JP5844571B2 - リソグラフィ装置及びアライメント方法 - Google Patents
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Description
コレクタによって収集された放射を調節して放射ビームを提供するイルミネータと、検出器アレンジメントであって、イルミネータに対して固定位置関係に配置され、ソースコレクタモジュールからの放射を反射するように配置されたリフレクタアレンジメントと、リフレクタアレンジメントに対して固定位置関係に配置され、リフレクタによって反射された放射の少なくとも1つの特性を測定するように構成されたセンサアレンジメントとを備える検出器アレンジメントとを備え、検出器アレンジメントが、リフレクタによって反射され、センサアレンジメントによって測定される放射の少なくとも1つの特性の関数としての放射の遠視野位置の場所を決定するように構成されたリソグラフィ装置が提供される。
− 放射ビームB(例えばEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク又はレチクル)MAを支持するように構成され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影システム)PSとを含む。
1.ステップモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。
3.別のモードでは、支持構造(例えばマスクテーブル)MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (14)
- リソグラフィ装置であって、
放射源からの放射を収集するコレクタを含むソースコレクタモジュールと、
前記コレクタによって収集された前記放射を調節して放射ビームを提供するイルミネータと、
検出器アレンジメントであって、
曲面状のリフレクタを備えるリフレクタアレンジメントであって、前記イルミネータに対して固定位置関係に配置され、前記ソースコレクタモジュールからの放射を反射するように配置されたリフレクタアレンジメントを備える検出器アレンジメントと、を備え、
前記曲面状のリフレクタの曲率半径Rは、
によって付与され、aは、前記コレクタによって収集された前記放射の中間焦点と前記曲面状のリフレクタの中心との間の距離であり、bは、前記曲面状のリフレクタの前記中心とセンサアレンジメントとの距離であり、
前記センサアレンジメントが、前記リフレクタアレンジメントに対して固定位置関係に配置され、前記曲面状のリフレクタによって反射された放射の少なくとも1つの特性を測定し、
前記検出器アレンジメントが、前記曲面状のリフレクタによって反射されて前記センサアレンジメントによって測定される放射の少なくとも1つの特性の関数としての前記放射の遠視野位置の場所を決定する、リソグラフィ装置。 - 前記遠視野位置が、前記遠視野の幾何学的中心又は前記遠視野のパワー分布の平均中心である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサアレンジメントが一次元センサを備える、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記一次元センサがエッジ検出センサである、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタアレンジメントが、全体に平面状のリフレクタを備える、請求項1から4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタアレンジメントが、隔離されたリフレクタ領域をさらに備える、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタアレンジメントが、実質的に非反射の領域と反射領域とをさらに備え、前記実質的に非反射の領域が、前記反射領域と前記隔離されたリフレクタ領域との間にある、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記実質的に非反射の領域、反射領域及び隔離されたリフレクタ領域が、ワンピース型コンポーネント又は一体型コンポーネントとして形成される、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
放射源からの放射を収集するコレクタを含むソースコレクタモジュールと、
前記コレクタによって収集された前記放射を調節して放射ビームを提供するイルミネータと、
検出器アレンジメントであって、
曲面状のリフレクタを備えるリフレクタアレンジメントであって、前記イルミネータに対して固定位置関係に配置され、前記ソースコレクタモジュールからの放射を反射するように配置されたリフレクタアレンジメントと、
前記リフレクタアレンジメントに対して固定位置関係に配置され、前記曲面状のリフレクタによって反射された放射の少なくとも1つの特性を測定するセンサアレンジメントと、を備える検出器アレンジメントと、を備え、
前記検出器アレンジメントが、前記曲面状のリフレクタによって反射されて前記センサアレンジメントによって測定される放射の少なくとも1つの特性の関数としての前記放射の遠視野位置の場所を決定し、
前記曲面状のリフレクタの曲率が、前記ソースコレクタモジュールとイルミネータとの間の1mmの距離の相対的並進移動による検出器アレンジメントによって測定された遠視野位置の変化が前記ソースコレクタモジュールと前記イルミネータとの間の中間焦点周りの1/a mradの相対的傾斜による前記検出器アレンジメントによって測定された遠視野位置の変化と同じであり、aは、前記コレクタによって収集された放射の中間焦点と前記曲面状のリフレクタの中心との間の距離である、リソグラフィ装置。 - 少なくともその一部が前記コレクタに装着されるか又は前記コレクタの一部を形成する隔離された反射フィーチャをさらに備え、前記隔離された反射フィーチャが、前記コレクタの半径より小さい半径方向の距離に前記コレクタとの固定した位置関係にあるリフレクタ部分を備え、前記リフレクタ部分が比較的非反射の部分によって囲まれる、請求項1から9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサアレンジメントが二次元センサを備える、請求項1から10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記二次元センサが、位置検知デバイス(PSD)又は電荷結合素子(CCD)である、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記検出器アレンジメントが、複数の同様なリフレクタアレンジメントと、それに対応する同様のセンサアレンジメントと、を備える、請求項1から12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置のソースコレクタモジュールとイルミネータとを整列させる方法であって、
前記ソースコレクタモジュールが、放射放出プラズマからの放射を収集するコレクタを含み、
前記イルミネータが、前記コレクタによって収集された放射を調節して放射ビームを提供し、
前記リソグラフィ装置が、
アクチュエータと、
検出器アレンジメントであって、
曲面状のリフレクタを備えるリフレクタアレンジメントであって、前記イルミネータに対して固定位置関係に配置されたリフレクタアレンジメントを備える検出器アレンジメントと、をさらに備え、
前記曲面状のリフレクタの曲率半径Rは、
によって付与され、aは、前記コレクタによって収集された前記放射の中間焦点と前記曲面状のリフレクタの中心との間の距離であり、bは、前記曲面状のリフレクタの前記中心とセンサアレンジメントとの距離であり、
前記センサアレンジメントが、前記リフレクタアレンジメントに対して固定位置関係に配置され、
前記方法が、
前記センサアレンジメントが、前記曲面状のリフレクタによって反射された放射の少なくとも1つの特性を測定するステップと、
前記検出器アレンジメントが、前記曲面状のリフレクタによって反射されて前記センサアレンジメントによって測定される前記放射の少なくとも1つの特性の関数としての前記放射の遠視野位置の場所を決定するステップと、
前記検出器アレンジメントによって測定された遠視野位置の場所をターゲット遠視野位置と比較するステップと、
前記アクチュエータが、前記ソースコレクタモジュールの少なくとも一部と前記イルミネータの少なくとも一部との間の相対的な移動を生起させて遠視野位置の場所を前記ターゲット遠視野位置の方へ移動させるステップと、を含む方法。
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