JP5832441B2 - ヒドリドシランの製造方法 - Google Patents
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Description
a)
i)一般式SinX2n+2[式中、n≧3であり、かつX=F、Cl、Br及び/又はIである]の少なくとも1のハロゲンシランと、
ii)一般式
NRR’aR’’bYc
[式中、a=0又は1であり、b=0又は1であり、かつc=0又は1であり、かつ
aa)
− R、R’及び/又はR’’は、−C1〜C12−アルキル、−C1〜C12−アリール、−C1〜C12−アラルキル、−C1〜C12−アミノアルキル、−C1〜C12−アミノアリール、−C1〜C12−アミノアラルキル、
かつ/又は
− 基R、R’及びR’’のうち2つ又は3つは、c=0である場合には、一緒になって、Nを含む環式又は二環式、複素脂肪族又は複素芳香族系を形成し、特に、ここで有利には、前記の環式又は二環式、複素脂肪族又は複素芳香族系は、ピロリジン環系、ピロール環系、ピペリジン環系、ピリジン環系、ヘキサメチレンイミン環系、アザトロピリデン環系又はキノリン環系であるが、
− 但し、基R、R’又はR’’のうち少なくとも1つは−CH3ではなく、
かつ/又は
bb)
− R及びR’及び/又はR’’は、(c=1である場合には)−C1〜C12−アルキレン、−C1〜C12−アリーレン、−C1〜C12−アラルキレン、−C1〜C12−ヘテロアルキレン、−C1〜C12−ヘテロアリーレン、−C1〜C12−ヘテロアラルキレン及び/又は−N=、
又は、
cc)
− (a=b=c=0である場合には)R=≡C−R’’’(但し、R’’’=−C1〜C10−アルキル、−C1〜C10−アリール及び/又は−C1〜C10−アラルキルである)である]の少なくとも1の触媒とを、
一般式SimX2m+2[式中、m>nであり、かつX=F、Cl、Br及び/又はIである]の少なくとも1のハロゲンシランとSiX4[式中、X=F、Cl、Br及び/又はIである]とを含む混合物の形成下に反応させ、
かつ、
b)一般式SimX2m+2の少なくとも1のハロゲンシランを、一般式SimH2m+2のヒドリドシランの形成下に水素化する、ハロゲンシランからヒドリドシランを製造するための本発明による方法により解決される。
NRR’aR’’bYc
[式中、a=0又は1であり、b=0又は1であり、かつc=0又は1であり、かつ
その際、R、R’及びR’’は、相互に無関係に種々の一価又は二価の基であってよく、該基は、窒素原子Nの置換基であるか、又は窒素原子と −基Yが存在する限りは、場合によりこの基Yを組み込んで− (場合により二又は多)環式の構造を形成し得る。]
の触媒である。
NRR’R’’
[式中、R、R’及びR’’は、
の触媒である。
a)
i)一般式Si3X8[式中、X=F、Cl、Br及び/又はIである]の少なくとも1のオクタハロゲントリシランと、
ii)ジアザビシクロオクタン、ピリジン及びN,N−1,4−ジメチルピペラジンからなる群から選択された少なくとも1の触媒とを、
一般式Si5X12[式中、X=F、Cl、Br及び/又はIである]の少なくとも1のハロゲンシランとSiX4[式中、X=F、Cl、Br及び/又はIである]とを含む混合物の形成下に反応させ、かつ、
b)一般式Si5X12の少なくとも1のハロゲンシランを、ネオペンタシランの形成下に水素化する、ネオペンタシランの製造法も本発明の対象である。
1.本発明による実施例
a)高級ハロゲンシランの合成及び分離
i)Si3Cl8からSi5Cl12への転化
aa)触媒バリエーションI
オクタクロロトリシラン50.8g(0.14モル)を、室温で撹拌下に、ジエチルエーテル0.5ml中の1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン40.0mg(3.6×10-4モル;0.25モル%)と混合したところ、その直後に、この反応混合物は、白色の固体の生成を経て2時間以内で硬化した。揮発性成分(SiCl4)を真空中(0.05ミリバール)で40℃で除去した後、生成物Si5Cl12が白色の結晶性固体として残留する。残留している主生成物として、29Si−NMR分光法によれば(図1を参照のこと)実質的に純粋なSi5Cl12が生じる。収量は、以下の反応式を示唆している:2Si3Cl8→Si5Cl12+SiCl4。
収量SiCl4:13.0g
オクタクロロトリシラン5.1g(0.014モル)を、室温で撹拌下に、ジエチルエーテル0.04ml中のN,N−ジメチルピペラジン3.7mg(3.3×10-5モル;0.25モル%)の溶液と混合したところ、その直後に、この反応混合物は、白色の固体の生成を経て2時間以内で硬化した。揮発性成分を真空中(0.05ミリバール)で40℃で除去した後、生成物が白色の結晶性固体として残留し、この固体は29Si−NMR分光法により純粋なSi5Cl12と同定することができた。
オクタクロロトリシラン5.1g(0.014モル)を、室温で撹拌下に、N,N−ジメチルピペラジン4.4mg(4.0×10-5モル;0.3モル%)と混合したところ、その直後に、この反応混合物は、白色の固体の生成を経て24時間以内で硬化した。揮発性成分を真空中(0.05ミリバール)で40℃で除去した後、生成物が白色の結晶性固体として残留し、この固体は29Si−NMR分光法により純粋なSi5Cl12と同定することができた。
オクタクロロトリシラン5.1g(0.014モル)を、室温で撹拌下に、ジエチルエーテル0.04ml中のピリジン2.8mg(3.5×10-5モル;0.25モル%)の溶液と混合したところ、その直後に、この反応混合物は、白色の固体の生成を経て12時間以内で硬化した。揮発性成分を真空中(0.05ミリバール)で40℃で除去した後、生成物が結晶性固体として残留し、この固体は29Si−NMR分光法により純粋なSi5Cl12と同定することができた。
オクタクロロトリシラン5.1g(0.014モル)を、室温で撹拌下に、ピリジン3.5mg(4.2×10-5モル;0.3モル%)と混合したところ、その直後に、この反応混合物は、白色の固体の生成を経て12時間以内で硬化した。揮発性成分を真空中(0.05ミリバール)で40℃で除去した後、生成物が結晶性固体として残留し、この固体は29Si−NMR分光法により純粋なSi5Cl12と同定することができた。収量は、以下の反応式を示唆している:
オクタクロロトリシランの合成に由来する、オクタクロロトリシランの留去後に残った、少なくとも4個のSi原子を有する高級クロロシランの混合物50gを、室温で撹拌下に、ジエチルエーテル0.5ml中の1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン40.0mg(3.6×10-4モル)と混合したところ、その直後に、この反応混合物は、白色の固体の生成を経て12時間以内で硬化した。揮発性成分(SiCl4)を真空中(0.05ミリバール)で40℃で除去した後、白色の結晶性固体が残留する。
収量SiCl4:6.0g
高級クロロシランも、触媒によりSi5Cl12へと転移し得る。それどころか収量はジ−又はトリシランと比較して増加しており、一方で生成物品質は完全に好ましいままである。反応速度はSi3Cl8と比較して若干低い。
テトラキス(トリクロロシリル)シラン38.0g(0.067モル)を、氷冷下に、水素化ジイソブチルアルミニウム131g(0.92モル)と混合し、室温で一晩撹拌した。次いで、生成物を真空中(0.05ミリバール、室温)での再凝縮により反応混合物から単離した;その際、無色透明な液体が得られた。
a)Si2Cl6からSi5Cl12への転化
ヘキサクロロジシラン60g(0.22モル)を、室温で撹拌下に、ジエチルエーテル0.5ml中の1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン60.0mg(5.4×10-4モル;0.24モル%)と混合したところ、その直後に、この反応混合物は、白色の固体の生成を経て15時間以内で硬化した。揮発性成分を真空中(0.05ミリバール)で40℃で除去した後、生成物が白色の結晶性固体として残留する。反応生成物として、29Si−NMR分光法によれば実質的に純粋なSi5Cl12が生じる。
収量SiCl4:28.0g
Si3Cl8及び高級クロロシランは、触媒によりSi5Cl12へと転移し得る。収量は、Si2Cl6を使用した場合よりも多い。反応速度はSi2Cl6を使用した場合と比較して明らかに高い。
Claims (12)
- ハロゲンシランからヒドリドシランを製造するための方法において、
a)
i)一般式SinX2n+2[式中、n≧3であり、かつX=F、Cl、Br及び/又はIである]の少なくとも1のハロゲンシランと、
ii)一般式
NRR’aR’’bYc
[式中、a=0又は1であり、b=0又は1であり、かつc=0又は1であり、かつ
aa)
− R、R’及び/又はR’’は、−C1〜C12−アルキル、−C1〜C12−アリール、−C1〜C12−アラルキル、−C1〜C12−アミノアルキル、−C1〜C12−アミノアリール、−C1〜C12−アミノアラルキルであり、
かつ/又は
− 基R、R’及びR’’のうち2つ又は3つは、c=0である場合には、一緒になって、Nを含む環式又は二環式、複素脂肪族又は複素芳香族系を形成するが、
− 但し、基R、R’又はR’’のうち少なくとも1つは−CH3ではなく、
かつ/又は
bb)
− R及びR’及び/又はR’’は、(c=1である場合には)−C1〜C12−アルキレン、−C1〜C12−アリーレン、−C1〜C12−アラルキレン、−C1〜C12−ヘテロアルキレン、−C1〜C12−ヘテロアリーレン、−C1〜C12−ヘテロアラルキレン及び/又は−N=であるか、
又は、
cc)
− (a=b=c=0である場合には)R=≡C−R’’’(但し、R’’’=−C1〜C10−アルキル、−C1〜C10−アリール及び/又は−C1〜C10−アラルキルである)である]の少なくとも1の触媒とを、
一般式SimX2m+2[式中、m>nであり、かつX=F、Cl、Br及び/又はIである]の少なくとも1のハロゲンシランとSiX4[式中、X=F、Cl、Br及び/又はIである]とを含む混合物の形成下に反応させ、
かつ、
b)一般式SimX2m+2の少なくとも1のハロゲンシランを、一般式SimH2m+2のヒドリドシランの形成下に水素化することを特徴とする方法。 - 一般式SinX2n+2のハロゲンシランが直鎖シランである、請求項1記載の方法。
- 少なくとも1のハロゲンシランが、一般式Si3X8又はSi4X10[式中、X=F、Cl、Br及び/又はIである]を有する化合物の群から選択された化合物である、請求項1又は2記載の方法。
- 触媒が、他のヘテロ原子を有するか又は有しない、環式、二環式又は多環式アミンからなる化合物の群から選択されている、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 触媒が、ジアザビシクロオクタン、ピリジン又はN,N−1,4−ジメチルピペラジンである、請求項4記載の方法。
- 水素化の前に、一般式SimX2m+2の少なくとも1のハロゲンシランから、−30〜+100℃の温度でかつ0.01〜1100ミリバールの圧力でのSiX4の留去ないしストリッピングによりSiX4を分離除去する、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 水素化を、第1〜第3主族の金属の金属水素化物の群、又は、LiAlH4、NaBH4、iBu2AlHからなる水素化化合物の群から選択された少なくとも1の水素化剤の添加により行う、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 水素化剤が、存在するハロゲンシランに対して2〜30倍のモル過剰で存在する、請求項7記載の方法。
- 水素化剤が、存在するハロゲンシランに対して10〜15倍のモル過剰で存在する、請求項7または8記載の方法。
- 電子部品薄膜又は光電子部品薄膜を製造するための、請求項1から9までのいずれか1項により製造可能な少なくとも1のヒドリドシランの使用。
- シリコン含有薄膜を製造するための、請求項1から9までのいずれか1項により製造可能な少なくとも1のヒドリドシランの使用。
- 前記シリコン含有薄膜が、元素シリコン薄膜である、請求項11記載の使用。
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