JP5874126B2

JP5874126B2 - Film exposure equipment

Info

Publication number: JP5874126B2
Application number: JP2011183133A
Authority: JP
Inventors: 正康金尾; 敬行佐藤; 吉博冨塚
Original assignee: V Technology Co Ltd
Current assignee: V Technology Co Ltd
Priority date: 2011-08-24
Filing date: 2011-08-24
Publication date: 2016-03-02
Anticipated expiration: 2031-08-24
Also published as: JP2013044972A; CN202794848U

Description

本発明は、フィルム状の被露光体に各種パターンを露光するフィルム露光装置に関するものである。 The present invention relates to a film exposure apparatus that exposes various patterns on a film-like object to be exposed.

フィルム状の基材を一方向に搬送しながら、この基材に位相差パターン，フィルタパターン，回路パターンなどの各種パターンを露光する露光装置が知られている。例えば、下記特許文献１に記載された露光装置は、所定幅を有するロールフィルム状の被露光体を露光部上に送り込んで、マスクのパターンを被露光体に露光する装置であって、被露光体を送り出す供給リールを回転させる供給リール回転部と、この供給リールから送り出された被露光体をガイドするガイドローラと、このガイドローラと露光部との間に配置され、被露光体にパターンマスクとの位置合わせ用のアライメントマークを描画するアライメントマーク描画部とを備える。また、このアライメントマークを撮像するアライメントカメラを備え、アライメントカメラの画像に基づいてフィルム状の被露光体とマスクの位置調整を行うものである。 There is known an exposure apparatus that exposes various patterns such as a phase difference pattern, a filter pattern, and a circuit pattern on a substrate while conveying the film substrate in one direction. For example, an exposure apparatus described in the following Patent Document 1 is an apparatus that sends a roll film-shaped object to be exposed having a predetermined width onto an exposure unit, and exposes a mask pattern onto the object to be exposed. A supply reel rotating unit that rotates a supply reel that feeds the body, a guide roller that guides an object to be exposed sent from the supply reel, and a guide mask and an exposure unit, and is arranged between the guide roller and the exposure unit. And an alignment mark drawing unit for drawing an alignment mark for alignment with. In addition, an alignment camera for imaging the alignment mark is provided, and the position of the film-like object to be exposed and the mask is adjusted based on the image of the alignment camera.

特開２００９−５３３８３号公報JP 2009-53383 A

このような露光装置では、フィルム状の被露光体が露光によって加熱されることで、被露光体の露光面に搬送方向に沿った筋状の皺が生じることがある。露光面にこのような皺が生じると、マスクのパターンを露光面上に形成する際にパターンの寸法に悪影響を及ぼすことがあり、露光面上に精度の高いパターンを形成することができない問題が生じる。 In such an exposure apparatus, a film-like object to be exposed may be heated by exposure, whereby streak-like wrinkles along the transport direction may occur on the exposure surface of the object to be exposed. If such wrinkles occur on the exposed surface, the mask pattern may be adversely affected when the mask pattern is formed on the exposed surface, and a high-precision pattern cannot be formed on the exposed surface. Arise.

また、被露光体のフィルム面上に形成したアライメントマークをアライメントカメラで撮像する際に、前述した皺がフィルム面上に生じていると、アライメントカメラの焦点位置が変化し、取得画像の鮮明度が低下してフィルム状の被露光体とマスクとの位置調整を高精度に行うことができなくなる問題が生じる。 In addition, when the alignment mark formed on the film surface of the object to be exposed is imaged with the alignment camera, if the above-described wrinkle is generated on the film surface, the focus position of the alignment camera changes, and the sharpness of the acquired image Decreases and the position adjustment between the film-shaped object to be exposed and the mask cannot be performed with high accuracy.

これに対して、被露光体の露光面に形成される皺を抑制する方法として、被露光体における露光面の逆側の面に比較的大径のバックロールを当接させ、このバックロールの曲面で皺を伸ばすことが考えられる。しかしながらこの方法によると、被露光体における露光面の逆側のスペースがバックロールによって占有されてしまい、露光面の逆側に配置したいアライメントカメラなどの機材の配置スペースが制約を受ける問題が生じる。 On the other hand, as a method of suppressing wrinkles formed on the exposed surface of the object to be exposed, a back roll having a relatively large diameter is brought into contact with the surface opposite to the exposed surface of the object to be exposed, It is conceivable to stretch the ridges on a curved surface. However, according to this method, the space on the opposite side of the exposed surface of the object to be exposed is occupied by the back roll, and there is a problem that the space for arranging the equipment such as the alignment camera to be disposed on the opposite side of the exposed surface is restricted.

仮に、アライメントカメラを被露光体の露光面側に配置したとすると、本来露光面側に配置されるのが必須の光源やマスクホルダの配置とアライメントカメラの配置が干渉するという問題だけで無く、バックロールの曲面で反射した光をアライメントカメラで撮像することになるので、バックロールの曲面で光が様々な方向に反射することになり、カメラに入射する光の光量が低下して取得画像のコントラストが低下する問題が生じる。 Assuming that the alignment camera is arranged on the exposure surface side of the object to be exposed, not only the problem that the arrangement of the light source or the mask holder that is essential to be arranged on the exposure surface side interferes with the arrangement of the alignment camera, Since the light reflected on the curved surface of the back roll is imaged by the alignment camera, the light is reflected on the curved surface of the back roll in various directions, and the amount of light incident on the camera is reduced and There arises a problem that the contrast is lowered.

本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、フィルム状の被露光体にマスクパターンを露光する露光装置において、露光面上に生じる皺を抑制することで、露光面上に精度の高いパターンを形成すること、或いは、フィルム状の被露光体とマスクとの位置調整を高精度に行うことができること、露光面の逆側にアライメントカメラなどの機材を配置できる有効スペースを確保できること、アライメントカメラの取得画像のコントラストを高めることができること、等が本発明の目的である。 This invention makes it an example of a subject to cope with such a problem. That is, in an exposure apparatus that exposes a mask pattern on a film-like object to be exposed, a high-precision pattern can be formed on the exposure surface by suppressing wrinkles generated on the exposure surface, or a film-like object to be exposed The position of the body and the mask can be adjusted with high accuracy, an effective space where equipment such as an alignment camera can be placed on the opposite side of the exposure surface, the contrast of the acquired image of the alignment camera can be increased, etc. Is the object of the present invention.

このような目的を達成するために、本発明は、以下の構成を少なくとも具備するものである。 In order to achieve such an object, the present invention comprises at least the following configuration.

フィルム状の被露光体にマスクパターンを露光する露光装置において、前記被露光体を一方向に沿って搬送するフィルム搬送部と、前記被露光体の露光面上に近接配置されるフォトマスクと、前記フォトマスクを前記被露光体の露光面上に保持するマスク保持部と、前記フォトマスクのマスクパターンに光を照射する光照射部とを備え、前記フォトマスクは、前記被露光体の搬送方向に沿って配置される第１のマスクパターンと第２のマスクパターンを備え、前記フィルム搬送部は、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンの位置に対応して配置した一対のバックロールを備え、前記一対のバックロールで前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンが露光される露光面の逆側の面を支持し、前記光照射部が、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンを介して前記一対のバックロール上の被露光体に光を照射するすることを特徴とするフィルム露光装置。 In an exposure apparatus that exposes a mask pattern on a film-shaped object to be exposed, a film transport unit that transports the object to be exposed along one direction, a photomask that is disposed close to the exposure surface of the object to be exposed, A mask holding unit for holding the photomask on the exposure surface of the object to be exposed; and a light irradiation unit for irradiating light to the mask pattern of the photomask, wherein the photomask is in a transport direction of the object to be exposed. A first mask pattern and a second mask pattern arranged along the line, wherein the film transport unit is arranged in a pair corresponding to the positions of the first mask pattern and the second mask pattern. comprising a roll, the pair of back roll at said first mask pattern and the second mask pattern is to support the opposite side surface of the exposure surface to be exposed, the light irradiation unit, wherein Film exposure apparatus, which comprises irradiating light to the object to be exposed on the pair of back rolls through the one of the mask pattern and the second mask pattern.

このような特徴を備えた本発明のフィルム露光装置によると、一対のバックロールで第１のマスクパターンと第２のマスクパターンが露光される被露光体における露光面の逆側の面を支持するので、露光面がバックロールの表面に当接して皺が生じ難い状態になる。これによって、被露光体の露光面上に生じる皺を抑制することができ、露光面上に精度の高いパターンを形成することができる。また、被露光体の露光面上に生じる皺を抑制することで、被露光体のアライメントマークを焦点ズレなく撮像でき、被露光体とマスクとの位置調整を高精度に行うことができる。 According to the film exposure apparatus of the present invention having such a feature, a pair of back rolls supports a surface on the opposite side of the exposure surface of the object to be exposed on which the first mask pattern and the second mask pattern are exposed. As a result, the exposure surface comes into contact with the surface of the back roll, and wrinkles are unlikely to occur. Thereby, wrinkles generated on the exposed surface of the object to be exposed can be suppressed, and a highly accurate pattern can be formed on the exposed surface. Further, by suppressing wrinkles generated on the exposure surface of the object to be exposed, the alignment mark of the object to be exposed can be imaged without defocusing, and the position adjustment between the object to be exposed and the mask can be performed with high accuracy.

また、バックロールを一対設けることで、一対のバックロールの間にスペースを確保することが可能になり、このスペースにアライメントカメラなどの調整機材を配置することができる。これによると、アライメントカメラは、フォトマスクと被露光体を透過した光でアライメントマークを撮像することができ、アライメントカメラに入射する光を十分に確保して、コントラストの高い画像を得ることができる。 Further, by providing a pair of back rolls, a space can be secured between the pair of back rolls, and adjustment equipment such as an alignment camera can be arranged in this space. According to this, the alignment camera can take an image of the alignment mark with the light transmitted through the photomask and the object to be exposed, and can obtain a high-contrast image by sufficiently securing the light incident on the alignment camera. .

本発明の実施形態に係るフィルム露光装置の全体構成を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the whole structure of the film exposure apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態におけるフォトマスクのマスクパターンを示した説明図（図２（ａ）が平面図、図２（ｂ）がＡ−Ａ断面図）である。FIGS. 2A and 2B are explanatory views showing a mask pattern of a photomask according to an embodiment of the present invention (FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is an AA cross-sectional view). 本発明の実施形態におけるマスク保持部の具体的な構成例を示した説明図（図３（ａ）がＢ−Ｂ断面図であり、図３（ｂ）がＡ−Ａ断面図）である。FIGS. 3A and 3B are explanatory views showing a specific configuration example of a mask holding portion in the embodiment of the present invention (FIG. 3A is a cross-sectional view along BB, and FIG. 3B is a cross-sectional view along AA).

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。図１は、本発明の実施形態に係るフィルム露光装置の全体構成を示した説明図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram showing the overall configuration of a film exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

フィルム露光装置１は、フィルム状の被露光体Ｆにマスクパターンを露光する装置であり、被露光体Ｆを一方向に沿って搬送するフィルム搬送部２と、被露光体Ｆの露光面ａ上に近接配置されるフォトマスク３と、フォトマスク３を被露光体Ｆの露光面ａ上に保持するマスク保持部４と、フォトマスク３のマスクパターンに光を照射する光照射部５とを備えている。 The film exposure apparatus 1 is an apparatus that exposes a mask pattern to a film-like object to be exposed F, a film transport unit 2 that conveys the object to be exposed F along one direction, and an exposure surface a of the object to be exposed F. A photomask 3 disposed close to the photomask 3, a mask holding unit 4 that holds the photomask 3 on the exposure surface a of the exposure object F, and a light irradiation unit 5 that irradiates the mask pattern of the photomask 3 with light. ing.

被露光体Ｆは、一方向に沿って長尺なフィルム状の基材に対して紫外線等の光を照射することで変性する感光性樹脂層を表面又は内部に備えるものである。被露光体Ｆ上に形成される露光パターンは、位相差パターン，カラーフィルタパターン，回路パターンなどの各種パターンであればよく、パターンの形態は特に限定されないが、被露光体Ｆを一方向に沿って搬送しながらパターン形成を行うものであるから、搬送方向に沿った線状のパターンが形成されることになる。 The to-be-exposed body F is provided with a photosensitive resin layer on the surface or inside that is modified by irradiating light such as ultraviolet rays onto a film-like substrate that is long along one direction. The exposure pattern formed on the object to be exposed F may be various patterns such as a phase difference pattern, a color filter pattern, and a circuit pattern. The form of the pattern is not particularly limited, but the object to be exposed F extends in one direction. Since the pattern is formed while being conveyed, a linear pattern along the conveying direction is formed.

フィルム搬送部２はフィルム状の被露光体Ｆを図示の矢印に沿って一方向に搬送するものである。このフィルム搬送部２は、フォトマスク３に対して被露光体Ｆの搬送方向上流側と下流側に一対のバックロール２１，２２を備えており、そのバックロール２１，２２の上に被露光体Ｆの露光面ａが配置されている。図示のフィルム搬送部２は、一対のバックロール２１，２２の上流側及び下流側に複数の搬送ロール２３，２４を備えている。 The film transport unit 2 transports the film-shaped object F in one direction along the illustrated arrow. The film transport unit 2 includes a pair of back rolls 21 and 22 on the upstream side and the downstream side in the transport direction of the object to be exposed F with respect to the photomask 3, and the object to be exposed on the back rolls 21 and 22. An F exposure surface a is arranged. The illustrated film transport unit 2 includes a plurality of transport rolls 23 and 24 on the upstream side and the downstream side of the pair of back rolls 21 and 22.

フォトマスク３は、バックロール２１，２２上で被露光体Ｆの露光面ａに近接配置され、被露光体Ｆの搬送方向に沿って配置される第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２を備えている。図２は、本発明の実施形態におけるフォトマスクのマスクパターンを示した説明図（図２（ａ）が平面図、図２（ｂ）がＡ−Ａ断面図）である。図示の例では、第１のマスクパターン３１が被露光体Ｆの搬送方向上流側に配置され、第２のマスクパターン３２が被露光体Ｆの搬送方向下流側に配置されている。第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２は、それぞれ被露光体Ｆの露光面ａ上の異なる位置に線状のパターンを形成するものである。 The photomask 3 is arranged close to the exposure surface a of the exposure object F on the back rolls 21 and 22, and the first mask pattern 31 and the second mask pattern are arranged along the conveyance direction of the exposure object F. 32. FIG. 2 is an explanatory view (FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is an AA cross-sectional view) showing a mask pattern of a photomask according to an embodiment of the present invention. In the illustrated example, the first mask pattern 31 is disposed on the upstream side in the transport direction of the object to be exposed F, and the second mask pattern 32 is disposed on the downstream side in the transport direction of the object to be exposed F. The first mask pattern 31 and the second mask pattern 32 form linear patterns at different positions on the exposure surface a of the object to be exposed F, respectively.

フォトマスク３は、第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の間にアライメント開口部３３，３４，３５を備えている。アライメント開口部３３，３４はそれ自体がアライメントマークとして機能するものであり、これによってフォトマスク３の初期状態における位置調整を行う。アライメント開口部３５はスリット状の開口部であり、その内部に被露光体Ｆの搬送方向に沿って線状のマーク（図示省略）が設けられている。被露光体Ｆ上に設けられた線状のアライメントマークとアライメント開口部３５内の線状のマークを合わせることで被露光体Ｆの搬送中の位置調整が行われる。また、フォトマスク３は、透明な石英ガラス基板３Ａの一面にクロムなどの遮光層３Ｂをスパッタリングなどで形成し、この遮光層３Ｂにフォトリソ工程などで第１のマスクパターン３１、第２のマスクパターン３２、アライメント開口部３３，３４，３５を形成したものである。 The photomask 3 includes alignment openings 33, 34, and 35 between the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32. The alignment openings 33 and 34 themselves function as alignment marks, thereby adjusting the position of the photomask 3 in the initial state. The alignment opening 35 is a slit-shaped opening, and a linear mark (not shown) is provided in the inside along the conveyance direction of the exposure object F. By aligning the linear alignment mark provided on the object to be exposed F and the linear mark in the alignment opening 35, the position adjustment during conveyance of the object to be exposed F is performed. In the photomask 3, a light shielding layer 3B such as chromium is formed on one surface of a transparent quartz glass substrate 3A by sputtering, and the first mask pattern 31 and the second mask pattern are formed on the light shielding layer 3B by a photolithography process or the like. 32, alignment openings 33, 34, and 35 are formed.

マスク保持部４は、フォトマスク３を被露光体Ｆの露光面ａ上に保持すると共に、フォトマスク３のアライメント開口部３３，３４，３５に対応した開口４ａを有する。図示の例では、マスク保持部４は略中央部に遮光板４１を備えている。 The mask holding unit 4 holds the photomask 3 on the exposure surface a of the exposure object F and has an opening 4 a corresponding to the alignment openings 33, 34, and 35 of the photomask 3. In the illustrated example, the mask holding unit 4 includes a light shielding plate 41 at a substantially central portion.

マスク保持部４によって保持されるフォトマスク３の上には、第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２のそれぞれに光を照射する光照射部５（５Ａ，５Ｂ）を配置している。光照射部５（５Ａ，５Ｂ）は、図示省略した一つ又は複数の光源からの光をフォトマスク３の第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２にそれぞれ導くものである。光照射部５（５Ａ，５Ｂ）の一例を説明すると、異なる直線偏光成分（Ｐ偏光とＳ偏光）をそれぞれの光照射部５Ａ，５Ｂから露光面ａに傾斜した角度で照射している。これによると露光面ａ上にストライプ状の位相差パターンを形成することができる。 On the photomask 3 held by the mask holding unit 4, a light irradiation unit 5 (5 </ b> A, 5 </ b> B) that irradiates light to each of the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32 is disposed. . The light irradiation unit 5 (5A, 5B) guides light from one or more light sources (not shown) to the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32 of the photomask 3, respectively. An example of the light irradiation unit 5 (5A, 5B) will be described. Different linearly polarized components (P-polarized light and S-polarized light) are irradiated from the respective light irradiation units 5A, 5B to the exposure surface a at an inclined angle. According to this, a stripe-like phase difference pattern can be formed on the exposure surface a.

また、本発明の実施形態に係るフィルム露光装置１は、一対のバックロール２１，２２間にアライメントマークを撮像するアライメントカメラ６（６Ａ，６Ｂ）を配置しており、アライメントカメラ６（６Ａ，６Ｂ）の取得画像に基づいてマスク保持部４と被露光体Ｆとの位置調整を行う位置調整部７を備える。位置調整部７はマスク保持部４の支持枠４３を介してマスク保持部４に保持されたフォトマスク３と被露光体Ｆとの位置調整を行う。 Moreover, the film exposure apparatus 1 which concerns on embodiment of this invention has arrange | positioned the alignment camera 6 (6A, 6B) which images an alignment mark between a pair of back rolls 21 and 22, and the alignment camera 6 (6A, 6B). ) Is provided with a position adjusting unit 7 that adjusts the position of the mask holding unit 4 and the object F to be exposed. The position adjusting unit 7 adjusts the position of the photomask 3 held on the mask holding unit 4 and the exposure object F via the support frame 43 of the mask holding unit 4.

アライメントカメラ６は、位置調整用光源９から照射されて、アライメント開口部３３，３４，３５及び被露光体Ｆを透過した光で、アライメントマークの画像を取得している。アライメントカメラ６の画像は図示省略した制御部で画像処理され、この制御部の出力によって位置調整部７を動作させる。アライメントカメラ６は、アライメント開口部３３，３４とアライメントマークとして撮像するための初期調整用カメラ６Ａと、アライメント開口部３５内の線状マークと被露光体Ｆに設けた線状のアライメントマークを撮像するための追従用カメラ６Ｂを備えている。また、一対のバックロール２１，２２間には、被露光体Ｆとフォトマスク３との間隔を検知して適正な間隔に調整するためのギャップセンサ８を設けることができる。 The alignment camera 6 obtains an image of the alignment mark with light emitted from the position adjusting light source 9 and transmitted through the alignment openings 33, 34, and 35 and the object to be exposed F. The image of the alignment camera 6 is subjected to image processing by a control unit (not shown), and the position adjustment unit 7 is operated by the output of the control unit. The alignment camera 6 takes an image of the alignment openings 33 and 34 and the initial adjustment camera 6A for imaging as alignment marks, the linear marks in the alignment openings 35 and the linear alignment marks provided on the object F to be exposed. A follow-up camera 6B is provided. Further, a gap sensor 8 can be provided between the pair of back rolls 21 and 22 for detecting the distance between the object to be exposed F and the photomask 3 and adjusting the distance to an appropriate distance.

図３は、本発明の実施形態におけるマスク保持部の具体的な構成例を示した説明図（図３（ａ）がＢ−Ｂ断面図であり、図３（ｂ）がＡ−Ａ断面図）である。図示の例のマスク保持部４は、フォトマスク３を吸着して保持するものであり、フォトマスク３の外周縁に対応する外縁を有する枠体４４を備えている。このマスク保持部４は、第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の間でフォトマスク３を保持している。枠体４４には、フォトマスク３のアライメント開口部３３，３４，３５に光を透過させるための開口４ａが設けられる。 3A and 3B are explanatory views showing a specific configuration example of the mask holding portion in the embodiment of the present invention (FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line BB, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA. ). The mask holding unit 4 in the illustrated example is configured to suck and hold the photomask 3 and includes a frame body 44 having an outer edge corresponding to the outer peripheral edge of the photomask 3. The mask holding unit 4 holds the photomask 3 between the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32. The frame body 44 is provided with an opening 4 a for transmitting light to the alignment openings 33, 34, and 35 of the photomask 3.

枠体４４の略中央には、被露光体Ｆの搬送方向に交差する方向に延設される遮光板４１が設けられ、遮光板４１を跨ぐように支持枠４３が設けられている。遮光板４１は第１のマスクパターン３１に照射される光と第２のマスクパターン３２に照射される光が互いに交錯しないように設けられるものである。更に、枠体４４には、その下面にマスク吸着孔４５が設けられ、このマスク吸着孔４５に生じる負圧でフォトマスク３を枠体４４の下面に吸着している。 A light shielding plate 41 extending in a direction intersecting the conveyance direction of the object to be exposed F is provided at a substantially center of the frame body 44, and a support frame 43 is provided so as to straddle the light shielding plate 41. The light shielding plate 41 is provided so that the light applied to the first mask pattern 31 and the light applied to the second mask pattern 32 do not cross each other. Further, a mask suction hole 45 is provided on the lower surface of the frame body 44, and the photomask 3 is sucked on the lower surface of the frame body 44 by the negative pressure generated in the mask suction hole 45.

このような構成を備えるフィルム露光装置１は、フォトマスク３が被露光体Ｆの搬送方向に沿って第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２を備えており、フィルム搬送部２が、第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の位置に対応して配置した一対のバックロール２１，２２を備えている。そして、一対のバックロール２１，２２で第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２が露光される露光面ａの逆側の面を支持している。 In the film exposure apparatus 1 having such a configuration, the photomask 3 includes a first mask pattern 31 and a second mask pattern 32 along the conveyance direction of the exposure object F, and the film conveyance unit 2 is A pair of back rolls 21 and 22 are provided corresponding to the positions of the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32. A pair of back rolls 21 and 22 support a surface opposite to the exposure surface a on which the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32 are exposed.

これによると、図２に示すように、フォトマスク３における第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の間に比較的広い間隔を設けることで、これらの位置に対応して配備される一対のバックロール２１，２２の間のスペースを比較的大きくとることができる。これによって、一対のバックロール２１，２２の間のスペースにアライメントカメラ６（６Ａ，６Ｂ）やギャップセンサ８などの調整機材を配置することができる。一対のバックロール２１，２２の間のスペースは、被露光体Ｆの露光面ａとは逆側に位置し、マスク保持部４や光照射部５の配置と干渉しないスペースになる。また、フォトマスク３には第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の間に比較的広いスペースがあり、そのスペースの任意の位置にアライメント開口部３３，３４，３５を配置することができるので、アライメントカメラ６（６Ａ，６Ｂ）の位置もそれに合わせて任意に設定することができる。 According to this, as shown in FIG. 2, a relatively wide space is provided between the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32 in the photomask 3, so that the photomask 3 is provided corresponding to these positions. The space between the pair of back rolls 21 and 22 can be made relatively large. Thereby, adjustment equipment such as the alignment camera 6 (6A, 6B) and the gap sensor 8 can be arranged in the space between the pair of back rolls 21, 22. The space between the pair of back rolls 21 and 22 is located on the side opposite to the exposure surface a of the object F to be exposed and does not interfere with the arrangement of the mask holding unit 4 and the light irradiation unit 5. Further, the photomask 3 has a relatively wide space between the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32, and the alignment openings 33, 34, and 35 can be arranged at arbitrary positions in the space. Therefore, the position of the alignment camera 6 (6A, 6B) can also be set arbitrarily according to it.

また、アライメントカメラ６は、位置調整用光源９から出射してアライメント開口部３３，３４，３５及び被露光体Ｆを透過した光で、アライメント開口部３３，３４，３５と被露光体Ｆのアライメントマークの画像を得るので、十分な光量で画像を取得でき、コントラストの高い画像に基づいて位置調整を行うことができる。これにより、被露光体Ｆとフォトマスク３の位置調整を精度良く行うことができる。 The alignment camera 6 aligns the alignment openings 33, 34, 35 and the object F with light emitted from the position adjustment light source 9 and transmitted through the alignment openings 33, 34, 35 and the object F to be exposed. Since the image of the mark is obtained, the image can be acquired with a sufficient amount of light, and the position can be adjusted based on the image with high contrast. Thereby, position adjustment of to-be-exposed body F and photomask 3 can be performed with sufficient accuracy.

そして、フォトマスク３の第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２に対応する被露光体Ｆの露光面ａは、それぞれバックロール２１，２２の曲面で背面側から支持されているので、それぞれの露光面ａはバックロール２１，２２の曲面で引き延ばされることになり、この露光面ａが加熱しても皺が生じ難い状態になっている。これによって、皺のない露光面ａに第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２を露光することができ、寸法精度の高いマスクパターンを形成することが可能になる。また、露光面ａの皺を抑制することで、その間の被露光体Ｆのフィルム面にも皺が生じ難くなり、アライメントカメラ６で被露光体Ｆに設けたアライメントマークを撮像する際の焦点ズレが生じ難くなる。これによって、被露光体Ｆとフォトマスク３との位置調整を高精度に行うことが可能になる。 And since the exposure surface a of the to-be-exposed body F corresponding to the 1st mask pattern 31 and the 2nd mask pattern 32 of the photomask 3 is each supported by the curved surface of the back rolls 21 and 22, from the back side, Each exposure surface a is extended by the curved surfaces of the back rolls 21 and 22, and even when the exposure surface a is heated, wrinkles are hardly generated. Thereby, the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32 can be exposed on the exposure surface a having no defects, and a mask pattern with high dimensional accuracy can be formed. Further, by suppressing wrinkles on the exposure surface a, wrinkles are less likely to occur on the film surface of the object F in the meantime, and a focus shift occurs when the alignment mark provided on the object F is imaged by the alignment camera 6. Is less likely to occur. This makes it possible to adjust the position of the object to be exposed F and the photomask 3 with high accuracy.

フォトマスク３の第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２に対応する被露光体Ｆの露光面ａは、バックロール２１，２２の曲面上に限定されるものではなく、バックロール２１，２２の曲面に近い被露光体Ｆの平面部分にも形成することができる。バックロール２１，２２の曲面に近い被露光体Ｆの平面部分はバックロール２１，２２の曲面上と同様に皺が生じ難い部分であり、この部分を露光面ａとすることで露光領域を広く取ることができる。このように露光領域を広くすることで光源照度の低減が可能になる。 The exposure surface a of the exposure object F corresponding to the first mask pattern 31 and the second mask pattern 32 of the photomask 3 is not limited to the curved surfaces of the back rolls 21 and 22, It can also be formed on the planar portion of the object to be exposed F that is close to the curved surface of 22. Similar to the curved surfaces of the back rolls 21 and 22, the planar portion of the object to be exposed F that is close to the curved surfaces of the back rolls 21 and 22 is a portion where wrinkles are unlikely to occur. Can be taken. In this way, the illuminance of the light source can be reduced by widening the exposure area.

以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。 As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to these embodiments, and the design can be changed without departing from the scope of the present invention. Is included in the present invention. In addition, the above-described embodiments can be combined by utilizing each other's technology as long as there is no particular contradiction or problem in the purpose and configuration.

１：フィルム露光装置，２：フィルム搬送部，３：フォトマスク，
４：マスク保持部，４ａ：開口，５（５Ａ，５Ｂ）：光照射部，
６（６Ａ，６Ｂ）：アライメントカメラ，７：位置調整部，
８：ギャップセンサ，９：位置調整用光源，
２１，２２：バックロール，２３，２４：搬送ロール，
３１：第１のマスクパターン，３２：第２のマスクパターン，
３３，３４，３５：アライメント開口部，
４１：遮光板，４３：支持枠，４４：枠体，４５：マスク吸着孔
Ｆ：被露光体，ａ：露光面 1: film exposure apparatus, 2: film transport unit, 3: photomask,
4: Mask holding part, 4a: Opening, 5 (5A, 5B): Light irradiation part,
6 (6A, 6B): alignment camera, 7: position adjustment unit,
8: Gap sensor, 9: Light source for position adjustment,
21, 22: Back roll, 23, 24: Transport roll,
31: First mask pattern, 32: Second mask pattern,
33, 34, 35: alignment opening,
41: light shielding plate, 43: support frame, 44: frame body, 45: mask suction hole F: object to be exposed, a: exposure surface

Claims

フィルム状の被露光体にマスクパターンを露光する露光装置において、
前記被露光体を一方向に沿って搬送するフィルム搬送部と、
前記被露光体の露光面上に近接配置されるフォトマスクと、
前記フォトマスクを前記被露光体の露光面上に保持するマスク保持部と、
前記フォトマスクのマスクパターンに光を照射する光照射部とを備え、
前記フォトマスクは、前記被露光体の搬送方向に沿って配置される第１のマスクパターンと第２のマスクパターンを備え、
前記フィルム搬送部は、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンの位置に対応して配置した一対のバックロールを備え、前記一対のバックロールで前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンが露光される露光面の逆側の面を支持し、
前記光照射部が、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンを介して前記一対のバックロール上の被露光体に光を照射することを特徴とするフィルム露光装置。 In an exposure apparatus that exposes a mask pattern to a film-like object to be exposed,
A film transport section for transporting the object to be exposed along one direction;
A photomask disposed close to the exposed surface of the object to be exposed;
A mask holding unit for holding the photomask on an exposure surface of the object to be exposed;
A light irradiation unit for irradiating light to the mask pattern of the photomask,
The photomask includes a first mask pattern and a second mask pattern arranged along a conveyance direction of the object to be exposed,
The film transport unit includes a pair of back rolls arranged corresponding to the positions of the first mask pattern and the second mask pattern, and the first mask pattern and the second are provided by the pair of back rolls. Support the opposite side of the exposure surface where the mask pattern is exposed ,
The film exposure apparatus , wherein the light irradiation unit irradiates light on an object to be exposed on the pair of back rolls through the first mask pattern and the second mask pattern .

前記一対のバックロール間のスペースに前記被露光体に設けたアライメントマークを撮像するアライメントカメラを配置したことを特徴とする請求項１記載のフィルム露光装置。 The film exposure apparatus according to claim 1, wherein an alignment camera that images an alignment mark provided on the object to be exposed is disposed in a space between the pair of back rolls.

前記フォトマスクは、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンの間に前記アライメントマークに対応するアライメント開口部を備えることを特徴とする請求項２に記載のフィルム露光装置。 The film exposure apparatus according to claim 2, wherein the photomask includes an alignment opening corresponding to the alignment mark between the first mask pattern and the second mask pattern.

前記マスク保持部は、前記第１のマスクパターンと前記第２のマスクパターンの間で前記フォトマスクを保持することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のフィルム露光装置。 The film exposure apparatus according to claim 1, wherein the mask holding unit holds the photomask between the first mask pattern and the second mask pattern.