JP5884273B2 - Exposure unit and substrate pre-alignment method - Google Patents
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Description
本発明は、露光ユニット及び基板のプリアライメント方法に関し、より詳細には、露光装置に搬送される基板をプリアライメントするための露光ユニット及び基板のプリアライメント方法に関する。 The present invention relates to an exposure unit and a substrate pre-alignment method, and more particularly to an exposure unit and a substrate pre-alignment method for pre-aligning a substrate transported to an exposure apparatus.
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクの露光パターンを露光転写するプロキシミティ露光は、表面に感光剤を塗布した透光性の基板(被露光材)をワークチャックで保持し、マスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに、例えば、数10μm〜数100μmのギャップで接近させて、パターン露光用の光をマスクに向けて照射してマスクに描かれた露光パターンを基板上に転写するフォトリソグラフィー技術により行われている。 Proximity exposure, in which the exposure pattern of a mask is exposed and transferred onto a flat panel display substrate such as a liquid crystal display or plasma display, holds a translucent substrate (material to be exposed) coated with a photosensitive agent on the surface by a work chuck. An exposure pattern drawn on the mask is irradiated with light for pattern exposure toward the mask, for example, by approaching the mask held by the mask holding frame of the mask stage with a gap of several tens of micrometers to several hundreds of micrometers. It is carried out by photolithography technology that transfers to the top.
このような露光装置は、基板を吸着固定するワークチャックがXYZ方向に移動可能、且つθ方向に回動可能な基板ステージ上に搭載されており、ワークチャックが保持する基板を高精度でアライメントしてマスクのパターンを露光転写する。ワークチャックへの基板の搬送は、通常、搬送用ロボット等により行われており、基板を高い精度でワークチャックに搭載することは、露光精度を向上させる上で重要である。このため、基板のワークチャックへの搬送に先だって、通常、プリアライメント装置によって基板のプリアライメントが行われている。 In such an exposure apparatus, the work chuck for attracting and fixing the substrate is mounted on a substrate stage that can move in the XYZ directions and can be rotated in the θ direction, and aligns the substrate held by the work chuck with high accuracy. Then, the mask pattern is exposed and transferred. The substrate is usually transferred to the work chuck by a transfer robot or the like, and mounting the substrate on the work chuck with high accuracy is important for improving the exposure accuracy. For this reason, prior to the conveyance of the substrate to the work chuck, the substrate is usually pre-aligned by a pre-alignment apparatus.
従来、基板供給用カセットと露光装置との間に基板のプリアライメントを行なうプリアライメント装置を配置し、露光装置への基板の搬送に先だって基板のラフプリアライメントを行うようにした基板処理装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。また、クーリングプレート上に搭載された基板の直交する2辺の縁の位置を検出して基準位置からのズレ量を求め、このズレ量分だけ露光装置のワークチャックを予め移動及び回転させておき、このワークチャックに基板を搭載した後、ワークチャックを元の位置に戻すようにしたプロキシミティ露光装置及び基板搬送方法が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。 Conventionally, there has been known a substrate processing apparatus in which a pre-alignment apparatus for pre-aligning a substrate is disposed between a substrate supply cassette and an exposure apparatus, and the substrate is subjected to rough pre-alignment prior to transport of the substrate to the exposure apparatus. (For example, refer to Patent Document 1). Further, the position of two orthogonal edges of the substrate mounted on the cooling plate is detected to determine the amount of deviation from the reference position, and the work chuck of the exposure apparatus is moved and rotated in advance by this amount of deviation. A proximity exposure apparatus and a substrate transport method are disclosed in which a substrate is mounted on the work chuck and then the work chuck is returned to its original position (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、特許文献1によると、基板を精度よくワークチャックに搭載するため、露光装置の直前にプリアライメント装置を設置し、このプリアライメント装置でプリアライメントされた基板をロボットが受け取ってワークチャックに受け渡していた。従って、プリアライメント装置やロボットの据え付け精度、組立精度がワークチャックへの基板搭載精度に影響を及ぼす問題があった。また、プリアライメントは、基板のマークを検出することで行われており、予めマークを表示する必要がある。さらに、特許文献2によると、プリアライメントする際の基板位置検出は、クーリングプレート上に搭載された基板の直交する2辺の縁の位置を検出して行われている。このため、基板の真直度、平面度、平行度、直角度、温度による基板の膨張・収縮などによって検出結果が変動し、正確にプリアライメントできない虞があった。 However, according to Patent Document 1, in order to mount the substrate on the work chuck with high accuracy, a pre-alignment apparatus is installed immediately before the exposure apparatus, and the substrate pre-aligned by the pre-alignment apparatus is received by the robot and delivered to the work chuck. It was. Therefore, there is a problem that the accuracy of mounting the pre-alignment apparatus and the robot and the assembly accuracy affect the accuracy of mounting the substrate on the work chuck. The pre-alignment is performed by detecting a mark on the substrate, and it is necessary to display the mark in advance. Further, according to Patent Document 2, substrate position detection at the time of pre-alignment is performed by detecting the positions of two orthogonal edges of the substrate mounted on the cooling plate. For this reason, the detection result fluctuates due to the substrate straightness, flatness, parallelism, perpendicularity, expansion / contraction of the substrate due to temperature, etc., and there is a possibility that accurate prealignment cannot be performed.
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度よく基板をワークチャックに搭載して、タクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及び基板のプリアライメント方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and its purpose is to reduce the tact time by mounting a substrate on a work chuck with high accuracy in a short time without providing a dedicated pre-alignment apparatus. An object of the present invention is to provide an exposure unit and a substrate pre-alignment method that can be realized.
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) マスクを介して被露光材としての基板に露光光を照射して前記基板に前記マスクのパターンを露光転写する露光装置と、
前記基板を保持して、X,Y,Z方向に移動、且つθ方向に回転可能なアーム部を有し、前記基板が供給される供給位置から前記露光装置に搬送する基板搬入装置と、
前記露光装置及び前記基板搬入装置を制御する制御部と、
を備える露光ユニットであって、
前記基板の互いに直交する2辺には、一辺に互いに離間する2つ、他の一辺に1つの略矩形状に凹んだ切欠きが設けられており、
前記基板搬入装置は、前記アーム部で保持された前記基板に設けられた前記切欠きを検出するセンサをさらに備え、
前記センサは、前記供給位置から前記露光装置へ搬送される途中において、前記切欠きの縁の位置を検出し、
前記制御部は、前記センサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、前記ズレ量に基づいて前記アーム部を移動及び回転させて、前記基板をプリアライメントすることを特徴とする露光ユニット。
(2) 前記アーム部は、圧力センサを更に備え、
前記圧力センサで前記アーム部による前記基板の把持力を検出して所定の把持力で前記基板を把持することを特徴とする(1)に記載の露光ユニット。
(3) マスクを介して被露光材としての基板に露光光を照射して前記基板に前記マスクのパターンを露光転写する露光装置と、前記基板を保持して、X,Y,Z方向に移動、且つθ方向に回転可能なアーム部を有し、前記基板が供給される供給位置から前記露光装置に搬送する基板搬入装置と、を備える露光ユニットの基板のプリアライメント方法であって、
前記基板搬入装置のアーム部で前記基板を保持する工程と、
センサによって、前記供給位置から前記露光装置へ搬送される途中において、アーム部で保持された前記基板の互いに直交する2辺のうち、一辺に互いに離間する2つ、他の一辺に1つ設けられた略矩形状に凹んだ切欠きの縁の位置を検出する工程と、
前記センサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、前記ズレ量に基づいて前記アーム部を移動及び回転させて、前記基板をプリアライメントする工程と、
前記プリアライメントされた基板を前記基板搬入装置によって前記露光装置に搬送する工程と、
を備えることを特徴とする基板のプリアライメント方法。
The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(1) an exposure apparatus that irradiates a substrate as an exposed material through a mask with exposure light and exposes and transfers the pattern of the mask onto the substrate;
A substrate carry-in device that holds the substrate, has an arm portion that can move in the X, Y, and Z directions and that can rotate in the θ direction, and conveys the substrate from a supply position to which the substrate is supplied;
A control unit for controlling the exposure apparatus and the substrate carry-in apparatus;
An exposure unit comprising:
The two sides perpendicular to each other of the substrate are provided with two substantially rectangular notches that are spaced apart from each other on one side and one on the other side ,
The substrate carry-in device further includes a sensor that detects the notch provided in the substrate held by the arm unit,
The sensor detects the position of the edge of the notch in the middle of being conveyed from the supply position to the exposure apparatus,
The control unit calculates a shift amount between a detection result of the sensor and a predetermined reference position, and moves and rotates the arm unit based on the shift amount to pre-align the substrate. Exposure unit.
(2) The arm portion further includes a pressure sensor,
The exposure unit according to (1), wherein the pressure sensor detects a gripping force of the substrate by the arm unit and grips the substrate with a predetermined gripping force.
(3) An exposure apparatus that irradiates a substrate as an exposed material through a mask with exposure light to expose and transfer the pattern of the mask onto the substrate, and holds the substrate and moves in the X, Y, and Z directions And a substrate carry-in device that has an arm portion rotatable in the θ direction and transports the substrate from a supply position to which the substrate is supplied to the exposure apparatus, and a substrate pre-alignment method comprising:
Holding the substrate by an arm portion of the substrate carry-in device;
During the transfer from the supply position to the exposure apparatus by the sensor, two of the two sides orthogonal to each other of the substrate held by the arm unit are provided apart from each other and one on the other side. and detecting the position of the recessed in the notch edge in a substantially rectangular shape and,
Calculating a shift amount between a detection result of the sensor and a predetermined reference position, moving and rotating the arm unit based on the shift amount, and pre-aligning the substrate;
Transporting the pre-aligned substrate to the exposure device by the substrate carry-in device;
A substrate pre-alignment method comprising:
本発明の露光ユニットによれば、基板を保持して、X,Y,Z方向に移動、且つθ方向に回転可能なアーム部を有する基板搬入装置が、互いに直交する2辺のうち、一辺に互いに離間する2つ、他の一辺に1つの略矩形状に凹んだ切欠きが設けられた基板を保持して基板供給位置から露光装置に搬送する。センサは、アーム部で保持された基板の切欠きの縁の位置を検出して、このセンサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量に基づいてアーム部を移動及び回転させて、基板をプリアライメントするようにしたので、基板搬入装置の据え付け精度や、組立精度に影響されることなく、基板を精度よくプリアライメントすることができる。また、専用のプリアライメント装置を備える必要がなく、プリアライメント装置の処理時間分だけタクトタイムを短縮することができると共に、プリアライメント装置の設置費用を抑制することができる。 According to the exposure unit of the present invention, a substrate carry-in apparatus having an arm portion that holds a substrate, moves in the X, Y, and Z directions and is rotatable in the θ direction is arranged on one of two sides orthogonal to each other. Two substrates that are spaced apart from each other and one notch recessed in a substantially rectangular shape on the other side are held and conveyed from the substrate supply position to the exposure apparatus. Sensor is to detect the position of the notch in the edge of the substrate held by the arm portion moves and rotates the arm portion based on the shift amount between the detection result and a predetermined reference position of the sensor, the substrate Since the pre-alignment is performed, the substrate can be accurately pre-aligned without being affected by the installation accuracy and assembly accuracy of the substrate carry-in device. In addition, it is not necessary to provide a dedicated pre-alignment device, the tact time can be shortened by the processing time of the pre-alignment device, and the installation cost of the pre-alignment device can be suppressed.
更に、基板の互いに直交する2辺に設けられた略矩形状に凹んだ切欠きにより基板位置を検出するので、外力による基板の変形、特に、温度変化による基板の膨張・収縮を切欠きで逃がすことで基板の変形を抑制して、基板位置を精度よく検出することができ、これにより、プリアライメント精度が向上する。 Furthermore, since the substrate position is detected by notches recessed in a substantially rectangular shape provided on two mutually orthogonal sides of the substrate, deformation of the substrate due to external force, in particular, expansion / contraction of the substrate due to temperature change is released by the notch. Thus, the deformation of the substrate can be suppressed, and the substrate position can be detected with high accuracy, thereby improving the pre-alignment accuracy.
また、本発明の基板のプリアライメント方法によれば、X,Y,Z方向に移動、且つθ方向に回転可能なアーム部を有する基板搬入装置で基板を保持し、供給位置から露光装置へ搬送される途中において、アーム部で保持された基板の互いに直交する2辺のうち、一辺に互いに離間する2つ、他の一辺に1つ設けられた略矩形状に凹んだ切欠きの縁の位置をセンサで検出し、この検出結果と所定の基準位置とのズレ量に基づいてアーム部を移動及び回転させて基板をプリアライメントした後、露光装置に搬送するようにしたので、基板搬入装置の据え付け精度や組立精度に影響されることなく、且つ短時間で基板を精度よくプリアライメントして露光装置に搬送することができ、露光精度が向上すると共に、タクトタイムの短縮を図ることができる。 Also, according to the substrate pre-alignment method of the present invention, the substrate is held by the substrate carry-in apparatus having an arm portion that can move in the X, Y, and Z directions and rotate in the θ direction, and is transported from the supply position to the exposure apparatus. in the course to be, among the two sides orthogonal to each other of the substrate held by the arm portion, two spaced apart from each other on one side, the position of the one-out substantially cutout recessed rectangular shape provided edge to other side Since the substrate is pre-aligned by moving and rotating the arm portion based on the amount of deviation between the detection result and a predetermined reference position, the substrate is transported to the exposure apparatus. The substrate can be accurately pre-aligned and transported to the exposure apparatus in a short time without being affected by the installation accuracy and assembly accuracy, and the exposure accuracy can be improved and the tact time can be shortened. Kill.
以下、本発明に係る露光ユニットの一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1に示す一実施形態の露光ユニット10は、コーター11、ホットプレート12、及びコールドプレート13を備えた処理ユニット14と、露光装置15と、搬出装置としてのコンベア16と、処理ユニット14、露光装置15、及びコンベア16間で基板Wの受け渡しを行うロボット17と、露光ユニット10の各部を制御する制御部18を有する。なお、処理ユニット14、露光装置15、コンベア16は、公知のものが適用される。
Hereinafter, an embodiment of an exposure unit according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
An
図2も参照して、ロボット17は、コラム21に沿って上下移動すると共に、それぞれ不図示のサーボモータが配設されて互いに独立して駆動される第1及び第2アーム22,23と、第1アーム22の先端に複数の棒状部材24が平行して植設された基板載置台25とを有する。そして、それぞれのサーボモータを制御部18で制御して作動させることにより、基板載置台25を昇降、回転、及び移動させて、基板載置台25上に載置された基板Wを搬送する。
Referring also to FIG. 2, the
具体的に、ロボット17は、処理ユニット14から供給される基板Wを基板載置台25上に保持して露光装置15へ搬送してワークチャック19に搭載し、また、マスクパターンが露光転写された基板Wを、露光装置15からコンベア16へ搬送する。なお、ロボット17は、処理ユニット14から供給される基板Wを露光装置15へ搬送する、少なくとも基板搬入装置としての機能を有するものであればよく、露光装置15からコンベア16に搬送するロボットを別途設けても良い。
Specifically, the
処理ユニット14から露光装置15へ基板Wを搬送する搬入経路の途中には、3つのセンサ30a,30b,30cが、露光ユニット10の基台20に固定して配置されている。センサ30a,30bは、一直線上に配置され、センサ30cは、センサ30a,30bを結ぶ直線に対して直交する線上に配置されている。センサ30a,30b,30cは、例えば、レーザセンサ、光学式センサ、CCDカメラなど、基板Wの縁を検出可能なものであれば、任意のセンサが使用可能である。
Three
図2に示すように、センサ30a,30bは、基板載置台25上に保持されて搬送される基板Wの一辺26の位置を検出し、センサ30cは、基板Wの一辺26と直交する他の一辺27の位置を検出する。
As shown in FIG. 2, the
図3(a),(b)に示すように、本実施形態の基板Wには、例えば、機械加工によって、その一辺26に互いに離間する2つの切欠き28a、28bが形成され、また、基板Wの一辺26と直交する他の一辺27に1つの切欠き29が形成されている。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the substrate W of this embodiment has two
図3(c)に示すように、切欠きを有しない基板Wでは、ホットプレート12やコールドプレート13などの処理により基板Wの温度が変化すると、この温度変化に伴って基板Wが膨張・収縮し、基板Wの縁Eにうねりが生じるなど、形状が変形する虞がある。この縁Eの変形は、センサ30a,30b,30cによる検出精度の低下につながるので好ましくない。
As shown in FIG. 3C, in the substrate W not having a notch, when the temperature of the substrate W changes due to the processing of the
これに対して、切欠き28a、28b、及び29が設けられた本実施形態の基板Wは、基板Wの温度変化に伴う膨張・収縮を切欠き28a、28b、及び29が吸収するので、縁の変形が抑制される。これにより、基板Wの検出精度を高精度に維持することができる。
On the other hand, the substrate W of the present embodiment provided with the
図4(a)に示すように、センサ30a,30b,30cは、基板Wに設けられた切欠き28a、28b、及び29に、それぞれ対応する位置に設けられており、基板Wがロボット17の基板載置台25上に載置されて露光装置15へ搬送される途中において、基板Wの切欠き28a、28b、及び29の縁の位置を検出する。
As shown in FIG. 4A, the
ここで、切欠きを有しない従来の基板Wでは、図4(b)に示すように、基板Wの縁Eの位置を検出する際、センサ30a,30bが、縁Eを越えた位置まで移動しないと縁Eを検出することができず、センサ30a,30bからの光を跨いで基板Wが行き過ぎる。これによって、基板Wの温度が上昇する虞があり、基板Wの膨張によって検出精度が低下する虞がある。
Here, in the conventional substrate W not having a notch, as shown in FIG. 4B, when detecting the position of the edge E of the substrate W, the
一方、本実施形態の基板Wは、図4(a)に示すように、センサ30cが切欠き29の上端を検出した直後に、センサ30a,30bが切欠き28a、28bの縁の位置を検出するように設定されているので、切欠き29の幅Aの範囲内で検出可能であり、基板Wがセンサ30a,30b,30cからの光に曝される時間が少なく、基板Wの膨張(収縮)に起因する検出精度の低下を防止することができる。
On the other hand, in the substrate W of this embodiment, as shown in FIG. 4A, immediately after the
本実施形態の作用を説明する。本実施形態の露光ユニット10は、図1に示すように、処理ユニット14において基板Wをロボット17の基板載置台25上に保持し、露光装置15へ搬送してワークチャック19に搭載する。基板Wの搬送経路の途中に設けられたセンサ30a,30b,30cは、それぞれ基板Wに設けられた切欠き28a、28b、及び29の縁の位置を検出し、制御部18が、この検出結果と、予め制御部18の記憶部(図示せず)に記憶されている所定の基準位置とのズレ量を算出する。
The operation of this embodiment will be described. As shown in FIG. 1, the
なお、基板Wの搬送経路の途中とは、基板Wをロボット17が基板載置台25上に載置する位置(基板供給位置)から、露光装置15のワークチャック19に搭載するまでの間のことであり、センサ30a,30b,30cが切欠き28a、28b、及び29の縁の位置を検出するのに好適な任意の位置に設定することができる。また、記憶部に記憶されている所定の基準位置は、基板Wの検出位置からワークチャック19に搭載するまでの間の基板Wの移動量、例えば、検出位置から90°回転させてワークチャック19に搭載する場合には、この回転角度(90°)を考慮した基準位置が制御部18の記憶部に記憶される。
Note that the midway of the transfer path of the substrate W is a period from the position (substrate supply position) where the
制御部18は、算出したズレ量に基づいて、ロボット17のサーボモータを制御して第1及び第2アーム22,23を作動させることで、基板載置台25を昇降(Z方向)、移動(X,Y方向)、及び回転(θ方向)させて、基板載置台25上に載置された基板Wを所定の位置にプリアライメントする。
The
このように、ロボット17で保持された状態で、搬送途中においてプリアライメントされた基板Wは、更に露光装置15へ搬送されてワークチャック19に搭載される。
In this way, the substrate W that has been pre-aligned while being held by the
以上説明したように、本実施形態の露光ユニット10によれば、基板Wを保持して、X,Y,Z方向に移動、且つθ方向に回転可能な基板載置台25を有するロボット(基板搬入装置)17が、互いに直交する2辺26,27に切欠き28a、28b、29が設けられた基板Wを保持して処理ユニット14から露光装置15に搬送する。センサ30a,30b,30cは、基板載置台25で保持された基板Wの切欠き28a、28b、29の縁の位置を検出して、このセンサ30a,30b,30cの検出結果と所定の基準位置とのズレ量に基づいて基板載置台25を移動及び回転させて、基板Wをプリアライメントするようにしたので、ロボット17の据え付け精度や、組立精度に影響されることなく、基板Wを精度よくプリアライメントすることができる。
As described above, according to the
また、専用のプリアライメント装置を備える必要がなく、プリアライメント装置の処理時間分だけタクトタイムを短縮することができると共に、プリアライメント装置の設置費用を抑制することができる。 In addition, it is not necessary to provide a dedicated pre-alignment device, the tact time can be shortened by the processing time of the pre-alignment device, and the installation cost of the pre-alignment device can be suppressed.
更に、プリアライメント装置は、ロボットからプリアライメント装置への基板受渡し時や、吸着チャック上に基板Wを保持させる際、基板Wを傷付ける可能性があるが、本発明の露光ユニット10によれば、ロボット17の基板載置台25で基板Wを保持した状態でプリアライメントするので、基板Wを損傷する可能性が排除される。
Further, the pre-alignment apparatus may damage the substrate W when delivering the substrate from the robot to the pre-alignment apparatus or holding the substrate W on the suction chuck. According to the
更に、基板Wの互いに直交する2辺26,27に設けられた切欠き28a、28b、29により基板位置を検出するので、外力による基板Wの変形、特に、温度変化による基板Wの膨張・収縮変化を切欠き28a、28b、29で逃がすことで変形を抑制して、基板位置を精度よく検出することができ、これにより、プリアライメント精度を高めることができる。
Further, since the substrate position is detected by the
<変形例>
次に、図5(a)及び(b)を参照して変形例の露光ユニット10について説明する。変形例の露光ユニット10のロボット17は、上記した実施形態の基板載置台25の代わりに、略コの字型の把持腕31を備え、基板Wの対向する2辺を狭持することで基板Wを保持している。把持腕31は、圧力センサ32を備え、圧力センサ32で基板Wの把持力を検出しながら、所定の把持力で基板Wを把持するので、把持に伴う基板Wの変形を抑制することができる。また、このような略コの字型の把持部31では、基板Wを把持できる姿勢が決まっており、把持部31の基準位置(例えば、コラム21のような回転軸を基準として)を設定することで、センサ30a,30b,30cから得られたズレ量に基づいて基板Wを把持する姿勢へ容易に移動することができる。
<Modification>
Next, a modified
尚、本発明は、前述した実施形態及び変形例に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and modifications, improvements, and the like can be made as appropriate.
10 露光ユニット
14 処理ユニット(供給位置)
15 露光装置
17 ロボット(基板搬入装置)
18 制御部
22 第1アーム(アーム部)
23 第2アーム(アーム部)
26,27 一辺
28a、28b、29 切欠き
30a,30b,30c センサ
32 圧力センサ
W 基板(被露光材)
10
15
18
23 Second arm (arm part)
26, 27 One
Claims (3)
前記基板を保持して、X,Y,Z方向に移動、且つθ方向に回転可能なアーム部を有し、前記基板が供給される供給位置から前記露光装置に搬送する基板搬入装置と、
前記露光装置及び前記基板搬入装置を制御する制御部と、
を備える露光ユニットであって、
前記基板の互いに直交する2辺には、一辺に互いに離間する2つ、他の一辺に1つの略矩形状に凹んだ切欠きが設けられており、
前記基板搬入装置は、前記アーム部で保持された前記基板に設けられた前記切欠きを検出するセンサをさらに備え、
前記センサは、前記供給位置から前記露光装置へ搬送される途中において、前記切欠きの縁の位置を検出し、
前記制御部は、前記センサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、前記ズレ量に基づいて前記アーム部を移動及び回転させて、前記基板をプリアライメントすることを特徴とする露光ユニット。 An exposure apparatus that irradiates a substrate as an exposed material through a mask with exposure light to expose and transfer the pattern of the mask onto the substrate;
A substrate carry-in device that holds the substrate, has an arm portion that can move in the X, Y, and Z directions and that can rotate in the θ direction, and conveys the substrate from a supply position to which the substrate is supplied;
A control unit for controlling the exposure apparatus and the substrate carry-in apparatus;
An exposure unit comprising:
The two sides perpendicular to each other of the substrate are provided with two substantially rectangular notches that are spaced apart from each other on one side and one on the other side ,
The substrate carry-in device further includes a sensor that detects the notch provided in the substrate held by the arm unit,
The sensor detects the position of the edge of the notch in the middle of being conveyed from the supply position to the exposure apparatus,
The control unit calculates a shift amount between a detection result of the sensor and a predetermined reference position, and moves and rotates the arm unit based on the shift amount to pre-align the substrate. Exposure unit.
前記圧力センサで前記アーム部による前記基板の把持力を検出して所定の把持力で前記基板を把持することを特徴とする請求項1に記載の露光ユニット。 The arm portion further includes a pressure sensor,
2. The exposure unit according to claim 1, wherein the pressure sensor detects a gripping force of the substrate by the arm unit and grips the substrate with a predetermined gripping force.
前記基板搬入装置のアーム部で前記基板を保持する工程と、
センサによって、前記供給位置から前記露光装置へ搬送される途中において、アーム部で保持された前記基板の互いに直交する2辺のうち、一辺に互いに離間する2つ、他の一辺に1つ設けられた略矩形状に凹んだ切欠きの縁の位置を検出する工程と、
前記センサの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、前記ズレ量に基づいて前記アーム部を移動及び回転させて、前記基板をプリアライメントする工程と、
前記プリアライメントされた基板を前記基板搬入装置によって前記露光装置に搬送する工程と、
を備えることを特徴とする基板のプリアライメント方法。 An exposure apparatus that irradiates a substrate as an exposed material through a mask with exposure light to expose and transfer the pattern of the mask onto the substrate, holds the substrate, moves in the X, Y, and Z directions, and θ A substrate carry-in device having an arm part rotatable in a direction and transporting the substrate from a supply position to which the substrate is supplied to the exposure apparatus, and a substrate pre-alignment method comprising:
Holding the substrate by an arm portion of the substrate carry-in device;
During the transfer from the supply position to the exposure apparatus by the sensor, two of the two sides orthogonal to each other of the substrate held by the arm unit are provided apart from each other and one on the other side. and detecting the position of the recessed in the notch edge in a substantially rectangular shape and,
Calculating a shift amount between a detection result of the sensor and a predetermined reference position, moving and rotating the arm unit based on the shift amount, and pre-aligning the substrate;
Transporting the pre-aligned substrate to the exposure device by the substrate carry-in device;
A substrate pre-alignment method comprising:
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