JP5879161B2 - 水蒸気分離膜及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims description 257
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 206
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims description 173
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 109
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 89
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 78
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 78
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 78
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 47
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 41
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 40
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 37
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 29
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 20
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 19
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 16
- -1 polyhexafluoropropylene Polymers 0.000 claims description 15
- 238000004898 kneading Methods 0.000 claims description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 7
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005373 pervaporation Methods 0.000 claims description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 3
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 4,5-difluoro-2,2-bis(trifluoromethyl)-1,3-dioxole Chemical compound FC1=C(F)OC(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)O1 YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 38
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 37
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 6
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 6
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 4
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 4
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroethane Chemical compound CC(F)(F)F UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- GGOHEBMNDBGPKR-UHFFFAOYSA-N (silylamino)silylbenzene Chemical compound [SiH3]N[SiH2]c1ccccc1 GGOHEBMNDBGPKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)F NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)(F)Cl BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCO XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxysilicon Chemical compound CC(=C)C(=O)O[Si] NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NVDDGVJPNCBGPY-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)O[SiH2]C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O[SiH2]C1=CC=CC=C1 NVDDGVJPNCBGPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDVXKLFZBWKEN-UHFFFAOYSA-N C=C.F.F.F.Cl Chemical compound C=C.F.F.F.Cl CHDVXKLFZBWKEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004803 Di-2ethylhexylphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N F.F.F.F.C=C Chemical compound F.F.F.F.C=C PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006369 KF polymer Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SKZKKFZAGNVIMN-UHFFFAOYSA-N Salicilamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1O SKZKKFZAGNVIMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N caesium oxide Chemical compound [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001942 caesium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 229940047583 cetamide Drugs 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004773 chlorofluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(Cl)* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLTDLAUASUFHNK-UHFFFAOYSA-N n-silylaniline Chemical compound [SiH3]NC1=CC=CC=C1 GLTDLAUASUFHNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- GHBKQPVRPCGRAQ-UHFFFAOYSA-N octylsilicon Chemical compound CCCCCCCC[Si] GHBKQPVRPCGRAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910001575 sodium mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
[2]多孔性支持膜が内部に連通孔を有し、連通孔の一部が開孔を形成している、[1]に記載の水蒸気分離膜。
[3]多孔質支持膜が、無機物粒子を25〜85質量%含む、[1]又は[2]に記載の水蒸気分離膜。
[4]多孔性支持膜は、窒素透過速度が3500GPU以上であり、バブルポイント法による圧力が650kPa以上である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜。
[5]無機物粒子は、平均一次粒径が0.005〜0.5μmであり、比表面積が30m2/g以上500m2/g以下である、[1]〜[4]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜。
[6]無機物粒子が、シリカである、[1]〜[5]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜。
[7]有機高分子樹脂が、熱可塑性樹脂である、[1]〜[6]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜。
[8]熱可塑性樹脂が、ポリオレフィン及びハロゲン化ポリオレフィンからなる群より選択される少なくとも一種を含有する、[7]に記載の水蒸気分離膜。
[9]水蒸気分離性樹脂が、フッ素樹脂を含む、[1]〜[8]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜。
[10]フッ素樹脂が、パーフルオロ2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールとテトラフロオロエチレンとの共重合体、ポリパーフルオロメチルビニルエーテル、ポリ弗化ビニリデン、ポリヘキサフルオロプロピレン、及び、ポリクロロトリフルオロエチレンからなる群より選択される少なくとも1種である、[9]に記載の水蒸気分離膜。
[11]水蒸気分離膜の形状が中空状である、[1]〜[10]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜。
[12]窒素に対する水素の分離係数が3以上15未満である、[1]〜[11]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜。
[13][1]〜[12]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜を用いたパーベーパレーション用水蒸気透過膜。
[15][1]〜[13]のいずれか一つに記載の水蒸気分離膜の製造方法であって、有機高分子樹脂、無機物粒子及び可塑剤を含む混合物を溶融混練する工程と、溶融混練した混合物を成形して成形体を得る工程と、成形体から、可塑剤を抽出して多孔性支持膜を得る工程と、多孔性支持膜の表面に、水蒸気分離性樹脂層を積層する工程と、を含む水蒸気分離膜の製造方法。
本実施形態において、多孔性支持膜は、有機高分子樹脂と無機物粒子とを含み、多孔質構造を有する。多孔性支持膜の表面には、開孔が形成され、その開孔に無機物粒子の一部が存在している構造を有する。
本実施形態において、有機高分子樹脂は、多孔性支持膜の多孔質構造の骨格部分となる。本実施形態において、この有機高分子樹脂を含む骨格同士の間に、後述する連通孔が形成されることが好ましい。
また、ポリオレフィンは、上記オレフィン単量体と、他の単量体との共重合体であってもよい。他の単量体としては、ビニルアルコール、テトラフルオロエチレン、ヘキサン、フッ化ビニリデン、四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、三フッ化塩化エチレン等が挙げられる。
本実施形態の無機物粒子は、いずれの無機化合物からなる粒子であってもよい。例えば、金属の酸化物、金属の複合酸化物、金属、炭素、炭化金属等である。なお、本実施形態に係る金属には、珪素及びゲルマニウムも包含される。金属の酸化物としては、具体的には酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化第一鉄、酸化セシウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化マンガン、燐酸亜鉛、酸化ホルミウム等が挙げられる。金属の複合酸化物としては、具体的にはゼオライト、タルク等が挙げられる。これらの中でも、好ましくはシリカ、タルク、アルミナ、マイカである。これら無機化合物粒子は1種類で使用されても、2種類以上で使用されてもいずれであってもよい。上記無機物粒子は従来公知の製造方法で得られるものであれば、いずれであってもよい。例えば気相法、液相法、及び/又はこれらの方法で得られた無機化合物を粉砕することで無機物粒子が得られてもよい。勿論これ以外の方法であってもよい。
本実施形態において、多孔性支持膜は、水蒸気分離性樹脂層が積層されている面に開孔が形成され、無機物粒子の少なくとも一部が上記開孔に存在する構造を有する。
外表面開孔率(A)[%]=100×(孔部分面積)/{(孔部分面積)+(非孔部分面積)}
面積率(B)[%]=100×(無機粒子部分面積)/{(無機粒子部分面積)+(非無機粒子部分面積)}
平均孔径[μm]=(2860×表面張力[mN/m])/ハーフドライ空気圧力[Pa]
平均孔径[μm]=62834.2/(ハーフドライ空気圧力[Pa])
にて求めることができる。
最大孔径[μm]=62834.2/(気泡発生空気圧力[Pa])
より求めることができる。
質量分率(%)={(多孔性支持膜中の全無機物粒子の質量)/(多孔性支持膜の質量)}×100
本実施形態の水蒸気分離性樹脂層は、水蒸気分離性樹脂から形成された層である。水蒸気分離性樹脂とは、気体を分離する機能を有する樹脂のことである。水蒸気分離性樹脂としては、フッ素樹脂が好ましく、加工性を考えると有機溶剤に溶解又は分散可能な樹脂であることが好ましい。
窒素の透過係数が1barrer未満であると、PV法に用いた場合、十分な水透過速度が得られない傾向にある。また、透過流速が極めて低くなる傾向にある。
透過係数が900barrer超であると、例えばIPAと水とを分離する場合に、その分離性が低下する傾向にある。
α’=fH2[GPU]/fN2[GPU]
で表記される。ここで、fH2は気体分離膜自体の水素透過速度であり、fN2は気体分離膜自体の窒素透過速度である。これらの気体分離膜自体の気体透過速度には、気体の溶解拡散による流束と、ピンホールによるクヌーセン流の両者が含まれており、実際の気体分離モジュールの設計では、これらの気体分離膜自体の気体透過速度を使用するのがよい。この場合の分離係数α’は材料固有の値(物理定数ではなく、気体分離膜自体について決まる見かけの値になる。クヌーセン流が無ければ、上記のα’は理想分離係数αに等しくなる。
水蒸気分離性樹脂層と多孔性支持体から構成される複合材料としての水蒸気分離膜の気体透過性能は、窒素透過速度及び水素/窒素分離係数で表現される。本実施形態の水蒸気分離膜は、窒素透過速度が、20GPU〜18,000GPUであることが好ましい。また、水素/窒素分離係数が3以上15未満であることが好ましい。水蒸気分離膜の形状としては、中空糸状、平膜状等が挙げられる。中空糸状であることが好ましい。
本実施形態の水蒸気分離膜の製造方法は、有機高分子樹脂と、可塑剤と、無機物粒子とを含む混合物を溶融混練する工程と、溶融混練した混合物を成形して成形体を得る工程と、該成形体から、可塑剤を抽出して多孔性支持膜を得る工程と、多孔性支持膜の表面に、水蒸気分離性樹脂を積層する工程と、を含む方法である。以下、本実施形態の製造方法について、詳細に説明する。
本実施形態の溶融混練する工程では、有機高分子樹脂と、可塑剤と、無機物粒子とを含む混合物を溶融混練する。
本実施形態において、可塑剤とは、沸点が150℃以上の液体を指す。可塑剤は、溶融混練した混合物を成形する際に、多孔質構造を形成するのに寄与し、最終的には、抽出して取り除かれる。可塑剤としては、低温(常温)では有機高分子樹脂と相溶しないが、溶融成形時(高温)では、有機高分子樹脂と相溶するものであることが好ましい。
δP(C)={mδP(A)+nδP(B)}/(m+n)
δH(C)={mδH(A)+nδH(B)}/(m+n)
δ(C)=[{δD(C)}2+{δP(C)}2+{δH(C)}2]1/2。
本実施形態の成形体を得る工程では、溶融混練した混合物を成形する。溶融混練した混合物を成形する方法としては、Tダイ法、インフレーション法、中空のダイスを用いた方法等の押出成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形等が挙げられる。また、混合物を押出機、ニーダールーダー等の混練・押出両機能を有する装置により、直接成形することも可能である。
本実施形態の多孔性支持膜を得る工程では、上記の成形体から、溶剤を用いて可塑剤の抽出を行う。これにより、有機高分子樹脂が開孔及び連通孔を具備する多孔質構造を形成し、無機物粒子の少なくとも一部が開孔に存在する多孔性支持膜が得られる。なお、形成される多孔性支持膜では、連通孔の一部が開孔を形成していてもよい。抽出に用いる溶剤は、可塑剤を溶解し得るものであり、かつ、有機高分子樹脂を実質的に溶解しないものである。抽出に用いられる溶剤としては、メタノール、アセトン、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。特に、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロルエチレン等のハロゲン系炭化水素が好ましい。
本実施形態においては、可塑剤の除去前又は除去後に、成形体を延伸し、その後収縮させる工程を有していることが好ましい。それによって、使用中に延伸時最大糸長まで伸ばした際にも切れることがなく、機械的強度が向上する。
糸長収縮率={(延伸時最大糸長)−(収縮後糸長)}/{(延伸時最大糸長)−(元糸長)}
Z=(延伸時最大糸長−収縮後糸長)/収縮後糸長=(XY−Y)/(X+Y−XY)
水蒸気分離性樹脂を積層する工程では、多孔性支持膜の表面に、ディップコーティング法等により水蒸気分離性樹脂を積層する。
本実施形態の水蒸気分離膜は、PV法やVP法等の分離方法に好適に用いられる。その他にも、各種水蒸気分離用の膜として使用可能である。条件によっては強度と耐熱性、及び、耐熱条件下での水蒸気分離性を維持しうる水蒸気分離膜を得ることも可能である。このように優れた性能を有する水蒸気分離膜は、例えば、内燃機関システムで用いるガス浄化用の水蒸気分離膜として利用することができる。
多孔性支持膜のB.P法による圧力は、ハーフドライ法において膜から気泡が初めて出てくる時の圧力であり、以下の方法で行った。すなわち、使用液体にエタノールを用い、25℃、昇圧速度0.001MPa/秒での測定を標準測定条件とした。エタノールの25℃における表面張力は21.97mN/mである(日本化学会編、化学便覧基礎編改訂3版、II−82頁、丸善(株)、1984年)ので、本発明における標準測定条件の場合は、下記式により最大孔径を推定することができる。
最大孔径[μm]=62834.2/(気泡発生空気圧力[Pa])
1本の中空糸状の多孔性支持膜と、ステンレスパイプと、エポキシ樹脂系接着剤とを使用して有効長が20cmの透過性能評価用のペンシルモジュールとした。図3に、ペンシルモジュール10の模式図を示す。ペンシルモジュール10は、流体供給口11aと流体排出口11bとを有するステンレスパイプ11から構成される。ステンレスパイプ11の内部には、透過性能評価用サンプル(多孔性支持膜又は水蒸気分離膜)12が配置され、透過性能評価用サンプル12の両端部は接着剤13により固定されている。ステンレスパイプ11の流体排出口11b側の端部では、接着剤13により透過性能評価用サンプル12の端部の開口部とステンレスパイプ11の開口部とが塞がれている。ステンレスパイプ11の流体供給口11a側の端部では、接着剤13によりステンレスパイプ11の開口部は塞がれているが、透過性能評価用サンプル12の開口部は塞がれておらず、透過流体排出口11cが形成されている。なお、図示していないが、透過流体排出口11cには、透過した流体の流量を測定する測定装置が接続されている。
PV法によってIPA水溶液から水を選択的に分離する試験を、図3に示すペンシルモジュール10を備える、図4に示す装置を用いて行い、PV性能を評価した。図4に示す装置において、ペンシルモジュール10内には、透過性能評価用サンプル12として中空糸状の水蒸気分離膜が配置されている。PV性能の評価においては、タンク15に貯液されたIPA50質量%の水溶液を、75℃の状態で循環ポンプ16により配管14bを通り流量計17を介してペンシルモジュール10の流体供給口に供給する。このとき、ペンシルモジュール10内の水蒸気分離膜の内側は真空ポンプ25により減圧されている。供給された水溶液のうち、ペンシルモジュール10内に配置された水蒸気分離膜の外側から内側に透過した流体は、真空ポンプ25により吸引されて、配管21aを通って液体窒素によって冷却されている冷却トラップ23内に集められる。配管21aには真空計22が備えられている。一方、供給された水溶液のうち、水蒸気分離膜を透過しなかった流体は配管14aを通ってタンク15に戻される。
水/IPA分離係数=(X1/X2)/(Y1/Y2)
無機物粒子として微粉シリカ(日本アエロジル社製:R−972)25.5質量部と、可塑剤としてフタル酸ジブチル(DBP)50.5質量部とをヘンシェルミキサーで混合し、これに有機高分子樹脂として高密度ポリエチレン(旭化成工業製:SH800)24.0質量部を添加し、再度ヘンシェルミキサーで混合した。この混合物を、2軸混練押し出し機で混合しペレット化し、得られたペレットを220℃で溶融混練した。
実施例1において、微粉シリカを8質量部、DBPを68質量部、高密度ポリエチレンを24質量部とした以外は実施例1と同様に、多孔性支持膜及び水蒸気分離膜を製造した。得られた多孔性支持膜及び水蒸気分離膜の性能を表1に示す。
実施例1において、微粉シリカを69質量部、DBPを7質量部、高密度ポリエチレンを24質量部とした以外は実施例1と同様に、多孔性支持膜及び水蒸気分離膜を製造した。得られた多孔性支持膜及び水蒸気分離膜の性能を表1に示す。
無機物粒子である微粉シリカは添加せず、DBPを76.0質量部とした以外は実施例1と同様に、多孔性支持膜及び水蒸気分離膜を製造した。得られた多孔性支持膜を、SEM用いて観察したところ、膜表面に開孔が形成されているが、開孔にシリカが存在していないことがわかった(図6(a)、(b))。得られた多孔性支持膜及び水蒸気分離膜の性能を表1に示す。
実施例1において、微粉シリカを5質量部、DBPを71質量部、高密度ポリエチレンを24質量部とした以外は実施例1と同様に、多孔性支持膜及び水蒸気分離膜を製造した。
それに対して、実施例1〜3は、透過流速が十分であり、耐久性が高く、かつ、分離性が高い。
無機物粒子として微粉シリカ(日本アエロジル社製:R−972)23.0質量部と、可塑剤としてフタル酸ジオクチル30.8質量%とフタル酸ジブチル6.2質量%(二者の混合液のSP:18.59(MPa)1/2)と、をヘンシェルミキサーで混合し、これに有機高分子樹脂として質量平均分子量290000のポリフッ化ビニリデン(呉羽化学工業(株)製:KFポリマー#1000(商品名))40質量%を添加し、再度ヘンシェルミキサーで混合した。得られた混合物を48mmφ二軸押し出し機で更に溶融混練し、ペレットにした。
実施例4において、水蒸気分離性樹脂A(テフロンAF1600)に変えて、水蒸気分離性樹脂B(デュポン社製:テフロンAF2400)としたこと以外は、実施例4と同様にして水蒸気分離膜を得た。用いた水蒸気分離性樹脂Bの性能、並びに、得られた多孔性支持膜及び水蒸気分離膜の性能を表2に示す。
実施例4において、水蒸気分離性樹脂A(テフロンAF1600)に変えて、水蒸気分離性樹脂C(旭硝子社製:Cytop CTL−107MK)1.2質量%とCT−SOLV100K98.8質量%からなる塗工液としたこと以外は、実施例4と同様にして水蒸気分離膜を得た。用いた水蒸気分離性樹脂Cの性能、並びに、得られた多孔性支持膜、及び水蒸気分離膜の性能を表2に示す。
実施例4において、水蒸気分離性樹脂A(テフロンAF1600)に変えて、ポリスルホンP−3500(ソルベイ社製)1.2質量%とN−メチル−2−ピロリドン98.8質量%からなる塗工液としたこと以外は、実施例4と同様にして水蒸気分離膜を得た。用いた水蒸気分離性樹脂Dの性能、並びに、得られた多孔性支持膜及び水蒸気分離膜の性能を表1に示すれた多孔性支持膜、及び水蒸気分離膜の性能を表2に示す。
Claims (14)
- 多孔性支持膜と、該多孔性支持膜上に積層された水蒸気分離性樹脂層とを備える水蒸気分離膜であり、
前記多孔性支持膜は、有機高分子樹脂と無機物粒子とを含み、
前記多孔性支持膜の前記水蒸気分離性樹脂層が積層されている面に開孔が形成され、前記無機物粒子の少なくとも一部が前記開孔に存在し、
前記多孔性支持膜の前記水蒸気分離性樹脂層が積層されている面における開孔率に対する、前記無機物粒子が前記水蒸気分離性樹脂側の面に占める面積率の比が、0.2〜4であり、
前記水蒸気分離性樹脂層は、窒素の透過係数が1〜900barrerであり、かつ、窒素に対する水素の分離係数が2〜15である、水蒸気分離膜。 - 前記多孔性支持膜が内部に連通孔を有し、該連通孔の一部が前記開孔を形成している、請求項1に記載の水蒸気分離膜。
- 前記多孔性支持膜が、前記無機物粒子を25〜85質量%含む、請求項1又は2に記載の水蒸気分離膜。
- 前記多孔性支持膜は、窒素透過速度が3500GPU以上であり、バブルポイント法による圧力が650kPa以上である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜。
- 前記無機物粒子は、平均一次粒径が0.005〜0.5μmであり、比表面積が30m2/g以上500m2/g以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜。
- 前記無機物粒子が、シリカである、請求項1〜5のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜。
- 前記有機高分子樹脂が、熱可塑性樹脂である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜。
- 前記熱可塑性樹脂が、ポリオレフィン及びハロゲン化ポリオレフィンからなる群より選択される少なくとも一種を含有する、請求項7に記載の水蒸気分離膜。
- 前記水蒸気分離性樹脂層が、フッ素樹脂を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜。
- 前記フッ素樹脂が、パーフルオロ2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールとテトラフロオロエチレンとの共重合体、ポリパーフルオロメチルビニルエーテル、ポリ弗化ビニリデン、ポリヘキサフルオロプロピレン、及び、ポリクロロトリフルオロエチレンからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項9に記載の水蒸気分離膜。
- 前記水蒸気分離膜の形状が中空状である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜。
- 窒素に対する水素の分離係数が3以上15未満である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜を用いたパーベーパレーション用水蒸気透過膜。
- 請求項1〜13のいずれか一項に記載の水蒸気分離膜の製造方法であって、
前記有機高分子樹脂、前記無機物粒子及び可塑剤を含む混合物を溶融混練する工程と、
前記溶融混練した混合物を成形して成形体を得る工程と、
前記成形体から、前記可塑剤を抽出して多孔性支持膜を得る工程と、
前記多孔性支持膜の表面に、水蒸気分離性樹脂層を積層する工程と、
を含む水蒸気分離膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012053115A JP5879161B2 (ja) | 2012-03-09 | 2012-03-09 | 水蒸気分離膜及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012053115A JP5879161B2 (ja) | 2012-03-09 | 2012-03-09 | 水蒸気分離膜及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013184139A JP2013184139A (ja) | 2013-09-19 |
JP5879161B2 true JP5879161B2 (ja) | 2016-03-08 |
Family
ID=49386079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012053115A Expired - Fee Related JP5879161B2 (ja) | 2012-03-09 | 2012-03-09 | 水蒸気分離膜及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5879161B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019018124A (ja) * | 2017-07-12 | 2019-02-07 | 旭化成株式会社 | 分離膜 |
CN111545069A (zh) * | 2019-02-12 | 2020-08-18 | 日立化成株式会社 | 层叠物 |
JP7349885B2 (ja) * | 2019-10-31 | 2023-09-25 | 旭化成株式会社 | ガス分離膜 |
JP7516174B2 (ja) | 2020-09-09 | 2024-07-16 | 日産自動車株式会社 | ガス分離膜及びその製造方法 |
CN115068972B (zh) * | 2021-03-16 | 2023-08-15 | 上海梅山钢铁股份有限公司 | 一种可调节硫铵母液固液比的结晶槽 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5438279A (en) * | 1977-09-02 | 1979-03-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Production of strengthened forous membrabe |
JPS59199001A (ja) * | 1983-04-25 | 1984-11-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 気体分離用複合膜及びその製造方法 |
JP2003038941A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-12 | Nitto Denko Corp | 液体分離膜およびその運転方法 |
TW200630158A (en) * | 2004-09-21 | 2006-09-01 | Worcester Polytech Inst | Membrane enhanced reactor |
JP2006187731A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-07-20 | Kurita Water Ind Ltd | 分離膜及び水処理装置 |
CA2667579A1 (en) * | 2006-10-27 | 2008-05-15 | The Regents Of The University Of California | Micro-and nanocomposite support structures for reverse osmosis thin film membranes |
JP5856479B2 (ja) * | 2008-04-15 | 2016-02-09 | ナノエイチツーオー・インコーポレーテッド | 複合ナノ粒子tfc膜 |
US8177978B2 (en) * | 2008-04-15 | 2012-05-15 | Nanoh20, Inc. | Reverse osmosis membranes |
JP2012045540A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-03-08 | Toray Ind Inc | 分離膜複合体および分離膜エレメント |
-
2012
- 2012-03-09 JP JP2012053115A patent/JP5879161B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013184139A (ja) | 2013-09-19 |
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JPH0479686B2 (ja) |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150305 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |