JP5836582B2 - 画像の描画装置、方法、及びプログラム - Google Patents
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Description
図7は、軌跡の端部において、角をとがらせる処理を模式的に示した図である。図7(a)は、パターンブラシに用いる半径rの円形のパターン701を示している。なお、本願発明は、このパターンに限定されるものではない。
L1=r/Sin45°
また、補助軌跡705と入力軌跡703とのなす角度α1及び補助軌跡706と入力軌跡703とのなす角度α2は、以下の値になる。
α1=135°
α2=135°
また、補助軌跡705と補助軌跡706とのなす角度α3は、以下の値になる。
α3=90°
図7(d)に示すように、特異点707から終端713まで、半径rから半径略零になるように半径を滑らかに変化させながら、パターン701の相似形を、補助軌跡705に沿って連続的に配置して行く。パターン709、709a、709b、709c、709dは、配置される相似形のパターンの一部を示している。また、補助軌跡706に対しても同様の処理を行う。
図8は、半径rのパターン801を用いて、入力軌跡803に沿って配置した場合、パターンが点802において屈曲している場合に、画像の端部805が丸みを帯びた形状となっている。
L2=r/Sin(β3/2)
また、補助軌跡805と入力軌跡803とのなす角度β1及びβ2は、以下の値になる。
β1=180°−β3/2
β2=180°−β3/2
図8(d)に示すように、特異点802から終端813まで、半径rから半径略零になるように半径を滑らかに変化させながら、パターン801の相似形を、補助軌跡805に沿って連続的に配置して行く。パターン809、809a、809b、809c、809d、809eは、配置される相似形のパターンの一部を示している。
A<β3<B
ここで留意すべき点は、β3がゼロに近づけば、L2が大きな値になりすぎることがある(β3=0であればL2は無限大)。また、β3が180°に近づけば、処理すべき特異点の数が多くなりすぎることがある。ユーザにこれらの制限値を指定できるようにさせた場合には、このような極端な値が選択できないようにしてもよい。この制限に代えて、あるいはこの制限と共に、L2の下限値又は上限値を設定してもよい。なお、L2の下限値又は上限値は、具体的なピクセル数を指定してもよい。あるいはパターン801の大きさ(半径r)、キャンバスの解像度や大きさ(キャンバスの縦、横、又は対角線等のピクセル数)等の値を考慮してこれらの値との相対的な値を採用してもよい。
図9は、図8と同様の条件において、図9(b)に示す画像の屈曲した部分の内側904を、図9(e)に示すインク溜まり913のように描画する実施例を示している。
L3=L4=r(1+1/Sin(β3/2))/Cos(β3/2)
その他、補助軌跡905の位置及び形状は、屈曲した部分の内側904に塗り残しがないようにL3及びL4を決定し、曲線としてもよい。あるいは、パターンの相似形の大きさを変更してもよい。
図10(a)は、図9のパターン901を軌跡1020に沿って、連続的に配置して描かれた画像1030が描かれている。そして、この画像1030に対して、消しゴムツール1010を用いて画像1030の一部が消去されようとしている。
101 ディスプレイ
105 キーボード
106 マウス
107 タブレット
108 ペン
401 CPU
402 メモリ
403 入力装置
404 表示装置
405 プリンタ
407 バス
Claims (6)
- あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、与えられた軌跡に沿って連続的に配置することにより、コンピュータが表示装置上のキャンバスに画像を描画する描画方法であって、
入力情報及び/又は前記画像から軌跡を抽出し、メモリに格納するステップと、
あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、前記メモリに格納された前記軌跡に沿って連続的に配置する第1の描画ステップと、
前記軌跡の特異点と該特異点の形状を特定する軌跡解析ステップと、
前記特異点と前記形状に基づき、前記メモリに格納された前記軌跡に補助軌跡を連結する補助軌跡連結ステップと、
あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、前記補助軌跡に沿って連続的に配置する第2の描画ステップと、
を有し、
前記特異点は、前記軌跡の端点、及び前記軌跡の屈曲点を含み、前記補助軌跡は、前記端点又は前記屈曲点に接続され、前記相似なパターンの大きさを前記補助軌跡の上の配置位置に応じて変化させる、描画方法。 - あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、与えられた軌跡に沿って連続的に配置することにより、コンピュータが表示装置上のキャンバスに画像を描画する描画方法であって、
入力情報及び/又は前記画像から軌跡を抽出し、メモリに格納するステップと、
あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、前記メモリに格納された前記軌跡に沿って連続的に配置する第1の描画ステップと、
前記軌跡の特異点と該特異点の形状を特定する軌跡解析ステップと、
前記特異点と前記形状に基づき、前記メモリに格納された前記軌跡に補助軌跡を連結する補助軌跡連結ステップと、
あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、前記補助軌跡に沿って連続的に配置する第2の描画ステップと、
を有し、
前記特異点は、前記軌跡の端点、及び前記軌跡の屈曲点を含み、前記補助軌跡が、前記軌跡上の前記屈曲点を挟む2辺の軌跡の一方の辺の軌跡に存在する第1の点と他方の辺の軌跡に存在する第2の点とを結ぶ線である、描画方法。 - 前記特異点が消失した場合、前記補助軌跡を消去することにより、前記補助軌跡により描画された画像を消去する、請求項1又は2に記載の方法。
- 請求項1ないし3のうちいずれか1項記載の方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 表示装置上のキャンバスに描画を行う描画装置であって、
あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、与えられた軌跡に沿って連続的に配置することにより画像を描画する描画部と、
入力情報及び/又は前記画像から軌跡を抽出し、前記軌跡を前記描画部に与える軌跡抽出部と、
前記軌跡の特異点と該特異点の形状を特定する軌跡解析部と、
前記特異点と前記形状に基づき、前記軌跡に補助軌跡を連結する補助軌跡連結部と、
前記補助軌跡を前記描画部に与える描画補正部と、
を有し、
前記特異点は、前記軌跡の端点、及び前記軌跡の屈曲点を含み、前記補助軌跡は、前記端点又は前記屈曲点に接続され、前記相似なパターンの大きさを前記補助軌跡の上の配置位置に応じて変化させる、描画装置。 - 表示装置上のキャンバスに描画を行う描画装置であって、
あらかじめ定められたパターンと相似なパターンを、与えられた軌跡に沿って連続的に配置することにより画像を描画する描画部と、
入力情報及び/又は前記画像から軌跡を抽出し、前記軌跡を前記描画部に与える軌跡抽出部と、
前記軌跡の特異点と該特異点の形状を特定する軌跡解析部と、
前記特異点と前記形状に基づき、前記軌跡に補助軌跡を連結する補助軌跡連結部と、
前記補助軌跡を前記描画部に与える描画補正部と、
を有し、
前記特異点は、前記軌跡の端点、及び前記軌跡の屈曲点を含み、前記補助軌跡が、前記軌跡上の前記屈曲点を挟む2辺の軌跡の一方の辺の軌跡に存在する第1の点と他方の辺の軌跡に存在する第2の点とを結ぶ線である、描画装置。
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JP2010237630A JP5836582B2 (ja) | 2010-10-22 | 2010-10-22 | 画像の描画装置、方法、及びプログラム |
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JP2010237630A JP5836582B2 (ja) | 2010-10-22 | 2010-10-22 | 画像の描画装置、方法、及びプログラム |
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JP2012089081A JP2012089081A (ja) | 2012-05-10 |
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JP2010237630A Active JP5836582B2 (ja) | 2010-10-22 | 2010-10-22 | 画像の描画装置、方法、及びプログラム |
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2010
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