative Example prepared above is measured with a colorimeter (CM-700d, manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd., SCI mode, D65 light source, 10 ° measurement). It was.

（クロスカット（密着性））
上記で作製した各実施例および比較例の加飾材付き基材の基材と加飾材との間の密着性をクロスカット試験(ＪＩＳ Ｋ５６００に順ずる。但し、マスは１００マスで行う)によって評価した。
１００マス中で剥離した加飾材のマス数の割合を下記表２に記載した。 (Cross cut (adhesion))
The cross-cut test (according to JIS K5600. However, the mass is 100 squares) between the base material and the decorative material of the base material with the decorative material of each example and comparative example prepared above. Evaluated by.
Table 2 shows the ratio of the number of squares of the decorating material peeled in 100 squares.

（鉛筆硬度（膜強度））
上記で作製した各実施例および比較例の加飾材付き基材の膜強度を鉛筆硬度試験（ＪＩＳ Ｋ５６００に順ずる）によって評価した。 (Pencil hardness (film strength))
The film strength of the base material with a decorating material of each Example and Comparative Example prepared above was evaluated by a pencil hardness test (according to JIS K5600).

（透け）
上記で作製した加飾材付き基材を、ｉＰａｄ（アップル社製）の初期画面上にのせ、加飾材の「透け」を観察した。具体的な観察方法を以下に示す。
ｉＰａｄ画面上に、白色上に文字を作成し、その上に加飾材を載せ、加飾材上で文字の影が見られるか、評価する。
加飾材の上から目視にて観察したときに文字の影が透けて観察されるか、観察されないかについて、下記表２に記載した。 (Transparent)
The base material with a decorating material produced above was put on the initial screen of iPad (manufactured by Apple), and the “transparent” of the decorating material was observed. A specific observation method is shown below.
A character is created on white on the iPad screen, a decorative material is placed thereon, and it is evaluated whether a shadow of the character is seen on the decorative material.
Table 2 below shows whether the shadows of the characters are observed through the decorative material when visually observed or not.

（直線性）
図１５の形状として得られた加飾材付き基材の加飾材について、枠内部の（内側の）直線性を、１ｍｍあたりの凹凸の数で評価した。なお、凹凸は、凹部と凸部の高さの差が６０μｍ以上あるものを対象として数える。測定は、図１５の上部の枠内部、中央部分について行った。
図１９：実施例３の直線部を拡大したものである。
図２０：比較例２の直線部を拡大したものである。また、直線性の評価方法及び結果を略記したものである。 (Linearity)
About the decorating material of the base material with a decorating material obtained as the shape of FIG. 15, the (inner) linearity inside the frame was evaluated by the number of irregularities per 1 mm. In addition, unevenness | corrugation is counted for the thing with the difference of the height of a recessed part and a convex part being 60 micrometers or more. The measurement was performed on the inside and center of the upper frame in FIG.
FIG. 19: An enlarged view of the straight line portion of Example 3.
FIG. 20 is an enlarged view of the straight line portion of Comparative Example 2. Moreover, the evaluation method and result of linearity are abbreviated.

上記表２より、本発明の製造方法で製造された各実施例の加飾材付き基材は、加飾材の枠内部の直線性が高いことがわかった。
一方、スクリーン印刷で製造された比較例１および２の加飾材付き基材は、いずれも加飾材の枠内部の直線性が悪いことがわかった。 From the said Table 2, it turned out that the linearity inside the frame of a decorating material is high for the base material with a decorating material of each Example manufactured with the manufacturing method of this invention.
On the other hand, it was found that the substrates with the decorating materials of Comparative Examples 1 and 2 produced by screen printing had poor linearity inside the decorating material frame.

［実施例１０１］
＜基材の変更（実施例）＞
（導電性ＰＥＴフィルムへの転写）
導電性ＰＥＴとして、導電性層（銀ナノワイヤ、カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション）を特表２００９−５０５３５８号公報の例１の記載にしたがって調製し、ルミラー（東レ）Ｔ６０、１００μｍの上に積層したものを作製した。得られた導電性ＰＥＴの全光透過率は９１％であった。
得られた導電性ＰＥＴの導電層側に、転写材料黒１を転写した以外は実施例１と同様にして、加飾材付きフィルムを製造した。
出来上がった実施例１０１の加飾材付きフィルムは、ＰＥＴ上に作製した実施例１のものと変わりないものであった。 [Example 101]
<Change of base material (Example)>
(Transfer to conductive PET film)
As the conductive PET, a conductive layer (silver nanowire, Cambrios Technologies Corporation) was prepared in accordance with the description in Example 1 of JP-T-2009-505358, and a laminate formed on Lumirror (Toray) T60, 100 μm was produced. . The total light transmittance of the obtained conductive PET was 91%.
A film with a decorating material was produced in the same manner as in Example 1 except that the transfer material black 1 was transferred to the conductive layer side of the obtained conductive PET.
The completed film with a decorating material of Example 101 was the same as that of Example 1 produced on PET.

［実施例１０２］
（ＰＣフィルムへの転写）
ＰＣ（パンライト（帝人）、ＰＣ−２１５１、１２５μｍ、全光透過率８６％）に、転写材料黒１を転写した以外は実施例１と同様にして、加飾材付きフィルムを製造した。
出来上がった実施例１０２の加飾材付きフィルムは、ＰＥＴ上に作製した実施例１のものと変わりないものであった。 [Example 102]
(Transfer to PC film)
A film with a decorating material was produced in the same manner as in Example 1 except that the transfer material black 1 was transferred to PC (Panlite (Teijin), PC-2151, 125 μm, total light transmittance 86%).
The finished film with a decorating material of Example 102 was the same as that of Example 1 produced on PET.

［実施例１０３］
（ＴＡＣ防眩性フィルムへの転写）
ＴＡＣ（ＣＶフィルム（富士フイルム）防眩層、ＣＶ付き、ＣＶ ＬＵ３、８０μｍ、全光透過率９０％）の防眩層と反対側に、転写材料黒１を転写した以外は実施例１と同様にして、加飾材付きフィルムを製造した。
出来上がった実施例１０３の加飾材付きフィルムは、ＰＥＴ上に作製したものと変わりないものであった。 [Example 103]
(Transfer to TAC antiglare film)
Example 1 except that the transfer material black 1 was transferred to the side opposite to the antiglare layer of TAC (CV film (Fujifilm) antiglare layer, with CV, CV LU3, 80 μm, total light transmittance 90%) Thus, a film with a decorating material was produced.
The finished film with a decorating material of Example 103 was the same as that produced on PET.

［実施例１０４］
（ＣＯＰフィルムへの転写）
ＣＯＰ（ゼオノア（日本ゼオン）、ＸＦ１４−１００、１００μｍ、全光透過率９０％）に、転写材料黒１を転写した以外は実施例１と同様にして、加飾材付きフィルムを製造した。
出来上がった実施例１０４の加飾材付きフィルムは、ＰＥＴ上に作製した実施例１のものと変わりないものであった。 [Example 104]
(Transfer to COP film)
A film with a decorating material was produced in the same manner as in Example 1 except that the transfer material black 1 was transferred to COP (Zeonor (Nippon Zeon), XF14-100, 100 μm, total light transmittance 90%).
The finished film with a decorating material of Example 104 was the same as that of Example 1 produced on PET.

［実施例２０１］
＜転写材料黒２０１の製造方法（中間層無しの実施例）＞
仮支持体としてＰＥＴ（膜厚７５μｍ）を準備し、その上に黒塗布液１を塗布し、転写材料黒２０１を得た（熱可塑性樹脂層と中間層と保護剥離層を積層せず）。これをガラス基板（基材）上に転写し、１５０℃で３０分加熱した。出来上がったものの膜厚は、２．０μｍ、光学濃度は４．０であった。
転写材料黒２０１を、全面露光及び洗浄するほかは、実施例１と同じ操作を行い、実施例２０１の加飾材黒２０１付きフィルムを得た。
出来上がった実施例２０１の加飾材付き基材は、熱可塑性樹脂層と中間層を有する転写材料黒１を用いた実施例１の加飾材付き基材の場合と変わりないものであった。 [Example 201]
<Method for Producing Transfer Material Black 201 (Example without Intermediate Layer)>
PET (film thickness 75 μm) was prepared as a temporary support, and the black coating liquid 1 was applied thereon to obtain a transfer material black 201 (the thermoplastic resin layer, the intermediate layer, and the protective release layer were not laminated). This was transferred onto a glass substrate (base material) and heated at 150 ° C. for 30 minutes. The finished product had a film thickness of 2.0 μm and an optical density of 4.0.
The transfer material black 201 was subjected to the same operation as in Example 1 except that the entire surface was exposed and washed to obtain a film with the decorative material black 201 of Example 201.
The finished base material with a decorating material of Example 201 was the same as the base material with the decorating material of Example 1 using the transfer material black 1 having a thermoplastic resin layer and an intermediate layer.

［調製例３０１］
まず、以下の顔料分散物を調製した。 [Preparation Example 301]
First, the following pigment dispersion was prepared.

（透明樹脂層用樹脂組成物Ｈ１）
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート ・・・・・５９９部
・メチルエチルケトン ・・・・・２３８部
・ソルスパース２００００（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ製） ・・・・１．８８部
・ポリマー４５％溶液（特開２００８−１４６０１８公報の段落番号［００５８］に記載の構造式Ｐ−２５：重量平均分子量＝３．５万、固形分４５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート１５％、１−メトキシ−２−プロパノール４０％）［透明バインダー樹脂］ ・・・・・１１４部
・重合性化合物の混合物：ＤＰＨＡ液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：４８％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：２８％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２４％）［（Ｂ）一般式（ｂ１）で表される重合性化合物］
・・・・１６．３部
・下記重合性化合物の混合物（ｎ＝１：トリペンタエリスリトールオクタアクリレート含有率８５％、不純物としてｎ＝２及びｎ＝３の合計が１５％）［（Ｂ）一般式（ｂ２−１）で表される重合性化合物］
（上記式（ｂ２−１）中、Ｘはすべてアクリロイル基であり、ｎ＝１〜３の上記の比率の混合物である。） ・・・２０．５部
・ウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ 新中村化学（株）製：不揮発分７５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２５％）［（Ｂ−２）その他の重合性化合物］ ・・・・７．７２部
・２，４−ビス−（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン［（Ｃ）光重合開始剤］
・・・・１．２７部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール［（Ｃ）光重合開始剤］ ・・・０．６３５部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル［重合禁止剤］ ・・・０．０７２部
・メガファックＦ−７８４−Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）［界面活性剤］
・・・・０．５１部 (Resin composition H1 for transparent resin layer)
1-methoxy-2-propyl acetate 599 parts Methyl ethyl ketone 238 parts Solsperse 20000 (manufactured by Lubrizol) 1.88 parts Polymer 45% solution (JP 2008- Structural formula P-25 described in paragraph No. [0058] of the 146018 publication: weight average molecular weight = 35,000, solid content 45%, 1-methoxy-2-propyl acetate 15%, 1-methoxy-2-propanol 40 %) [Transparent binder resin] ...... 114 parts / polymerizable compound mixture: DPHA solution (dipentaerythritol hexaacrylate: 48%, dipentaerythritol pentaacrylate: 28%, 1-methoxy-2-propyl acetate : 24%) [(B) polymerizable compound represented by formula (b1)]
··· 16.3 parts · Mixture of the following polymerizable compounds (n = 1: tripentaerythritol octaacrylate content: 85%, n = 2 and n = 3 as impurities total 15%) [(B) General Polymerizable compound represented by formula (b2-1)]
(In the above formula (b2-1), all X is an acryloyl group and is a mixture having the above ratio of n = 1-3.) 20.5 parts Urethane monomer (NK oligo UA-32P Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: non-volatile content 75%, 1-methoxy-2-propyl acetate: 25%) [(B-2) Other polymerizable compounds] Bis- (trichloromethyl) -6- [4- (N, N-diethoxycarbonylmethylamino) -3-bromophenyl] -s-triazine [(C) photopolymerization initiator]
··· 1.27 parts · 2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole [(C) photopolymerization initiator] · · · 0.635 parts · hydroquinone Monomethyl ether [polymerization inhibitor]... 0.072 parts, Megafac F-784-F (manufactured by DIC Corporation) [Surfactant]
.... 0.51 parts

［調製例３０２］
（透明樹脂層用樹脂組成物Ｈ２）
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート ・・・・・５９９部
・メチルエチルケトン ・・・・・２３８部
・ソルスパース２００００（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ製） ・・・・１．８８部
・ポリマー４５％溶液（特開２００８−１４６０１８公報の段落番号［００５８］に記載の構造式Ｐ−２５：重量平均分子量＝３．５万、固形分４５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート１５％、１−メトキシ−２−プロパノール４０％）［透明バインダー樹脂］ ・・・・・１１４部
・重合性化合物の混合物：ＤＰＨＡ液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：４８％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：２８％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２４％）［（Ｂ）一般式（ｂ１）で表される重合性化合物］
・・・・１６．３部
・下記重合性化合物の混合物（ｎ＝１：トリペンタエリスリトールオクタアクリレート含有率８５％、不純物としてｎ＝２及びｎ＝３の合計が１５％）［（Ｂ）一般式（ｂ２−１）で表される重合性化合物］
（上記式（ｂ２−１）中、Ｘはすべてアクリロイル基であり、ｎ＝１〜３の上記の比率の混合物である。） ・・・２０．５部
・ウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ 新中村化学（株）製：不揮発分７５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２５％）［（Ｂ−２）その他の重合性化合物］ ・・・・７．７２部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール［（Ｃ）光重合開始剤］ ・・・０．６３５部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル［重合禁止剤］ ・・・０．０７２部
・メガファックＦ−７８４−Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）［界面活性剤］
・・・・０．５１部 [Preparation Example 302]
(Resin composition H2 for transparent resin layer)
1-methoxy-2-propyl acetate 599 parts Methyl ethyl ketone 238 parts Solsperse 20000 (manufactured by Lubrizol) 1.88 parts Polymer 45% solution (JP 2008- Structural formula P-25 described in paragraph No. [0058] of the 146018 publication: weight average molecular weight = 35,000, solid content 45%, 1-methoxy-2-propyl acetate 15%, 1-methoxy-2-propanol 40 %) [Transparent binder resin] ...... 114 parts / polymerizable compound mixture: DPHA solution (dipentaerythritol hexaacrylate: 48%, dipentaerythritol pentaacrylate: 28%, 1-methoxy-2-propyl acetate : 24%) [(B) polymerizable compound represented by formula (b1)]
··· 16.3 parts · Mixture of the following polymerizable compounds (n = 1: tripentaerythritol octaacrylate content: 85%, n = 2 and n = 3 as impurities total 15%) [(B) General Polymerizable compound represented by formula (b2-1)]
(In the above formula (b2-1), all X is an acryloyl group and is a mixture having the above ratio of n = 1-3.) 20.5 parts Urethane monomer (NK oligo UA-32P Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: non-volatile content 75%, 1-methoxy-2-propylacetate: 25%) [(B-2) Other polymerizable compounds] ... 7.72 parts 2-trichloromethyl -5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole [(C) photopolymerization initiator]... 0.635 parts hydroquinone monomethyl ether [polymerization inhibitor]. -Megafac F-784-F (manufactured by DIC Corporation) [Surfactant]
.... 0.51 parts

［調製例３０３］
（熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ａ）
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝５５／１１．７／４．５／２８．８［ｍｏｌ比］、重量平均分子量９０，０００） ・・・・５８．４部
・スチレン／アクリル酸共重合体（＝６３／３７［ｍｏｌ比］、重量平均分子量８，０００） ・・・・・１３６部
・２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパン
・・・・９０．７部
・界面活性剤１（下記組成） ・・・・・５．４部
・メタノール ・・・・・１１１部
・１−メトキシ−２−プロパノール ・・・・６３．４部
・メチルエチルケトン ・・・・・５３４部 [Preparation Example 303]
(Formulation A of coating solution for thermoplastic resin layer)
Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (= 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8 [mol ratio], weight average molecular weight 90,000) 4 parts · Styrene / acrylic acid copolymer (= 63/37 [mol ratio], weight average molecular weight 8,000) ··· 136 parts · 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl 〕propane
··· 90.7 parts · Surfactant 1 (composition below) · · · 5.4 parts · Methanol ··· 111 parts · 1-methoxy-2-propanol ··· 63.4 / Methyl ethyl ketone ...... 534 parts

・界面活性剤１の組成
−下記構造物１ ・・・・・・３０％
−メチルエチルケトン ・・・・・・７０％
-Composition of surfactant 1-Structure 1 below-30%
-Methyl ethyl ketone 70%

［調製例３０３］
（中間層用塗布液の処方Ｂ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２０５、鹸化度８８％、（株）クラレ製）
・・・・３．２２部
・ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン株式会社製）
・・・・１．４９部
・メタノール ・・・・４２．９部
・蒸留水 ・・・・５２．４部 [Preparation Example 303]
(Prescription B of coating solution for intermediate layer)
Polyvinyl alcohol (PVA-205, saponification degree 88%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
・ ・ ・ ・ 3.22 parts ・ Polyvinylpyrrolidone (PVP K-30, manufactured by IS Japan Co., Ltd.)
・ ・ ・ ・ 1.49 parts ・ Methanol ・ ・ ・ ・ 42.9 parts ・ Distilled water ・ ・ ・ ・ 52.4 parts

［作製例３０１］
＜転写材料１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ａを塗布、乾燥させた。次に、中間層用塗布液の処方Ｂを塗布、乾燥させた。更に、透明樹脂層用樹脂組成物Ｈ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が１０μｍの透明樹脂層を設け、最後に保護剥離層として保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と透明樹脂層および保護剥離層とが一体となった転写材料を作製し、サンプル名を転写材料１とした。
なお、転写材料３０１の構成は、図３に示す構成である。 [Production Example 301]
<Preparation of transfer material 1>
On a 75 μm-thick polyethylene terephthalate film (PET) temporary support, Formulation A of a coating solution for a thermoplastic resin layer was applied and dried using a slit nozzle. Next, Formula B of the intermediate layer coating solution was applied and dried. Furthermore, the resin composition H1 for transparent resin layers was applied and dried. In this way, a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 15.1 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a transparent resin layer having a dry film thickness of 10 μm are provided on the temporary support. A protective film (12 μm thick polypropylene film) was pressure-bonded as a protective release layer. In this way, a transfer material in which the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer (oxygen barrier film), the transparent resin layer, and the protective release layer were integrated was prepared.
The structure of the transfer material 301 is the structure shown in FIG.

［作製例３０２］
作製例３０１において、透明樹脂層の厚みを５μｍとした以外は作製例３０１と同様にして、転写材料２を製造した。 [Production Example 302]
A transfer material 2 was produced in the same manner as in Production Example 301 except that the thickness of the transparent resin layer was changed to 5 μm in Production Example 301.

［作製例３０３］
作製例３０１において、透明樹脂層の厚みを３０μｍとした以外は作製例３０１と同様にして、転写材料３を製造した。 [Production Example 303]
A transfer material 3 was produced in the same manner as in Production Example 301 except that the thickness of the transparent resin layer was 30 μm in Production Example 301.

［作製例３０４］
作製例３０１において、７５μｍＰＥＴに直接処方Ｈ１を塗布して、乾燥膜厚が２０μｍの透明樹脂層を設けた以外は作製例３０１と同様にして、転写材料４を製造した。 [Production Example 304]
A transfer material 4 was produced in the same manner as in Production Example 301 except that the formulation H1 was directly applied to 75 μm PET and a transparent resin layer having a dry film thickness of 20 μm was provided.

［作製例３０５］
作製例３０４において、透明樹脂層の厚みを５μｍとした以外は作製例３０４と同様にして、転写材料５を製造した。 [Production Example 305]
A transfer material 5 was produced in the same manner as in Production Example 304 except that the thickness of the transparent resin layer was changed to 5 μm in Production Example 304.

［作製例３０６］
作製例３０１において、透明樹脂層用樹脂組成物Ｈ２を用いた以外は作製例３０１と同様にして、転写材料６を製造した。 [Production Example 306]
A transfer material 6 was produced in the same manner as in Production Example 301 except that the resin composition H2 for transparent resin layer was used in Production Example 301.

［作製例３０７］
作製例３０４において、透明樹脂層用樹脂組成物Ｈ２を用いた以外は作製例３０４と同様にして、転写材料７を製造した。 [Production Example 307]
A transfer material 7 was produced in the same manner as in Production Example 304 except that the resin composition H2 for transparent resin layer was used in Production Example 304.

＜転写材料の光透過性測定＞
（転写材料１の膜厚および光学濃度の測定）
基材として用いる無アルカリガラス基板（厚み０．７ｍｍ）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板（基材）を基材予備加熱装置で１００℃２分加熱した。得られたシランカップリング処理ガラス基板（基材）に、作製例３０１の製法にて作製された転写材料１からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した透明樹脂層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板（基材）の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した基板（基材）に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板（基材）を垂直に立てた状態で、露光面と透明樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2で露光した。 <Measurement of light transmittance of transfer material>
(Measurement of film thickness and optical density of transfer material 1)
A non-alkali glass substrate (thickness 0.7 mm) used as a base material is washed with a rotating brush having nylon hair while spraying a glass detergent solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds with a shower, and after washing with pure water, a silane cup A ring solution (0.3% by mass aqueous solution of N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed for 20 seconds with a shower and washed with pure water. This substrate (base material) was heated at 100 ° C. for 2 minutes with a base material preheating device. The cover film is removed from the transfer material 1 produced by the production method of Production Example 301 on the obtained silane coupling-treated glass substrate (base material), and the surface of the transparent resin layer exposed after the removal and the silane coupling treatment The glass substrate (base material) is laminated so that the surface is in contact with the substrate (base material) heated at 100 ° C. for 2 minutes using a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd. (Lamic II type)). Lamination was performed at a roller temperature of 130 ° C., a linear pressure of 100 N / cm, and a conveyance speed of 2.2 m / min. Subsequently, the polyethylene terephthalate temporary support was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the temporary support. After peeling off the temporary support, with a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp, with the substrate (base material) standing vertically, between the exposure surface and the transparent resin layer The distance was set to 200 μm, and exposure was performed with an exposure amount of 70 mJ / cm 2 .

次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で２０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基板（基材）の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板（基材）上の液だまりを減らした。   Next, a triethanolamine developer (containing 30% by mass of triethanolamine, trade name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) 12 times with pure water (1 part of T-PD2 and 11 parts of pure water) The mixture was diluted at 30 ° C. for 20 seconds at a flat nozzle pressure of 0.1 MPa to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer. Subsequently, after air was blown off on the upper surface of the glass substrate (base material), pure water was sprayed for 10 seconds by a shower, pure water shower washing was performed, and air was blown to remove a liquid pool on the substrate (base material). Reduced.

その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ−ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、３０秒現像し、純水で洗浄した。   Thereafter, a sodium carbonate / sodium hydrogencarbonate developer (trade name: T-CD1 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.)) is added five times with pure water (mixed in a ratio of 1 part of T-CD1 and 4 parts of pure water). The shower pressure was set to 0.1 MPa at 30 ° C. using a diluted solution), developed for 30 seconds, and washed with pure water.

引き続き、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．１ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、更にやわらかいナイロン毛を有する回転ブラシにより、形成された膜を擦って残渣除去を行った。さらに、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で超純水を噴射して残渣除去を行い、所望の膜を得た。   Subsequently, using a surfactant-containing cleaning solution (trade name: T-SD3 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) diluted 10-fold with pure water) at 33 ° C. for 20 seconds, cone-type nozzle pressure of 0.1 MPa The residue was removed by rubbing the formed film with a rotating brush having soft nylon bristles. Furthermore, ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultrahigh pressure washing nozzle to remove residues, and a desired film was obtained.

次いで、得た膜をガラス基板（基材）ごと、１５０℃、３０分加熱処理したものに付いて、膜厚と４００ｎｍの光透過率を測定した。
結果を以下の表３に示す。
膜厚測定は、テンコールインストルメンツ社製 Ｐ−１０を用いて行った。
光透過率は、日本分光ＵＶ２０００を用いて行った。 Next, the film obtained and the glass substrate (base material) were heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes, and the film thickness and the light transmittance at 400 nm were measured.
The results are shown in Table 3 below.
The film thickness was measured using P-10 manufactured by Tencor Instruments.
The light transmittance was measured using JASCO UV2000.

（その他の転写材料の膜厚および光透過性の測定）
転写材料１の代わりに、作製例３０４，３０５，３０７以外は上記の方法と同様にして、転写材料の膜厚および光透過性の測定を行った。得られた結果を下記表１に示す。
また、作製例３０４，３０５，３０７はＴ−ＰＤ２現像液処理を実施しない以外は実施例３０１と同様にして、転写材料の膜厚および光透過性の測定を行った。得られた結果を下記表３に示す。 (Measurement of film thickness and light transmission of other transfer materials)
Instead of the transfer material 1, the thickness of the transfer material and the light transmittance were measured in the same manner as in the above method except for Production Examples 304, 305, and 307. The obtained results are shown in Table 1 below.
In addition, in Production Examples 304, 305, and 307, the film thickness and light transmittance of the transfer material were measured in the same manner as in Example 301 except that the T-PD2 developer treatment was not performed. The obtained results are shown in Table 3 below.

［実施例３０１］
＜転写材料の打ち抜き／ラミネート／樹脂・中間層除去／試料完成＞
Ａ４大の転写材１（図１にその一部を拡大した概略図を示し、図３に図１のＸ１−Ｘ１’での断面の概略図を示す）を、ＣＯ2レーザーカッター（クライムプロダクツ株式会社製 Ｌ−ＣＰＮＣ５５０）を用い、打ち抜かれた後に図２１の直線部分を有する枠内部２１の形状が形成されるように、図１に示した転写材料１の点線部分を、保護フィルム側から保護フィルム、透明樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層および仮支持体をすべて貫通させて、枠内部を残して枠外部を打ち抜いた。この打ち抜きにより、図５の形状の転写材料が形成され、同時に図２１における４辺の枠内部２１で囲まれた以外の部分（外側の白色部分）から、「仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、透明樹脂層および保護フィルム」からなる積層体が取り除かれた。打ち抜き後の図２１に示した形状の転写材料における、Ｘ２−Ｘ２’での断面形状は、図２３の形状であった。
次に、真空ラミネーター（クライムプロダクツ株式会社製 Ｖ−ＳＥ３４０ａａＨ）を用い、基材であるＡ４大のガラス、厚み１．１ｍｍ、線幅２０μｍのＩＴＯ導電膜をパターニングした基板を９０℃に暖めた。次に、転写材料から、テープを用いて保護フィルム２９を剥離し、図２４の形状とした。その後、上記で打ち抜いて取り除かれた領域以外の、残りの領域を有する転写材料１の保護フィルム２９を剥離後に露出した透明樹脂層２４の表面と前記９０℃で予備加熱したＩＴＯ付ガラス基板の表面とを重ね合わせ、上記ラミネータで図２６のように貼り付けた。
次に、転写材料の仮支持体２６を薄刃カミソリを用いて除去し、図２７の構成とした。その後、転写材料の熱可塑性樹脂層２７側よりＵＶ（ｉ線、４０ｍＪ）で全面露光した後、上記転写材料１の膜厚および光学濃度の測定でシャワー現像時に用いたＰＤ２液で熱可塑性樹脂層２７と中間層２８を除去し、引き続き純水で洗浄し、転写材料１の透明樹脂層をＰＥＴフィルムに転写した、図２８の形状の透明保護層付き基材（透明樹脂層２４由来の透明保護層７付き基材）を得た。得られた透明保護層付き基材の、透明樹脂層２４由来の透明保護層（透明保護層７）側からの概略図は図２９の形状であった。
これを１５０℃３０分加熱した（ポストベーク）。
得られた透明保護層付き基材を、実施例３０１の透明保護層付き基材とした。 [Example 301]
<Punching of transfer material / laminate / resin / intermediate layer removal / sample completion>
A4 large transfer material 1 (FIG. 1 shows an enlarged schematic view of a part thereof, FIG. 3 shows a schematic view of a cross section at X1-X1 ′ of FIG. 1), CO 2 laser cutter (Climb Products Co., Ltd.) L-CPNC550) manufactured by the company is used to protect the dotted line portion of the transfer material 1 shown in FIG. 1 from the protective film side so that the shape of the frame interior 21 having the straight portion of FIG. The film, transparent resin layer, intermediate layer, thermoplastic resin layer, and temporary support were all penetrated, and the outside of the frame was punched out leaving the inside of the frame. By this punching, a transfer material having the shape shown in FIG. 5 is formed. At the same time, a portion other than the portion surrounded by the inner side 21 of the four sides in FIG. The laminate composed of “intermediate layer, transparent resin layer and protective film” was removed. The cross-sectional shape at X2-X2 ′ in the transfer material having the shape shown in FIG. 21 after punching was the shape shown in FIG.
Next, using a vacuum laminator (V-SE340aaH manufactured by Climb Products Co., Ltd.), a substrate on which an A4 large glass as a base material, an ITO conductive film having a thickness of 1.1 mm and a line width of 20 μm was patterned was heated to 90 ° C. Next, the protective film 29 was peeled off from the transfer material using a tape to obtain the shape shown in FIG. Then, the surface of the transparent resin layer 24 exposed after peeling the protective film 29 of the transfer material 1 having the remaining region other than the region removed by punching and the surface of the glass substrate with ITO preheated at 90 ° C. And laminated with the laminator as shown in FIG.
Next, the temporary support 26 of the transfer material was removed using a thin blade razor to obtain the configuration of FIG. Thereafter, the entire surface is exposed with UV (i-line, 40 mJ) from the thermoplastic resin layer 27 side of the transfer material, and then the thermoplastic resin layer is used with the PD2 liquid used during shower development in the measurement of the film thickness and optical density of the transfer material 1. 27 and the intermediate layer 28 are removed, subsequently washed with pure water, and the transparent resin layer of the transfer material 1 is transferred to a PET film. The substrate with the transparent protective layer in the shape of FIG. 28 (transparent protection derived from the transparent resin layer 24) Substrate with layer 7) was obtained. The schematic view from the transparent protective layer (transparent protective layer 7) side derived from the transparent resin layer 24 of the obtained base material with a transparent protective layer was the shape of FIG.
This was heated at 150 ° C. for 30 minutes (post-bake).
The obtained substrate with a transparent protective layer was used as a substrate with a transparent protective layer in Example 301.

［実施例３０２］
実施例３０１において転写材料１の代わりに転写材料２を用いる以外は実施例３０１と同様にして透明保護層付き基材を得た。 [Example 302]
A substrate with a transparent protective layer was obtained in the same manner as in Example 301 except that the transfer material 2 was used instead of the transfer material 1 in Example 301.

［実施例３０３］
実施例３０１において転写材料１の代わりに転写材料３を用いる以外は実施例３０１と同様にして透明保護層付き基材を得た。 [Example 303]
A substrate with a transparent protective layer was obtained in the same manner as in Example 301 except that the transfer material 3 was used instead of the transfer material 1 in Example 301.

［実施例３０４］
実施例３０１において転写材料１の代わりに転写材料４を用い、Ｔ−ＰＤ２現像液処理を実施しない以外は実施例３０１と同様にして透明保護層付き基材を得た。
［実施例３０５］
実施例３０４において転写材料４の代わりに転写材料５を用いた以外は実施例３０４と同様にして透明保護層付き基材を得た。
［実施例３０６］
実施例３０１において転写材料１の代わりに転写材料６を用いる以外は実施例３０１と同様にして透明保護層付き基材を得た。
［実施例３０７］
実施例３０４において転写材料４の代わりに転写材料７を用いた以外は実施例３０４と同様にして透明保護層付き基材を得た。 [Example 304]
A substrate with a transparent protective layer was obtained in the same manner as in Example 301 except that the transfer material 4 was used instead of the transfer material 1 in Example 301 and the T-PD2 developer treatment was not performed.
[Example 305]
A substrate with a transparent protective layer was obtained in the same manner as in Example 304 except that the transfer material 5 was used instead of the transfer material 4 in Example 304.
[Example 306]
A substrate with a transparent protective layer was obtained in the same manner as in Example 301 except that the transfer material 6 was used instead of the transfer material 1 in Example 301.
[Example 307]
A substrate with a transparent protective layer was obtained in the same manner as in Example 304 except that the transfer material 7 was used instead of the transfer material 4 in Example 304.

［比較例３０１］
（スクリーン印刷）
スクリーン印刷機（ＤＰ−３２０、ニューロング精密工業株式会社製）に、２５メッシュのマスクで図２９の枠内部２１と同じ大きさの型を作製、設置し、ガラス基板（基材）上に上記にて調製した処方Ｈ１のスクリーン印刷を行ない、上記実施例と同じくＰＢを実施した。厚みは４．５μｍ、４００ｎｍ光透過率は９５％であった。
得られた基板を、比較例３０１の透明保護層付き基材とした。
＜評価＞
上記で得た透明保護層付き基材の特性の評価方法を以下に示す。
また、得られた結果を下記表４にそれぞれ記載した。 [Comparative Example 301]
(Screen printing)
On a screen printing machine (DP-320, manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd.), a mold having the same size as the inside 21 of the frame in FIG. Screen printing of the formulation H1 prepared in step 1 was performed, and PB was performed in the same manner as in the above example. The thickness was 4.5 μm and the light transmittance at 400 nm was 95%.
The obtained substrate was used as a base material with a transparent protective layer of Comparative Example 301.
<Evaluation>
The evaluation method of the characteristic of the base material with a transparent protective layer obtained above is shown below.
The obtained results are shown in Table 4 below.

（クロスカット（密着性））
上記で作製した各実施例および比較例の透明保護層付き基材の基材と透明保護層との間の密着性をクロスカット試験（ＪＩＳ Ｋ５６００に順ずる。但し、マスは１００マスで行う）によって評価した。
１００マス中で剥離した透明保護層のマス数の割合を下記表４に記載した。 (Cross cut (adhesion))
Cross-cut test (according to JIS K5600. However, the mass is 100 squares) for the adhesion between the transparent protective layer and the base material with the transparent protective layer of each Example and Comparative Example prepared above. Evaluated by.
The ratio of the number of the transparent protective layer cells peeled in 100 cells is shown in Table 4 below.

（鉛筆硬度（膜強度））
上記で作製した各実施例および比較例の透明保護層付き基材の膜強度を鉛筆硬度試験（ＪＩＳ Ｋ５６００に順ずる）によって評価した。 (Pencil hardness (film strength))
The film strength of the base material with transparent protective layer of each Example and Comparative Example prepared above was evaluated by a pencil hardness test (according to JIS K5600).

（直線性）
図２９の形状として得られた透明保護層付き基材の透明保護層について、透明保護層の外周部の（外側の）直線性を、１ｍｍあたりの凹凸の数で評価した。なお、凹凸は、凹部と凸部の高さの差が６０μｍ以上あるものを対象として数える。測定は、図２９の上部の枠内部２１、中央部分について行った。
図３１：実施例３０１の透明保護層の外周部の直線部を拡大した写真である。
図３２：比較例３０１の透明保護層の外周部の直線部を拡大した写真である。 (Linearity)
About the transparent protective layer of the base material with a transparent protective layer obtained as the shape of FIG. 29, the (outside) linearity of the outer peripheral part of the transparent protective layer was evaluated by the number of irregularities per 1 mm. In addition, unevenness | corrugation is counted for the thing with the difference of the height of a recessed part and a convex part being 60 micrometers or more. The measurement was performed on the inner part 21 and the central part of the upper frame in FIG.
FIG. 31 is an enlarged photograph of the linear portion of the outer peripheral portion of the transparent protective layer of Example 301.
FIG. 32 is an enlarged photograph of the linear portion of the outer peripheral portion of the transparent protective layer of Comparative Example 301.

上記表４より、本発明の製造方法で製造された各実施例の透明保護層付き基材は、透明保護層の外周部の直線性が高いことがわかった。
一方、スクリーン印刷で製造された比較例３０１の透明保護層付き基材は、いずれも透明保護層の外周部の直線性が悪いことがわかった。 From the said Table 4, it turned out that the base material with a transparent protective layer of each Example manufactured with the manufacturing method of this invention has the high linearity of the outer peripheral part of a transparent protective layer.
On the other hand, it turned out that all the base materials with a transparent protective layer of the comparative example 301 manufactured by screen printing have bad linearity of the outer peripheral part of a transparent protective layer.

［実施例４０１］
＜基材の変更（実施例）＞
（導電性ＰＥＴフィルムへの転写）
導電性ＰＥＴとして、導電性層（銀ナノワイヤ、カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション）を特表２００９−５０５３５８号公報の例１の記載にしたがって調製し、ルミラー（東レ）Ｔ６０、１００μｍの上に積層したものを作製した。得られた導電性ＰＥＴの全光透過率は９１％であった。
得られた導電性ＰＥＴの導電層側に、転写材料１を転写した以外は実施例３０１と同様にして、透明保護層付きフィルムを製造した。
出来上がった実施例４０１の透明保護層付きフィルムは、ＩＴＯ付ガラス上に作製した実施例３０１のものと変わりないものであった。 [Example 401]
<Change of base material (Example)>
(Transfer to conductive PET film)
As the conductive PET, a conductive layer (silver nanowire, Cambrios Technologies Corporation) was prepared in accordance with the description in Example 1 of JP-T-2009-505358, and a laminate formed on Lumirror (Toray) T60, 100 μm was produced. . The total light transmittance of the obtained conductive PET was 91%.
A film with a transparent protective layer was produced in the same manner as in Example 301 except that the transfer material 1 was transferred to the conductive layer side of the obtained conductive PET.
The completed film with a transparent protective layer of Example 401 was the same as that of Example 301 produced on glass with ITO.

１ 基材（前面板）
１’ カバーガラス
２ 加飾材（マスク層）
３ 第一の透明電極パターン
４ 第二の透明電極パターン
５ 絶縁層
６ 導電性要素
７ 透明保護層
１０ 静電容量型入力装置
２１ 枠内部
２２ 枠外部
２３ 配線取出し部
２４、２４ａ、２４ｂ 着色層または透明樹脂層（取り除かれなかった領域）
２５ 着色層または透明樹脂層が取り除かれた領域
２６ 仮支持体
２７ 熱可塑性樹脂層
２８ 中間層
２９ 保護剥離層
３０ 転写材料
３１ 枠外部の縦幅
３２ 枠外部の横幅
３３ 上枠幅
３４ 下枠幅
３５ 左右枠幅
４１ 枠内部の縦幅
４２ 枠内部の横幅 1 Base material (front plate)
1 'cover glass 2 decorating material (mask layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 1st transparent electrode pattern 4 2nd transparent electrode pattern 5 Insulating layer 6 Conductive element 7 Transparent protective layer 10 Capacitive type input device 21 Frame inside 22 Frame outside 23 Wiring extraction part 24, 24a, 24b Colored layer or Transparent resin layer (area not removed)
25 Temporary support 27 Thermoplastic resin layer 28 Intermediate layer 29 Protective release layer 30 Transfer material 31 Vertical width 32 outside the frame 33 Horizontal width 33 outside the frame 33 Upper frame width 34 Lower frame width 35 Horizontal frame width 41 Vertical width inside the frame 42 Horizontal width inside the frame

Claims (25)

（Ａ）仮支持体ならびに着色層および透明樹脂層のうちいずれかを含む転写材料に対して、少なくとも着色層または透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、
（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層または透明樹脂層を取り除く工程と、
（Ｃ）前記着色層または透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、
（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、
（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程、または、前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記透明樹脂層の残りの領域を硬化して透明保護層を形成する工程を含み、
前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含み、前記透明樹脂層は少なくとも透明バインダー樹脂を含むことを特徴とする加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。 (A) It is the depth which penetrates at least a colored layer or a transparent resin layer in the thickness direction with respect to a transfer material including any one of a temporary support and a colored layer and a transparent resin layer, and is linear in an in-plane direction. Making a notch having a portion;
(B) removing the colored layer or transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut;
(C) a step of attaching a transfer material having a remaining region that has not been removed from the colored layer or the transparent resin layer to a substrate;
(D) removing the temporary support from the transfer material affixed to the substrate;
(E) a step of curing a remaining region of the colored layer of the transfer material affixed to the base material to form a decorating material, or the transparency of the transfer material affixed to the base material Including the step of curing the remaining region of the resin layer to form a transparent protective layer;
The colored layer includes at least a coloring material and a binder resin, and the transparent resin layer includes at least a transparent binder resin. （Ａ）仮支持体および着色層を含む転写材料に対して、少なくとも着色層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、
（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記着色層を取り除く工程と、
（Ｃ）前記着色層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、
（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、
（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記着色層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程を含み、前記着色層は、少なくとも色材およびバインダー樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。 (A) For the transfer material including the temporary support and the colored layer, a step of cutting at least a depth that penetrates the colored layer in the thickness direction and having a straight portion in the in-plane direction;
(B) removing the colored layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut;
(C) a step of affixing a transfer material having a remaining area of the colored layer that has not been removed to a substrate;
(D) removing the temporary support from the transfer material affixed to the substrate;
(E) including a step of curing a remaining region of the colored layer of the transfer material attached to the base material to form a decorating material, and the colored layer includes at least a coloring material and a binder resin. The manufacturing method of the base material with a decorating material or a transparent protective layer of Claim 1 characterized by these. 前記加飾材は、光学濃度が２．６以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to claim 1 or 2, wherein the decorating material has an optical density of 2.6 or more. 前記加飾材は、基材側より、特定の波長の可視光を吸収して呈色する層と、可視光の波長領域全体にわたって吸収する灰色層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The said decorating material has a layer which absorbs visible light of a specific wavelength from the base material side, and has a gray layer which absorbs over the whole wavelength range of visible light, It is characterized by the above-mentioned. The manufacturing method of the base material with a decorating material or a transparent protective layer as described in any one of these. （Ａ）仮支持体および透明樹脂層を含む転写材料に対して、少なくとも透明樹脂層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、
（Ｂ）前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記透明樹脂層を取り除く工程と、
（Ｃ）透明樹脂層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する転写材料を基材に貼り付ける工程と、
（Ｄ）前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程と、
（Ｅ）前記基材に貼りつけられた前記転写材料の前記透明樹脂層の残りの領域を硬化して透明保護層を形成する工程を含み、
前記透明樹脂層は少なくとも透明バインダー樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。 (A) For the transfer material including the temporary support and the transparent resin layer, a step of cutting at least a depth penetrating the transparent resin layer in the thickness direction and having a straight portion in the in-plane direction;
(B) removing the transparent resin layer from a partial region in the in-plane direction of the transfer material to the depth of the cut;
(C) a step of affixing a transfer material having a remaining area of the transparent resin layer that has not been removed to the substrate;
(D) removing the temporary support from the transfer material affixed to the substrate;
(E) including a step of curing a remaining region of the transparent resin layer of the transfer material attached to the base material to form a transparent protective layer;
The method for producing a decorative material or a substrate with a transparent protective layer according to claim 1, wherein the transparent resin layer contains at least a transparent binder resin. （Ｆ）前記加飾材または透明保護層が形成された部分と前記加飾材または透明保護層が形成されていない部分とを含む領域の外周部を切り取る工程を、さらに含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   (F) The method further includes a step of cutting an outer peripheral portion of a region including a portion where the decorative material or the transparent protective layer is formed and a portion where the decorative material or the transparent protective layer is not formed. The manufacturing method of the base material with a decorating material or a transparent protective layer as described in any one of Claims 1-5. 加飾材付き基材は、前記加飾材または透明保護層が形成された部分と前記加飾材または透明保護層が形成されていない部分とを含む領域の外周部を、トムソン刃加工およびレーザー光加工から選ばれる方法で切り取ることを特徴とする請求項６に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   A base material with a decorating material is a Thomson blade processing and laser for an outer peripheral portion of a region including a portion where the decorating material or the transparent protective layer is formed and a portion where the decorating material or the transparent protective layer is not formed. It cuts out by the method chosen from optical processing, The manufacturing method of the base material with a decorating material or a transparent protective layer of Claim 6 characterized by the above-mentioned. 前記転写材料は、前記仮支持体、前記熱可塑性樹脂層ならびに前記着色層および透明樹脂層のうちいずれかをこの順で含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   8. The transfer material according to claim 1, wherein the transfer material includes any one of the temporary support, the thermoplastic resin layer, the colored layer, and the transparent resin layer in this order. The manufacturing method of a decorating material or a base material with a transparent protective layer. 前記転写材料は、前記仮支持体、前記熱可塑性樹脂層、中間層ならびに前記着色層および透明樹脂層のうちいずれかをこの順で含むことを特徴とする請求項８に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The decoration material according to claim 8, wherein the transfer material includes any one of the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer, the colored layer, and the transparent resin layer in this order. A method for producing a substrate with a transparent protective layer. 前記転写材料は、前記着色層または透明樹脂層の前記仮支持体側とは反対側の面上に、さらに、保護剥離層を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The said transfer material has further a protective peeling layer on the surface on the opposite side to the said temporary support body side of the said colored layer or transparent resin layer, It is any one of Claims 1-9 characterized by the above-mentioned. The manufacturing method of a decorating material or a base material with a transparent protective layer. 前記転写材料への切り込みを、面内方向に４カ所以上直線部分を有するように入れることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   11. The decorative material or the substrate with a transparent protective layer according to claim 1, wherein the cut material is cut so as to have four or more straight portions in an in-plane direction. Manufacturing method. 前記転写材料への切り込みを、前記転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The base material with a decorative material or a transparent protective layer according to any one of claims 1 to 11, wherein the incision into the transfer material is made to a depth penetrating all layers of the transfer material in the thickness direction. A method of manufacturing the material. 前記転写材料への切り込みを、トムソン刃加工またはレーザー光加工から選ばれる方法で入れることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   Cutting of the transfer material is made by a method selected from Thomson blade processing or laser beam processing. The decorative material or the substrate with a transparent protective layer according to any one of claims 1 to 12, Production method. 前記転写材料を基材に貼り付ける前に、前記仮支持体の前記着色剤または透明樹脂層と反対側に、さらに支持体を積層する工程を含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   14. The method according to claim 1, further comprising a step of laminating a support on the side of the temporary support opposite to the colorant or the transparent resin layer before the transfer material is attached to the substrate. The manufacturing method of the base material with a decorating material or a transparent protective layer as described in any one. 前記加飾材の膜厚は、１．０〜４０．０μｍであり、
前記透明保護層の膜厚は１．０〜１００．０μｍであることを特徴とする請求項１〜１４いずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。 The film thickness of the decorating material is 1.0-40.0 μm,
The film thickness of the said transparent protective layer is 1.0-100.0 micrometers, The manufacturing method of the decorating material or the base material with a transparent protective layer as described in any one of Claims 1-14 characterized by the above-mentioned. 前記基材は、全光透過率が、８０％以上であることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The said base material is 80% or more in total light transmittance, The manufacturing method of the decorating material as described in any one of Claims 1-15, or a base material with a transparent protective layer. 前記基材は、ガラス、ＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The said base material is chosen from glass, TAC, PET, PC, or COP, The manufacturing method of the decorating material as described in any one of Claims 1-16, or a base material with a transparent protective layer. 前記基材は、さらに導電性層を有することを特徴とする請求項１〜１７のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The said base material has a conductive layer further, The manufacturing method of the decorating material as described in any one of Claims 1-17, or a base material with a transparent protective layer. 前記基材は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することを特徴とする請求項１〜１８のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The base material further comprises at least one of a scratch-resistant layer and an antiglare layer, wherein the decorating material according to any one of claims 1 to 18 or the base material with a transparent protective layer is provided. Production method. 前記基材は、膜厚が４０〜２０００μｍであることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The said base material is 40-2000 micrometers in film thickness, The manufacturing method of the base material with a decorating material or a transparent protective layer as described in any one of Claims 1-19 characterized by the above-mentioned. 前記着色層または透明樹脂層が、さらに重合性化合物を含むことを特徴とする請求項１〜２０のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of claims 1 to 20, wherein the colored layer or the transparent resin layer further contains a polymerizable compound. 前記着色層または透明樹脂層が、さらに重合開始剤を含むことを特徴とする請求項１〜２１のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。   The said colored layer or transparent resin layer contains a polymerization initiator further, The manufacturing method of the decorating material as described in any one of Claims 1-21, or the base material with a transparent protective layer. 前記透明保護層は、４００ｎｍでの光透過率が８５％以上であることを特徴とする請求項１〜２２のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法。 The method for producing a decorating material or a substrate with a transparent protective layer according to any one of claims 1 to 22, wherein the transparent protective layer has a light transmittance of 85% or more at 400 nm. 請求項１〜２３のいずれか一項に記載の加飾材または透明保護層付き基材の製造方法を有することを特徴とするタッチパネルの製造方法。 Touch panel manufacturing method characterized by having a method of manufacturing the decorative material or the transparent protective layer with the base material according to any one of claims 1 to 23. 請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法を有することを特徴とするモバイル機器の製造方法。 A method for manufacturing a mobile device , comprising the method for manufacturing a touch panel according to claim 24 .
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