JP5903742B2 - マザーカラーフィルタ基板 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 188
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 174
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 91
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 81
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 30
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 9
- 101100458410 Solanum lycopersicum MTB2 gene Proteins 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 102100036464 Activated RNA polymerase II transcriptional coactivator p15 Human genes 0.000 description 4
- 101000713904 Homo sapiens Activated RNA polymerase II transcriptional coactivator p15 Proteins 0.000 description 4
- 229910004444 SUB1 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910004438 SUB2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 101100311330 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) uap56 gene Proteins 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 101150018444 sub2 gene Proteins 0.000 description 4
- OSDXSOSJRPQCHJ-XVNBXDOJSA-N methyl 3-(3,4-dihydroxyphenyl)-3-[(E)-3-(3,4-dihydroxyphenyl)prop-2-enoyl]oxypropanoate Chemical compound C=1C=C(O)C(O)=CC=1C(CC(=O)OC)OC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C(O)=C1 OSDXSOSJRPQCHJ-XVNBXDOJSA-N 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
前記液晶パネルの表示領域外であり、かつ前記薄膜トランジスタ基板の前記端子部に向かい合う端子対向領域には、複数の前記スペーサと前記マザーカラーフィルタ基板との間に、前記遮光膜のベタパターンと前記着色膜のベタパターンとが積層されたベタパターン積層部が形成されていることを特徴とする。
前記着色膜のベタパターンの積層数が一層であることを特徴とする。
前記着色膜のベタパターンの積層数が一層であり、前記端部近傍領域に形成された単層積層部と、
前記着色膜のベタパターンの積層数が複数層であり、前記端子部に向かい合う領域に形成された複数層積層部と、
を有することを特徴とする。
前記着色膜のベタパターンの積層数が多層であることを特徴とする。
図1は、本発明の実施の形態1にかかるマザー基板を用いて製造された液晶パネル10を有する液晶表示装置1の構成を示す模式図である。本発明の実施の形態1の液晶表示装置1は、携帯電話機あるいはデジタルカメラ等に使用される小型の液晶表示装置である。また、この液晶表示装置1は、アクティブマトリクス方式である。液晶表示装置1は、液晶パネル10と、端子部20と、バックライト30と、制御部40とを有する。
まず、TFT基板50の断面について説明する。TFT基板50は、ガラス等からなる透明な基板である基板SUB1の液晶材LC側の面に、ゲート信号線GLが形成されている。基板SUB1の表面には、ゲート信号線GLを含めて基板SUB1の表面を被う絶縁膜GIが形成される。この絶縁膜GIは、窒化シリコン等の無機材料からなり、薄膜トランジスタTFTの形成領域においてゲート絶縁膜として機能するものである。
まず、TFT基板50のマザー基板(以下、マザーTFT基板MTBという。)と、CF基板60のマザー基板(以下、マザーCF基板MCBという。)とを製造する。マザーTFT基板MTBは、液晶パネルサイズへの分割前の複数のTFT基板50が整列して形成されている。また、マザーCF基板MCBは、液晶パネルサイズへの分割前の複数のCF基板60が整列して形成されている。
その後、貼り合わせ基板MBの厚さを薄くするために研磨等の加工を行う。なお、マザーCF基板MCBにシール部SL2が形成されるものを例示したが、シール部SL1が注入口11を有しない場合、シール部SL1でシールされた部分に研磨液等の染み込みの心配がないためシール部SL2を形成しなくてもよい。また、シール部SL1およびシール部SL2は、マザーTFT基板MTBに形成するようにしてもよい。
まず、基板SUB2の液晶パネルサイズへの分割前のマザー基板MSUB2の液晶材LC側の面に遮光膜BMが形成される(図7(a)参照)。遮光膜BMは、フォトリソグラフィー法により表示領域AR1、さらに端子対向領域AR2および端部近傍領域AR3に形成される。なお、端子対向領域AR2および端部近傍領域AR3に形成される遮光膜BMはベタパターンの遮光膜ベタパターンBM1である。
次に、本発明の実施の形態2について説明する。図9は、本発明の実施の形態2のマザーCF基板MCB2とマザーTFT基板MTB2との貼り合わせ基板MB2の要部拡大図である。図10は、図9に示した貼り合わせ基板MB2のB−B’線における断面図である。図11は、図10に示した貼り合わせ基板MB2を液晶パネルサイズに分割した場合の端子部側の端部周辺を示した図である。
本発明の実施の形態1では、マザーTFT基板MTBの端子部20上に有機膜PASが形成されているものを例示したが、本発明の実施の形態2では、マザーTFT基板MTBに代わってマザーTFT基板MTB2を有し、このマザーTFT基板MTB2は、端子部20上に有機膜PASを形成していない。また、本発明の実施の形態2では、マザーCF基板MCBに代わってマザーCF基板MCB2を有する。その他の構成は実施の形態1と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
単層積層部201は、端部近傍領域AR3に一面に広がったパターンである遮光膜ベタパターンBM1、およびこの遮光膜ベタパターンBM1の上に青色着色膜ベタパターンBCF1が積層されている部分である。すなわち、端部近傍領域AR3のベタパターン積層部100と同様のものである。
まず、基板SUB2の液晶パネルサイズへの分割前のマザー基板MSUB2の液晶材LC側の面に遮光膜BMを形成する(図12(a)参照)。遮光膜BMは、フォトリソグラフィー法により表示領域AR1、さらに端子対向領域AR2および端部近傍領域AR3に形成される。なお、端子対向領域AR2および端部近傍領域AR3に形成される遮光膜BMはベタパターンの遮光膜ベタパターンBM1である。
10 液晶パネル
11 注入口
50 TFT基板
60 CF基板
100、200 ベタパターン積層部
BCF1 青色着色膜ベタパターン
GCF1 緑色着色膜ベタパターン
BM1 遮光膜ベタパターン
201 単層積層部
202 複数層積層部
MTB、MTB2 マザーTFT基板
MCB、MCB2 マザーCF基板
MB、MB2 貼り合わせ基板
MSUB2 マザー基板
LC 液晶材
SL1、SL2 シール部
ESL 封止材
SUB1、SUB2 基板
GL ゲート信号線
DL ドレイン信号線
GI 絶縁膜
AS 半導体層
TFT 薄膜トランジスタ
DT ドレイン電極
ST ソース電極
PD パッド部
PX 画素電極
DT ドレイン電極
PAS 絶縁膜
CL コモン信号線
CT 対向電極
LI 絶縁膜
ORI1、ORI2 配向膜
BM 遮光膜
CF、RCF、GCF、BCF 着色膜
OC 保護膜
SP 柱状スペーサ
AR1、AR2、AR3 領域
Claims (5)
- 遮光膜とカラーフィルタと保護膜とスペーサとが形成されたカラーフィルタ基板と、薄膜トランジスタが形成され、前記カラ―フィルタ基板から露出した領域に端子部が形成されている薄膜トランジスタ基板と重複しない領域に前記薄膜トランジスタに映像信号、走査信号を供給するための端子部が形成されている薄膜トランジスタ基板と、を有する液晶パネルの前記カラーフィルタ基板が1または複数形成されたマザーカラーフィルタ基板であって、
前記液晶パネルの表示領域外であり、かつ前記薄膜トランジスタ基板の前記端子部に向かい合う端子対向領域には、複数の前記スペーサと前記マザーカラーフィルタ基板との間に、前記遮光膜のベタパターンと前記着色膜のベタパターンとが積層されたベタパターン積層部が形成されていることを特徴とするマザーカラーフィルタ基板。 - 前記ベタパターン積層部は、さらに、
前記液晶パネルの表示領域外であり、かつ前記マザーカラーフィルタ基板の端部近傍の領域である、端部近傍領域にも形成されていることを特徴とする請求項1に記載のマザーカラーフィルタ基板。 - 前記ベタパターン積層部は、
前記着色膜のベタパターンの積層数が一層であることを特徴とする請求項1又は2に記載のマザーカラーフィルタ基板。 - 前記ベタパターン積層部は、
前記着色膜のベタパターンの積層数が一層であり、前記端部近傍領域に形成された単層積層部と、
前記着色膜のベタパターンの積層数が複数層であり、前記端子部に向かい合う領域に形成された複数層積層部と、
を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のマザーカラーフィルタ基板。 - 前記ベタパターン積層部は、
前記着色膜のベタパターンの積層数が多層であることを特徴とする請求項1又は2に記載のマザーカラーフィルタ基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014174533A JP5903742B2 (ja) | 2014-08-28 | 2014-08-28 | マザーカラーフィルタ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014174533A JP5903742B2 (ja) | 2014-08-28 | 2014-08-28 | マザーカラーフィルタ基板 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010218353A Division JP5607481B2 (ja) | 2010-09-29 | 2010-09-29 | マザーカラーフィルタ基板、および該マザーカラーフィルタ基板を用いて製造される液晶パネルの製造方法。 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014240979A JP2014240979A (ja) | 2014-12-25 |
JP5903742B2 true JP5903742B2 (ja) | 2016-04-13 |
Family
ID=52140227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014174533A Active JP5903742B2 (ja) | 2014-08-28 | 2014-08-28 | マザーカラーフィルタ基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5903742B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003202551A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-07-18 | Toshiba Corp | 液晶表示素子およびその製造方法 |
JP4244860B2 (ja) * | 2004-05-13 | 2009-03-25 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 |
JP2006284987A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Mitsubishi Electric Corp | マザー基板、液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2007047346A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Sanyo Epson Imaging Devices Corp | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 |
-
2014
- 2014-08-28 JP JP2014174533A patent/JP5903742B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014240979A (ja) | 2014-12-25 |
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