JP5864690B2 - Glass substrate manufacturing method, glass substrate manufacturing apparatus, and molten glass processing apparatus - Google Patents

Glass substrate manufacturing method, glass substrate manufacturing apparatus, and molten glass processing apparatus Download PDF

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Description

本発明は、ガラス原料を熔融して生成した熔融ガラスを成形することによりガラス基板を製造するガラス基板の製造方法、ガラス基板製造装置、及び熔融ガラスを処理する熔融ガラス処理装置に関する。   The present invention relates to a glass substrate manufacturing method, a glass substrate manufacturing apparatus, and a molten glass processing apparatus for processing molten glass, by manufacturing a glass substrate by molding a molten glass produced by melting a glass raw material.

ガラス基板は、一般的に、ガラス原料から熔融ガラスを生成した後、清澄工程、均質化工程を経て、熔融ガラスをガラス基板へ成形することで製造される。
ところで、高温の熔融ガラスから品位の高いガラス基板を量産するためには、ガラス基板の欠陥の要因となる異物等が、ガラス基板を製造するいずれの装置からも熔融ガラスへ混入しないよう考慮することが望まれる。このため、ガラス基板の製造過程において熔融ガラスに接する部材の内壁は、その部材に接する熔融ガラスの温度、要求されるガラス基板の品質等に応じ、適切な材料により構成する必要がある。たとえば、熔融ガラスを生成した後成形工程に供給するまでの間、熔融ガラスは高温状態になるため、清澄工程を行う清澄装置、均質化工程を行う攪拌装置、及び熔融ガラスを移送するガラス供給管は、耐熱性の高い白金族金属を用いて構成されている。しかし、白金族金属は、熔融ガラスの高温に伴って揮発し易い。そして白金族金属の揮発物が気相空間を取り巻く内壁に凝集して凝集物をつくり、この凝集物の一部が離脱して熔融ガラス中に異物となって混入し、ガラス基板の品質の低下を招くおそれがあった。 A glass substrate is generally produced by forming molten glass from a glass raw material, and then forming the molten glass into a glass substrate through a clarification step and a homogenization step.
By the way, in order to mass-produce high-quality glass substrates from high-temperature molten glass, consideration should be given so that foreign substances that cause defects in the glass substrate do not enter the molten glass from any apparatus that manufactures the glass substrate. Is desired. For this reason, the inner wall of the member in contact with the molten glass in the manufacturing process of the glass substrate needs to be made of an appropriate material according to the temperature of the molten glass in contact with the member, the required quality of the glass substrate, and the like. For example, since molten glass is in a high temperature state after it is produced and supplied to the molding process, a clarification device that performs a clarification process, a stirring device that performs a homogenization process, and a glass supply pipe that transfers the molten glass Is made of a platinum group metal having high heat resistance. However, platinum group metals are likely to volatilize with the high temperature of the molten glass. The volatiles of the platinum group metal aggregate on the inner wall surrounding the gas phase space to form an aggregate. A part of the aggregate separates and enters the molten glass as a foreign substance, resulting in a deterioration in the quality of the glass substrate. There was a risk of inviting.

これに対して、白金異物の混入のおそれが少なく、コード脈理や異物欠点などの光学欠陥の少ない高品質ガラスを得ることができるガラス溶融炉が知られている（特許文献１）。
当該ガラス溶融炉では、天井部を設けて閉塞した槽本体の内壁面の下部が、白金または白金合金でなる白金面によって形成されており、かつ該白金面は、その上端が溶融ガラスの槽上部雰囲気中に露出しない位置となるように形成されている。 On the other hand, there is known a glass melting furnace that can obtain a high-quality glass that is less likely to be mixed with platinum foreign matter and has few optical defects such as cord striae and foreign matter defects (Patent Document 1).
In the glass melting furnace, the lower part of the inner wall surface of the tank body closed by providing a ceiling is formed by a platinum surface made of platinum or a platinum alloy, and the platinum surface has an upper end at the upper part of the molten glass tank. It is formed so as to be a position not exposed in the atmosphere.

特開２０１０−２０２４４４号公報JP 2010-202444 A

上記特許文献１のように、熔融ガラスの液面上部の気相空間の雰囲気と白金族金属の壁面の接触面積を無くせば、白金族金属の揮発が生じない。また、気相空間の雰囲気と接触する白金族金属の内壁の接触面積を小さくすることで、白金族金属の揮発を低減することができる、と考えられる。しかし、気相空間の雰囲気と接触する白金族金属の内壁の接触面積を小さくした場合であっても、白金族金属を壁面から十分に揮発を低減することができなかった。   If the contact area between the atmosphere of the gas phase space above the liquid surface of the molten glass and the wall surface of the platinum group metal is eliminated as in Patent Document 1, volatilization of the platinum group metal does not occur. Further, it is considered that volatilization of the platinum group metal can be reduced by reducing the contact area of the inner wall of the platinum group metal that is in contact with the atmosphere of the gas phase space. However, even when the contact area of the inner wall of the platinum group metal that is in contact with the atmosphere in the gas phase space is reduced, the volatilization of the platinum group metal from the wall surface cannot be sufficiently reduced.

そこで、本発明は、ガラス基板の製造過程で用いる少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置において熔融ガラスを処理する際、白金族金属で構成された内壁から白金族金属の揮発を抑制して、気相空間内で揮発した白金金属の凝集物の一部が異物となって熔融ガラスに混入することを抑制することができるガラス基板の製造方法、ガラス基板製造装置、及び熔融ガラスの処理装置を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a platinum group from an inner wall made of a platinum group metal when processing molten glass in a molten glass processing apparatus in which at least a part of the glass substrate is made of a material containing a platinum group metal. Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus capable of suppressing volatilization of metal and suppressing a part of aggregate of platinum metal volatilized in gas phase space from becoming a foreign substance and mixing into molten glass And it aims at providing the processing apparatus of molten glass.

本発明は、以下の形態を有する。   The present invention has the following forms.

（形態１）
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解工程と、
前記熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置において前記熔融ガラスを処理する処理工程と、を有し、
前記処理工程において、前記熔融ガラス処理装置の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう制御する、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。このとき、前記気相空間中の空間全体の５０％以上を熔融ガラスが占めているとよい。 (Form 1)
A melting step of melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A processing step of processing the molten glass in the molten glass processing apparatus,
In the treatment step, an area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall in contact with the gas phase space and a volume of the gas phase space so as to suppress volatilization of the platinum group metal of the molten glass processing apparatus. A method for producing a glass substrate, wherein the ratio S / L to S [m 3 ] is controlled to be 17 [m] or more . At this time, it is preferable that molten glass occupies 50% or more of the entire space in the gas phase space.

（形態２）
前記熔融ガラスの液面レベルを制御することにより、前記比を制御する、形態１に記載のガラス基板の製造方法。 (Form 2)
The manufacturing method of the glass substrate of the form 1 which controls the said ratio by controlling the liquid level of the said molten glass.

（形態３）
予め白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置における前記熔融ガラスの液面レベルとの相関関係を求め、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを基準液面レベルとして決定し、前記処理工程では、当該基準液面レベルに基づいて前記液面レベルを制御する、形態２に記載のガラス基板の製造方法。 (Form 3)
The correlation between the number of platinum defects and the liquid level of the molten glass in the molten glass processing apparatus is obtained in advance, and the liquid level of the molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects is determined as a reference liquid level. And the said manufacturing process WHEREIN: The manufacturing method of the glass substrate of the form 2 which controls the said liquid level based on the said reference | standard liquid level.

（形態４）
ガラス基板の製造方法であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解工程と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相とを有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置において前記熔融ガラスを処理する処理工程と、
前記処理工程で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形工程と、を有し、
予め白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係を求め、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを基準液面レベルとして決定し、前記処理工程では、当該基準液面レベルに基づいて前記液面レベルを制御することを特徴とするガラス基板の製造方法。 (Form 4)
A method of manufacturing a glass substrate,
A melting step of melting glass raw material to produce molten glass;
A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A processing step of processing the molten glass in a glass processing apparatus;
A molding step of forming the molten glass processed in the processing step into a sheet glass,
The correlation between the number of platinum defects and the liquid level of the molten glass processing apparatus is obtained in advance, the liquid level of the molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects is determined as a reference liquid level, and the treatment In the process, the liquid level is controlled based on the reference liquid level.

（形態５）
前記気相空間の体積をＳ［ｍ 3 ］とし、前記気相空間と接する前記白金族金属の面積をＬ[ｍ 2 ]としたとき、比Ｓ／Ｌは、１７[ｍ]以上である、形態４に記載のガラス基板の製造方法。このとき、前記気相空間中の空間全体の５０％以上を熔融ガラスが占めているとよい。 (Form 5)
When the volume of the gas phase space is S [m 3 ] and the area of the platinum group metal in contact with the gas phase space is L [m 2 ], the ratio S / L is 17 [m] or more. The manufacturing method of the glass substrate of form 4. At this time, it is preferable that molten glass occupies 50% or more of the entire space in the gas phase space.

（形態６）
前記処理工程では、前記基準液面レベルを含むように決定された目標液面レベル範囲に基づいて液面レベルを制御する、形態３から５のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 6)
The glass substrate manufacturing method according to any one of aspects 3 to 5, wherein in the processing step, the liquid level is controlled based on a target liquid level level range determined to include the reference liquid level.

（形態７）
前記熔融ガラス処理装置に供給される前記熔融ガラスの量および前記成形工程で成形される前記シートガラスの成形量の少なくとも一方を制御することにより、前記液面レベルを制御する、形態３〜６のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 7)
The liquid level is controlled by controlling at least one of the amount of the molten glass supplied to the molten glass processing apparatus and the molding amount of the sheet glass molded in the molding step. The manufacturing method of the glass substrate as described in any one.

（形態８）
前記比は、
（１）前記気相空間中の酸素濃度、
（２）前記熔融ガラス処理装置の前記内壁の最高温度、
（３）前記熔融ガラスから前記気相空間に放出される酸素放出量、
（４）前記熔解工程における前記熔融ガラスの最高温度と、前記処理工程における前記熔融ガラスの最高温度との温度差、及び
（５）前記気相空間における前記白金族金属の蒸気圧、
の少なくとも１つに基づいて決定される値である、形態１〜７のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 8)
The ratio is
(1) oxygen concentration in the gas phase space;
(2) Maximum temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus,
(3) Oxygen release amount released from the molten glass into the gas phase space,
(4) a temperature difference between the maximum temperature of the molten glass in the melting step and the maximum temperature of the molten glass in the treatment step; and (5) the vapor pressure of the platinum group metal in the gas phase space;
The manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-7 which is a value determined based on at least 1 of these.

（形態９）
前記気相空間中の前記酸素濃度は、前記熔融ガラスに含有する酸化錫の含有量により制御される、形態８に記載のガラス基板の製造方法。 (Form 9)
The method for producing a glass substrate according to mode 8, wherein the oxygen concentration in the gas phase space is controlled by the content of tin oxide contained in the molten glass.

（形態１０）
前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の部分の最高温度と最低温度との温度差が５０℃以上である、形態１〜９のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 10)
The manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-9 whose temperature difference of the maximum temperature of the part of the said platinum group metal of the said inner wall which contacts the said gaseous-phase space, and minimum temperature is 50 degreeC or more.

（形態１１）
前記熔融ガラス処理装置は、前記熔融ガラスの清澄を行う清澄装置である、形態１〜１０のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 11)
The said molten glass processing apparatus is a manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-10 which is a clarification apparatus which clarifies the said molten glass.

（形態１２）
前記処理工程は、前記熔融ガラスの清澄工程であり、前記熔融ガラスから前記気相空間に酸素を放出させる、形態１〜１１のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 12)
The said process process is a clarification process of the said molten glass, The manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-11 which discharge | release oxygen from the said molten glass to the said gaseous-phase space.

（形態１３）
前記液相において前記熔融ガラスは流れ、前記内壁には、前記熔融ガラスの流れ方向に沿って温度分布が形成されている、形態１〜１２のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 13)
The said molten glass flows in the said liquid phase, The temperature distribution is formed in the said inner wall along the flow direction of the said molten glass, The manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-12.

（形態１４）
前記ガラス基板は、ディスプレイ用ガラス基板である、形態１〜１３のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 14)
The said glass substrate is a manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-13 which is a glass substrate for displays.

（形態１５）
ガラス基板の製造方法であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解工程と、
前記熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置において前記熔融ガラスを処理する処理工程と、を有し、
前記処理工程において、前記熔融ガラス処理装置の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう調整する、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。このとき、前記気相空間中の空間全体の５０％以上を熔融ガラスが占めているとよい。 (Form 15)
A method of manufacturing a glass substrate,
A melting step of melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A processing step of processing the molten glass in the molten glass processing apparatus,
In the treatment step, an area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall in contact with the gas phase space and a volume of the gas phase space so as to suppress volatilization of the platinum group metal of the molten glass processing apparatus. A method for producing a glass substrate, wherein a ratio S / L with S [m 3 ] is adjusted to be 17 [m] or more . At this time, it is preferable that molten glass occupies 50% or more of the entire space in the gas phase space.

（形態１６）
ガラス基板の製造方法であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解工程と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相とを有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置において前記熔融ガラスを処理する処理工程と、
前記処理工程で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形工程と、を有し、
予め白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係を求め、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを基準液面レベルとして決定し、前記処理工程では、当該基準液面レベルに基づいて前記液面レベルを調整することを特徴とするガラス基板の製造方法。 (Form 16)
A method of manufacturing a glass substrate,
A melting step of melting glass raw material to produce molten glass;
A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A processing step of processing the molten glass in a glass processing apparatus;
A molding step of forming the molten glass processed in the processing step into a sheet glass,
The correlation between the number of platinum defects and the liquid level of the molten glass processing apparatus is obtained in advance, the liquid level of the molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects is determined as a reference liquid level, and the treatment In the process, the liquid level is adjusted based on the reference liquid level.

（形態１７）
前記気相空間における酸素濃度は、１％以下である、形態１〜１６のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 17)
The method for producing a glass substrate according to any one of Embodiments 1 to 16, wherein the oxygen concentration in the gas phase space is 1% or less.

（形態１８）
前記ガラス基板における酸化錫の含有量は、０．０１〜０．３モル％である、形態１〜１７のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (Form 18)
Content of the tin oxide in the said glass substrate is a manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-17 which is 0.01-0.3 mol%.

（形態１９）
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置であって、
前記気相空間内の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう制御する制御部を備えた、ことを特徴とする熔融ガラス処理装置。このとき、前記気相空間中の空間全体の５０％以上を熔融ガラスが占めているとよい。 (Form 19)
A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A glass processing apparatus,
In order to suppress the volatilization of the platinum group metal in the gas phase space, the platinum group metal area L [m 2 ] of the wall in contact with the gas phase space and the volume S of the gas phase space S [m 3 ]. A molten glass processing apparatus, comprising a control unit that controls the ratio S / L to 17 [m] or more . At this time, it is preferable that molten glass occupies 50% or more of the entire space in the gas phase space.

（形態２０）
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置であって、
前記気相空間内の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう調整する調整部を備えた、ことを特徴とする熔融ガラス処理装置。このとき、前記気相空間中の空間全体の５０％以上を熔融ガラスが占めているとよい。 (Form 20)
A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A glass processing apparatus,
In order to suppress the volatilization of the platinum group metal in the gas phase space, the platinum group metal area L [m 2 ] of the wall in contact with the gas phase space and the volume S of the gas phase space S [m 3 ]. A molten glass processing apparatus comprising an adjusting unit that adjusts the ratio S / L to 17 [m] or more . At this time, it is preferable that molten glass occupies 50% or more of the entire space in the gas phase space.

（形態２１）
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置であって、
前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを、予め決定された基準液面レベルとなるよう制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記基準液面レベルを、予め求めた白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係に基づいて、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとして決定する、ことを特徴とする熔融ガラス処理装置。 (Form 21)
A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A glass processing apparatus,
A control unit for controlling the liquid level of the molten glass processing apparatus to be a predetermined reference liquid level;
The said control part is the said molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects based on the correlation with the number of platinum defects calculated | required in advance, and the liquid level of the said molten glass processing apparatus. A molten glass processing apparatus, characterized in that it is determined as a liquid level.

（形態２２）
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置であって、
前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを、予め決定された基準液面レベルとなるよう調整する調整部を有し、
前記調整部は、前記基準液面レベルを、予め求めた白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係に基づいて、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとして決定する、ことを特徴とする熔融ガラス処理装置。 (Form 22)
A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A glass processing apparatus,
An adjustment unit for adjusting the liquid level of the molten glass processing apparatus to a predetermined reference liquid level;
The said adjustment part is the said molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects based on the correlation of the reference | standard liquid surface level calculated | required beforehand and the liquid level of the said molten glass processing apparatus. A molten glass processing apparatus, characterized in that it is determined as a liquid level.

（形態２３）
ガラス基板製造装置であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解装置と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された、前記熔融ガラスを処理する熔融ガラス処理装置と、
前記熔融ガラス処理装置で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形装置と、
前記熔融ガラス処理装置の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう制御する制御部と、を備える、ことを特徴とするガラス基板製造装置。このとき、前記気相空間中の空間全体の５０％以上を熔融ガラスが占めているとよい。 (Form 23)
A glass substrate manufacturing apparatus,
A melting device for melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A molten glass processing apparatus for processing the molten glass;
A molding apparatus for molding the molten glass processed by the molten glass processing apparatus into a sheet glass;
In order to suppress the volatilization of the platinum group metal of the molten glass processing apparatus, the area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall in contact with the gas phase space and the volume S [m 3 ] of the gas phase space And a control unit for controlling the ratio S / L to 17 [m] or more . At this time, it is preferable that molten glass occupies 50% or more of the entire space in the gas phase space.

（形態２４）
ガラス基板製造装置であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解装置と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された、前記熔融ガラスを処理する熔融ガラス処理装置と、
前記熔融ガラス処理装置で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形装置と、
前記熔融ガラス処理装置の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう調整する調整部と、を備える、ことを特徴とするガラス基板製造装置。このとき、前記気相空間中の空間全体の５０％以上を熔融ガラスが占めているとよい。 (Form 24)
A glass substrate manufacturing apparatus,
A melting device for melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A molten glass processing apparatus for processing the molten glass;
A molding apparatus for molding the molten glass processed by the molten glass processing apparatus into a sheet glass;
In order to suppress the volatilization of the platinum group metal of the molten glass processing apparatus, the area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall in contact with the gas phase space and the volume S [m 3 ] of the gas phase space And an adjusting unit that adjusts the ratio S / L to 17 [m] or more . At this time, it is preferable that molten glass occupies 50% or more of the entire space in the gas phase space.

（形態２５）
ガラス基板製造装置であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解装置と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された、前記熔融ガラスを処理する熔融ガラス処理装置と、
前記熔融ガラス処理装置で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形装置と、
前記熔融ガラス処理装置の液面レベルは、予め決定された基準液面レベルとなるよう制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記基準液面レベルを、予め求めた白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係に基づいて、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとして決定する、ことを特徴とするガラス基板製造装置。 (Form 25)
A glass substrate manufacturing apparatus,
A melting device for melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A molten glass processing apparatus for processing the molten glass;
A molding apparatus for molding the molten glass processed by the molten glass processing apparatus into a sheet glass;
The liquid level of the molten glass processing apparatus includes a control unit that controls to be a predetermined reference liquid level,
The said control part is the said molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects based on the correlation with the number of platinum defects calculated | required in advance, and the liquid level of the said molten glass processing apparatus. An apparatus for producing a glass substrate, characterized in that it is determined as a liquid level.

（形態２６）
ガラス基板製造装置であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解装置と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された、前記熔融ガラスを処理する熔融ガラス処理装置と、
前記熔融ガラス処理装置で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形装置と、
前記熔融ガラス処理装置の液面レベルは、予め決定された基準液面レベルとなるよう調整する調整部と、を備え、
前記調整部は、前記基準液面レベルを、予め求めた白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係に基づいて、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとして決定する、ことを特徴とするガラス基板製造装置。 (Form 26)
A glass substrate manufacturing apparatus,
A melting device for melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A molten glass processing apparatus for processing the molten glass;
A molding apparatus for molding the molten glass processed by the molten glass processing apparatus into a sheet glass;
The liquid level of the molten glass processing apparatus includes an adjustment unit that adjusts the liquid level to a predetermined reference liquid level,
The said adjustment part is the said molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects based on the correlation of the reference | standard liquid surface level calculated | required beforehand and the liquid level of the said molten glass processing apparatus. An apparatus for producing a glass substrate, characterized in that it is determined as a liquid level.

上述の態様のガラス基板の製造方法、ガラス基板製造装置、及び熔融ガラス処理装置によれば、白金族金属の揮発を抑制することができ、気相空間内で揮発した白金金属の凝集物の一部が異物となって熔融ガラスに混入することを抑制できる。   According to the glass substrate manufacturing method, glass substrate manufacturing apparatus, and molten glass processing apparatus of the above-described aspect, it is possible to suppress the volatilization of the platinum group metal, and one of the aggregates of the platinum metal volatilized in the gas phase space. It can suppress that a part becomes a foreign material and mixes in molten glass.

本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment. 本実施形態における熔解工程〜切断工程を行う装置の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the apparatus which performs the melting process-cutting process in this embodiment. （ａ），（ｂ）は、本実施形態の清澄装置の液面と清澄装置の気相空間内の気流の流れを説明する図である。(A), (b) is a figure explaining the flow of the air current in the liquid level of the clarification apparatus of this embodiment, and the gaseous-phase space of a clarification apparatus. （ａ），（ｂ）は、清澄装置内の熔融ガラスの液面のレベルの変動を説明する図である。(A), (b) is a figure explaining the fluctuation | variation of the level of the liquid level of the molten glass in a clarification apparatus. 本実施形態で用いられる線および目標液面レベルを説明する図である。It is a figure explaining the line and target liquid level used in this embodiment. 本実施形態で用いる比Ｓ／Ｌと欠点密度の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between ratio S / L used by this embodiment, and a defect density.

以下、本実施形態のガラス基板の製造方法、ガラス基板製造装置、及び熔融ガラス処理装置について説明する。図１は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。
以降で説明する白金または白金合金等は、白金族金属であり、白金、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、およびこれらの金属の合金を含む。
また、凝集した白金または白金合金の異物（白金欠陥）は、一方向に細長い線状物である。白金欠陥の最大長さとは、白金族金属の異物（凝集物）を撮影したときの異物の像に外接する外接長方形の最長となる長辺の長さをいう。白金欠陥の最小長さとは、白金族金属の異物（凝集物）を撮影したときの異物の像に外接する外接長方形の最短となる短辺の長さをいう。白金欠陥とは、最大長さの最小長さに対する比であるアスペクト比が１００を超える白金族金属の異物を指す。例えば、白金族金属の異物（凝集物）の最大長さが５０μｍ〜３００μｍ、最小長さが０．５μｍ〜２μｍである。
本明細書における制御は調整を含む。調整は、オペレータの入力操作によって装置を介して対象物の温度、流量、濃度、圧力等を変更する調整及びオペレータによるマニュアル調整を少なくとも含む。 Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment, a glass substrate manufacturing apparatus, and a molten glass processing apparatus are demonstrated. Drawing 1 is a figure showing an example of a process of a manufacturing method of a glass substrate of this embodiment.
The platinum or platinum alloy described below is a platinum group metal, and includes platinum, ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, and alloys of these metals.
Further, the aggregated platinum or platinum alloy foreign matter (platinum defect) is a linear object elongated in one direction. The maximum length of the platinum defect means the length of the longest side of the circumscribed rectangle that circumscribes the image of the foreign material when the foreign material (aggregate) of the platinum group metal is photographed. The minimum length of a platinum defect means the length of the shortest shortest side of a circumscribed rectangle circumscribing a foreign object image when a foreign material (aggregate) of a platinum group metal is photographed. The platinum defect refers to a platinum group metal foreign material having an aspect ratio that is a ratio of the maximum length to the minimum length exceeding 100. For example, the maximum length of the foreign substance (aggregate) of the platinum group metal is 50 μm to 300 μm, and the minimum length is 0.5 μm to 2 μm.
Control herein includes adjustment. The adjustment includes at least adjustment for changing the temperature, flow rate, concentration, pressure, and the like of the object via the apparatus by an operator's input operation and manual adjustment by the operator.

ガラス基板の製造方法は、熔解工程（ＳＴ１）と、清澄工程（ＳＴ２）と、均質化工程（ＳＴ３）と、成形工程（ＳＴ４）と、徐冷工程（ＳＴ５）と、切断工程（ＳＴ６）と、を主に有する。   The glass substrate manufacturing method includes a melting step (ST1), a clarification step (ST2), a homogenization step (ST3), a molding step (ST4), a slow cooling step (ST5), and a cutting step (ST6). , Mainly.

熔解工程（ＳＴ１）は熔解槽で行われる。熔解工程では、熔解槽に蓄えられた熔融ガラスの液面にガラス原料を投入することにより熔融ガラスを作る。なお、ガラス原料には清澄剤が添加されることが好ましい。清澄剤については、環境負荷低減の点から、酸化錫が好適に用いられる。   The melting step (ST1) is performed in a melting tank. In the melting step, molten glass is made by introducing a glass raw material to the liquid surface of the molten glass stored in the melting tank. In addition, it is preferable that a clarifier is added to the glass raw material. As for the fining agent, tin oxide is preferably used from the viewpoint of reducing the environmental load.

清澄工程（ＳＴ２）は、清澄装置の、白金又は白金合金等で構成される清澄管の内部で行われる。清澄工程では、清澄装置の管内の熔融ガラスが昇温される。この過程で、清澄剤は、還元反応により酸素を放出し、後に還元剤として作用する物質となる。熔融ガラス中に含まれるＯ２、ＣＯ２あるいはＳＯ２を含んだ泡は、清澄剤の還元反応により生じたＯ２と合体して体積が大きくなり、熔融ガラスの液面に浮上して破泡し消滅する。泡に含まれたガスは、清澄装置に設けられた気相空間を通じて外気に放出される。 The clarification step (ST2) is performed inside the clarification tube of platinum or platinum alloy or the like of the clarification device. In the clarification process, the temperature of the molten glass in the tube of the clarification apparatus is increased. In this process, the fining agent releases oxygen by a reduction reaction, and becomes a substance that later acts as a reducing agent. Bubbles containing O 2 , CO 2, or SO 2 contained in the molten glass coalesce with O 2 generated by the reductive reaction of the clarifying agent, increase in volume, and float on the liquid surface of the molten glass. And disappear. The gas contained in the bubbles is released to the outside air through a gas phase space provided in the clarification device.

その後、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させる。この過程で、清澄剤の還元反応により得られた還元剤が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中のＯ２等のガス成分が熔融ガラス中に溶け込むことで、泡が消滅する。 Thereafter, in the clarification step, the temperature of the molten glass is lowered. In this process, the reducing agent obtained by the reductive reaction of the clarifying agent undergoes an oxidation reaction. Thus, the gas components such as O 2 in the foam remaining in the molten glass that melts in the molten glass, bubbles disappear.

均質化工程（ＳＴ３）では、清澄装置から延びる配管を通って供給された攪拌装置内の熔融ガラスを、スターラを用いて攪拌することにより、熔融ガラスの均質化を行う。均質化工程（ＳＴ３）は、清澄工程の前に行われてもよい。   In the homogenization step (ST3), the molten glass in the stirring device supplied through the pipe extending from the refining device is stirred using a stirrer to homogenize the molten glass. The homogenization step (ST3) may be performed before the clarification step.

成形装置では、成形工程（ＳＴ４）及び徐冷工程（ＳＴ５）が行われる。
成形工程（ＳＴ４）では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形は、オーバーフローダウンドロー法あるいはフロート法を用いることができる。後述する本実施形態では、オーバーフローダウンドロー法が用いられる例を挙げて説明する。
徐冷工程（ＳＴ５）では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。 In the molding apparatus, a molding step (ST4) and a slow cooling step (ST5) are performed.
In the forming step (ST4), the molten glass is formed into a sheet glass to make a flow of the sheet glass. For forming, an overflow down draw method or a float method can be used. In this embodiment described later, an example in which the overflow downdraw method is used will be described.
In the slow cooling step (ST5), the sheet glass that has been formed and flowed is cooled to a desired thickness so that internal distortion does not occur and warpage does not occur.

切断工程（ＳＴ６）では、切断装置において、成形装置から供給されたシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス板を得る。切断されたガラス板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。   In a cutting process (ST6), a plate-shaped glass plate is obtained by cutting the sheet glass supplied from the forming device into a predetermined length in the cutting device. The cut glass plate is further cut into a predetermined size to produce a glass substrate of a target size.

本実施形態のガラス基板の製造方法では、清澄工程〜均質化工程に用いる装置において以下の方法が実施される。
すなわち、ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解工程後、熔融ガラスをシートガラスに成形する前に、熔融ガラスを処理するための熔融ガラス処理装置を通過させる。この処理装置は、白金または白金合金等からなる内壁を持つ金属製の管あるいは槽を含む。この管あるいは槽は、熔融ガラスの液相と、熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間とを有し、気相空間を囲む内壁が白金族金属を含む材料で構成されている。この熔融ガラス処理装置では、熔融ガラス処理装置内の気相空間と接する白金族金属の揮発を低減するように、気相空間と接する熔融ガラス処理装置の内壁の白金族金属の面積と気相空間の体積との比、あるいは熔融ガラス処理装置内における熔融ガラスの液面レベルが制御（調整）されている。上記比あるいは上記液面レベルを適切に制御（調整）することにより、熔融ガラス処理装置の内壁から白金族金属の揮発を抑制することができる。この点は、後述する。このような熔融ガラスの処理装置は、熔解工程と成形工程との間の工程で用いる装置に適用される。清澄工程と均質化工程の間の工程で用いる装置に適用される。例えば、清澄工程を行う清澄装置及び均質化工程を行う攪拌装置に適用される。以降では、代表して清澄装置に適用した形態で説明する。 In the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment, the following method is implemented in the apparatus used for a clarification process-a homogenization process.
That is, after a melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass, a molten glass processing apparatus for processing the molten glass is passed before the molten glass is formed into a sheet glass. This processing apparatus includes a metal tube or tank having an inner wall made of platinum or a platinum alloy. This tube or tank has a liquid phase of molten glass, a gas phase space formed from the liquid surface of the molten glass and an inner wall, and the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. . In this molten glass processing apparatus, the area of the platinum group metal and the gas phase space on the inner wall of the molten glass processing apparatus in contact with the gas phase space so as to reduce the volatilization of the platinum group metal in contact with the gas phase space in the molten glass processing apparatus The volume ratio of the molten glass or the liquid level of the molten glass in the molten glass processing apparatus is controlled (adjusted). By appropriately controlling (adjusting) the ratio or the liquid level, it is possible to suppress volatilization of the platinum group metal from the inner wall of the molten glass processing apparatus. This point will be described later. Such a processing apparatus for molten glass is applied to an apparatus used in a process between a melting process and a forming process. It is applied to an apparatus used in a process between a clarification process and a homogenization process. For example, the present invention is applied to a clarification apparatus that performs a clarification process and a stirring apparatus that performs a homogenization process. In the following, a description will be given in a form applied to a clarification device as a representative.

図２は、本実施形態における熔解工程（ＳＴ１）〜切断工程（ＳＴ６）を行うガラス基板製造装置の一例を模式的に示す図である。当該装置は、図２に示すように、主に熔融ガラス生成装置１００と、成形装置２００と、切断装置３００と、を有する。熔融ガラス生成装置１００は、熔解装置１０１と、清澄装置１０２と、攪拌装置１０３と、ガラス供給管１０４，１０５，１０６と、を有する。   Drawing 2 is a figure showing typically an example of a glass substrate manufacture device which performs a melting process (ST1)-cutting process (ST6) in this embodiment. As shown in FIG. 2, the apparatus mainly includes a molten glass production apparatus 100, a molding apparatus 200, and a cutting apparatus 300. The molten glass production | generation apparatus 100 has the melting apparatus 101, the clarification apparatus 102, the stirring apparatus 103, and the glass supply pipes 104,105,106.

図２に示す例の熔解装置１０１は、ガラス原料を熔解して熔融ガラスをつくる。清澄装置１０２は、白金または白金合金等からなる清澄管１０２ａ（図３参照）を含む。清澄管１０２ａの中において、熔融ガラスＭＧが液面を有するように気相空間が形成された状態で熔融ガラスＭＧを通過させる間、清澄装置１０２に設けられた電極板間に電流を流して清澄管１０２ａを通電加熱して熔融ガラスＭＧを気相空間に泡を放出させる脱泡処理を少なくとも行う。本実施形態では、熔融ガラスの脱泡のために清澄管１０２ａを通電加熱する方式を用いるが、清澄管１０２ａの加熱は、通電加熱に限定されない。例えば、管の周囲にヒータ等の熱源を設けて、清澄管１０２ａを熱伝導あるいは熱放射により間接的に加熱する方式を用いてもよい。
攪拌装置１０３は、スターラ１０３ａによって熔融ガラスＭＧを攪拌して均質化する。
成形装置２００は、成形体２１０を含み、清澄装置１０２、攪拌装置１０３で処理された熔融ガラスＭＧを、成形体２１０を用いたオーバーフローダウンドロー法により、成形してシートガラスＳＧとする。さらに、成形装置２００において、板厚偏差、歪、及び反りがシートガラスＳＧに生じないように、シートガラスＳＧが徐冷される。
切断装置３００は、徐冷したシートガラスＳＧを切断してガラス基板とする。 The melting apparatus 101 of the example shown in FIG. 2 melts a glass raw material, and makes a molten glass. The clarification apparatus 102 includes a clarification tube 102a (see FIG. 3) made of platinum or a platinum alloy. In the clarification tube 102a, while passing the molten glass MG in a state where the gas phase space is formed so that the molten glass MG has a liquid level, a current is passed between the electrode plates provided in the clarification device 102 to clarify At least defoaming treatment is performed in which the tube 102a is energized and heated to release the molten glass MG into the gas phase space. In the present embodiment, a method of energizing and heating the clarification tube 102a for defoaming the molten glass is used, but heating of the clarification tube 102a is not limited to energization heating. For example, a system in which a heat source such as a heater is provided around the tube and the clarification tube 102a is indirectly heated by heat conduction or heat radiation may be used.
The agitator 103 agitates the molten glass MG with a stirrer 103a and homogenizes it.
The molding apparatus 200 includes a molded body 210, and the molten glass MG processed by the clarification apparatus 102 and the stirring apparatus 103 is molded by the overflow down draw method using the molded body 210 to obtain a sheet glass SG. Furthermore, in the forming apparatus 200, the sheet glass SG is gradually cooled so that plate thickness deviation, distortion, and warpage do not occur in the sheet glass SG.
The cutting device 300 cuts the slowly cooled sheet glass SG to form a glass substrate.

（清澄工程及び清澄装置）
図３（ａ），（ｂ）は、本実施形態の清澄装置１０２の液面と清澄装置１０２内の気相空間内の気流の流れを説明する図である。図３（ａ）は、気相空間内に生じる気流Ｗ１が速い場合を、図３（ｂ）は、気相空間内に生じる気流Ｗ２の速度が遅い場合を、示している。
清澄工程は、脱泡処理と吸収処理とを含む。以下の説明では、清澄剤として酸化錫を用いた例で説明する。酸化錫は、従来より一般的に用いられていた亜ヒ酸に比べて清澄機能は低いが、環境負荷が低い点で清澄剤として好適に用いることができる。しかし、酸化錫は、清澄機能が亜ヒ酸に比べて低いので、酸化錫を用いた場合、熔融ガラスＭＧの清澄工程時の熔融ガラスＭＧの温度を従来より高くしなければならない。この場合、例えば清澄工程における熔融ガラスの温度の最高温度は、例えば、１６３０℃〜１７２０℃であり、好ましくは、１６７０℃〜１７１０℃である。 (Clarification process and clarification equipment)
FIGS. 3A and 3B are diagrams for explaining the liquid level of the clarification device 102 of this embodiment and the flow of airflow in the gas phase space in the clarification device 102. FIG. 3A shows a case where the air flow W1 generated in the gas phase space is fast, and FIG. 3B shows a case where the speed of the air flow W2 generated in the gas phase space is low.
The clarification process includes a defoaming process and an absorption process. In the following description, an example using tin oxide as a fining agent will be described. Tin oxide has a lower refining function than arsenous acid which has been generally used conventionally, but can be suitably used as a refining agent in terms of low environmental burden. However, since tin oxide has a lower refining function than arsenous acid, when tin oxide is used, the temperature of the molten glass MG during the refining process of the molten glass MG must be higher than before. In this case, for example, the maximum temperature of the molten glass in the clarification step is, for example, 1630 ° C. to 1720 ° C., and preferably 1670 ° C. to 1710 ° C.

熔解装置１０１で熔解された熔融ガラスＭＧは、ガラス供給管１０４（図２参照）により、清澄装置１０２に導入される。   The molten glass MG melted by the melting device 101 is introduced into the refining device 102 through the glass supply pipe 104 (see FIG. 2).

清澄装置１０２は、図３（ａ），（ｂ）に示すように、白金または白金合金等からなる長尺状の清澄管１０２ａを含み、清澄管１０２ａの頂部に設けられた通気管１０２ｂを備える。
清澄管１０２ａは、熔解槽１０１から延びるガラス供給管１０４が清澄管１０２ａの一方の端の壁面に接続され、清澄管１０２ａの他方の端の壁面でガラス供給管１０５に接続されている。したがって、清澄管１０２ａの一方の壁面から略水平方向に流れ込んだ熔融ガラスＭＧは他方の壁面に向かって流れる際に清澄し、他方の壁面から略水平方向に流出する。したがって、清澄管１０２ａは、溶解装置１０１の熔融ガラスの液面レベルに対して高い液面レベルに位置するために、清澄管に対して垂直方向に延びて清澄管に接続された垂直ガラス供給管及び垂直ガラス排出管を用いる減圧脱泡装置と異なる。
清澄管１０２ａ内の気相空間の圧力は、脱泡によるガスの放出等により大気圧と同等か大気圧に比べてやや高い。後述するように、通気管１０７から排気ポンプに接続して、大気圧よりも気圧を低くすることもあるが、この場合でも、大気圧と気相空間内の気圧の差は、０Ｐａより大きく１０Ｐａ未満である。 As shown in FIGS. 3A and 3B, the clarification device 102 includes a long clarification tube 102a made of platinum or a platinum alloy or the like, and includes a ventilation tube 102b provided at the top of the clarification tube 102a. .
In the clarification tube 102a, a glass supply tube 104 extending from the melting tank 101 is connected to the wall surface at one end of the clarification tube 102a, and is connected to the glass supply tube 105 at the wall surface of the other end of the clarification tube 102a. Therefore, the molten glass MG that has flowed in the substantially horizontal direction from one wall surface of the clarification tube 102a is clarified when flowing toward the other wall surface, and flows out in the substantially horizontal direction from the other wall surface. Therefore, since the clarification tube 102a is positioned at a higher liquid level than the molten glass level of the melting device 101, the clarification tube 102a extends in a direction perpendicular to the clarification tube and is connected to the clarification tube. And a vacuum deaerator using a vertical glass discharge pipe.
The pressure in the gas phase space in the clarification tube 102a is equal to or slightly higher than the atmospheric pressure due to the release of gas due to defoaming or the like. As will be described later, the pressure may be lower than the atmospheric pressure by connecting the exhaust pipe 107 to the exhaust pump. Even in this case, the difference between the atmospheric pressure and the atmospheric pressure in the gas phase space is greater than 0 Pa and 10 Pa. Is less than.

具体的には、清澄装置１０２の清澄管１０２ａは、熔融ガラスＭＧの液相とこの熔融ガラスＭＧの液面と清澄装置１０２ａの内壁とから形成される気相空間とを有する。気相空間を囲む清澄装置１０２の内壁は白金または白金合金等の材料で構成されている。清澄管１０２ａの気相空間では、熔融ガラスＭＧから放出されたガスや清澄管１０２ａの内壁から揮発した白金あるいは白金合金等のガスが存在するため、通気管１０７を介して大気と連通しているとしても、気相空間内の圧力は大気圧よりも高くなっている。このため、気相空間から通気管１０７を介して大気へ流れる気流Ｗ１，Ｗ２が形成される。   Specifically, the clarification pipe | tube 102a of the clarification apparatus 102 has the gaseous phase space formed from the liquid phase of molten glass MG, the liquid level of this molten glass MG, and the inner wall of the clarification apparatus 102a. The inner wall of the refining device 102 surrounding the gas phase space is made of a material such as platinum or a platinum alloy. In the gas phase space of the clarification tube 102a, gas released from the molten glass MG and gas such as platinum or a platinum alloy volatilized from the inner wall of the clarification tube 102a exist, and therefore communicate with the atmosphere through the vent tube 107. Even so, the pressure in the gas phase space is higher than atmospheric pressure. For this reason, airflows W1 and W2 flowing from the gas phase space to the atmosphere via the vent pipe 107 are formed.

このような清澄管１０２ａでは、気相空間内の白金または白金合金等の揮発を低減するように、気相空間と接する清澄管１０２ａの内壁の白金族金属の面積Ｌ［ｍ2］と気相空間の体積Ｓ［ｍ3］との比が制御あるいは調整される。あるいは、気相空間内の白金または白金合金等の揮発を低減するように、熔融ガラスの液面レベルが制御あるいは調整される。
上述したように、気相空間内では通気管１０７に向かう気流Ｗ１，Ｗ２が流れている。図３（ａ）に示すように、流速の速い気流Ｗ１の場合、気相空間内に含まれる白金または白金合金等の揮発物も早く排出される。このため、気相空間内の白金または白金合金等の揮発物の濃度は低いので、白金または白金合金等の分圧は、飽和蒸気圧を下回り、清澄管１０２ａの気相空間と接する内壁の部分から白金または白金合金等の揮発が継続される。反対に、図３（ｂ）に示すように、流速の遅い気流Ｗ２の場合、気相空間内に含まれる白金または白金合金等の揮発物の排出は遅い。このため、気相空間内の白金または白金合金等の揮発物の蒸気圧は飽和蒸気圧に達しやすく、清澄管１０２ａの気相空間と接する内壁の部分からの白金または白金合金等の揮発は抑制される。
したがって、気相空間への白金または白金合金等の揮発を抑制するには気流の流速を低くすればよい。気流の流速を低くするには、気相空間の体積を大きくし、気相空間と大気との間の気圧差を小さくするとよい。また、清澄管１０２ａ内の気相空間の体積を大きくすると、熔融ガラスＭＧの液面のレベルを下げ熔融ガラスＭＧの清澄管１０２ａの単位時間に流れる量を少なくすることになるので、熔融ガラスＭＧから脱泡により放出されるガスの量は少なくなる。この結果、気相空間と大気との圧力差は小さくなり、気流の流速は低くなる。
一方、気相空間と接する内壁の白金または白金合金等の揮発の絶対量を下げるには、気相空間と接する白金または白金合金等で構成される内壁の面積を小さくすればよい。
したがって、白金または白金合金等の揮発を抑制するには、上述の気相空間の体積を大きくし、気相空間と接する白金または白金合金等で構成される内壁の面積を小さくすることが望ましい。
また、白金または白金合金等の揮発を抑制するには、白金または白金合金等の揮発を抑制するような液面レベルとなるように、熔融ガラスＭＧの液面レベルを制御あるいは調整することも望ましい。
以下、気相空間の体積及び内壁の面積の調整と、液面レベルの調整について説明する。 In such a clarification tube 102a, the area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall of the clarification tube 102a in contact with the gas phase space and the gas phase so as to reduce volatilization of platinum or a platinum alloy or the like in the gas phase space. The ratio with the volume S [m 3 ] of the space is controlled or adjusted. Alternatively, the liquid level of the molten glass is controlled or adjusted so as to reduce volatilization of platinum or a platinum alloy in the gas phase space.
As described above, the airflows W <b> 1 and W <b> 2 flow toward the vent pipe 107 in the gas phase space. As shown in FIG. 3A, in the case of the air flow W1 having a high flow velocity, volatile substances such as platinum or a platinum alloy contained in the gas phase space are also quickly discharged. For this reason, since the concentration of volatiles such as platinum or platinum alloy in the gas phase space is low, the partial pressure of platinum or platinum alloy or the like is lower than the saturated vapor pressure, and the portion of the inner wall in contact with the gas phase space of the clarification tube 102a Then, volatilization of platinum or platinum alloy is continued. On the contrary, as shown in FIG. 3B, in the case of the air flow W2 having a low flow velocity, the discharge of volatiles such as platinum or platinum alloy contained in the gas phase space is slow. For this reason, the vapor pressure of volatile substances such as platinum or platinum alloy in the gas phase space easily reaches the saturation vapor pressure, and volatilization of platinum or platinum alloy from the inner wall portion in contact with the gas phase space of the clarification tube 102a is suppressed. Is done.
Therefore, in order to suppress volatilization of platinum, a platinum alloy, or the like into the gas phase space, the flow rate of the airflow may be lowered. In order to reduce the flow velocity of the airflow, it is preferable to increase the volume of the gas phase space and reduce the pressure difference between the gas phase space and the atmosphere. Further, if the volume of the gas phase space in the clarification tube 102a is increased, the level of the liquid surface of the molten glass MG is lowered and the amount flowing in the unit time of the clarification tube 102a of the molten glass MG is reduced. The amount of gas released by degassing is reduced. As a result, the pressure difference between the gas phase space and the atmosphere is reduced, and the flow velocity of the airflow is reduced.
On the other hand, in order to reduce the absolute amount of volatilization of platinum or a platinum alloy on the inner wall in contact with the gas phase space, the area of the inner wall made of platinum or a platinum alloy in contact with the gas phase space may be reduced.
Therefore, in order to suppress volatilization of platinum or a platinum alloy or the like, it is desirable to increase the volume of the gas phase space described above and to reduce the area of the inner wall composed of platinum or a platinum alloy or the like in contact with the gas phase space.
Moreover, in order to suppress volatilization of platinum or a platinum alloy, it is also desirable to control or adjust the liquid level of the molten glass MG so that the liquid level is such as to suppress volatilization of platinum or a platinum alloy. .
Hereinafter, the adjustment of the volume of the gas phase space and the area of the inner wall and the adjustment of the liquid level will be described.

（気相空間の体積及び内壁の面積の制御、調整）
以上の観点から、本実施形態では、気相空間内の白金または白金合金等の揮発を低減するように、気相空間と接する清澄管１０２ａの内壁の白金族金属の面積Ｌ［ｍ2］と気相空間の体積Ｓ［ｍ3］との比Ｓ／Ｌが制御あるいは調整される。これにより、白金族金属で構成された内壁から白金族金属の揮発を抑制して、気相空間内で揮発した白金金属の凝集物の一部が異物（白金欠陥）となって熔融ガラスＭＧに混入することを抑制することができる。以下、制御を中心に説明するが、調整も制御と同様に適用される。
比Ｓ／Ｌの制御（調整）については、ガラス基板を連続生産している場合、清澄管１０２ａの熔融ガラスＭＧの液面のレベルを制御（調整）することが好ましい。例えば、成形装置２００では、熔融ガラスＭＧから成形されたシートガラスを図示されない搬送ローラで引っ張りながら徐冷するので、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの量を制御することにより清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの液面のレベルを制御（調整）することができる。清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの量を制御する方法としては、例えば、溶解装置１０１で熔融ガラスＭＧをつくるガラス原料の投入量を調整して清澄管１０２ａ内への熔融ガラスの導入量を調整すること、あるいは、溶解装置１０１から清澄管１０２ａに熔融ガラスＭＧが移動する際に、熔融ガラスＭＧの温度を温度調整装置を用いて調整して粘度を変えることにより熔融ガラスＭＧの移動速度を変化させて清澄管１０２ａ内への熔融ガラスの導入量を調整すること、あるいは、溶解装置１００と清澄管１０２ａとの間に熔融ガラスＭＧの流量を絞る流量制御部を設けて清澄管１０２ａ内への熔融ガラスの導入量を調整すること、成形装置２００による処理量を調整することにより清澄管１０２ａから流出する熔融ガラスの量を調整すること、等が含まれる。このように、ガラス原料の投入量を変更するスクリューフィーダ１０１ｄや、温度調整装置や、流量制御部、さらには、成形装置２００の処理量を調整する処理量調整指示装置等が比Ｓ／Ｌを制御（調整）する制御部（調整部）となり得る。 (Control and adjustment of gas phase volume and inner wall area)
From the above viewpoint, in this embodiment, the area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall of the clarification tube 102a in contact with the gas phase space so as to reduce the volatilization of platinum or a platinum alloy or the like in the gas phase space, The ratio S / L with the volume S [m 3 ] of the gas phase space is controlled or adjusted. This suppresses volatilization of the platinum group metal from the inner wall made of the platinum group metal, and a part of the aggregate of the platinum metal volatilized in the gas phase space becomes a foreign matter (platinum defect) in the molten glass MG. It can suppress mixing. Hereinafter, the description will focus on the control, but the adjustment is also applied in the same manner as the control.
About control (adjustment) of ratio S / L, when the glass substrate is continuously produced, it is preferable to control (adjust) the level of the molten glass MG in the clarification tube 102a. For example, in the forming apparatus 200, the sheet glass formed from the molten glass MG is slowly cooled while being pulled by a conveyance roller (not shown). Therefore, the amount of the molten glass MG in the clarification tube 102a is controlled to melt the clarification tube 102a. The liquid level of the glass MG can be controlled (adjusted). As a method for controlling the amount of the molten glass MG in the clarification tube 102a, for example, the amount of molten glass introduced into the clarification tube 102a is adjusted by adjusting the input amount of the glass raw material for producing the molten glass MG with the melting device 101. Or when the molten glass MG moves from the melting device 101 to the clarification tube 102a, the temperature of the molten glass MG is adjusted using a temperature adjusting device to change the viscosity, thereby changing the moving speed of the molten glass MG. Adjusting the amount of molten glass introduced into the clarification tube 102a, or providing a flow rate control unit for reducing the flow rate of the molten glass MG between the melting device 100 and the clarification tube 102a. The amount of molten glass flowing out from the clarification tube 102a is adjusted by adjusting the introduction amount of the molten glass and adjusting the processing amount by the molding apparatus 200. When, and the like. As described above, the screw feeder 101d that changes the amount of glass raw material input, the temperature adjustment device, the flow rate control unit, the processing amount adjustment instruction device that adjusts the processing amount of the molding device 200, and the like can reduce the ratio S / L. It can be a control unit (adjustment unit) that controls (adjusts).

熔融ガラスＭＧの清澄管１０２ａ内の液面のレベルを制御（調整）する場合、液面のレベルを高くすると、体積Ｓと面積Ｌは同時に小さくなる。このため、比Ｓ／Ｌに好ましい範囲が設定される。
比Ｓ／Ｌを１７［ｍ］以上にすることが気相空間内の白金または白金合金等の揮発を低減する点で好ましく、２５［ｍ］以上にすることがより好ましい。しかし、比Ｓ／Ｌを過度に大きくすると、清澄管１０２ａを流れる熔融ガラスの量は少なくなるので、ガラス基板の生産効率の点で好ましくない。また、清澄管１０２ａ内の液面レベルがガラス供給管１０５の最上部よりも下がると、ガラス供給管１０５から清澄管１０２ａに向かって気流が生じてしまい、清澄管１０２ａ内の気流の流速が高くなってしまう。そのため、液位レベルの下限は、ガラス供給管１０５の最上部よりも高いことが好ましい。以上のことから、比Ｓ／Ｌは１７〜６５ ［ｍ］であることが好ましい。すなわち、比Ｓ／Ｌは、清澄管１０２ａの場合)１７〜６５［ｍ］の範囲に設定されることが好ましく、２５〜６５［ｍ］であることがより好ましい。このような比Ｓ／Ｌの数値の範囲は、断面が円形状あるいは楕円形状の清澄管において実現される。
また、気流の流速の好ましい範囲は、５ｍ／分以下であることが好ましく、１ｍ／分以下であることがより好ましく、０．５ｍ／分以下であることがよりいっそう好ましい。 In the case of controlling (adjusting) the level of the liquid surface in the clarification tube 102a of the molten glass MG, when the level of the liquid level is increased, the volume S and the area L are simultaneously reduced. For this reason, a preferable range is set for the ratio S / L.
The ratio S / L is preferably 17 [m] or more from the viewpoint of reducing volatilization of platinum or a platinum alloy in the gas phase space, and more preferably 25 [m] or more. However, if the ratio S / L is excessively increased, the amount of molten glass flowing through the clarification tube 102a decreases, which is not preferable in terms of production efficiency of the glass substrate. Further, when the liquid level in the clarification tube 102a is lower than the uppermost part of the glass supply tube 105, an air flow is generated from the glass supply tube 105 toward the clarification tube 102a, and the flow velocity of the air flow in the clarification tube 102a is high. turn into. Therefore, the lower limit of the liquid level is preferably higher than the uppermost part of the glass supply pipe 105. From the above, the ratio S / L is preferably 17 to 65 [m]. That is, the ratio S / L is preferably set in the range of 17 to 65 [m], and more preferably 25 to 65 [m] in the case of the clarification tube 102a. Such a numerical range of the ratio S / L is realized in a clarification tube having a circular or elliptical cross section.
Moreover, the preferable range of the flow velocity of the airflow is preferably 5 m / min or less, more preferably 1 m / min or less, and even more preferably 0.5 m / min or less.

なお、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの液面のレベルは、溶解装置１００のガラス原料の投入時の衝撃が伝達し、あるいは、攪拌装置１０３のスターラ１０３ａの回転振動が伝達することにより、変動する場合がある。図４（ａ），（ｂ）は、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスの液面のレベルの変動を説明する図である。清澄管１０２ａ内には、熔融ガラスＭＧが清澄管１０２ａの内部の空間全体の５０％以上を占めることを前提とする。図４（ａ）に示すように、断面が円管形状の清澄管１０２ａの内部の空間全体に７０％程度占有して熔融ガラスＭＧが流れている場合に上記振動による液面レベルの変動は、図４（ｂ）に示すように、清澄管１０２ａの内部の空間全体に５５％程度占有して熔融ガラスＭＧが流れている場合に比べて大きい。図４（ａ）に示すような場合、液面レベルの大きな変動により、内壁に付着した白金または白金合金等の凝集物の一部が離脱して熔融ガラスＭＧに異物として混入しやすくなる。この点で、清澄管１０２ａ内における熔融ガラスＭＧの気相空間の清澄管１０２ａの内部の空間全体に占める比率は小さいほど好ましい。この点も考慮して、比Ｓ／Ｌは適正な数値範囲に制御（調整）される。   The level of the liquid level of the molten glass MG in the clarification tube 102a varies due to transmission of an impact when the glass raw material is charged in the melting device 100 or rotation vibration of the stirrer 103a of the stirring device 103. There is a case. 4 (a) and 4 (b) are diagrams for explaining fluctuations in the liquid level of the molten glass in the clarification tube 102a. It is assumed that the molten glass MG occupies 50% or more of the entire space inside the clarification tube 102a in the clarification tube 102a. As shown in FIG. 4A, when the molten glass MG flows by occupying about 70% of the entire space inside the clarified tube 102a having a circular cross section, the fluctuation of the liquid level due to the vibration is as follows. As shown in FIG.4 (b), it is large compared with the case where about 55% occupies the whole space inside the clarification tube 102a, and the molten glass MG flows. In the case shown in FIG. 4A, due to the large fluctuation of the liquid level, a part of the aggregate such as platinum or platinum alloy attached to the inner wall is detached and easily mixed into the molten glass MG as a foreign substance. In this respect, it is preferable that the ratio of the vapor phase space of the molten glass MG in the clarification tube 102a to the entire space inside the clarification tube 102a is smaller. Taking this point into consideration, the ratio S / L is controlled (adjusted) within an appropriate numerical range.

比Ｓ／Ｌを、清澄管１０２ａの熔融ガラスＭＧの液面レベルで制御（調整）する場合、後述するように、予め白金欠陥数と熔融ガラス処理装置における熔融ガラスの液面レベルとの相関関係を求め、白金欠陥数の許容値に対応する熔融ガラス処理装置の液面レベルを基準液面レベルとして決定し、清澄工程等の処理工程では、この基準液面レベルに基づいて液面レベルを制御（調整）することが好ましい。また、このとき、処理工程では、基準液面レベルを含むように決定された目標液面レベル範囲に基づいて液面レベルを制御（調整）する、ことが好ましい。液面レベルは、熔融ガラス処理装置に供給される熔融ガラスの量および成形工程で成形されるシートガラスの成形量の少なくとも一方を制御あるいは調整することにより、制御（調整）されることが好ましい。   When the ratio S / L is controlled (adjusted) at the liquid surface level of the molten glass MG of the clarification tube 102a, as will be described later, the correlation between the number of platinum defects and the liquid surface level of the molten glass in the molten glass processing apparatus in advance. The liquid level of the molten glass processing equipment corresponding to the allowable value of the number of platinum defects is determined as the reference liquid level, and the liquid level is controlled based on this reference liquid level in processing steps such as the refining process. (Adjustment) is preferable. At this time, in the processing step, it is preferable to control (adjust) the liquid level based on the target liquid level level range determined to include the reference liquid level. The liquid level is preferably controlled (adjusted) by controlling or adjusting at least one of the amount of molten glass supplied to the molten glass processing apparatus and the amount of sheet glass formed in the forming step.

なお、ガラス基板の連続生産の場合に上記比Ｓ／Ｌを制御（調整）する場合、切断工程（ＳＴ６）後に行われるガラス基板の欠陥検査により、白金または白金金属等の凝集物としての異物（白金欠陥）を検出し、この異物の検出個数の結果に応じて比Ｓ／Ｌを制御（調整）することが好ましい。欠陥検査では、複数の種類の異物等の欠陥を識別するが、白金または白金金属等の凝集物は、他の異物や欠陥形状に対して特異な形状をしているため、容易に識別することができる。   In the case of controlling (adjusting) the above ratio S / L in the case of continuous production of glass substrates, foreign substances (such as platinum or platinum metal) as agglomerates (by a defect inspection of the glass substrate after the cutting step (ST6)) ( It is preferable to detect (platinum defects) and control (adjust) the ratio S / L according to the result of the number of detected foreign matters. In defect inspection, defects such as multiple types of foreign substances are identified. Aggregates such as platinum or platinum metal have a unique shape with respect to other foreign substances and defect shapes, so they can be easily identified. Can do.

（液面レベルの制御、調整）
上述した観点から、本実施形態では、白金族金属の揮発を抑制するように、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスの液面レベルを制御（調整）することもできる。以下、制御を中心に説明するが、調整も制御と同様に適用される。
清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの液面レベルは、清澄管１０２ａに供給される又は清澄管１０２ａから排出される熔融ガラスＭＧ量を調整することで制御（調整）できる。例えば、成形装置２００では、通常、熔融ガラス生成装置１００から供給された単位時間あたり一定量の熔融ガラスＭＧからシートガラスを成形するので、清澄管１０２ａに導入される熔融ガラスＭＧの量を調整することにより清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの液面レベルを制御（調整）することができる。清澄管１０２ａに導入（供給）される熔融ガラスＭＧの量を調整する方法としては、例えば、熔解装置１０１で熔融ガラスＭＧをつくるガラス原料の投入量を調整すること、あるいは、熔解装置１０１から清澄管１０２ａに熔融ガラスＭＧが移動する際に、熔融ガラスＭＧの温度を温度調整装置を用いて調整して粘度を変えることにより熔融ガラスＭＧの移動速度を変化させること、あるいは、熔解装置１００と清澄管１０２ａとの間に熔融ガラスＭＧの流量を絞る流量制御部を設けること、等が含まれる。このように、ガラス原料の投入量を変更する原料投入装置１０１ｄや、温度調整装置や、流量制御部が、熔融ガラスＭＧの液面レベルを制御（調整）する制御部（調整部）となり得る。また、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスの液面レベルは、成形装置２００によるシートガラスの成形量（処理量）を調整することでも制御（調整）することができる。あるいは、清澄管１０２ａ内から成形装置２００に供給される熔融ガラスＭＧを調整することで、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスの液面レベルを制御（調整）することができる。成形装置２００によるシートガラスの成形量（処理量）を調整する方法としては、例えば、搬送ローラがシートガラスを搬送する速度制御、シートガラスの板厚制御等が含まれる。他方、清澄管１０２ａ内から成形装置２００に供給される熔融ガラスＭＧ量を制御する方法としては、清澄管１０２ａから成形装置２００に熔融ガラスＭＧが移動する際に、熔融ガラスＭＧの温度を温度調整装置を用いて調整して粘度を変えることにより熔融ガラスＭＧの移動速度を変化させること、あるいは、清澄管１０２ａと成形装置２００との間に熔融ガラスＭＧの流量を絞る流量制御部を設けること、等が含まれる。このように、搬送ローラの速度調整装置、温度調整装置や、流量制御部が、熔融ガラスＭＧの液面レベルを調整する制御部（調整部）となり得る。
上記した制御部（調整部）の中でも、ガラス原料の投入量を調整すること、および、成形装置２００によるシートガラスの成形量を調整すること、の少なくとも一方を行うことが好ましい。
なお、本実施形態において熔融ガラスＭＧの液面レベルは、例えば、清澄装置１０２に設けられた液位測定装置を用いて測定することができる。なお、清澄管１０２ａ長手方向のいずれの部分においても略同じ値を示す。したがって、液面レベルは、清澄管１０２ａのどの部分に注目して制御（調整）してもよい。 (Control and adjustment of liquid level)
From the viewpoint described above, in this embodiment, the liquid level of the molten glass in the clarification tube 102a can be controlled (adjusted) so as to suppress the volatilization of the platinum group metal. Hereinafter, the description will focus on the control, but the adjustment is also applied in the same manner as the control.
The liquid level of the molten glass MG in the clarification tube 102a can be controlled (adjusted) by adjusting the amount of molten glass MG supplied to the clarification tube 102a or discharged from the clarification tube 102a. For example, in the molding apparatus 200, sheet glass is usually molded from a certain amount of molten glass MG supplied from the molten glass generating apparatus 100 per unit time, so the amount of molten glass MG introduced into the clarification tube 102a is adjusted. Thus, the liquid level of the molten glass MG in the clarification tube 102a can be controlled (adjusted). As a method for adjusting the amount of the molten glass MG introduced (supplied) into the clarification tube 102a, for example, the amount of the glass raw material for producing the molten glass MG is adjusted by the melting device 101, or the clarification from the melting device 101 is performed. When the molten glass MG moves to the tube 102a, the moving speed of the molten glass MG is changed by adjusting the temperature of the molten glass MG using a temperature adjusting device and changing the viscosity, or the melting device 100 and the clarification. The provision of a flow rate control unit for reducing the flow rate of the molten glass MG between the tube 102a and the like is included. Thus, the raw material input device 101d that changes the input amount of the glass raw material, the temperature adjustment device, and the flow rate control unit can be a control unit (adjustment unit) that controls (adjusts) the liquid level of the molten glass MG. The liquid level of the molten glass in the clarification tube 102a can also be controlled (adjusted) by adjusting the amount of sheet glass formed (processing amount) by the forming apparatus 200. Or the liquid level of the molten glass in the clarification pipe | tube 102a can be controlled (adjusted) by adjusting the molten glass MG supplied to the shaping | molding apparatus 200 from the clarification pipe | tube 102a. Examples of the method for adjusting the amount of sheet glass formed (processing amount) by the forming apparatus 200 include speed control for conveying the sheet glass by the conveyance roller, sheet thickness control for the sheet glass, and the like. On the other hand, as a method of controlling the amount of molten glass MG supplied from the clarification tube 102a to the molding apparatus 200, the temperature of the molten glass MG is adjusted when the molten glass MG moves from the clarification tube 102a to the molding apparatus 200. Changing the moving speed of the molten glass MG by changing the viscosity by adjusting the apparatus, or providing a flow rate control unit for reducing the flow rate of the molten glass MG between the clarification tube 102a and the forming apparatus 200; Etc. are included. Thus, the speed adjusting device, the temperature adjusting device, and the flow rate control unit of the transport roller can be a control unit (adjusting unit) that adjusts the liquid level of the molten glass MG.
Among the control units (adjusting units) described above, it is preferable to perform at least one of adjusting the input amount of the glass raw material and adjusting the forming amount of the sheet glass by the forming apparatus 200.
In addition, in this embodiment, the liquid level of molten glass MG can be measured using the liquid level measuring apparatus provided in the clarification apparatus 102, for example. In addition, substantially the same value is shown in any part of the clarification tube 102a in the longitudinal direction. Therefore, the liquid level may be controlled (adjusted) by paying attention to any part of the clarification tube 102a.

液面レベルの制御（調整）は、清澄管１０２ａでは、予め定めた基準液面レベル又は目標液面レベルとなるよう、行うことが好ましい。基準液面レベルは、清澄管１０２ａ内で熔融ガラスＭＧの液面レベルがとりうる大きさである。また、目標液面レベルは、清澄管１０２ａ内で熔融ガラスＭＧの液面レベルがとりうる大きさの範囲である。基準液面レベル及び目標液面レベルは、主に、気相空間内で揮発した白金または白金合金等の凝集物の一部が異物となって熔融ガラスに混入して、ガラス基板において欠陥（以降、白金欠陥ともいう）となるのを抑制する観点から定められる。また、目標液面レベルは、ガラス基板の生産性を低下させない観点からも定められる。   The control (adjustment) of the liquid level is preferably performed so that the clarification tube 102a has a predetermined reference liquid level or a target liquid level. The reference liquid level is a size that the liquid level of the molten glass MG can take in the clarification tube 102a. Further, the target liquid level is in a range in which the liquid level of the molten glass MG can be taken in the clarification tube 102a. The reference liquid level and the target liquid level are mainly defined as defects (hereinafter referred to as “defects”) in the glass substrate due to a part of the aggregate such as platinum or platinum alloy volatilized in the gas phase space becoming foreign matter and entering the molten glass. , Also referred to as platinum defects). Further, the target liquid level is determined from the viewpoint of not reducing the productivity of the glass substrate.

基準液面レベル又は目標液面レベルＡを決定するために、ガラス基板の製造開始前に、熔融ガラスＭＧの液面レベルと白金欠陥数との相関関係を求める。基準液面レベルは、白金欠陥数の許容値に対応する清澄管１０２ａの液面レベルであり、清澄管１０２ａ内における熔融ガラスＭＧの液面レベルと白金欠陥数との相関関係に基づいて決定される。目標液面レベルは、上記基準液面レベルを含むように決定される。
図５を参照して、線Ｓおよび目標液面レベルを説明する。線Ｓは、図５に示されるように、熔融ガラスＭＧの液面レベルと、白金欠陥数との相関関係を示すものである。なお、液面レベルは、熔融ガラスＭＧの液面と、液面に直交する方向の気相空間の上端（内壁の天井部分）との距離（ｍｍ）で表される。
熔融ガラスＭＧの液面レベルと白金欠陥数との相関関係は、過去に用いられたガラス基板製造時の製造条件、測定項目等のうち、清澄工程での液面の高さ（液面レベル）と、当該製造条件等を用いて製造されたガラス基板について行った検査結果のうち白金欠陥数と、に基づいて行われる。上記相関関係の作成に際して、これら２つのパラメータ、すなわち、液面レベルおよび白金欠陥数、以外の他の条件は一定であるとされる。当該他の条件には、例えば、清澄装置１０２の大きさ、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの温度、清澄管１０２ａの温度、清澄管１０２ａの構成材料の種類、ガラスの種類、後述する不活性ガスの導入の有無、不活性ガスの導入量、熔融ガラスＭＧの清澄剤の含有量、等が含まれる。
液面レベルの値が大きい（液面高さが低い）ほど、白金欠陥数が少なくなっていることが分かる。これは、液面高さが低くなると、気相空間の体積が大きくなるため、上記説明したように清澄管１０２ａ内の気流の速さが遅くなり、清澄管１０２ａの白金または白金合金等の揮発が抑制される結果、白金欠陥数が少なくなっているためである。 In order to determine the reference liquid level or the target liquid level A, a correlation between the liquid level of the molten glass MG and the number of platinum defects is obtained before starting the production of the glass substrate. The reference liquid level is the liquid level of the clarification tube 102a corresponding to the allowable number of platinum defects, and is determined based on the correlation between the liquid level of the molten glass MG in the clarification tube 102a and the number of platinum defects. The The target liquid level is determined so as to include the reference liquid level.
The line S and the target liquid level will be described with reference to FIG. Line S shows the correlation between the liquid level of molten glass MG and the number of platinum defects, as shown in FIG. The liquid level is represented by the distance (mm) between the liquid level of the molten glass MG and the upper end (the ceiling portion of the inner wall) of the gas phase space in the direction orthogonal to the liquid level.
The correlation between the liquid level of the molten glass MG and the number of platinum defects is the liquid level in the refining process (liquid level) among the manufacturing conditions and measurement items used in the past when manufacturing glass substrates. And the number of platinum defects among the inspection results of the glass substrate manufactured using the manufacturing conditions and the like. In creating the above correlation, other conditions than these two parameters, ie, the liquid level and the number of platinum defects, are assumed to be constant. The other conditions include, for example, the size of the clarification device 102, the temperature of the molten glass MG in the clarification tube 102a, the temperature of the clarification tube 102a, the type of constituent material of the clarification tube 102a, the type of glass, and the inertness described later. The presence / absence of gas introduction, the amount of inert gas introduced, the content of the fining agent of molten glass MG, and the like are included.
It can be seen that the larger the liquid level value (the lower the liquid level), the smaller the number of platinum defects. This is because, as the liquid level is lowered, the volume of the gas phase space is increased, so that the speed of the air flow in the clarification tube 102a is reduced as described above, and volatilization of platinum or a platinum alloy or the like in the clarification tube 102a. This is because the number of platinum defects is reduced as a result of the suppression.

目標液面レベルＡは、図示されるように、液面レベルの範囲で表される（図中、斜線部分）。目標液面レベルＡは、線Ｓに基づいて作成される。目標液面レベルＡの下限値は、線Ｓと、図５に示す品質基準線Ｑとの交点である基準液面レベルに定められる。品質基準線Ｑとは、白金欠陥数の許容値である。品質基準線Ｑは、例えば、ガラス基板の購入者である顧客の要求する品質上のスペックによって定められ、所定の白金欠陥数を示す。具体的な白金欠陥数は、特に制限されず、種々定めうるが、例えば０．００１〜０．１個／ｋｇの間で定めることができる。図５では、品質基準線Ｑ（白金欠陥数の許容値）より左側の領域では、製造されたガラス基板は良品であると判断され、右側の領域では不良品であると判断される。この下限値よりも、液面レベルが大きくなる（液面高さが現在の液面レベルよりも下方に位置する）よう、液面レベルが制御（調整）されることで、製造されるガラス基板に含まれる白金欠陥数を、常に所定値以下に抑えることができる。
一方、目標液面レベルＡの上限値は、ガラス基板の生産性を低下させない観点から定められる。熔融ガラスＭＧの液面レベルが大きくなると、気相空間の体積が大きくなり、白金または白金合金等の揮発は抑制されるが、一方で、気相空間の体積が増加した分、清澄管１０２ａ内の液相（熔融ガラスＭＧ）の量は減り、当該量が大きい場合は、ガラス基板の生産性が低下してしまう。このような観点から、目標液面レベルＡの上限値は定められる。なお、目標液面レベルＡの上限値の設定は、必須ではないが、設定されていることが好ましい。
さらに、目標液面レベルＡの上限値は、清澄管１０２ａと接続されたガラス供給管１０５の高さ位置に基づいて決定されてもよい。例えば、清澄管１０２ａの液面レベルがガラス供給管１０５の最上部よりも下方になると、ガラス供給管１０５から清澄管１０２ａに向かって気流が生じてしまい、清澄管１０２ａ内の気流の流速が高くなってしまう。つまり、清澄管１０２ａの白金または白金合金等の揮発を抑制し難くなる。そこで、目標液面レベルＡの上限値は、ガラス供給管１０５の最上部の高さ位置に対応する液面レベルよりも小さく設定されることが好ましい。
以上の目標液面レベルとなるよう、清澄管１０２ａ内の熔融ガラスＭＧの液面レベルを制御（調整）することにより、常に白金欠陥数を所定数以下にしつつ、ガラス基板の生産性の低下を抑えることができる。また、熔融ガラスＭＧの液面レベルを、上記のように定められた目標液面レベルとする制御（調整）を行うことで、たとえば、顧客の要求するスペックが厳しくなった場合にも、即座に対応することが可能になり、確実にそのスペックを満足するガラス基板を製造することができる。この場合、図５の紙面において、品質基準線Ｑが図５に示す基準線Ｑに対してより左側に設定される。すると、線Ｓとの交点が図５に示されている現在の交点に対して上方にシフトし、液面レベルを大きく（液面高さを低く）する必要があることが分かる。 The target liquid level A is represented in the range of the liquid level as shown (shaded portion in the figure). The target liquid level A is created based on the line S. The lower limit value of the target liquid level A is determined at the reference liquid level that is the intersection of the line S and the quality reference line Q shown in FIG. The quality reference line Q is an allowable value of the number of platinum defects. The quality reference line Q is determined by, for example, quality specifications requested by a customer who is a purchaser of a glass substrate, and indicates a predetermined number of platinum defects. The specific number of platinum defects is not particularly limited and can be variously determined. For example, it can be determined between 0.001 and 0.1 / kg. In FIG. 5, in the region on the left side of the quality reference line Q (allowable value for the number of platinum defects), the manufactured glass substrate is determined to be a non-defective product, and in the right region, it is determined to be a defective product. A glass substrate manufactured by controlling (adjusting) the liquid level so that the liquid level becomes larger than the lower limit (the liquid level is positioned below the current liquid level). The number of platinum defects contained in can always be kept below a predetermined value.
On the other hand, the upper limit value of the target liquid level A is determined from the viewpoint of not reducing the productivity of the glass substrate. As the liquid level of the molten glass MG increases, the volume of the gas phase space increases, and volatilization of platinum or a platinum alloy or the like is suppressed. On the other hand, the volume of the gas phase space increases. The amount of the liquid phase (molten glass MG) is reduced, and when the amount is large, the productivity of the glass substrate is lowered. From such a viewpoint, the upper limit value of the target liquid level A is determined. The setting of the upper limit value of the target liquid level A is not essential, but is preferably set.
Furthermore, the upper limit value of the target liquid level A may be determined based on the height position of the glass supply pipe 105 connected to the clarification pipe 102a. For example, when the liquid level of the clarification tube 102a is lower than the uppermost part of the glass supply tube 105, an air flow is generated from the glass supply tube 105 toward the clarification tube 102a, and the flow velocity of the air flow in the clarification tube 102a is high. turn into. That is, it becomes difficult to suppress volatilization of platinum or a platinum alloy in the clarification tube 102a. Therefore, the upper limit value of the target liquid level A is preferably set smaller than the liquid level corresponding to the uppermost height position of the glass supply pipe 105.
By controlling (adjusting) the liquid level of the molten glass MG in the clarification tube 102a so as to achieve the above target liquid level, the number of platinum defects is always kept below a predetermined number, while reducing the productivity of the glass substrate. Can be suppressed. Also, by controlling (adjusting) the liquid level of the molten glass MG to the target liquid level determined as described above, for example, even when the specifications required by the customer become strict, Therefore, it is possible to manufacture a glass substrate that reliably satisfies the specifications. In this case, the quality reference line Q is set to the left of the reference line Q shown in FIG. Then, it turns out that the intersection with the line S is shifted upward with respect to the current intersection shown in FIG. 5, and it is necessary to increase the liquid level (lower the liquid level).

なお、本実施形態の方法における制御（調整）対象は、熔融ガラスＭＧの液面レベルであるが、液面レベルを制御（調整）することは、気相空間の体積を制御（調整）することにもなる。上記説明したように、気相空間への白金または白金合金等の揮発を抑制するには気流の流速を低くすればよく、気流の流速を低くするには、気相空間の体積を大きくすればよい。   In addition, although the control (adjustment) object in the method of this embodiment is the liquid level of molten glass MG, controlling (adjusting) the liquid level means controlling (adjusting) the volume of the gas phase space. It also becomes. As described above, the flow velocity of the air flow may be lowered to suppress volatilization of platinum or a platinum alloy or the like into the gas phase space, and the volume of the gas phase space is increased to reduce the flow velocity of the air flow. Good.

上記線および目標液面レベルは、上記他の条件を種々変えた場合についてそれぞれ作成されることが好ましい。このように複数作成しておくことによって、ガラス基板の製造開始前に、これから行う製造条件に最も近いものを選択し、選択した線、目標液面レベルに従って液面の制御（調整）をすることで、いずれの条件でガラス基板を製造する場合にも、白金または白金合金等の揮発を抑制して、凝集物の一部が熔融ガラスに混入して、白金欠陥を発生させるのを抑えることができる。
また、液面レベルは、熔融ガラスＭＧの液面と、これに直交する気相空間の上端との距離に代えて、清澄管１０２ａの底部からの液面の高さによって表されてもよい。 It is preferable that the line and the target liquid level are respectively created when the other conditions are variously changed. By creating a plurality of glass substrates in this way, select the one closest to the manufacturing conditions to be performed before the start of manufacturing the glass substrate, and control (adjust) the liquid level according to the selected line and target liquid level. Therefore, when producing a glass substrate under any conditions, it is possible to suppress the volatilization of platinum or a platinum alloy, etc., and to prevent a part of the aggregate from being mixed into the molten glass and generating platinum defects. it can.
The liquid level may be represented by the height of the liquid surface from the bottom of the clarification tube 102a instead of the distance between the liquid surface of the molten glass MG and the upper end of the gas phase space orthogonal thereto.

気流の流速の好ましい範囲は、５ｍ／分以下であることが好ましく、１ｍ／分以下であることがより好ましく、０．５ｍ／分以下であることがよりいっそう好ましい。   The preferred range of the flow velocity of the airflow is preferably 5 m / min or less, more preferably 1 m / min or less, and even more preferably 0.5 m / min or less.

なお、ガラス基板の連続生産の場合に上記熔融ガラスＭＧの液面レベルを制御（調整）する場合、切断工程（ＳＴ６）後に行われるガラス基板の欠陥検査により、白金または白金金属等の凝集物としての異物を検出し、この異物の検出個数の結果に応じて熔融ガラスＭＧの液面レベルを制御（調整）することが好ましい。欠陥検査では、複数の種類の異物等の欠陥を識別するが、白金または白金金属等の凝集物は、他の異物や欠陥形状に対して特異な形状をしているため、容易に識別することができる。   In addition, when controlling (adjusting) the liquid level of the molten glass MG in the case of continuous production of a glass substrate, as agglomerates such as platinum or platinum metal by a defect inspection of the glass substrate performed after the cutting step (ST6). It is preferable to detect the foreign matter and control (adjust) the liquid level of the molten glass MG according to the result of the number of detected foreign matters. In defect inspection, defects such as multiple types of foreign substances are identified. Aggregates such as platinum or platinum metal have a unique shape with respect to other foreign substances and defect shapes, so they can be easily identified. Can do.

上述した気相空間の体積及び内壁の面積の制御（調整）と、液面レベルの制御（調整）のいずれの実施形態においても、清澄管１０２ａの温度に関しては、気相空間と接する白金または白金合金等の内壁の部分の最高温度と最低温度との温度差は５０℃以上あってもよく、１５０℃以上あってもよく、２５０℃以上あってもよい。上記温度差が５０℃以上ある場合、一般に、気相空間内で、白金または白金合金の揮発物は最低温度の内壁近傍で飽和蒸気圧の温度依存性により容易に凝集し易くなる。しかし、本実施形態のように、熔融ガラスＭＧの液面レベルを制御（調整）することにより、白金または白金合金の揮発物は少なくなり凝集量も少なくなる。この点で、上記温度差が５０℃以上ある場合、本実施形態の清澄管１０２ａを用いたときに白金または白金合金等の凝集物が熔融ガラスＭＧに混入することを抑制する効果は、温度差が５０℃未満の清澄管に比べて顕著な効果を発揮・BR>キる。
また、清澄管１０２ａの最高温度は、１４００℃以上であってもよく、１６００℃以上、１６３０℃以上、さらに、１６５０℃以上であってもよい。このように最高温度が高い場合、本実施形態における白金または白金合金等の凝集物が熔融ガラスＭＧに混入することを抑制する効果は、最高温度が１４００℃未満の清澄管に比べて大きい。また、清澄管１０２ａの内壁の最高温度が低すぎると、例えば酸化錫の清澄剤として反応が活発でなくなり、熔融ガラスの清澄が十分でなくなる。そのため、清澄管１０２ａの内壁の最高温度は、１６３０℃〜１７２０℃であることが好ましく、１６５０℃〜１７２０℃であることがより好ましい。
このような清澄管１０２ａの温度分布は、熱電対等の温度センサを用いて計測して取得してもよく、また、熱伝導シミュレーションを用いて取得してもよい。 In any of the above-described embodiments of the control (adjustment) of the volume of the gas phase space and the area of the inner wall and the control (adjustment) of the liquid level, the temperature of the clarification tube 102a is platinum or platinum in contact with the gas phase space. The temperature difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the inner wall portion of the alloy or the like may be 50 ° C. or more, 150 ° C. or more, or 250 ° C. or more. When the temperature difference is 50 ° C. or more, generally, the volatile matter of platinum or a platinum alloy easily aggregates in the vicinity of the inner wall at the lowest temperature due to the temperature dependence of the saturated vapor pressure in the gas phase space. However, as in this embodiment, by controlling (adjusting) the liquid level of the molten glass MG, the volatile matter of platinum or platinum alloy is reduced and the amount of aggregation is also reduced. In this respect, when the temperature difference is 50 ° C. or more, the effect of suppressing the agglomeration such as platinum or platinum alloy from being mixed into the molten glass MG when the clarification tube 102a of the present embodiment is used is the temperature difference. Is more effective than a clarified tube of less than 50 ° C.
The maximum temperature of the clarification tube 102a may be 1400 ° C. or higher, 1600 ° C. or higher, 1630 ° C. or higher, and 1650 ° C. or higher. Thus, when the maximum temperature is high, the effect which suppresses that aggregates, such as platinum or a platinum alloy in this embodiment mix in molten glass MG, is large compared with the clarification tube whose maximum temperature is less than 1400 degreeC. Moreover, when the maximum temperature of the inner wall of the clarification tube 102a is too low, for example, the reaction becomes inactive as a clarifier of tin oxide, and the clarification of the molten glass becomes insufficient. Therefore, the maximum temperature of the inner wall of the clarification tube 102a is preferably 1630 ° C to 1720 ° C, and more preferably 1650 ° C to 1720 ° C.
Such a temperature distribution of the clarification tube 102a may be measured and acquired using a temperature sensor such as a thermocouple, or may be acquired using a heat conduction simulation.

上述した比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡの好ましい範囲は、清澄工程における処理条件が異なると変化する。そのため、例えば、比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡは、
（１）気相空間中の酸素濃度、
（２）熔融ガラス処理装置の内壁の最高温度、
（３）熔融ガラスから気相空間に放出される酸素放出量、
（４）熔解工程における熔融ガラスの最高温度と、処理工程における熔融ガラスの最高温度との温度差、及び
（５）気相空間における白金族金属（白金または白金合金）の蒸気圧、
の少なくとも１つに基づいて決定される値であることが好ましい。 The preferred range of the above-described ratio S / L, or the reference liquid level or target liquid level A varies depending on the processing conditions in the clarification process. Therefore, for example, the ratio S / L, or the reference liquid level or target liquid level A is
(1) oxygen concentration in the gas phase space,
(2) Maximum temperature of inner wall of molten glass processing equipment,
(3) The amount of oxygen released from the molten glass into the gas phase space,
(4) temperature difference between the maximum temperature of the molten glass in the melting step and the maximum temperature of the molten glass in the treatment step, and (5) the vapor pressure of the platinum group metal (platinum or platinum alloy) in the gas phase space,
Preferably, the value is determined based on at least one of the following.

例えば、上記（１）の気相空間中の酸素濃度の場合、気相空間中の酸素濃度が変化すると、白金または白金合金等の揮発を抑制するための好ましい比Ｓ／Ｌ、基準液面レベル又は目標液面レベルＡは変化する。気相空間中の酸素濃度が高くなると白金または白金合金等の揮発が活発になるため、面積Ｌは小さい方が好ましい。また、熔融ガラスの液面レベルは高い方が好ましい。しかし、面積Ｌを小さくすると、また、熔融ガラスの液面レベルは高くすると、体積Ｓも小さくなり、酸素濃度がますます上昇する。このため、気相空間中の酸素濃度は、白金または白金合金等の揮発を抑制するための好ましい比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡを決定する上で、大きな要因の１つとなっている。   For example, in the case of the oxygen concentration in the gas phase space of (1) above, when the oxygen concentration in the gas phase space changes, a preferable ratio S / L for suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy, the reference liquid level Alternatively, the target liquid level A changes. Since the volatilization of platinum or a platinum alloy becomes active when the oxygen concentration in the gas phase space increases, the area L is preferably small. Moreover, the one where the liquid level of molten glass is higher is preferable. However, when the area L is decreased and the liquid level of the molten glass is increased, the volume S is also decreased, and the oxygen concentration is further increased. For this reason, the oxygen concentration in the gas phase space is a major factor in determining the preferred ratio S / L for suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy, or the reference liquid level or target liquid level A. It is one.

気相空間中の酸素濃度は、熔融ガラスに含まれる清澄剤、例えば酸化錫の含有量、熔融ガラスの温度あるいは温度履歴、気相空間に導入される不活性ガスの量によって制御（調整）することができる。熔融ガラスの温度あるいは温度履歴は、熔融ガラス処理装置の内壁の最高温度によって変化する。したがって、熔融ガラス処理装置の内壁の最高温度も、白金または白金合金等の揮発を抑制するための好ましい比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡを決定する上で、大きな要因の１つとなっている。   The oxygen concentration in the gas phase space is controlled (adjusted) by the fining agent contained in the molten glass, for example, the content of tin oxide, the temperature or temperature history of the molten glass, and the amount of inert gas introduced into the gas phase space. be able to. The temperature or temperature history of the molten glass varies depending on the maximum temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus. Accordingly, the maximum temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus is also a major factor in determining the preferred ratio S / L for suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy, or the reference liquid level or target liquid level A. It is one of.

熔融ガラスに含まれる清澄剤、例えば酸化錫の含有量が変化すれば、熔融ガラスから気相空間に放出される酸素の放出量も変化する。すなわち、酸化錫の含有量が多いほど放出される酸素量が上昇し、気相空間の酸素濃度が上昇する。したがって、熔融ガラスから気相空間に放出される酸素放出量も、白金または白金合金等の揮発を抑制するための好ましい比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡを決定する上で、大きな要因の１つとなっている。この点から、白金または白金合金等の揮発を抑制する点から、気相空間における酸素濃度は、酸化錫の含有量によって制御（調整）されることが好ましい。したがって白金または白金合金等の揮発を抑制する点から、酸化錫の含有量は制限され、０．０１〜０．３モル％、好ましくは０．０３〜０．２モルであることが好ましい。酸化錫の含有量が多いと酸化錫の２次結晶が熔融ガラス中で発生する問題が生じるので好ましくない。酸化錫の含有量が少なすぎると熔融ガラスの清澄が十分でない。   If the content of a fining agent, for example, tin oxide, contained in the molten glass changes, the amount of oxygen released from the molten glass into the gas phase space also changes. That is, as the tin oxide content increases, the amount of released oxygen increases, and the oxygen concentration in the gas phase space increases. Therefore, the oxygen release amount released from the molten glass into the gas phase space also determines the preferred ratio S / L for suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy, or the reference liquid level or target liquid level A. This is one of the major factors. From this point, it is preferable that the oxygen concentration in the gas phase space is controlled (adjusted) by the content of tin oxide from the viewpoint of suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy. Therefore, from the point of suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy or the like, the content of tin oxide is limited and is preferably 0.01 to 0.3 mol%, preferably 0.03 to 0.2 mol. If the content of tin oxide is large, there is a problem that secondary crystals of tin oxide are generated in the molten glass. When the content of tin oxide is too small, the clarification of the molten glass is not sufficient.

熔融ガラスの温度あるいは温度履歴については、熔融ガラスの温度が変化すれば、この温度変化によって、還元する酸化剤、例えば還元する酸化錫の量、及び熔融ガラスの粘度が変化する。このため、熔融ガラスから気相空間に放出される酸素量も変化する。   Regarding the temperature or temperature history of the molten glass, if the temperature of the molten glass changes, the temperature change changes the amount of oxidizing agent to be reduced, for example, the amount of tin oxide to be reduced, and the viscosity of the molten glass. For this reason, the amount of oxygen released from the molten glass into the gas phase space also changes.

また、熔融ガラス処理装置に流入する前の熔解工程における熔融ガラスと熔融ガラス処理装置に流入した後の処理工程における熔融ガラスの温度差が大きいほど熔融ガラス処理装置で放出される酸素の量は増加する。つまり、熔融ガラス処理装置の流入前から熔融ガラス処理装置における熔融ガラスの温度履歴を制御（調整）することで、熔融ガラスから気相空間に放出される酸素の放出量も変化する。したがって、熔解工程における熔融ガラスの最高温度と、処理工程における熔融ガラスの最高温度との温度差も、白金または白金合金等の揮発を抑制するための好ましい比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡを決定する上で、大きな要因の１つとなっている。この場合、白金または白金合金等の揮発の抑制と清澄効果とを両立する点から、上記温度差は、５０℃以上２００℃以下であることが好ましく、７０℃以上１５０℃以下であることがより好ましい。   Also, the greater the temperature difference between the molten glass in the melting process before flowing into the molten glass processing apparatus and the molten glass in the processing process after flowing into the molten glass processing apparatus, the greater the amount of oxygen released in the molten glass processing apparatus. To do. That is, by controlling (adjusting) the temperature history of the molten glass in the molten glass processing apparatus before flowing into the molten glass processing apparatus, the amount of oxygen released from the molten glass into the gas phase space also changes. Therefore, the temperature difference between the maximum temperature of the molten glass in the melting step and the maximum temperature of the molten glass in the treatment step is preferably a preferable ratio S / L for suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy, or the reference liquid level or This is one of the major factors in determining the target liquid level A. In this case, the temperature difference is preferably 50 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and more preferably 70 ° C. or higher and 150 ° C. or lower from the viewpoint of achieving both the suppression of volatilization of platinum or a platinum alloy and the clarification effect. preferable.

また、気相空間における白金族金属（白金または白金合金）の蒸気圧も、白金または白金合金等の揮発を抑制するための好ましい比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡを決定する上で、大きな要因の１つとなっている。気相空間における白金族金属（白金または白金合金）の蒸気圧は、熔融ガラス処理装置の内壁の温度に応じて揮発する白金族金属（白金または白金合金）の揮発量によって定まる。したがって、熔融ガラス処理装置の内壁の温度は、白金または白金合金等の揮発を抑制するための好ましい比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡを決定する上で、大きな要因の１つとなっている。内壁の温度が高く、揮発量が多く、気相空間における白金族金属（白金または白金合金）の蒸気圧が高い場合、図３（ａ）に示すような速い気流Ｗ１が気相空間中にある場合であっても、白金族金属（白金または白金合金）の蒸気圧が飽和蒸気圧に達している状態が維持される。この場合、揮発量の絶対量を下げるために、比Ｓ／Ｌ、あるいは基準液面レベル又は目標液面レベルＡを制御（調整）することができる。白金または白金合金等の揮発及び凝集を抑制する点から、気相空間における白金族金属の蒸気圧は１Ｐａ〜１０Ｐａであることが好ましく、３Ｐａ〜１０Ｐａであることが好ましい。   Further, the vapor pressure of the platinum group metal (platinum or platinum alloy) in the gas phase space is also set to a preferable ratio S / L for suppressing volatilization of platinum or platinum alloy, or the reference liquid level or target liquid level A. This is one of the major factors in making the decision. The vapor pressure of the platinum group metal (platinum or platinum alloy) in the gas phase space is determined by the volatilization amount of the platinum group metal (platinum or platinum alloy) that volatilizes according to the temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus. Therefore, the temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus is a major factor in determining a preferred ratio S / L for suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy, or a reference liquid level or target liquid level A. It is one. When the inner wall temperature is high, the amount of volatilization is large, and the vapor pressure of the platinum group metal (platinum or platinum alloy) in the gas phase space is high, a fast air flow W1 as shown in FIG. Even in this case, the state where the vapor pressure of the platinum group metal (platinum or platinum alloy) reaches the saturated vapor pressure is maintained. In this case, the ratio S / L, the reference liquid level or the target liquid level A can be controlled (adjusted) in order to reduce the absolute amount of volatilization. From the viewpoint of suppressing volatilization and aggregation of platinum or a platinum alloy, the vapor pressure of the platinum group metal in the gas phase space is preferably 1 Pa to 10 Pa, and preferably 3 Pa to 10 Pa.

気相空間における白金族金属の蒸気圧が１Ｐａ〜１０Ｐａであり、熔融ガラス処理装置の内壁の最高温度が１６３０℃〜１７２０℃であり、気相空間の体積をＳ［ｍ3］とし、気相空間と接する白金族金属の面積をＬ[ｍ2]としたとき、比Ｓ／Ｌは、１７[ｍ]以上とすることで、白金または白金合金等の揮発及び凝集を抑制することができる。このとき、気相空間の酸素濃度は、２％以下であることが好ましい。また、製造されるガラス基板の酸化錫の含有量は、０．０１〜０．３モル％であることが好ましい。 The vapor pressure of the platinum group metal in the gas phase space is 1 Pa to 10 Pa, the maximum temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus is 1630 ° C. to 1720 ° C., and the volume of the gas phase space is S [m 3 ]. When the area of the platinum group metal in contact with the space is L [m 2 ], the volatilization and aggregation of platinum or a platinum alloy can be suppressed by setting the ratio S / L to 17 [m] or more. At this time, the oxygen concentration in the gas phase space is preferably 2% or less. Moreover, it is preferable that content of the tin oxide of the glass substrate manufactured is 0.01-0.3 mol%.

本実施形態では、熔融ガラスの脱泡のために清澄管１０２ａを通電加熱する方式を用いる。通電加熱の方式では、清澄管１０２ａを直接加熱するので、清澄管の周囲にヒータ等の熱源を設けて清澄管を間接的に加熱する場合に比べて、気相空間と接する白金または白金合金等の内壁の温度は高くなり、温度勾配も高くなり、最高温度と最低温度との温度差は大きくなり易い。このため、上述したように、従来の清澄管では、白金または白金合金等の凝集物が多くなり易い。しかし、本実施形態では、白金または白金合金の揮発を抑制するので、白金または白金合金の凝集物は少ない。この点で、清澄管１０２ａを通電加熱する方式を用いる場合、白金または白金合金等の凝集物が熔融ガラスＭＧに混入することを抑制する本実施形態の効果は、間接加熱方式を用いる清澄管に比べて大きい。
また、清澄管１０２ａの通電加熱の方式の場合、清澄管１０２ａの管の周りに電流を均一に流すために、フランジが清澄管１０２ａの周りに設けられる場合がある。フランジは熱による破損を防止するために冷却される。また、フランジが冷却フィンとして機能する。このため、清澄管１０２ａのフランジが設けられた部分の内壁の温度は低下しやすい。つまり、澄管１０２ａのフランジが設けられた部分の内壁では白金又は白金合金の凝集が生じやすい。このような場合においても、本実施形態では、白金または白金合金の揮発を抑制するので、白金または白金合金の凝集物は少ない。このため、フランジが清澄管１０２ａに用いられる場合でも、白金または白金合金等の凝集物が熔融ガラスＭＧに混入することを抑制する本実施形態の効果は、従来の清澄管に比べて大きい。 In the present embodiment, a method of energizing and heating the clarification tube 102a is used for defoaming the molten glass. In the current heating method, the clarification tube 102a is directly heated. Therefore, platinum or a platinum alloy in contact with the gas phase space is compared with the case where the clarification tube is indirectly heated by providing a heat source such as a heater around the clarification tube. The temperature of the inner wall increases, the temperature gradient also increases, and the temperature difference between the highest temperature and the lowest temperature tends to increase. For this reason, as mentioned above, in the conventional clarification tube, aggregates, such as platinum or a platinum alloy, are easy to increase. However, in this embodiment, since the volatilization of platinum or a platinum alloy is suppressed, there are few aggregates of platinum or a platinum alloy. In this regard, when using a method in which the clarification tube 102a is energized and heated, the effect of the present embodiment that suppresses the mixing of aggregates such as platinum or platinum alloy into the molten glass MG is the effect of the indirect heating method. Bigger than that.
In the case of the current heating method of the clarification tube 102a, a flange may be provided around the clarification tube 102a in order to allow a current to flow uniformly around the clarification tube 102a. The flange is cooled to prevent thermal damage. Further, the flange functions as a cooling fin. For this reason, the temperature of the inner wall of the portion where the flange of the clarification tube 102a is provided tends to decrease. That is, the inner wall of the portion where the flange of the clear tube 102a is provided is likely to cause aggregation of platinum or a platinum alloy. Even in such a case, in the present embodiment, since the volatilization of platinum or the platinum alloy is suppressed, there are few aggregates of platinum or the platinum alloy. For this reason, even when a flange is used for the clarification tube 102a, the effect of this embodiment which suppresses that aggregates, such as platinum or a platinum alloy, mix with molten glass MG is large compared with the conventional clarification tube.

また、本実施形態の清澄管１０２ａの気相空間には、熔融ガラス及び白金あるいは白金合金等と不活性なガスを導入するように、ガス導入装置が設けられてもよい。この場合、気相空間には、例えば不活性なガスを導入するノズルが設けられる。不活性なガスを気相空間内に導入することにより、気相空間内の酸素分圧あるいは酸素濃度を低下させることができる。酸素は、白金または白金合金等と結合して揮発を助長する。このため、酸素分圧を下げることにより、清澄管１０２ａの内壁から白金又は白金合金の揮発を抑制することができる。このとき、不活性なガスを、気相空間と接する清澄管１０２ａの内壁のうち内壁の温度が低い部分から気相空間に導入し、揮発した白金または白金合金が気相空間内の温度の低い領域から高い領域に向かって気流をつくることが、白金または白金合金等の揮発物の凝集を抑制する点で好ましい。例えば、不活性なガスは、清澄管１０２ａの内壁のうち、周りの温度に比べて温度が低い部分、例えば温度が極小となっている部分から気相空間に導入されることが好ましい。特に好ましくは、清澄管１０２ａの内壁のうち、温度が最も低くなっている部分から気相空間に導入される。清澄管１０２ａのうち揮発物が凝集し易い内壁の温度が低い部分から不活性ガスを導入するので酸素分圧を低くする。したがって、揮発物の飽和蒸気圧の分圧依存性に従って、揮発物の凝集は抑制される。
不活性なガスとして、例えば窒素ガス、あるいは、アルゴンガス、ヘリウムガス、ネオンガス等の希ガスあるいはこれらのガスの混合ガスを用いることができる。 In addition, a gas introduction device may be provided in the gas phase space of the clarification tube 102a of the present embodiment so as to introduce an inert gas such as molten glass and platinum or a platinum alloy. In this case, a nozzle for introducing, for example, an inert gas is provided in the gas phase space. By introducing an inert gas into the gas phase space, the oxygen partial pressure or oxygen concentration in the gas phase space can be reduced. Oxygen promotes volatilization by combining with platinum or a platinum alloy. For this reason, volatilization of platinum or a platinum alloy can be suppressed from the inner wall of the clarification tube 102a by lowering the oxygen partial pressure. At this time, an inert gas is introduced into the gas phase space from a portion of the inner wall of the clarification tube 102a in contact with the gas phase space where the temperature of the inner wall is low, and volatilized platinum or platinum alloy has a low temperature in the gas phase space. It is preferable to create an air flow from the region toward the high region from the viewpoint of suppressing aggregation of volatiles such as platinum or a platinum alloy. For example, the inert gas is preferably introduced into the gas phase space from a portion of the inner wall of the clarification tube 102a having a lower temperature than the surrounding temperature, for example, a portion having a minimum temperature. Particularly preferably, it is introduced into the gas phase space from the portion of the inner wall of the clarification tube 102a where the temperature is the lowest. Since the inert gas is introduced from the portion of the clarification tube 102a where the temperature of the inner wall where the volatiles easily aggregate is low, the oxygen partial pressure is lowered. Therefore, according to the partial pressure dependence of the saturated vapor pressure of the volatile matter, aggregation of the volatile matter is suppressed.
As the inert gas, for example, nitrogen gas, rare gas such as argon gas, helium gas, neon gas, or a mixed gas of these gases can be used.

本実施形態の清澄管１０２ａ内の気相空間が大気と接続される部分は、通気管１０７である。この通気管１０７の形態は、煙突状に清澄管１０２ａの天井部から直線的に延びる形状であるが、通気管１０７は、この形状に制限されず、屈曲した形状であってもよい。通気管１０７は、白金または白金合金等の揮発物が、通気管１０７の温度の低い部分に触れて凝集することがないように、通気管１０７に温度調整装置が設けられることが好ましい。   A portion where the gas phase space in the clarification tube 102 a of the present embodiment is connected to the atmosphere is a vent tube 107. The form of the vent pipe 107 is a shape extending linearly from the ceiling portion of the clarification pipe 102a in a chimney shape, but the vent pipe 107 is not limited to this shape and may be a bent shape. The vent pipe 107 is preferably provided with a temperature adjusting device so that volatiles such as platinum or platinum alloy do not agglomerate by touching the low temperature portion of the vent pipe 107.

なお、熔融ガラス処理装置として清澄装置１０２を用いて説明したが、熔融ガラス処理装置は攪拌装置１０３にも適用することができる。しかし、清澄管１０２に適用することが以下の理由から好ましい。
すなわち、清澄装置１０２は、清澄から成形直前までの、白金または白金合金等を用いる複数の装置の中で、熔融ガラスの温度を最も高く加熱する装置である。このため、清澄管１０２ａにおいて、白金または白金合金等の揮発は上記装置の中で最も激しい。しかも、清澄管１０２ａで行われる脱泡によって気相空間に放出されるガスの成分には、白金または白金合金等の揮発を助長する酸素が多く含まれるため、気相空間内の酸素分圧は、大気に比べて高い。このため、気相空間では、内壁から白金または白金合金等がよりいっそう揮発する。さらに、清澄管１０２ａは、攪拌装置１０３等の他の装置に比べて、内壁の最高温度と最低温度の差が大きく、揮発物の飽和蒸気圧の差も大きくなるので、揮発物が通気管１０７を通して大気に排出されるまで、揮発物の凝集が生じやすい。また、清澄管１０２ａでは、他の装置に比べて気流の流れは大きい。したがって、揮発物の凝集を抑制するために、比Ｓ／Ｌ、あるいは液面レベルの制御（調整）を清澄装置１０２に適用することが好ましい。 また、作製するガラス基板の板厚が薄いガラス基板、例えば０．５ｍｍ以下、さらには０．３ｍｍ以下、さらには０．１ｍｍ以下のガラス基板においても、本実施形態の白金または白金合金等の揮発物の凝集を抑制する効果は、板厚の厚いガラス基板に比べて顕著となる。清澄管１０２ａ等の内壁に凝集した白金または白金合金等の凝集物の一部が微粒子となって熔融ガラス中に落下し、熔融ガラス中に混入しガラス基板に含まれる。この場合、ガラス基板の板厚が薄いほど、欠陥となる微粒子はガラス基板の表面に位置することが多い。ガラス基板の表面に位置する微粒子は、例えばガラス基板を用いたパネル製造工程において離脱すると、離脱した部分が凹部となり、ガラス基板上に形成される薄膜が均一に形成されず、画面の表示欠陥をつくる。したがって、本実施形態のように清澄管１０２ａにおいて白金または白金合金等の揮発を抑制し、白金または白金合金等の凝集物の一部が異物となって熔融ガラスに混入する効果は、板厚が薄いガラス基板ほど大きくなる。 In addition, although demonstrated using the clarification apparatus 102 as a molten glass processing apparatus, a molten glass processing apparatus is applicable also to the stirring apparatus 103. FIG. However, it is preferable to apply to the clarification tube 102 for the following reasons.
That is, the refining apparatus 102 is an apparatus that heats the molten glass at the highest temperature among a plurality of apparatuses using platinum or a platinum alloy or the like from refining to immediately before forming. For this reason, in the clarification tube 102a, the volatilization of platinum or a platinum alloy or the like is the most intense in the above apparatus. In addition, the gas component released into the gas phase space by degassing performed in the clarification tube 102a contains a large amount of oxygen that promotes volatilization, such as platinum or a platinum alloy, so the oxygen partial pressure in the gas phase space is High compared to the atmosphere. For this reason, in the gas phase space, platinum or a platinum alloy is further volatilized from the inner wall. Furthermore, the clarification tube 102a has a larger difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the inner wall and a difference in saturated vapor pressure of the volatile matter than other devices such as the stirring device 103, so that the volatile matter is removed from the vent tube 107. Aggregation of volatiles is likely to occur until they are exhausted through to the atmosphere. Moreover, in the clarification tube 102a, the flow of airflow is larger than that of other devices. Therefore, it is preferable to apply the ratio S / L or the control (adjustment) of the liquid level to the refining device 102 in order to suppress aggregation of volatiles. Further, even in a glass substrate having a thin glass substrate thickness, for example, a glass substrate having a thickness of 0.5 mm or less, further 0.3 mm or less, and further 0.1 mm or less, volatilization of platinum or a platinum alloy of this embodiment The effect of suppressing the agglomeration of objects becomes more significant than that of a thick glass substrate. Part of the aggregate such as platinum or a platinum alloy aggregated on the inner wall of the clarification tube 102a or the like becomes fine particles and falls into the molten glass and is mixed into the molten glass and included in the glass substrate. In this case, as the plate thickness of the glass substrate is thinner, fine particles that become defects are often located on the surface of the glass substrate. For example, if the fine particles located on the surface of the glass substrate are separated in a panel manufacturing process using the glass substrate, the separated portion becomes a concave portion, and the thin film formed on the glass substrate is not uniformly formed, resulting in display defects on the screen. to make. Therefore, as in the present embodiment, the effect of suppressing volatilization of platinum or a platinum alloy or the like in the clarification tube 102a and mixing a part of the aggregate of platinum or platinum alloy or the like as a foreign substance into the molten glass is as follows. The thinner the glass substrate, the larger.

（ガラス組成）
本実施形態では、酸化錫を含む無アルカリガラス基板、又は、酸化錫を含む微アルカリガラス基板であると、本実施形態の効果は顕著となる。無アルカリガラス又は微アルカリガラスは、アルカリガラスと比較してガラス粘度が高い。そのため、熔解工程で熔融温度を高くする必要があり、多くの酸化錫が熔解工程で還元されてしまうので、清澄効果を得るためには清澄工程における熔融ガラス温度を高くして、酸化錫の還元をさらに促進し、かつ熔融ガラス粘度を低下させる必要がある。つまり、酸化錫を含む無アルカリガラス基板、又は、酸化錫を含む微アルカリガラス基板を製造する場合には、清澄工程における熔融ガラス温度を高くする必要があるので、白金または白金合金等の揮発が生じやすい。ここで、本明細書において、無アルカリガラス基板とは、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、及びＮａ2Ｏ）を実質的に含有しないガラスである。また、微アルカリガラスとは、アルカリ金属酸化物の含有量（Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、及びＮａ2Ｏの合量）が０超０．８モル％以下のガラスである。 (Glass composition)
In the present embodiment, the effect of the present embodiment becomes significant when the alkali-free glass substrate containing tin oxide or the fine alkali glass substrate containing tin oxide is used. The alkali-free glass or fine alkali glass has a higher glass viscosity than the alkali glass. Therefore, it is necessary to increase the melting temperature in the melting process, and many tin oxides are reduced in the melting process. Therefore, in order to obtain a clarification effect, the molten glass temperature in the clarification process is increased to reduce the tin oxide. Is required to be further promoted and the viscosity of the molten glass needs to be lowered. That is, when producing a non-alkali glass substrate containing tin oxide or a fine alkali glass substrate containing tin oxide, it is necessary to increase the temperature of the molten glass in the refining process. Prone to occur. Here, in the present specification, the alkali-free glass substrate is a glass that substantially does not contain alkali metal oxides (Li 2 O, K 2 O, and Na 2 O). The fine alkali glass is a glass having an alkali metal oxide content (total amount of Li 2 O, K 2 O, and Na 2 O) of more than 0 and not more than 0.8 mol%.

本実施形態で製造されるガラス基板として、以下のガラス組成のガラス基板が例示される。したがって、以下のガラス組成をガラス基板が有するようにガラス原料は調合される。本実施形態で製造されるガラス基板は、例えば、ＳｉＯ2 ５５〜７５モル％、Ａｌ2Ｏ3 ５〜２０モル％、Ｂ2Ｏ3 ０〜１５モル％、ＲＯ ５〜２０モル％（ＲＯはＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの合量)、 Ｒ’2Ｏ ０〜０．４モル％（Ｒ’はＬｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、及びＮａ2Ｏの合量）、ＳｎＯ2 ０．０１〜０．４モル％、含有する。
このとき、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、及びＲＯ（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａのうち前記ガラス基板に含有される全元素）の少なくともいずれかを含み、モル比（（２×ＳｉＯ2）＋Ａｌ2Ｏ3）／（（２×Ｂ2Ｏ3）＋ＲＯ）は４．０以上であってもよく、本実施形態の効果である、泡と未熔解物の発生を低減する効果を達成できる。すなわち、モル比（（２×ＳｉＯ2）＋Ａｌ2Ｏ3）／（（２×Ｂ2Ｏ3）＋ＲＯ）は４．０以上であるガラスは、高温粘性の高いガラスの一例である。高温粘性の高いガラスは、一般的に清澄工程における熔融ガラス温度を高くする必要があるので、白金または白金合金等の揮発が生じやすい。つまり、このような組成を有するガラス基板を製造する場合には、熔融ガラス中に白金または白金合金等の凝集物が異物として混入することを抑制するといった本実施形態の効果は顕著になる。なお、高温粘性とは、熔融ガラスが高温になるときのガラスの粘性を示し、ここでいう高温とは、例えば、１３００℃以上を示す。 As a glass substrate manufactured by this embodiment, the glass substrate of the following glass compositions is illustrated. Therefore, the glass raw material is prepared so that the glass substrate has the following glass composition. The glass substrate manufactured in this embodiment is, for example, SiO 2 55 to 75 mol%, Al 2 O 3 5 to 20 mol%, B 2 O 3 0 to 15 mol%, RO 5 to 20 mol% (RO is MgO, CaO, SrO and BaO total amount), R ′ 2 O 0 to 0.4 mol% (R ′ is the total amount of Li 2 O, K 2 O and Na 2 O), SnO 2 0.01 to Contains 0.4 mol%.
At this time, at least one of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and RO (R is all elements contained in the glass substrate among Mg, Ca, Sr, and Ba) is included in a molar ratio. ((2 × SiO 2 ) + Al 2 O 3 ) / ((2 × B 2 O 3 ) + RO) may be 4.0 or more, and generation of bubbles and undissolved material, which is an effect of this embodiment. The effect of reducing can be achieved. That is, a glass having a molar ratio ((2 × SiO 2 ) + Al 2 O 3 ) / ((2 × B 2 O 3 ) + RO) of 4.0 or more is an example of a glass having a high temperature viscosity. Glass having a high temperature viscosity generally needs to increase the temperature of the molten glass in the refining process, and thus volatilization of platinum or a platinum alloy tends to occur. That is, when manufacturing the glass substrate which has such a composition, the effect of this embodiment of suppressing that agglomerates, such as platinum or a platinum alloy, mix in a molten glass as a foreign material becomes remarkable. In addition, high temperature viscosity shows the viscosity of glass when molten glass becomes high temperature, and high temperature here shows 1300 degreeC or more, for example.

本実施形態によれば、ガラス基板におけるアルカリ金属酸化物の含有率が０〜０．８モル％であっても、熔融ガラス中に白金または白金合金等の凝集物が異物として混入することを抑制することができる。アルカリ金属酸化物の含有率が小さいほど、高温粘性が高くなるので、アルカリ金属酸化物の含有率が０〜０．８モル％のガラスは、アルカリ金属酸化物の含有率が０．８モル％を超えるガラスと比較して高温粘性が高い。高温粘性の高いガラスは、一般的に清澄工程における熔融ガラス温度を高くする必要があるので、白金または白金合金等の揮発が生じやすい。つまり、この高温粘性の高いガラスを用いるときには、熔融ガラス中に白金または白金合金等の凝集物が異物として混入することを抑制する本実施形態の効果は顕著になる。   According to the present embodiment, even if the content of the alkali metal oxide in the glass substrate is 0 to 0.8 mol%, it is possible to prevent the agglomerates such as platinum or the platinum alloy from being mixed as foreign matter in the molten glass. can do. The smaller the alkali metal oxide content, the higher the high-temperature viscosity. Therefore, a glass with an alkali metal oxide content of 0 to 0.8 mol% has an alkali metal oxide content of 0.8 mol%. High temperature viscosity is high compared to glass exceeding. Glass having a high temperature viscosity generally needs to increase the temperature of the molten glass in the refining process, and thus volatilization of platinum or a platinum alloy tends to occur. That is, when this high-temperature-viscosity glass is used, the effect of the present embodiment that suppresses the inclusion of aggregates such as platinum or platinum alloys as foreign substances in the molten glass becomes remarkable.

本実施形態で用いる熔融ガラスは、粘度が１０２．５ポアズであるときの温度は１５００〜１７００℃であるガラス組成であってもよい。このように、高温粘性の高いガラスは、一般的に清澄工程における熔融ガラス温度を高くする必要があるので、白金または白金合金等の揮発が生じやすい。すなわち、高温粘性のガラス組成であっても、本実施形態の上記効果は顕著になる。 The molten glass used in the present embodiment may have a glass composition having a temperature of 1500 to 1700 ° C. when the viscosity is 10 2.5 poise. As described above, glass having a high temperature viscosity generally needs to increase the temperature of the molten glass in the refining process, and thus volatilization of platinum or a platinum alloy is likely to occur. That is, even if it is a glass composition of high temperature viscosity, the said effect of this embodiment becomes remarkable.

本実施形態で用いる熔融ガラスの歪点は６５０℃以上であってもよく、６６０℃以上であることがより好ましく、６９０℃以上であることがさらに好ましく、７３０℃以上が特に好ましい。また、歪点が高いガラスは、粘度が１０２．５ポアズにおける熔融ガラスの温度が高くなる傾向にある。つまり、歪点が高いガラス基板を製造する場合ほど、本実施形態の上記効果は顕著になる。 The strain point of the molten glass used in this embodiment may be 650 ° C. or higher, more preferably 660 ° C. or higher, further preferably 690 ° C. or higher, and particularly preferably 730 ° C. or higher. Further, a glass having a high strain point tends to increase the temperature of the molten glass at a viscosity of 10 2.5 poise. That is, the effect of this embodiment becomes more remarkable as the glass substrate having a higher strain point is manufactured.

また、酸化錫を含み、粘度が１０２．５ポアズであるときの熔融ガラスの温度が１５００℃以上となるガラスになるようにガラス原料を熔解した場合、より本実施形態の上記効果は顕著になり、粘度が１０２．５ポアズであるときの熔融ガラスの温度は、例えば１５００℃〜１７００℃であり、１５５０℃〜１６５０℃であってもよい。 Further, when the glass raw material is melted so that the temperature of the molten glass containing tin oxide and the viscosity of 10 2.5 poise becomes 1500 ° C. or more, the above effect of the present embodiment is more remarkable. The temperature of the molten glass when the viscosity is 10 2.5 poise is, for example, 1500 ° C. to 1700 ° C., and may be 1550 ° C. to 1650 ° C.

本実施形態で製造されるガラス基板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を含むディスプレイ用ガラス基板に好適である。ＩＧＺＯ（インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素）等の酸化物半導体を使用した酸化物半導体ディスプレイ用ガラス基板及びＬＴＰＳ（低温度ポリシリコン）半導体を使用したＬＴＰＳディスプレイ用ガラス基板に好適である。また、本実施形態で製造されるガラス基板は、アルカリ金属酸化物の含有量が極めて少ないことが求められる液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。また、有機ＥＬディスプレイ用ガラス基板にも好適である。言い換えると、本実施形態のガラス基板の製造方法は、ディスプレイ用ガラス基板の製造に好適であり、特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板の製造に好適である。
また、本実施形態で製造されるガラス基板は、カバーガラス、磁気ディスク用ガラス、太陽電池用ガラス基板などにも適用することが可能である。 The glass substrate manufactured by this embodiment is suitable for the glass substrate for a display containing the glass substrate for flat panel displays. It is suitable for an oxide semiconductor display glass substrate using an oxide semiconductor such as IGZO (indium, gallium, zinc, oxygen) and an LTPS display glass substrate using an LTPS (low temperature polysilicon) semiconductor. Moreover, the glass substrate manufactured by this embodiment is suitable for the glass substrate for liquid crystal displays by which it is calculated | required that content of an alkali metal oxide is very small. Moreover, it is suitable also for the glass substrate for organic EL displays. In other words, the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment is suitable for manufacture of the glass substrate for displays, and is especially suitable for manufacture of the glass substrate for liquid crystal displays.
Moreover, the glass substrate manufactured by this embodiment is applicable also to a cover glass, the glass for magnetic discs, the glass substrate for solar cells, etc.

（実験例１）
本実施形態の比Ｓ／Ｌの制御（調整）の効果を確認するために、比Ｓ／Ｌを種々変化させて熔融ガラス中に混入した、白金または白金合金等の凝集物からなる異物の個数を検査することを行った。
詳細には、製造されるガラス基板が上記したガラス組成となるように、熔解装置においてガラス原料を熔解して熔融ガラスとした後、清澄装置１０２にて熔融ガラスの清澄を行った。次に、均質化、オーバーフローダウンドロー法による成形、徐冷、切断を行い、フラットディスプレイ用ガラス基板を得た。清澄装置１０２の最高温度は１７１０℃であり、清澄装置１０２の最高温度と最低温度との差は２５０℃であった。比Ｓ／Ｌを時間とともに種々変化させた場合の白金または白金合金等の凝集物からなる異物の関係を、図６に示す（図６中の横軸は時間である）。図６は、比Ｓ／Ｌと欠点密度の関係を示す図である。図中の欠点密度とは、単位重量あたりの白金または白金合金等の凝集物数を示している。図６では、最も欠点密度が大きかった場合を１として、その他の場合について欠点密度を比で示している。図６中の点線は、欠陥密度比の近似曲線である。図６に示すように、比Ｓ／Ｌを１７［ｍ］以上にすると、欠点密度比を０．５以下にすることができた。また、比Ｓ／Ｌを２５［ｍ］以上にすると欠点密度比を０．３以下にすることができた。 (Experimental example 1)
In order to confirm the effect of the control (adjustment) of the ratio S / L of this embodiment, the number of foreign substances made of aggregates such as platinum or a platinum alloy mixed in the molten glass by changing the ratio S / L variously I went to inspect.
Specifically, the glass raw material was melted in a melting apparatus so that the glass substrate to be produced had the above-described glass composition to form molten glass, and then the molten glass was clarified by the clarification apparatus 102. Next, homogenization, molding by the overflow downdraw method, slow cooling, and cutting were performed to obtain a glass substrate for flat display. The maximum temperature of the clarifier 102 was 1710 ° C., and the difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the clarifier 102 was 250 ° C. FIG. 6 shows the relationship between foreign substances made of aggregates such as platinum or a platinum alloy when the ratio S / L is changed with time (the horizontal axis in FIG. 6 is time). FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the ratio S / L and the defect density. The defect density in the figure indicates the number of aggregates such as platinum or platinum alloy per unit weight. In FIG. 6, the case where the defect density is the highest is 1, and the defect density is shown as a ratio in the other cases. The dotted line in FIG. 6 is an approximate curve of the defect density ratio. As shown in FIG. 6, when the ratio S / L was set to 17 [m] or more, the defect density ratio could be set to 0.5 or less. Further, when the ratio S / L was 25 [m] or more, the defect density ratio could be 0.3 or less.

（実験例２）
本実施形態の液面レベルの制御（調整）の効果を確認するために、熔融ガラスの液面レベルを種々変化させて熔融ガラス中に混入した、白金または白金合金等の凝集物からなる異物の個数を検査することを行った。
詳細には、製造されるガラス基板が上記した組成となるように、熔解装置においてガラス原料を熔解して熔融ガラスとした後、清澄装置にて熔融ガラスの清澄をおこなった。次に、攪拌、オーバーフローダウンドロー法による成形、徐冷、切断を行い、フラットディスプレイ用ガラス基板を得た。清澄装置の最高温度は１７１０℃であり、清澄装置の最高温度と最低温度との差は２５０℃であった。液面レベルが目標液面レベルＡの範囲になるように制御（調整）して製造した１００枚のガラス基板を検査したところ、液面レベルが目標液面レベルＡの範囲内になるように制御（調整）せず、目標液面レベルＡより小さくなってしまった場合に製造された１００枚のガラス基板と比較して、白金欠陥数を１／３以下にすることができた。 (Experimental example 2)
In order to confirm the effect of the control (adjustment) of the liquid level of the present embodiment, the foreign matter made of aggregates such as platinum or platinum alloy mixed in the molten glass by changing the liquid level of the molten glass variously. The number was inspected.
Specifically, the glass raw material was melted in a melting device so that the glass substrate to be produced had the above-described composition to form molten glass, and then the molten glass was clarified in a clarification device. Next, stirring, molding by the overflow downdraw method, slow cooling, and cutting were performed to obtain a glass substrate for flat display. The maximum temperature of the clarifier was 1710 ° C., and the difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the clarifier was 250 ° C. When 100 glass substrates manufactured by controlling (adjusting) the liquid level to be in the range of the target liquid level A are inspected, the liquid level is controlled to be in the range of the target liquid level A. The number of platinum defects could be reduced to 1/3 or less as compared with 100 glass substrates manufactured without adjusting (adjusting) and below the target liquid level A.

以上、本発明のガラス基板の製造方法、ガラス基板製造装置、及び熔融ガラス処理装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。   As mentioned above, although the manufacturing method of the glass substrate of this invention, the glass substrate manufacturing apparatus, and the molten glass processing apparatus were demonstrated in detail, in the range which does not deviate from the main point of this invention, this invention is not limited to the said embodiment. Of course, improvements and changes may be made.

１００ 熔融ガラス生成装置
１０１ 熔解装置
１０１ｄ スクリューフィーダ
１０２ 清澄装置
１０２ａ 清澄管
１０２ｂ 通気管
１０３ 攪拌装置
１０３ａ スターラ
１０４，１０５，１０６ ガラス供給管
２００ 成形装置
２１０ 成形体
３００ 切断装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Molten glass production | generation apparatus 101 Melting apparatus 101d Screw feeder 102 Clarification apparatus 102a Clarification pipe | tube 102b Aeration pipe | tube 103 Stirring apparatus 103a Stirrer 104,105,106 Glass supply pipe 200 Molding apparatus 210 Molded body 300 Cutting apparatus

Claims (14)

ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解工程と、
前記熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置において前記熔融ガラスを処理する処理工程と、を有し、
前記処理工程において、前記熔融ガラス処理装置の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう制御する、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 A melting step of melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A processing step of processing the molten glass in the molten glass processing apparatus,
In the treatment step, an area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall in contact with the gas phase space and a volume of the gas phase space so as to suppress volatilization of the platinum group metal of the molten glass processing apparatus. A method for producing a glass substrate, wherein the ratio S / L to S [m 3 ] is controlled to be 17 [m] or more . 前記熔融ガラスの液面レベルを制御することにより、前記比を制御する、請求項１に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 1, wherein the ratio is controlled by controlling a liquid level of the molten glass. 予め白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置における前記熔融ガラスの液面レベルとの相関関係を求め、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを基準液面レベルとして決定し、前記処理工程では、当該基準液面レベルに基づいて前記液面レベルを制御する、請求項２に記載のガラス基板の製造方法。   The correlation between the number of platinum defects and the liquid level of the molten glass in the molten glass processing apparatus is obtained in advance, and the liquid level of the molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects is determined as a reference liquid level. And the manufacturing method of the glass substrate of Claim 2 which controls the said liquid level based on the said reference | standard liquid level in the said process process. ガラス基板の製造方法であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解工程と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相とを有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置において前記熔融ガラスを処理する処理工程と、
前記処理工程で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形工程と、を有し、
予め白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係を求め、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを基準液面レベルとして決定し、前記処理工程では、当該基準液面レベルに基づいて前記液面レベルを制御することを特徴とするガラス基板の製造方法。 A method of manufacturing a glass substrate,
A melting step of melting glass raw material to produce molten glass;
A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A processing step of processing the molten glass in a glass processing apparatus;
A molding step of forming the molten glass processed in the processing step into a sheet glass,
The correlation between the number of platinum defects and the liquid level of the molten glass processing apparatus is obtained in advance, the liquid level of the molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects is determined as a reference liquid level, and the treatment In the process, the liquid level is controlled based on the reference liquid level. 前記気相空間の体積をＳ［ｍ3］とし、前記気相空間と接する前記白金族金属の面積をＬ[ｍ2]としたとき、比Ｓ／Ｌは、１７[ｍ]以上である、請求項４に記載のガラス基板の製造方法。 When the volume of the gas phase space is S [m 3 ] and the area of the platinum group metal in contact with the gas phase space is L [m 2 ], the ratio S / L is 17 [m] or more. The manufacturing method of the glass substrate of Claim 4 . 前記処理工程では、前記基準液面レベルを含むように決定された目標液面レベル範囲に基づいて液面レベルを制御する、請求項３から５のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。 6. The glass substrate manufacturing method according to claim 3, wherein in the processing step, the liquid level is controlled based on a target liquid level level range determined to include the reference liquid level. . 前記比は、
（１）前記気相空間中の酸素濃度、
（２）前記熔融ガラス処理装置の前記内壁の最高温度、
（３）前記熔融ガラスから前記気相空間に放出される酸素放出量、
（４）前記熔解工程における前記熔融ガラスの最高温度と、前記処理工程における前記熔融ガラスの最高温度との温度差、及び
（５）前記気相空間における前記白金族金属の蒸気圧、
の少なくとも１つに基づいて決定される値である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。 The ratio is
(1) oxygen concentration in the gas phase space;
(2) Maximum temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus,
(3) Oxygen release amount released from the molten glass into the gas phase space,
(4) a temperature difference between the maximum temperature of the molten glass in the melting step and the maximum temperature of the molten glass in the treatment step; and (5) the vapor pressure of the platinum group metal in the gas phase space;
The manufacturing method of the glass substrate of any one of Claims 1-6 which is a value determined based on at least 1 of these. 前記気相空間における白金族金属の蒸気圧が１Ｐａ〜１０Ｐａであり、前記熔融ガラス処理装置の前記内壁の最高温度が１６３０℃〜１７２０℃である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。 8. The vapor pressure of the platinum group metal in the gas phase space is 1 Pa to 10 Pa, and the maximum temperature of the inner wall of the molten glass processing apparatus is 1630 ° C. to 1720 ° C. 8. Glass substrate manufacturing method. 前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の部分の最高温度と最低温度との温度差が５０℃以上である、請求項１〜８のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。   The manufacturing method of the glass substrate of any one of Claims 1-8 whose temperature difference of the maximum temperature of the part of the said platinum group metal of the said inner wall which contacts the said gaseous-phase space, and minimum temperature is 50 degreeC or more. . 前記熔融ガラス処理装置は、熔融ガラスの清澄を行う清澄装置である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。   The said molten glass processing apparatus is a manufacturing method of the glass substrate of any one of Claims 1-9 which is a clarification apparatus which clarifies molten glass. 熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置であって、
前記気相空間内の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう制御する制御部を備えた、ことを特徴とする熔融ガラス処理装置。 A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A glass processing apparatus,
In order to suppress the volatilization of the platinum group metal in the gas phase space, the platinum group metal area L [m 2 ] of the wall in contact with the gas phase space and the volume S of the gas phase space S [m 3 ]. A molten glass processing apparatus, comprising a control unit that controls the ratio S / L to 17 [m] or more . 熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された熔融ガラス処理装置であって、
前記熔融ガラス処理装置の液面レベルを、予め決定された基準液面レベルとなるよう制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記基準液面レベルを、予め求めた白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係に基づいて、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとして決定する、ことを特徴とする熔融ガラス処理装置。 A melt having a gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A glass processing apparatus,
A control unit for controlling the liquid level of the molten glass processing apparatus to be a predetermined reference liquid level;
The said control part is the said molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects based on the correlation with the number of platinum defects calculated | required in advance, and the liquid level of the said molten glass processing apparatus. A molten glass processing apparatus, characterized in that it is determined as a liquid level. ガラス基板製造装置であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解装置と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された、前記熔融ガラスを処理する熔融ガラス処理装置と、
前記熔融ガラス処理装置で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形装置と、
前記熔融ガラス処理装置の前記白金族金属の揮発を抑制するように、前記気相空間と接する前記内壁の前記白金族金属の面積Ｌ[ｍ 2 ]と前記気相空間の体積Ｓ［ｍ 3 ］との比Ｓ／Ｌを、１７[ｍ]以上にするよう制御する制御部と、を備える、ことを特徴とするガラス基板製造装置。 A glass substrate manufacturing apparatus,
A melting device for melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A molten glass processing apparatus for processing the molten glass;
A molding apparatus for molding the molten glass processed by the molten glass processing apparatus into a sheet glass;
In order to suppress the volatilization of the platinum group metal of the molten glass processing apparatus, the area L [m 2 ] of the platinum group metal on the inner wall in contact with the gas phase space and the volume S [m 3 ] of the gas phase space And a control unit for controlling the ratio S / L to 17 [m] or more . ガラス基板製造装置であって、
ガラスの原料を熔解して熔融ガラスを生成する熔解装置と、
熔融ガラスの液面と内壁から形成される気相空間と、前記熔融ガラスの液相と、を有し、前記気相空間を囲む内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料で構成された、前記熔融ガラスを処理する熔融ガラス処理装置と、
前記熔融ガラス処理装置で処理された熔融ガラスをシートガラスに成形する成形装置と、
前記熔融ガラス処理装置の液面レベルは、予め決定された基準液面レベルとなるよう制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記基準液面レベルを、予め求めた白金欠陥数と前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとの相関関係に基づいて、白金欠陥数の許容値に対応する前記熔融ガラス処理装置の液面レベルとして決定する、ことを特徴とするガラス基板製造装置。 A glass substrate manufacturing apparatus,
A melting device for melting glass raw material to produce molten glass;
A gas phase space formed from a liquid surface and an inner wall of the molten glass, and a liquid phase of the molten glass, and at least a part of the inner wall surrounding the gas phase space is made of a material containing a platinum group metal. A molten glass processing apparatus for processing the molten glass;
A molding apparatus for molding the molten glass processed by the molten glass processing apparatus into a sheet glass;
The liquid level of the molten glass processing apparatus includes a control unit that controls to be a predetermined reference liquid level,
The said control part is the said molten glass processing apparatus corresponding to the allowable value of the number of platinum defects based on the correlation with the number of platinum defects calculated | required in advance, and the liquid level of the said molten glass processing apparatus. An apparatus for producing a glass substrate, characterized in that it is determined as a liquid level.
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