JP5863251B2 - Imaging device - Google Patents
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Description
本発明はメインミラー及びサブミラーを備えた撮像装置に関する。 The present invention relates to an imaging device including a main mirror and a sub mirror.
一眼レフカメラでは、撮像レンズとＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサ等の像面との間にミラーボックスが配置される。ミラーボックスには、メインミラーユニットとサブミラーユニットで構成されるミラーユニットが取り付けられている。また、メインミラーユニットはメインミラーとメインミラーホルダーから構成され、サブミラーユニットはサブミラーとサブミラーホルダーから構成される。メインミラーホルダーはミラーボックス内に回転移動可能に取り付けられ、サブミラーホルダーはメインミラーホルダーに対して回転移動可能に取り付けられている。メインミラーユニットは通常時、ファインダー観測位置に位置しており、撮像レンズから入射する光束をファインダー光学系に導く。撮影時、レリーズボタン等を押圧すると、これに連動してファインダー観測位置から露光退避位置に回転移動し、シャッタ動作完了後観測位置に復帰する。メインミラーユニットがファインダー観測位置に位置しているとき、サブミラーユニットはメインミラーユニットを透過した光束を焦点検出装置に向けて反射させる反射位置に位置する。メインミラーユニットがファインダー観測位置から露光退避位置に回転移動する際に、サブミラーユニットは反射位置からメインミラーユニットと重なる位置に回転する。メインミラーユニットが露光退避位置となり、サブミラーユニットがメインミラーと重なる位置となるとき、サブミラーホルダー先端部がメインミラーを保持するメインミラーホルダーの裏面に衝突する構成になっている。 In a single-lens reflex camera, a mirror box is disposed between an imaging lens and an image plane such as a CCD sensor or a CMOS sensor. A mirror unit composed of a main mirror unit and a sub mirror unit is attached to the mirror box. The main mirror unit includes a main mirror and a main mirror holder, and the sub mirror unit includes a sub mirror and a sub mirror holder. The main mirror holder is rotatably mounted in the mirror box, and the sub mirror holder is rotatably mounted on the main mirror holder. The main mirror unit is normally located at the finder observation position, and guides the light beam incident from the imaging lens to the finder optical system. When a release button or the like is pressed at the time of shooting, the finder observation position is rotated to the exposure retracting position in conjunction with this, and the shutter returns to the observation position after the shutter operation is completed. When the main mirror unit is located at the finder observation position, the sub mirror unit is located at a reflection position where the light beam transmitted through the main mirror unit is reflected toward the focus detection device. When the main mirror unit rotates from the viewfinder observation position to the exposure retract position, the sub mirror unit rotates from the reflection position to a position overlapping the main mirror unit. When the main mirror unit is in the exposure retracting position and the sub mirror unit is in a position overlapping the main mirror, the tip of the sub mirror holder collides with the back surface of the main mirror holder that holds the main mirror.
一方、一眼レフカメラにおいては、品質の良い画像を得るためにミラーボックス内部での不必要な反射を抑える目的で、ミラーボックス内部の部品にマット処理を施すことが一般的である。 On the other hand, in a single-lens reflex camera, in order to suppress unnecessary reflection inside the mirror box in order to obtain a high-quality image, it is common to perform mat processing on components inside the mirror box.
特許文献１では、メインミラーホルダーとサブミラーホルダーとの間に衝撃吸収部材を配置し、サブミラーがメインミラーと重なる際に発生する衝撃を吸収する構成が掲示されている。 Patent Document 1 discloses a configuration in which an impact absorbing member is disposed between a main mirror holder and a sub mirror holder so as to absorb an impact generated when the sub mirror overlaps the main mirror.
しかしながら、上記のようにメインミラーホルダーとサブミラーホルダーの間に緩衝部材を配置する構成では緩衝部材が必要となる。また、衝突を繰り返しているうちに緩衝部材が劣化し、摩耗粉を発生させる。この摩耗粉がカメラ内部のゴミの原因になるという課題がある。コスト軽減のため、緩衝部材を廃止することも考えられる。しかし、この場合には、乱反射防止のためにメインミラーホルダーの表面に形成した凹凸形状部とサブミラーホルダーの表面に形成した凹凸形状部とが繰り返し衝突し、それぞれの凹凸形状部が摩耗する。これによっても摩耗粉が発生し、カメラ内部のゴミの原因になるという課題がある。 However, in the configuration in which the buffer member is disposed between the main mirror holder and the sub mirror holder as described above, the buffer member is required. In addition, the shock absorbing member deteriorates while repeating the collision, and generates abrasion powder. There is a problem that the wear powder causes dust inside the camera. In order to reduce the cost, it may be possible to eliminate the buffer member. However, in this case, the uneven portion formed on the surface of the main mirror holder and the uneven portion formed on the surface of the sub mirror holder repeatedly collide with each other to prevent irregular reflection, and each uneven portion is worn. This also causes a problem that abrasion powder is generated and causes dust inside the camera.
本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、緩衝部材等の部品を追加することなくメインミラー保持部材とサブミラー保持部材の摩耗を抑えた撮像装置を提案することにある。 The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide an imaging apparatus that suppresses wear of the main mirror holding member and the sub mirror holding member without adding parts such as a buffer member. Is to propose.
本発明の撮像装置は、ファインダー観測位置と露光退避位置との間を移動可能なミラーユニットを備える撮像装置であって、前記ミラーユニットが前記ファインダー観測位置に位置するとき、撮像光束の一部を反射させてファインダー光学系に導き、前記撮像光束の残りを透過させる半透過性の第１のミラーと、前記第１のミラーを保持する第１の保持部材と、前記第１のミラーに回動可能に配置され、前記ファインダー観測位置において、前記第１のミラーを透過した前記撮像光束の残りを反射させて焦点検出装置に導く第２のミラーと、前記第２のミラーを保持する第２の保持部材と、を備え、前記第１の保持部材は、前記第１のミラーを保持している面と反対側に、前記ミラーユニットが前記露光退避位置に位置するときに、前記第２の保持部材と当接しない第１の領域および前記第２の保持部材と当接する第２の領域を有しており、前記第１の領域は、反射を防止する面で形成されており、前記第２の領域は、前記第１の領域よりも平坦な面で形成されていることを特徴とする。 Imaging apparatus of the present invention is an imaging apparatus provided with a moving mirror unit between a finder observation position and exposure retracted position, when the mirror unit is located in the finder observation position, a part of the imaging beam the by reflecting-out guide to the finder optical system, a first mirror semipermeable which transmits the remainder of the imaging light beam, a first holding member for holding the first mirror, the first mirror A second mirror that is rotatably arranged and reflects the remainder of the imaging light flux that has passed through the first mirror at the finder observation position and guides it to a focus detection device, and a second mirror that holds the second mirror. 2, and the first holding member is located on the opposite side of the surface holding the first mirror and when the mirror unit is located at the exposure retract position, Does not contact the holding member has a first region and said second holding member that abuts the second region, the first region is formed in a surface to prevent reflection, the first The second region is characterized by being formed with a flatter surface than the first region.
本発明によれば、ファインダー観測位置と露光退避位置との間でミラーユニットを繰り返し移動させても、第１の保持部材と第２の保持部材との当接領域の摩耗を低減することができ、カメラ内部のゴミの発生等を抑えることができる。 According to the present invention, it is repeated to move the mirror unit between a finder observation position and exposure retracted position, it is possible to reduce the wear of the contact area between the first holding member and second holding member And the generation of dust inside the camera can be suppressed.
以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
以下、図１乃至７を参照して、本発明の第１の実施例による、撮像装置について説明する。 Hereinafter, an imaging apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図１および図２は、実施例によるミラーユニット９を適用した一眼レフカメラの概略を示す断面構成図である。 1 and 2 are cross-sectional configuration diagrams showing an outline of a single-lens reflex camera to which a mirror unit 9 according to an embodiment is applied.
本実施例のデジタル一眼レフカメラでは、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）やＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ）等の撮像素子により被写体像を光電変換する。光電変化後、画像情報を生成し、任意のメモリ等の電子記録媒体にその画像を記録する。 In the digital single-lens reflex camera of this embodiment, a subject image is photoelectrically converted by an image sensor such as a CCD (Charge Coupled Device) or a CMOS (Complementary Metal Oxide). After the photoelectric change, image information is generated and the image is recorded on an electronic recording medium such as an arbitrary memory.
一眼レフカメラでは、マウント１とシャッタ２との間のミラーボックス３内にメインミラーユニット１０とサブミラーユニット２１を装備したミラーユニット９が配置されている。 In a single-lens reflex camera, a mirror unit 9 equipped with a main mirror unit 10 and a sub mirror unit 21 is disposed in a mirror box 3 between a mount 1 and a shutter 2.
図１に示す装置構成において、メインミラーユニット１０は、両側に突設された回転軸１１によりミラーボックス３に回転可能に軸支されており、ファインダー観測位置であるミラーダウン位置と露光退避位置であるミラーアップ位置とを切り替え可能となっている。ミラーダウン位置のメインミラーユニット１０はメインミラー規制ピン４により回動を規制され、シャッタ２及び撮像素子５の前方で傾斜配置される。このミラーダウン位置でのメインミラーユニット１０は、マウント１の開口を通過した撮像光束を上方に反射してファインダー光学系６に導く。 In the apparatus configuration shown in FIG. 1, the main mirror unit 10 is rotatably supported on the mirror box 3 by rotating shafts 11 projecting on both sides, and is in a mirror down position and an exposure retreat position that are finder observation positions. It is possible to switch between a certain mirror-up position. The main mirror unit 10 in the mirror-down position is restricted from rotating by the main mirror restricting pin 4 and is inclined in front of the shutter 2 and the image sensor 5. The main mirror unit 10 at this mirror-down position reflects the imaging light beam that has passed through the opening of the mount 1 upward and guides it to the finder optical system 6.
ミラーアップ位置のメインミラーユニット１０は図２に示すように、上方に跳ね上げられて撮影光路から外れた位置にある。 As shown in FIG. 2, the main mirror unit 10 in the mirror-up position is in a position that is flipped upward and deviated from the photographing optical path.
サブミラーユニット２１は、回転軸１２によりメインミラーユニット１０に回転可能に軸支されており、ミラーダウン位置とミラーアップ位置との間で回動可能となっている。ミラーダウン位置のサブミラーユニット２１はサブミラー規制ピン７により回動を規制され、メインミラーユニットの裏側に傾斜配置される。このミラーダウン位置でのサブミラーユニットは、メインミラーユニットを透過した透過光束をＡＦユニット（焦点検出装置）８に導く。 The sub mirror unit 21 is rotatably supported on the main mirror unit 10 by the rotary shaft 12 and is rotatable between a mirror down position and a mirror up position. The sub mirror unit 21 at the mirror down position is restricted from rotating by the sub mirror restricting pin 7 and is inclined to the back side of the main mirror unit. The sub mirror unit at this mirror down position guides the transmitted light beam transmitted through the main mirror unit to the AF unit (focus detection device) 8.
ミラーアップ位置のサブミラーユニット２１はメインミラーユニット１０側に回転されメインミラーユニット１０と重なる位置に位置している。この状態では、メインミラーユニット１０及びサブミラーユニット２１は撮像光路から外れた位置にあるため、マウント１の開口部を通過した光束は撮像素子５に導かれる。また、ミラーアップ位置にあるとき、ミラーユニット９はファインダー光学系６から入射する外光を遮光する役目も果たす。 The sub mirror unit 21 in the mirror up position is rotated to the main mirror unit 10 side and is located at a position overlapping the main mirror unit 10. In this state, the main mirror unit 10 and the sub mirror unit 21 are at positions deviating from the imaging optical path, so that the light flux that has passed through the opening of the mount 1 is guided to the imaging element 5. Further, when in the mirror up position, the mirror unit 9 also serves to shield external light incident from the finder optical system 6.
図３、図４を用いてミラーユニット９の詳細について説明する。図３はミラー装置を斜め下から見た説明図で、図４はメインミラーホルダーを裏側から見た説明図である。 Details of the mirror unit 9 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is an explanatory view of the mirror device viewed from obliquely below, and FIG. 4 is an explanatory view of the main mirror holder viewed from the back side.
メインミラーユニット１０はメインミラー（第１のミラー）１３及び、メインミラーホルダー（第１の保持部材）１４を有している。 The main mirror unit 10 includes a main mirror (first mirror) 13 and a main mirror holder (first holding member) 14.
メインミラーは半透過性であるハーフミラーからなる。メインミラーユニット１０がミラーダウン位置に位置している時には、マウント１の開口部を通過した被写体の光束の一部を上方へ反射してファインダー光学系６に導き、残りの光束はサブミラーユニット２１を介して測距ユニット８に導く。 The main mirror is a semi-transparent half mirror. When the main mirror unit 10 is located at the mirror down position, a part of the light beam of the subject that has passed through the opening of the mount 1 is reflected upward and guided to the finder optical system 6, and the remaining light beam passes through the sub mirror unit 21. To the distance measuring unit 8.
メインミラーホルダー１４は表側にメインミラー１３を保持している。メインミラーホルダー１４は両側面に突設された回転軸１１によりミラーボックス３に軸支されている。メインミラーホルダー１４の側面部の一方には、メインミラーユニット１０を不図示の駆動機構により駆動するための駆動軸１５が突設されている。 The main mirror holder 14 holds the main mirror 13 on the front side. The main mirror holder 14 is pivotally supported on the mirror box 3 by rotating shafts 11 projecting from both sides. A drive shaft 15 for driving the main mirror unit 10 by a drive mechanism (not shown) protrudes from one side surface of the main mirror holder 14.
メインミラーホルダー１４の裏側（反対側）の被写体側の先端部には遮光壁（突起部）１６が突設されている。遮光壁の近傍には、ミラーユニット９がミラーアップ位置に位置しているときサブミラーユニット２１のサブミラー（第２のミラー）２２を保持するサブミラーホルダー（第２の保持部材）２３の先端部２６と当接する当接領域（第２の領域）１７を有している。当接領域１７以外の領域（第１の領域）１８には反射防止のマット処理が施されており、当接領域１７は領域１８より平坦な面で形成されている。表面粗さは、主に算術平均粗さ、最大高さ、十点平均粗さ等で表わされるが、本実施例において、領域１８の表面は、十点平均粗さで１３−１５μｍに仕上げられている（日本エッチング ホーニングＮｏ．９相当）。また、当接領域１７はサブミラーホルダー２３の先端部２６全域に当接するため矩形形状をなしている。当然、このときサブミラーホルダー２３の先端の辺全体は、当接領域１７と当接している。当接領域１７が先端部２６全域に当接することにより、不必要な反射を抑えるとともに、当接時の応力を分散させることができる。 A light-shielding wall (protrusion) 16 protrudes from the tip of the main mirror holder 14 on the back side (opposite side) on the subject side. In the vicinity of the light shielding wall, when the mirror unit 9 is positioned at the mirror up position, a tip end portion 26 of a sub mirror holder (second holding member) 23 that holds the sub mirror (second mirror) 22 of the sub mirror unit 21 and It has a contact area (second area) 17 for contact. A region (first region) 18 other than the contact region 17 is subjected to an antireflection mat treatment, and the contact region 17 is formed with a flatter surface than the region 18. The surface roughness is mainly represented by arithmetic average roughness, maximum height, ten-point average roughness, etc. In this example, the surface of the region 18 is finished to 13-15 μm with a ten-point average roughness. (Japan Etching Honing No. 9 equivalent). Further, the contact region 17 has a rectangular shape because it contacts the entire tip portion 26 of the sub mirror holder 23. Naturally, at this time, the entire tip side of the sub mirror holder 23 is in contact with the contact region 17. When the contact region 17 contacts the entire tip portion 26, unnecessary reflection can be suppressed and stress during contact can be dispersed.
図５にミラーユニット９がファインダー光学系６からの外光１００を遮光する様子を示す。ファインダー光学系６から入射した外光は、ピント板３２を経てミラーユニット９に到達する。遮光壁１６がない場合、ピント板３２での拡散光や、ミラーユニット９内部のサブミラー２２やミラーホルダー表面で反射した光束が、撮像レンズ３１で反射し、撮像素子５に到達し、撮影画像が劣化してしまうことがある。遮光壁１６によりそれらの不要な光を遮光することが可能である。 FIG. 5 shows how the mirror unit 9 blocks the external light 100 from the viewfinder optical system 6. External light incident from the finder optical system 6 reaches the mirror unit 9 through the focus plate 32. When there is no light shielding wall 16, the diffused light on the focusing plate 32 and the light beam reflected on the surface of the sub mirror 22 and the mirror holder inside the mirror unit 9 are reflected by the imaging lens 31 and reach the imaging device 5, and the captured image is May deteriorate. The unnecessary light can be blocked by the light blocking wall 16.
サブミラーユニット２１はサブミラー２２及び、サブミラーホルダー２３を有している。 The sub mirror unit 21 has a sub mirror 22 and a sub mirror holder 23.
サブミラー２２は全反射ミラーからなる。サブミラーユニット２１がミラーダウン位置に位置しているときにはハーフミラーからなるメインミラー１３を透過した光束を下方に反射して測距ユニット８に導く。 The sub mirror 22 is a total reflection mirror. When the sub mirror unit 21 is located at the mirror down position, the light beam transmitted through the main mirror 13 formed of a half mirror is reflected downward and guided to the distance measuring unit 8.
サブミラーホルダー２３は表側にサブミラー２２を保持している。サブミラー２２の側面部にはメインミラーホルダー１４に突出する突出部２４が形成されている。突出部２４がメインミラーホルダー１４の側面の回転軸１２により回転可能に軸支されている。 The sub mirror holder 23 holds the sub mirror 22 on the front side. A protrusion 24 that protrudes from the main mirror holder 14 is formed on the side surface of the sub mirror 22. The protrusion 24 is rotatably supported by the rotation shaft 12 on the side surface of the main mirror holder 14.
図６および、図７はそれぞれ、ミラーダウン状態とミラーアップ状態のミラー装置を示す説明図である。 6 and 7 are explanatory diagrams showing the mirror device in the mirror-down state and the mirror-up state, respectively.
サブミラーホルダー２３はトグルバネ３０によりメインミラーホルダー１４に対して開く方向及び、閉じる方向に付勢可能である。トグルバネ３０はメインミラーホルダー１４側面の突起部１９に支持されている。トグルバネ３０の一端は、メインミラーホルダー１４の表側の溝部２０に当接し、他端は、サブミラーホルダー２３の突出部２４に形成された溝部２５に当接している。 The sub mirror holder 23 can be biased in the opening direction and the closing direction with respect to the main mirror holder 14 by the toggle spring 30. The toggle spring 30 is supported by the protrusion 19 on the side of the main mirror holder 14. One end of the toggle spring 30 is in contact with the front groove portion 20 of the main mirror holder 14, and the other end is in contact with the groove portion 25 formed in the protruding portion 24 of the sub mirror holder 23.
ミラーユニット９がミラーダウン位置に位置している時には、サブミラーユニット２１がトグルバネ３０により開く方向に付勢される。一方、ミラーユニット９がミラーアップ位置に位置している時は、トグルバネ３０の付勢方向が反転し、サブミラーユニット２１の先端が閉じる方向に付勢される。この閉じる方向への付勢により、サブミラーユニット２１の先端が、メインミラーユニット１０側に回転され、サブミラーホルダーの先端部２６がメインミラーホルダー１４の裏側の当接領域１７に衝突して停止する。 When the mirror unit 9 is located at the mirror down position, the sub mirror unit 21 is biased in the opening direction by the toggle spring 30. On the other hand, when the mirror unit 9 is located at the mirror up position, the biasing direction of the toggle spring 30 is reversed, and the tip of the sub mirror unit 21 is biased in the closing direction. By this urging in the closing direction, the front end of the sub mirror unit 21 is rotated toward the main mirror unit 10, and the front end portion 26 of the sub mirror holder collides with the contact area 17 on the back side of the main mirror holder 14 and stops.
実施例のミラーユニット９では、メインミラーホルダーの裏側の他の領域よりも表面が滑らかな当接領域１７とサブミラーホルダー２３の先端部２６が衝突する。そのため、レリーズ回数が増加してもメインミラーユニット１０のメインミラーホルダー１４とサブミラーユニット２１のサブミラーホルダー２３の衝突による摩耗を抑えることが出来る。 In the mirror unit 9 of the embodiment, the contact region 17 whose surface is smoother than the other region on the back side of the main mirror holder and the tip portion 26 of the sub mirror holder 23 collide with each other. Therefore, even if the number of times of release increases, wear due to collision between the main mirror holder 14 of the main mirror unit 10 and the sub mirror holder 23 of the sub mirror unit 21 can be suppressed.
また、当接領域１７はメインミラーホルダーの遮光壁１６近傍に配置されているので、当接領域１７での反射がカメラの性能に悪影響を及ぼすことはない。 Further, since the contact area 17 is arranged in the vicinity of the light shielding wall 16 of the main mirror holder, the reflection at the contact area 17 does not adversely affect the performance of the camera.
上述したミラー装置では、メインミラーホルダーの当接領域１７が他の領域よりも表面形状が滑らかな例について説明したが、当接領域が未塗装で、他の領域に艶消し塗装が施されている構成であってもよい。 In the above-described mirror device, the example in which the contact area 17 of the main mirror holder has a smoother surface shape than the other areas has been described. However, the contact area is unpainted and the other areas are matted. It may be a configuration.
１３ メインミラー
１４ メインミラー保持部材
１７ 当接領域
２２ サブミラー
２３ サブミラー保持部材
13 Main mirror 14 Main mirror holding member 17 Contact area 22 Sub mirror 23 Sub mirror holding member
Claims (4)
前記ミラーユニットが前記ファインダー観測位置に位置するとき、撮像光束の一部を反射させてファインダー光学系に導き、前記撮像光束の残りを透過させる半透過性の第１のミラーと、
前記第１のミラーを保持する第１の保持部材と、
前記第１のミラーに回動可能に配置され、前記ファインダー観測位置において、前記第１のミラーを透過した前記撮像光束の残りを反射させて焦点検出装置に導く第２のミラーと、
前記第２のミラーを保持する第２の保持部材と、を備え、
前記第１の保持部材は、前記第１のミラーを保持している面と反対側に、前記ミラーユニットが前記露光退避位置に位置するときに、前記第２の保持部材と当接しない第１の領域および前記第２の保持部材と当接する第２の領域を有しており、
前記第１の領域は、反射を防止する面で形成されており、
前記第２の領域は、前記第１の領域よりも平坦な面で形成されていることを特徴とする撮像装置。 An imaging apparatus comprising a moving mirror unit between a finder observation position and exposure retracted position,
When the mirror unit is located in the finder observation position, guide-out to the finder optical system by reflecting a portion of the imaging light beam, a semi-permeable first mirror that transmits the remainder of the imaging light beam,
A first holding member for holding the first mirror;
A second mirror that is rotatably arranged on the first mirror , and reflects the remainder of the imaging light flux that has passed through the first mirror at the finder observation position and guides it to a focus detection device;
A second holding member for holding the second mirror,
The first holding member does not come into contact with the second holding member when the mirror unit is located at the exposure retracted position on the side opposite to the surface holding the first mirror. has a region and the second holding member that abuts the second region,
The first region is formed by a surface that prevents reflection,
The image pickup apparatus, wherein the second region is formed with a flatter surface than the first region.
前記第２の領域は、前記遮光部の近傍に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。 The first holding member shields light so that a light beam incident from the finder optical system and reflected inside the imaging apparatus does not reach the imaging element when the mirror unit is located at the exposure retracted position. Part is formed,
The imaging apparatus according to claim 1, wherein the second region is formed in the vicinity of the light shielding portion.
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