JP5811493B2 - Coating composition and insulated wire using the same - Google Patents
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Description
本発明は塗料組成物、特に、ポリアミドイミド樹脂を含む塗料組成物、当該塗料組成物による絶縁被膜(絶縁層)を形成してなる絶縁電線に関する。 The present invention relates to a coating composition, in particular, a coating composition containing a polyamideimide resin, and an insulated wire formed by forming an insulating coating (insulating layer) using the coating composition.
絶縁電線(エナメル線)は、銅線、銅クラッド線、アルミニウム線などの導体に直接あるいは他の絶縁層を介して、電気絶縁塗料を塗布焼付けし電気絶縁皮膜(絶縁層)を形成させることで得られる。 Insulated wires (enameled wires) are formed by applying and insulating an electrical insulating coating directly or through other insulating layers on conductors such as copper wires, copper clad wires, and aluminum wires to form an electrical insulating film (insulating layer). can get.
中でもポリアミドイミド(電気絶縁)塗料を用いたポリアミドイミド絶縁電線は、耐熱性、耐傷性が他の絶縁電線と比較し良好なことから、例えば、産業用や自動車用のモータ等に幅広く利用されている。 Above all, polyamide-imide insulated wires using polyamide-imide (electrical insulation) paints have better heat resistance and scratch resistance than other insulated wires, and are widely used for industrial and automotive motors, for example. Yes.
絶縁電線には、十分な信頼性を確保するために、優れた耐熱性が要求される。また、近年、種々の技術分野で、モータの小型化及び軽量化への要求が強くなっており、これに伴って、モータに用いられる絶縁電線の占積率(一定空間内に占める絶縁電線密度)が高まってきている。 Insulated wires are required to have excellent heat resistance in order to ensure sufficient reliability. Recently, in various technical fields, there has been a strong demand for miniaturization and weight reduction of motors. Accordingly, the space factor of insulated wires used in motors (insulated wire density in a certain space) ) Is increasing.
これらの要求に対応するために、絶縁電線をモータなどのコアスロットに挿入する工程で、より多くの絶縁電線をコアスロット内に挿入する必要がある。この様な場合、隣接する絶縁電線間および絶縁電線とコアスロットとの摩擦などによって、絶縁電線の絶縁層に加わる機械的負荷が大きくなる場合がある。絶縁電線に対する機械的負荷が大きくなると、絶縁電線の絶縁層が損傷し、レアショートなどの不具合を引き起こし、ひいては、モータの信頼性が大きく損なわれる場合がある。 In order to meet these requirements, it is necessary to insert more insulated wires into the core slot in the process of inserting insulated wires into the core slot of a motor or the like. In such a case, the mechanical load applied to the insulating layer of the insulated wire may increase due to friction between adjacent insulated wires and between the insulated wire and the core slot. When the mechanical load on the insulated wire is increased, the insulating layer of the insulated wire is damaged, causing problems such as rare shorts, and the reliability of the motor may be greatly impaired.
このようなことから、絶縁電線の絶縁層が機械的負荷に耐えられるように絶縁電線の絶縁層の被膜強度を上げる試みがなされている(例えば特許文献1、2および3)。 For this reason, attempts have been made to increase the coating strength of the insulating layer of the insulated wire so that the insulating layer of the insulated wire can withstand a mechanical load (for example, Patent Documents 1, 2, and 3).
上記の従来技術による絶縁電線は、耐傷性に優れるものの、絶縁電線の可とう性や密着性が必ずしも十分ではなく、耐熱性にも劣る場合があった。 Although the insulated wire according to the above prior art is excellent in scratch resistance, the flexibility and adhesion of the insulated wire are not always sufficient, and the heat resistance may be inferior.
更に、特に、コアスロットに挿入される絶縁電線には、その挿入工程において過度の曲げや伸びが加わるため、絶縁層の耐傷性のみならず、過度の曲げや伸びに対する可とう性および絶縁層と下地(導体や他の絶縁層)との密着性の向上が要求される。 Furthermore, in particular, since the insulated wire inserted into the core slot is subjected to excessive bending and elongation during the insertion process, not only the scratch resistance of the insulating layer but also the flexibility against excessive bending and elongation and the insulating layer Improvement of adhesion with the base (conductor or other insulating layer) is required.
そこで、本発明の課題は、耐熱性、耐摩耗性、可とう性および密着性に優れた絶縁被膜(絶縁層)を形成することが可能な塗料組成物を提供することを課題とする。 Then, the subject of this invention makes it a subject to provide the coating composition which can form the insulating film (insulating layer) excellent in heat resistance, abrasion resistance, flexibility, and adhesiveness.
また、本発明は、上記塗料組成物による絶縁層を形成してなる絶縁電線を提供することを課題とする。 Moreover, this invention makes it a subject to provide the insulated wire formed by forming the insulating layer by the said coating composition.
上記課題に鑑み、本発明者等が鋭意検討した結果、ポリアミドイミド樹脂を含む塗料組成物において、ビフェニル基を有するエポキシ樹脂を配合することにより、絶縁被膜の耐傷性(耐摩耗性)、耐熱性(耐軟化性)、可とう性および密着性を向上させることができることを見出し、本発明に至った。 As a result of intensive studies by the present inventors in view of the above-mentioned problems, the coating composition containing a polyamide-imide resin is blended with an epoxy resin having a biphenyl group, whereby the scratch resistance (abrasion resistance) and heat resistance of the insulating coating are obtained. It has been found that (softening resistance), flexibility and adhesion can be improved, and the present invention has been achieved.
すなわち、本発明は、以下の(1)〜(4)に関する。
(1)ポリアミドイミド樹脂(a)と、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して、1〜90質量部の数平均分子量が8,000〜30,000のビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)と、を含有する塗料組成物。
(2)ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して、数平均分子量が8,000〜30,000のビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)5〜50質量部を含有する、(1)に記載の塗料組成物。
(3)(1)又は(2)に記載の塗料組成物を、導体上に直接又は他の絶縁層を介して、塗布した後、焼付けしてなる絶縁電線。
(4)(3)に記載の絶縁電線の表面に潤滑層を設けること、を特徴とする絶縁電線。
That is, the present invention relates to the following (1) to (4).
(1) Polyamideimide resin (a) and an epoxy resin (b) having a biphenyl group having a number average molecular weight of 8,000 to 30,000 with respect to 100 parts by mass of polyamideimide resin (a). And a coating composition containing.
(2) Polyamideimide resin (a) The epoxy resin (b) containing a biphenyl group having a number average molecular weight of 8,000 to 30,000 is contained in 5 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass. The coating composition as described.
(3) An insulated wire formed by applying the coating composition according to (1) or (2) on a conductor directly or through another insulating layer and then baking the coating composition.
(4) An insulated wire characterized by providing a lubricating layer on the surface of the insulated wire according to (3).
本発明により、耐摩耗性、耐熱性(耐軟化性)、可とう性および密着性に優れた絶縁皮膜(絶縁層)を形成することが可能な塗料組成物およびそれを用いて塗布焼付けしてなる絶縁電線が提供される。 According to the present invention, a coating composition capable of forming an insulating film (insulating layer) excellent in wear resistance, heat resistance (softening resistance), flexibility and adhesion, and coating and baking using the same An insulated wire is provided.
以下、本発明を、実施の形態に即して詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail according to embodiments.
[塗料組成物]
本発明の塗料組成物は、ポリアミドイミド樹脂(a)と、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して、1〜90質量部のビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)と、を含有する事を特徴とする。以下、成分毎に説明する。
[Coating composition]
The coating composition of the present invention contains a polyamideimide resin (a) and an epoxy resin (b) having 1 to 90 parts by mass of a biphenyl group with respect to 100 parts by mass of the polyamideimide resin (a). It is characterized by. Hereinafter, it demonstrates for every component.
ポリアミドイミド樹脂(a)
ポリアミドイミド樹脂(a)としては、分子内にアミド結合(−NHCO−)とイミド結合(−CO−N−CO−)を、複数有する樹脂であれば特に制限されず、通常公知のポリアミドイミド樹脂を使用することができる。
Polyamideimide resin (a)
The polyamideimide resin (a) is not particularly limited as long as it is a resin having a plurality of amide bonds (—NHCO—) and imide bonds (—CO—N—CO—) in the molecule, and is usually a known polyamideimide resin. Can be used.
ポリアミドイミド樹脂(a)の数平均分子量は、10,000〜50,000、特に12,000〜35,000、さらには18,000〜30,000の範囲が好ましい。数平均分子量が10,000未満の場合、得られる電気絶縁皮膜の強度及び耐熱性が十分でなくなるおそれがあり、50,000を超えると、各種溶媒に溶解させた際の塗料の粘度が高くなり、塗布焼付け作業が難しくなるおそれがある。また、本発明におけるポリアミドイミド樹脂溶液の粘度は、塗布焼付けの作業性を良好にする観点から、30℃で10〜10,000mPa・s、特に50〜10,000mPa・s、さらには50〜5,000mPa・sの範囲が好ましい。 The number average molecular weight of the polyamideimide resin (a) is preferably 10,000 to 50,000, particularly 12,000 to 35,000, and more preferably 18,000 to 30,000. If the number average molecular weight is less than 10,000, the strength and heat resistance of the resulting electrical insulating film may not be sufficient. If it exceeds 50,000, the viscosity of the paint when dissolved in various solvents increases. There is a risk that the coating and baking operation becomes difficult. The viscosity of the polyamideimide resin solution in the present invention is 10 to 10,000 mPa · s, particularly 50 to 10,000 mPa · s, more preferably 50 to 5 at 30 ° C. from the viewpoint of improving the workability of coating baking. A range of 1,000 mPa · s is preferred.
さらに、ポリアミドイミド樹脂(a)の含有量は、塗料組成物全体に対して、10〜50質量部、特に10〜45質量部、さらには15〜40質量部の範囲が好ましい。ポリアミドイミド樹脂(a)は、単一のものを用いても良く、複数のものを組み合わせて用いてもよい。 Furthermore, the content of the polyamideimide resin (a) is preferably in the range of 10 to 50 parts by mass, particularly 10 to 45 parts by mass, and more preferably 15 to 40 parts by mass with respect to the entire coating composition. As the polyamide-imide resin (a), a single one may be used, or a plurality of them may be used in combination.
ポリアミドイミド樹脂(a)の製造方法としては、特に制限されないが、例えば、以下の方法があげられる。
1)有機ポリイソシアネート化合物(a−1)とポリカルボン酸化合物(a−2)とを脱炭酸反応させる方法。
2)ポリアミノ化合物とポリカルボン酸化合物(a−2)とを脱水反応させる方法。
3)ポリアミノ化合物とトリメリット酸クロライドなどの酸クロライドを脱塩酸反応させる方法、
4)ポリアミノ化合物とポリカルボン酸化合物(a−2)とをイミド化反応させたのち、残ったカルボキシル基に有機ポリイソシアネート化合物(a−1)を脱炭酸反応させてアミド化する方法。
Although it does not restrict | limit especially as a manufacturing method of a polyamide-imide resin (a), For example, the following method is mention | raise | lifted.
1) A method in which an organic polyisocyanate compound (a-1) and a polycarboxylic acid compound (a-2) are decarboxylated.
2) A method in which a polyamino compound and a polycarboxylic acid compound (a-2) are subjected to a dehydration reaction.
3) A method of dehydrochlorinating a polyamino compound and an acid chloride such as trimellitic acid chloride,
4) A method in which a polyamino compound and a polycarboxylic acid compound (a-2) are subjected to an imidization reaction, and then the remaining carboxyl group is decarboxylated to amidate.
これらのうち、合成後のポリアミドイミド樹脂溶液の安定性が良好である点で1)および4)の方法が好ましく、更に合成が比較的容易な点で1)の方法が好ましい。 Of these, the methods 1) and 4) are preferred in that the stability of the polyamideimide resin solution after synthesis is good, and the method 1) is preferred in that the synthesis is relatively easy.
有機ポリイソシアネート化合物(a−1)とポリカルボン酸化合物(a−2)とを脱炭酸反応させポリアミドイミド樹脂(a)を合成する方法としては、有機ポリイソシアネート化合物(a−1)とポリカルボン酸化合物(a−2)と、を反応溶媒に溶解し、80〜200℃、好ましくは80〜150℃に加熱昇温しながら、副生する炭酸ガスを系外に除去しアミド化とイミド化の反応を行う。 An organic polyisocyanate compound (a-1) and a polycarboxylic acid compound (a-2) can be synthesized by decarboxylating the organic polyisocyanate compound (a-1) and the polycarboxylic acid compound (a-2). The acid compound (a-2) is dissolved in a reaction solvent, and carbon dioxide generated as a by-product is removed from the system while heating to 80 to 200 ° C., preferably 80 to 150 ° C., and amidation and imidization are performed. Perform the reaction.
反応の進行状況は、反応途中で試料を採取し、合成物の粘度および/またはゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)による分子量を測定することにより、モニタリングすることができる。 The progress of the reaction can be monitored by taking a sample during the reaction and measuring the viscosity of the synthesized product and / or the molecular weight by gel permeation chromatography (GPC).
反応が終了した時点で、ポリアミドイミド樹脂(a)の合成を終了させるために、直ちに冷却するか、あるいは貯蔵安定性が更に向上する点で好ましくはメタノール、エタノール、オクタノール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール類;MEKオキシムなどのオキシム類;ε−カプロラクタムなどのラクタム類をそれぞれ単独あるいは2種以上加え、未反応のイソシアネート基をブロックした後、あるいはブロックと同時に冷却するなどして反応を停止し、ポリアミドイミド樹脂(a)からなる溶液を得る。 When the reaction is completed, in order to finish the synthesis of the polyamideimide resin (a), it is immediately cooled, or in view of further improving the storage stability, preferably methanol, ethanol, octanol, stearyl alcohol, oleyl alcohol, Alcohols such as benzyl alcohol; Oximes such as MEK oxime; Lactams such as ε-caprolactam are added singly or in combination of two or more to block unreacted isocyanate groups, or by cooling at the same time as blocking. And a solution made of the polyamideimide resin (a) is obtained.
上記1)〜4)に代表されるポリアミドイミド樹脂(a)の合成方法に用いられる有機ポリイソシアネート化合物(a−1)としては、イソシアネート基が芳香族炭素と結合している芳香族系有機ポリイソシアネートや、イソシアネート基が脂肪族炭素と結合している脂肪族系ポリイソシアネートが挙げられる。 The organic polyisocyanate compound (a-1) used in the method for synthesizing the polyamideimide resin (a) represented by the above 1) to 4) is an aromatic organic polyisocyanate having an isocyanate group bonded to an aromatic carbon. Examples thereof include an isocyanate and an aliphatic polyisocyanate in which an isocyanate group is bonded to an aliphatic carbon.
芳香族系ポリイソシアネートとしては、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジフェニルメタンジイソシアネート、あるいはこれらの混合物等のMDI系ポリイソシアネート;2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、あるいはこれらの混合物等のTDI系ポリイソシアネート;この他の芳香族ポリイソシアネートとして、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアナート、3,3’−ジメトキシビフェニル−4,4’−ジイソシアネート、ビフェニル−3,4’−ジイソシアネ−ト、2,2’− ジエチルビフェニル− 4,4’−ジイソシアネ−ト、ナフタレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、3,3’−ジフェニルエーテルジイソシアネートなどが挙げられる。 As the aromatic polyisocyanate, MDI polyisocyanate such as 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-diphenylmethane diisocyanate, or a mixture thereof; 2,4-toluene diisocyanate, TDI type polyisocyanate such as 2,6-toluene diisocyanate or a mixture thereof; other aromatic polyisocyanates include p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate, 3 , 3'-dimethoxybiphenyl-4,4'-diisocyanate, biphenyl-3,4'-diisocyanate, 2,2'-diethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate, naphthalene diisocyanate, 4, '- diphenyl ether diisocyanate, such as 3,3'-diphenyl ether diisocyanate, and the like.
脂肪族系ポリイソシアネートとしては、キシリレンジイソシアネート等の脂肪族炭素と結合しているイソシアネート基および芳香環を有する芳香脂肪族ポリイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート;シクロヘキサンジイソシアネート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート等の脂環族ポリイソシアネートなどが挙げられる。 Examples of the aliphatic polyisocyanate include araliphatic polyisocyanates having an isocyanate group bonded to an aliphatic carbon such as xylylene diisocyanate and an aromatic ring; fats such as hexamethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, propylene diisocyanate, butylene diisocyanate Group polyisocyanate; cycloaliphatic diisocyanate, alicyclic polyisocyanate such as methylenebis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate and the like.
また、これらポリイソシアネートの変性体として、カルボジイミド変性体、ヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート(クルードMDI、ポリメリックMDI)なども挙げられる。これらの有機ポリイソシアネート化合物およびそれらの変性体はそれぞれ単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of modified polyisocyanates include carbodiimide-modified, nurate-modified, biuret-modified, allophanate-modified, polymethylene polyphenyl polyisocyanate (crude MDI, polymeric MDI), and the like. These organic polyisocyanate compounds and modified products thereof can be used alone or in combination of two or more.
これらのうち、得られるポリアミドイミド塗料を塗布焼付けして形成される絶縁電線の絶縁皮膜の耐熱性や耐傷性が良好な点で、芳香族系ポリイソシアネートおよびその変性体が好ましく、さらにMDI系ポリイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアナート、ナフタレンジイソシアネートおよびその変性体が好ましい。また、特に、入手のし易さやコストメリットの観点から、MDI系ポリイソシアネートおよびその変性体が好ましく、特に4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートおよびその変性体が好ましい。 Of these, aromatic polyisocyanates and modified products thereof are preferred from the viewpoint of good heat resistance and scratch resistance of the insulation film of the insulated wire formed by applying and baking the obtained polyamideimide paint, and further MDI-based polyisocyanate. Preferred are isocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate, naphthalene diisocyanate and modified products thereof. In particular, from the viewpoint of easy availability and cost merit, MDI polyisocyanate and modified products thereof are preferable, and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and modified products thereof are particularly preferable.
ポリカルボン酸化合物(a−2)としては、トリメリット酸、トリメリット酸無水物、テトラカルボン酸二無水物(ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−スルホニルジフタル酸二無水物、m−タ−フェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(2,3−又は3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−又は3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス[4−(2,3−又は3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス[4−(2,3−又は3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ−[2,2,2]−オクト−7−エン−2:3:5:6−テトラカルボン酸二無水物等)、脂肪族ジカルボン酸(コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、スベリン酸、セバシン酸、デカン二酸、ドデカン二酸、ダイマー酸等)、芳香族ジカルボン酸(イソフタル酸、テレフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、オキシジ安息香酸等)などが挙げられる。これらは単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 As polycarboxylic acid compound (a-2), trimellitic acid, trimellitic anhydride, tetracarboxylic dianhydride (pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid Dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6-pyridinetetracarboxylic acid Dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-sulfonyldiphthalic dianhydride, m Tert-phenyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2, 2-bis (2,3- or 3,4-di- Ruboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis [4- (2,3- or 3,4) -Dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis [4- (2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl ] Propane dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo- [2, 2,2] -oct-7-ene-2: 3: 5: 6-tetracarboxylic dianhydride, etc.), aliphatic dicarboxylic acids (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, suberic acid, sebacic acid) , Decanedioic acid, dodecane Acid, and dimer acid), aromatic dicarboxylic acid (isophthalic acid, terephthalic acid, phthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid, and oxydiphthalic acid) and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
これらの中で、入手のし易さやコストメリットがあり、有機ポリイソシアネート化合物(a−1)との反応のし易さ、得られる絶縁皮膜の耐熱性や耐傷性が良好な点でトリメリット酸、トリメリット酸無水物および芳香族ジカルボン酸が好ましく、更にトリメリット酸無水物が好ましい。 Among these, trimellitic acid is easy to obtain and has cost merit, is easy to react with the organic polyisocyanate compound (a-1), and has good heat resistance and scratch resistance of the resulting insulating film. , Trimellitic anhydride and aromatic dicarboxylic acid are preferable, and trimellitic anhydride is more preferable.
ポリアミドイミド樹脂(a)を合成する際に使用できる反応溶媒又は反応終了後の希釈溶媒としては、通常公知の有機溶媒を使用することができる。例えば、n−ヘキサン、2−メチルペンタン、n−ヘプタン、n−オクタン、2,2,3−トリメチルペンタン、2,2,4−トリメチルペンタン、n−ノナン、2,2,5−トリメチルヘキサン、n−デカン、n−ドデカンなどの脂肪族炭化水素系溶剤;シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素系溶剤;キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ジペンチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、ナフタレン、テトラリン、ビフェニルなどの芳香族炭化水素系溶剤;メタノール、エタノール、2 −エチルヘキサノール、ステアリルアルコール、ベンジルアルコールなどの脂肪族アルコール系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ステアリン酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、マロン酸ジエチルなどのエステル系溶剤;メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノンなどのケトン系溶剤;N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン等の非プロトン系極性有機溶剤;2−メトキシエチルアセタート、2−エトキシエチルアセタートなどが挙げられる。また、ジメチルスルホキシド、石油ナフサ、コールタールナフサ、ソルベントナフサなどやこれらの混合物があげられる。これらは単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。これらのうち、上記1)記載の方法に用いられる有機溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン等の非プロトン系極性有機溶剤が好ましい。 As a reaction solvent that can be used when synthesizing the polyamideimide resin (a) or a diluting solvent after completion of the reaction, generally known organic solvents can be used. For example, n-hexane, 2-methylpentane, n-heptane, n-octane, 2,2,3-trimethylpentane, 2,2,4-trimethylpentane, n-nonane, 2,2,5-trimethylhexane, Aliphatic hydrocarbon solvents such as n-decane and n-dodecane; Alicyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane; xylene, ethylbenzene, trimethylbenzene, isopropylbenzene, butylbenzene, diethylbenzene, pentylbenzene, dipentylbenzene, cyclohexylbenzene Aromatic hydrocarbon solvents such as methanol, ethanol, 2-ethylhexanol, stearyl alcohol, and benzyl alcohol; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, butyl stearate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, diethyl malonate; Ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, isophorone and acetophenone; aprotic polar organics such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and γ-butyrolactone Solvent: 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, etc. are mentioned. Examples thereof include dimethyl sulfoxide, petroleum naphtha, coal tar naphtha, solvent naphtha, and mixtures thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, organic solvents used in the method described in 1) above include aprotic polar organics such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and γ-butyrolactone. Solvents are preferred.
また、ポリアミドイミド樹脂(a)を合成する際に、あるいは得られたポリアミドイミド樹脂溶液に、必要に応じて、触媒を添加することが出来る。触媒としては、具体的には、有機金属化合物として、オクチル酸錫、オクテン酸錫、ナフテン酸錫等の2 価の有機錫化合物、ジブチル錫ジオクトエート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジマレエート、ジブチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジバーサテート、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ビス(トリエトキシシリケート)、ジブチル錫オキサイドとフタル酸エステルとの反応物等の4価の有機錫化合物、ジブチル錫ビス(アセチルアセトナート)、錫系キレート化合物の旭硝子社製EXCESTARC−501、ジルコニウムテトラキス(アセチルアセトナート)、チタンテトラキス(アセチルアセトナート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトナート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アセチルアセトンコバルト、アセチルアセトン鉄、アセチルアセトン銅、アセチルアセトンマグネシウム、アセチルアセトンビスマス、アセチルアセトンニッケル、アセチルアセトン亜鉛、アセチルアセトンマンガン等の各種金属のキレート化合物、オクチル酸鉛等の有機酸鉛塩、テトラ−n−ブチルチタネート、テトラプロピルチタネート等のチタン酸エステル類、オクチル酸ビスマス、ビスマスバーサテイト等の有機ビスマス化合物、アミン化合物として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエチレンジアミン、ヘキサメチレンテトラミン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン−7(DBU)、1,4−ジアザビシクロ〔2,2,2〕オクタン(DABCO)、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン等の第3級アミン類、あるいはこれらのアミン類とカルボン酸等の塩類が挙げられる。これらは単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Further, when synthesizing the polyamideimide resin (a), or if necessary, a catalyst can be added to the obtained polyamideimide resin solution. Specific examples of the catalyst include organic metal compounds such as divalent organic tin compounds such as tin octylate, tin octenoate and tin naphthenate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, and dibutyltin dimaleate. , Dibutyltin distearate, dioctyltin dilaurate, dioctyltin diversate, dibutyltin oxide, dibutyltin bis (triethoxysilicate), tetravalent organotin compounds such as a reaction product of dibutyltin oxide and phthalate, dibutyltin bis ( Acetylacetonate), tin-based chelate compound EXCESTARC-501 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., zirconium tetrakis (acetylacetonate), titanium tetrakis (acetylacetonate), aluminum tris (acetylacetonate), aluminum Umtris (ethyl acetoacetate), acetylacetone cobalt, acetylacetone iron, acetylacetone copper, acetylacetone magnesium, acetylacetone bismuth, acetylacetone nickel, acetylacetone zinc, acetylacetone manganese and other metal chelate compounds, organic acid lead salts such as lead octylate, tetra- Examples of titanates such as n-butyl titanate and tetrapropyl titanate, organic bismuth compounds such as bismuth octylate and bismuth versatate, and amine compounds include triethylamine, tributylamine, triethylenediamine, hexamethylenetetramine, 1,8-diazabicyclo [ 5,4,0] undecene-7 (DBU), 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DABCO), N-methyl Morpholine, tertiary amines such as N- ethylmorpholine, or include salts such as those amines and carboxylic acids. These can be used alone or in combination of two or more.
上で説明したようなポリアミドイミド樹脂(a)として、代表的なものは、例えば、下記一般式(I)で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂である。 A typical example of the polyamideimide resin (a) as described above is a polyamideimide resin having a structural unit represented by the following general formula (I).
(式中、R1は、下記式(i)〜(iv)の何れかで表される2価の基を表す。
(In the formula, R 1 represents a divalent group represented by any one of the following formulas (i) to (iv)).
(式中、R2〜R4は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基を意味し、R5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のアルコキシ基を意味する。))
(In the formula, R 2 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or 1 carbon atom. -4 alkyl group or C1-C4 alkoxy group)))
ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)
本発明におけるビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)は、ビフェニル基およびエポキシ基を有する樹脂であれば特に制限はない。反応性の点からその樹脂の末端にエポキシ基を1つ以上有しているものが好ましく、更にその樹脂の末端にエポキシ基を2つ以上有しているものが好ましく、より更に入手のし易さから、エポキシ基を含む基としてグリシジル基を有するものが好ましく、特に耐熱性の点で、ガラス転移温度が100℃以上であるものが好ましい。
Epoxy resin having biphenyl group (b)
The epoxy resin (b) having a biphenyl group in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin having a biphenyl group and an epoxy group. From the viewpoint of reactivity, those having one or more epoxy groups at the end of the resin are preferable, those having two or more epoxy groups at the end of the resin are more preferable, and more easily available. Then, what has a glycidyl group as a group containing an epoxy group is preferable, and the thing whose glass transition temperature is 100 degreeC or more is especially preferable at a heat resistant point.
ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)の含有量は、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して、1〜90質量部が好ましく、更に5〜50質量部が好ましく、特に8〜30質量部が好ましい。ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)の含有量が1質量部未満であると絶縁電線の耐熱性(耐軟化性)、密着性および耐摩耗性の改善効果が低く、90質量部を超えると絶縁電線の耐熱性(耐軟化性)が大幅に低下する可能性があり好ましくない。 The content of the epoxy resin (b) having a biphenyl group is preferably 1 to 90 parts by weight, more preferably 5 to 50 parts by weight, and particularly 8 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamideimide resin (a). Is preferred. When the content of the epoxy resin (b) having a biphenyl group is less than 1 part by mass, the effect of improving the heat resistance (softening resistance), adhesion and wear resistance of the insulated wire is low, and when it exceeds 90 parts by mass, the insulation It is not preferable because the heat resistance (softening resistance) of the electric wire may be greatly reduced.
更にビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)の分子量(分子量分布を有する化合物である場合には、数平均分子量を意味する。)は、耐熱性の点で、8,000〜30,000、特に8,000〜20,000の範囲が好ましい。ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)が分子量分布を有する場合には、その分散度(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定により算出した重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比=Mw/Mn)は、ポリアミドイミド樹脂(a)との相溶性の観点から、3.0以下であることが好ましい。なお、ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)の分子量測定条件は、以下の通りである。
<平均分子量の測定方法>
装置:HLC−8220(東ソー社製)
検出器:RI(示差屈折率)
展開溶媒:THF(テトラヒドロフラン)
流速:0.3ml/min
温度:40℃
Furthermore, the molecular weight of the epoxy resin (b) having a biphenyl group (in the case of a compound having a molecular weight distribution, means a number average molecular weight) is 8,000 to 30,000, particularly 8 in terms of heat resistance. The range of 20,000 to 20,000 is preferred. When the epoxy resin (b) having a biphenyl group has a molecular weight distribution, its dispersity (ratio of weight average molecular weight (Mw) calculated by gel permeation chromatography measurement and number average molecular weight (Mn) = Mw / Mn ) Is preferably 3.0 or less from the viewpoint of compatibility with the polyamideimide resin (a). In addition, the molecular weight measurement conditions of the epoxy resin (b) having a biphenyl group are as follows.
<Measurement method of average molecular weight>
Apparatus: HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation)
Detector: RI (differential refractive index)
Developing solvent: THF (tetrahydrofuran)
Flow rate: 0.3 ml / min
Temperature: 40 ° C
代表的なビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)としては、下記一般式(II)で表される基を有するエポキシ樹脂があげられる。 As a typical epoxy resin (b) having a biphenyl group, an epoxy resin having a group represented by the following general formula (II) can be mentioned.
上記式(II)中、R7は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子である。 In the above formula (II), R 7 may be the same as or different from each other, and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom.
得られる絶縁電線の耐熱性や耐傷性の点から、特にビフェノール類とエピハロヒドリンとの反応によって得られるエポキシ樹脂が好ましい。 From the viewpoint of heat resistance and scratch resistance of the obtained insulated wire, an epoxy resin obtained by a reaction of biphenols and epihalohydrin is particularly preferable.
ビフェノール類とエピハロヒドリンとの反応によって得られるエポキシ樹脂は、従来公知の方法で製造されるものが使用できる。 As the epoxy resin obtained by the reaction of biphenols and epihalohydrin, those produced by a conventionally known method can be used.
具体的には、ビフェノール類とエピハロヒドリンと、場合によっては更に他のフェノール類とを反応触媒を用いて40〜120℃で反応させた後、得られた反応物から未反応のエピハロヒドリンなどの不純物を取り除き、次いで有機溶剤に溶解させアルカリ金属の水酸化物を加えて閉環反応させることにより得られる。 Specifically, after reacting biphenols and epihalohydrin, and possibly other phenols at 40 to 120 ° C. using a reaction catalyst, impurities such as unreacted epihalohydrin are removed from the obtained reaction product. Then, it is obtained by dissolving in an organic solvent and adding an alkali metal hydroxide to cause a ring-closing reaction.
ビフェノール類としては、具体的には、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’−テトラプロピル−4,4’−ジヒドロキシビフェニルなどが挙げられ、これらはそれぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the biphenols include 4,4′-dihydroxybiphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxybiphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetraethyl. Examples include -4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetrapropyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, and these can be used alone or in combination of two or more. .
エピハロヒドリンとしては、具体的には、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリンが挙げられ、特にエピクロルヒドリンが好ましい。なお、エピハロヒドリンの使用量は、ビフェノール類と後述する他のフェノール類のフェノール性水酸基の総モル数に対して1〜20モルが好ましく、更に3〜10モルが好ましい。 Specific examples of the epihalohydrin include epichlorohydrin and epibromohydrin, and epichlorohydrin is particularly preferable. In addition, the usage-amount of epihalohydrin has preferable 1-20 mol with respect to the total mole number of the phenolic hydroxyl group of biphenols and the other phenol mentioned later, Furthermore, 3-10 mol is preferable.
他のフェノール類としては、具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、レゾルシン、ハイドロキノン、テトラメチルビフェノール、ジヒドロキシナフタレンなどの種々の多価フェノール類;フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、テルペンフェノール樹脂、ナフトールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂などの種々の多価フェノール樹脂類;種々のフェノール類と、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、グリオキザールなどの種々のアルデヒド類との縮合反応で得られる多価フェノール樹脂類などが挙げられる。これらはそれぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 As other phenols, specifically, various polyphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, resorcin, hydroquinone, tetramethylbiphenol, dihydroxynaphthalene; phenol novolac resin, cresol novolac resin Various polyhydric phenol resins such as bisphenol A novolac resin, dicyclopentadiene phenol resin, terpene phenol resin, naphthol novolac resin, phenol aralkyl resin; various phenols and various such as hydroxybenzaldehyde, crotonaldehyde, glyoxal Examples thereof include polyhydric phenol resins obtained by a condensation reaction with aldehydes. These can be used alone or in combination of two or more.
反応触媒としては、具体的には、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイドなどの第四級アンモニウム塩類;ベンジルジメチルアミン、2,4,6−(トリスジメチルアミノメチル)フェノールなどの第三級アミン類;2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類;エチルトリフェニルホスホニウムアイオダイドなどのホスホニウム塩類;トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類などを挙げることができる。これらはそれぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the reaction catalyst include quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride and tetraethylammonium bromide; tertiary amines such as benzyldimethylamine and 2,4,6- (trisdimethylaminomethyl) phenol. Imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole; phosphonium salts such as ethyltriphenylphosphonium iodide; phosphines such as triphenylphosphine; These can be used alone or in combination of two or more.
有機溶剤としては、具体的には、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールモノエーテル類;ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒等の不活性有機溶媒があげられる。これらはそれぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the organic solvent include alcohols such as ethanol and isopropanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dioxane and ethylene glycol dimethyl ether. Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and the like; and inert organic solvents such as aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. These can be used alone or in combination of two or more.
閉環反応において使用するアルカリ金属水酸化物としては、具体的には、NaOH又はKOHを挙げることができる。 Specific examples of the alkali metal hydroxide used in the ring closure reaction include NaOH and KOH.
アルカリ金属水酸化物の使用量は、閉環反応に用いる反応物中の可鹸化ハロゲン量1モル当り1〜10モルが好ましい。アルカリ金属水酸化物の使用量が1未満であると可鹸化ハロゲン量を充分に低下させることができず、またその使用量が10を超えると高分子化合物が生成するなどの副反応が増加するので好ましくない。 The amount of alkali metal hydroxide used is preferably 1 to 10 moles per mole of saponifiable halogen in the reaction product used for the ring closure reaction. If the amount of alkali metal hydroxide used is less than 1, the amount of saponifiable halogen cannot be reduced sufficiently, and if the amount used exceeds 10, side reactions such as formation of a polymer compound increase. Therefore, it is not preferable.
その他の成分
本発明の塗料組成物には、ポリアミドイミド樹脂(a)とビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)の他に更に潤滑性付与剤、密着性付与剤、酸化防止剤、フィラーなどの各種の添加剤をそれぞれ単独あるいは2種以上含有することができる。
Other components In addition to the polyamide-imide resin (a) and the epoxy resin (b) having a biphenyl group, the coating composition of the present invention further includes various lubricants, adhesion promoters, antioxidants, fillers, and the like. These additives can be used alone or in combination of two or more.
潤滑性付与剤としては、具体的には、天然ワックス、合成ワックスなどが挙げられる。天然ワックスとしては、カルナバックス、キャンデリラワックス、木ロウ等の植物系ワックス; 蜜蝋、セラック蝋等の動物系ワックス、モンタンワックス等の鉱物系ワックスなどが挙げられる。合成ワックスとしては、ポリエステル、脂肪族アマイド、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、これらを酸化あるいは酸変性して分子中にカルボキシル基を導入したもの、これらに無水マレイン酸、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エステル等のビニル系モノマーを共重合したものなどで分子量10,000以下のものが挙げられる。合成ワックスの一般市販品としては、三井化学社製ハイワックスシリーズの100P、200P、400P、110P、220P、320P、420P、4202E、4052E、220MP、320MP、405MP、1105A、2203A;ヤスハラケミカル社製ネオワックスシリーズのE 、E−20、E−3、AE−3などが挙げられる。これらはそれぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the lubricity-imparting agent include natural wax and synthetic wax. Examples of natural waxes include plant waxes such as carnabux, candelilla wax, and wood wax; animal waxes such as beeswax and shellac wax, and mineral waxes such as montan wax. Synthetic waxes include polyester, aliphatic amide, high-density polyethylene, low-density polyethylene, polypropylene, those in which carboxyl groups are introduced by oxidation or acid modification, maleic anhydride, vinyl acetate, ) Those having a molecular weight of 10,000 or less, such as those obtained by copolymerizing vinyl monomers such as acrylates. General commercial products of synthetic wax include Mitsui Chemicals High Wax Series 100P, 200P, 400P, 110P, 220P, 320P, 420P, 4202E, 4052E, 220MP, 320MP, 405MP, 1105A, 2203A; Yashara Chemical's Neowax Series E 1, E-20, E-3, AE-3, etc. may be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.
潤滑性付与剤の添加量は、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して0.5〜20質量部が好ましく、更に1〜10質量部が好ましく、特に1〜5質量部が好ましい。潤滑性付与剤の添加量が0.5質量部未満では潤滑の効果が発現しにくく、20質量部を超えるとポリアミドイミド樹脂(a)との相溶性が悪化し、また塗料組成物の貯蔵安定性が悪化し、更に得られる絶縁電線の冷媒、溶媒に対する抽出物が増加し耐冷媒性が低下する場合があるため好ましくない。 The addition amount of the lubricity imparting agent is preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, and particularly preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyamideimide resin (a). When the addition amount of the lubricity-imparting agent is less than 0.5 parts by mass, the effect of lubrication is hardly exhibited, and when it exceeds 20 parts by mass, the compatibility with the polyamide-imide resin (a) is deteriorated and the storage stability of the coating composition is increased. This is not preferable because the properties of the insulated wire are deteriorated and the extract of the obtained insulated wire with respect to the refrigerant and the solvent increases and the refrigerant resistance may deteriorate.
密着性付与剤としては、具体的には、メラミンまたはその誘導体とホルムアルデヒドの反応物、そのブトキシ化またはそのメトキシ化、メラン20、メラン326B、CYMEL−300などのアミノ樹脂、2−メルカプトイミダゾリン、2−メルカプトチアゾリン、2−メルカプト−1−メチルイミダゾール、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズチアゾール、1H−1,2,4−トリアゾール−3−チオール、2−メルカプトピリジン、2−メルカプトキノリン、1,2−ナフチル(2−メルカプト)オキサゾールなどのヘテロ環状メルカプタンなどが挙げられる。 Specific examples of the adhesion-imparting agent include a reaction product of melamine or a derivative thereof and formaldehyde, butoxylation or methoxylation thereof, amino resin such as Melan 20, Melan 326B, and CYMEL-300, 2-mercaptoimidazoline, 2 -Mercaptothiazoline, 2-mercapto-1-methylimidazole, 5-amino-1,3,4-thiadiazole-2-thiol, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzthiazole, 1H-1 , 2,4-triazole-3-thiol, 2-mercaptopyridine, 2-mercaptoquinoline, and heterocyclic mercaptans such as 1,2-naphthyl (2-mercapto) oxazole.
密着性付与剤の添加量は、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して0.01〜5質量部が好ましく、更に0.05〜3質量部が好ましい。密着性付与剤の添加量が0.01質量部未満では密着性付与剤としての効果が発現しにくく、5質量部を超えると得られる絶縁電線の冷媒、溶媒に対する抽出物が増加し耐冷媒性が低下する場合があるため好ましくない。 The addition amount of the adhesion-imparting agent is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyamideimide resin (a). When the addition amount of the adhesion imparting agent is less than 0.01 parts by mass, the effect as the adhesion imparting agent is hardly exhibited, and when it exceeds 5 parts by mass, the refrigerant for the insulated wire and the extract for the solvent increase and the refrigerant resistance is increased. Is not preferred because it may decrease.
酸化防止剤としては、具体的には、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4,4’−チオビス−(6−t−ブチル−3−メチルフェノール) 、2,2’−メチレンビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、3−ヒドロキシ−5,7−ジ−t−ブチル−フラン−2−オンとo−キシレンの反応性生物、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,3’,3'',5,5',5''−ヘキサ−t−ブチル−a,a',a''−(メシチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾールなどがその代表である。例えば、大内新興化学工業社製ノクラック200、ノクラック300、ノクラック400、ノクラック500、またはチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガノックスHP2215、イルガノックスHP2225、イルガノックスHP2251、イルガノックスHP2921、イルガノックスHP2411、イルガノックスHP2341などが挙げられる。これらはそれぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4′-thiobis- (6-t-butyl-3-methylphenol), 2,2′-. Methylene bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylene bis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 3-hydroxy-5,7-di-tert-butyl-furan-2 -One and o-xylene reactive organisms, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ], Octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,3 ′, 3 ″, 5,5 ′, 5 ″ -hexa-t-butyl-a, a ′, a ″ − (Messile (2,4,6-triyl) tri-p-cresol and the like are typical examples. For example, Nocrack 200, Nocrack 300, Nocrack 400, Nocrack 500 manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Industry Co., Ltd., Irganox HP2215, Irganox HP2225, Irganox HP2251, Irganox HP2921 Knox HP2341 etc. are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.
酸化防止剤の添加量は、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して0.1〜10質量部が好ましく、更に0.1〜5質量部が好ましい。酸化防止剤の添加量が0.1質量部未満ではその効果が小さく、10質量部を超えると得られる絶縁皮膜(絶縁層)と導体あるいは他の絶縁層との密着性が低下する場合があるため好ましくない。 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polyamideimide resins (a), and, as for the addition amount of antioxidant, 0.1-5 mass parts is more preferable. If the addition amount of the antioxidant is less than 0.1 parts by mass, the effect is small, and if it exceeds 10 parts by mass, the adhesion between the obtained insulating film (insulating layer) and the conductor or other insulating layer may be reduced. Therefore, it is not preferable.
フィラーとしては、具体的には、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、炭化ケイ素、炭化チタン、炭化ホウ素、タングステンカーバイド、窒化ホウ素、窒化ケイ素などが挙げられる。フィラーの添加量は、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して0.1〜10質量部が好ましく、更に0.1〜5質量部が好ましい。フィラーの添加量が0.1質量部未満ではその効果が小さく、10質量部を超えると得られる絶縁電線の絶縁皮膜(絶縁層)と導体あるいは他の絶縁層との密着性が低下する場合や可とう性が悪くなる場合があるため好ましくない。 Specific examples of the filler include silica, alumina, magnesium oxide, beryllium oxide, silicon carbide, titanium carbide, boron carbide, tungsten carbide, boron nitride, and silicon nitride. The added amount of the filler is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyamideimide resin (a). If the amount of filler added is less than 0.1 parts by mass, the effect is small, and if the amount exceeds 10 parts by mass, the adhesion between the insulating film (insulating layer) of the obtained insulated wire and the conductor or other insulating layer is reduced. Since flexibility may be deteriorated, it is not preferable.
上記添加剤の合計量は、ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して、0.01〜30質量部が好ましく、さらに0.01〜20質量部が好ましい。 0.01-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polyamideimide resin (a), and, as for the total amount of the said additive, 0.01-20 mass parts is more preferable.
[絶縁電線]
本発明の塗料組成物を、導体の表面に直接あるいは他の絶縁層を介して塗布焼付けして絶縁皮膜(絶縁層)を形成することにより、本発明の絶縁電線を得ることができる。また、本発明の塗料組成物を塗布焼付けし形成した絶縁皮膜(絶縁層)の上に、さらに他の絶縁層を設けることもできる。
[Insulated wire]
The insulated wire of the present invention can be obtained by coating and baking the coating composition of the present invention directly on the surface of the conductor or via another insulating layer to form an insulating film (insulating layer). Further, another insulating layer can be provided on the insulating film (insulating layer) formed by applying and baking the coating composition of the present invention.
導体としては、銅、ニッケルメッキ銅、銅クラッドアルミニウム、アルミニウム、金、金メッキ等などの金属で形成された線状または板状の導線(電線)が挙げられる。電線の断面形状は、特に制限されないが、具体的には、通常多く使用される円形の丸電線や、四角形または長方形などの平角電線に好適に使用することができる。 Examples of the conductor include a linear or plate-like conductor (electric wire) formed of a metal such as copper, nickel-plated copper, copper-clad aluminum, aluminum, gold, and gold plating. Although the cross-sectional shape of the electric wire is not particularly limited, specifically, it can be suitably used for a round electric wire that is usually used frequently, and a flat electric wire such as a quadrangle or a rectangle.
また、他の絶縁層としては、具体的には、ポリビニルホルマール、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの各種の絶縁層が挙げられる。 Specific examples of the other insulating layers include various insulating layers such as polyvinyl formal, polyurethane, polyester, polyesterimide, polyhydantoin, polyamideimide, and polyimide.
本発明の塗料組成物による絶縁皮膜(絶縁層)の形成には、従来公知のあらゆる方法を採用することができる。具体的には、導体上あるいは他の絶縁層を介してコーターロールなどを用いて塗料組成物を塗布した後、フェルト絞り方式やダイス絞り方式などにより、その塗布量を調整し、次いで該塗料を塗布した電線を250〜700℃、好ましくは250〜550℃の焼付炉の中に通し塗料組成物を焼付し絶縁皮膜を形成させる。この作業を1回あるいは複数回連続して繰り返すことにより、所望の厚さの絶縁皮膜を形成する。前記絶縁皮膜の厚さは特に限定されず、使用する電線の導体の太さや要求性能により適宜選択すればよい。導体に直接塗布または他の絶縁層を介して塗布する場合、電線の直径が0.3〜1.5mmφであれば、本発明の塗料組成物によって形成される絶縁皮膜(絶縁層)の厚さは、3〜100μmが好ましく、さらに10〜50μmが好ましい。3μm未満では絶縁性能に乏しく、100μmを超えると塗膜が厚くなりすぎ可とう性に乏しいものとなるので好ましくない。 Any conventionally known method can be employed to form an insulating film (insulating layer) with the coating composition of the present invention. Specifically, after applying the coating composition using a coater roll or the like on the conductor or through another insulating layer, the coating amount is adjusted by a felt drawing method or a die drawing method, and then the coating material is applied. The applied electric wire is passed through a baking furnace at 250 to 700 ° C., preferably 250 to 550 ° C., and the coating composition is baked to form an insulating film. By repeating this operation once or a plurality of times, an insulating film having a desired thickness is formed. The thickness of the insulating film is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the thickness of the conductor of the electric wire used and the required performance. When the conductor is applied directly or via another insulating layer, the thickness of the insulating film (insulating layer) formed by the coating composition of the present invention is as long as the diameter of the wire is 0.3 to 1.5 mmφ. Is preferably 3 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm. If the thickness is less than 3 μm, the insulating performance is poor, and if it exceeds 100 μm, the coating film becomes too thick and the flexibility is poor.
また、本発明の絶縁電線の表面に潤滑性を付与するために潤滑層を設けることができる。潤滑層は本発明の塗料組成物を塗布焼付けし絶縁層を有する絶縁電線を得た後で、ボビンに巻き取られる前に潤滑剤を絶縁層表面に塗布するかあるいは絶縁電線をボビンに巻き取った後、コイルやモータの加工工程前に絶縁層表面に塗布する。 In addition, a lubricating layer can be provided to impart lubricity to the surface of the insulated wire of the present invention. After the coating composition of the present invention is applied and baked to obtain the insulated wire having the insulating layer, the lubricating layer is coated on the surface of the insulating layer before being wound around the bobbin, or the insulated wire is wound around the bobbin. After that, it is applied to the surface of the insulating layer before the coil or motor processing step.
潤滑剤としては、具体的には、流動パラフィン、固形パラフィン、ポリエステルワックス、ポリオレフィンワックス、酸化型ポリオレフィンワックス、アマイドワックス、フッ素系ワックス、シリコーン系ワックス、スピンドル油、冷媒機油などが挙げられる。これらはそれぞれ単独あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the lubricant include liquid paraffin, solid paraffin, polyester wax, polyolefin wax, oxidized polyolefin wax, amide wax, fluorine wax, silicone wax, spindle oil, and refrigerant machine oil. These can be used alone or in combination of two or more.
潤滑剤の塗布方法としては、コーターロール等を用いて絶縁電線の表面に塗布した後、フェルト絞りなどによりその塗布量を調整するか、あるいは潤滑剤をフェルトに予め染み込ませておき直接塗布する。 As a method of applying the lubricant, after applying to the surface of the insulated wire using a coater roll or the like, the amount of application is adjusted by a felt drawing or the like, or the lubricant is soaked in advance in the felt and applied directly.
潤滑層を設けた潤滑性を有する絶縁電線を使用することにより、コイルやモータなどの加工時に生じる電線間あるいは電線とコアスロットとの機械的負荷を更に低減できるため絶縁皮膜の損傷を受けにくくなる。 By using an insulated electric wire with lubricity provided with a lubrication layer, the mechanical load between the electric wires and the electric wire and the core slot generated during processing of a coil, a motor, etc. can be further reduced, making it less susceptible to damage to the insulating film. .
本発明の絶縁電線の用途は、特に制限されないが、本発明の絶縁電線は、耐熱性(耐軟化性)、耐傷性(耐摩耗性)、可とう性および密着性に優れていることから、特に、産業用や自動車用のモータ等に好適に使用することができる。 The use of the insulated wire of the present invention is not particularly limited, but the insulated wire of the present invention is excellent in heat resistance (softening resistance), scratch resistance (abrasion resistance), flexibility and adhesion. In particular, it can be suitably used for industrial and automobile motors.
以下、本発明について合成例、実施例等により更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to synthesis examples, examples and the like, but the present invention is not limited thereto.
[測定条件]
平均分子量の測定方法
カラム:島津製作所社製 GPC−805D及びGPC−803D
検出器:示差屈折検出器(RID−10A)
展開溶媒:DMF(LiBr含有)
溶質濃度:0.03g/ml
標準物質:東ソー社製、ポリスチレン
流速:1.0ml/min
温度:40℃
粘度の測定条件
30℃ B型粘度計
[Measurement condition]
Measuring method of average molecular weight Column: GPC-805D and GPC-803D manufactured by Shimadzu Corporation
Detector: Differential refraction detector (RID-10A)
Developing solvent: DMF (containing LiBr)
Solute concentration: 0.03 g / ml
Standard material: manufactured by Tosoh Corporation, polystyrene Flow rate: 1.0 ml / min
Temperature: 40 ° C
Viscosity measurement condition 30 ° C B-type viscometer
[合成例1] ポリアミドイミド樹脂溶液AI−1の合成
攪拌機、温度計、還流コンデンサーの付いた加熱・冷却装置付き反応容器に、N−メチル−2−ピロリドンを471g仕込み、攪拌しながら4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業社製、ミリオネートMT、分子量250)を184gおよびトリメリット酸無水物(三菱ガス化学社製、分子量192)を139g仕込んだ。次いで炭酸ガスの発生が急激にならないように加熱し、炭酸ガスを系外へ排出しながら100〜120℃で3時間反応した後、希釈溶媒としてジメチルホルムアミドを202g、封止剤としてメタノールを5gそれぞれ仕込み、混合しながら40℃以下に冷却しポリアミドイミド樹脂溶液AI−1を合成した。
[Synthesis Example 1] Synthesis of polyamideimide resin solution AI-1 471 g of N-methyl-2-pyrrolidone was charged into a reaction vessel equipped with a heating / cooling device equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser. 184 g of '-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Millionate MT, molecular weight 250) and 139 g of trimellitic anhydride (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., molecular weight 192) were charged. Next, heating is performed so that the generation of carbon dioxide does not become abrupt, and after reacting at 100 to 120 ° C. for 3 hours while discharging the carbon dioxide out of the system, 202 g of dimethylformamide is used as a diluting solvent and 5 g of methanol is used as a sealant. While being charged and mixed, the mixture was cooled to 40 ° C. or lower to synthesize polyamideimide resin solution AI-1.
得られたポリアミドイミド樹脂溶液AI−1の30℃における粘度は、1,800mPa・s、理論樹脂固形分濃度が28質量%、還元粘度が0.39、GPC測定により算出した数平均分子量は23,800であった。 The obtained polyamideimide resin solution AI-1 has a viscosity at 30 ° C. of 1,800 mPa · s, a theoretical resin solid content concentration of 28 mass%, a reduced viscosity of 0.39, and a number average molecular weight calculated by GPC measurement of 23. 800.
[合成例2 ポリアミドイミド樹脂溶液AI−2の合成]
攪拌機、温度計、還流コンデンサーの付いた加熱・冷却装置付き反応容器に、N−メチル−2−ピロリドンを483g仕込み、攪拌しながら4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業社製、ミリオネートMT、分子量250)を86g、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアナート(日本ソーダ社製、分子量264)を91g、トリメリット酸無水物(三菱ガス化学社製、分子量192)を130g仕込んだ。次いで炭酸ガスの発生が急激にならないように加熱し、炭酸ガスを系外へ排出しながら100〜120℃で3時間反応した後、希釈溶媒としてジメチルホルムアミドを207g、封止剤としてメタノールを5gそれぞれ仕込み、混合しながら40℃以下に冷却しポリアミドイミド樹脂溶液AI−2を合成した。得られたポリアミドイミド樹脂溶液AI−2の30℃における粘度は、1,950mPa・s、理論樹脂固形分濃度が27質量%、還元粘度が0.42、GPC測定により算出した数平均分子量は24,400であった。
[Synthesis Example 2 Synthesis of Polyamideimide Resin Solution AI-2]
A reaction vessel equipped with a heating / cooling device equipped with a stirrer, thermometer, and reflux condenser was charged with 483 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry, Millionate MT, with stirring). 86 g of molecular weight 250), 91 g of 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate (manufactured by Nippon Soda, molecular weight 264), trimellitic anhydride (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, molecular weight 192) 130 g was charged. Next, heating is performed so that the generation of carbon dioxide does not become abrupt, and after reacting at 100 to 120 ° C. for 3 hours while discharging the carbon dioxide out of the system, 207 g of dimethylformamide as a diluting solvent and 5 g of methanol as a sealing agent are respectively obtained. While being charged and mixed, it was cooled to 40 ° C. or lower to synthesize polyamideimide resin solution AI-2. The viscosity of the obtained polyamideimide resin solution AI-2 at 30 ° C. is 1,950 mPa · s, the theoretical resin solid content concentration is 27 mass%, the reduced viscosity is 0.42, and the number average molecular weight calculated by GPC measurement is 24. , 400.
[実施例1]
攪拌機、温度計および窒素シール管付きの混合容器内に、合成例1で得たポリアミドイミド樹脂溶液AI−1を1,000g、ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(三菱化学社製、YX8100BH30)を47g、それぞれ仕込み、室温で1時間混合攪拌し、本発明の塗料組成物を製造した。
[Example 1]
In a mixing vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen seal tube, 1,000 g of the polyamideimide resin solution AI-1 obtained in Synthesis Example 1 and 47 g of an epoxy resin having a biphenyl group (YX8100BH30, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Each was charged and mixed and stirred at room temperature for 1 hour to produce a coating composition of the present invention.
[実施例2]
攪拌機、温度計および窒素シール管付きの混合容器内に、合成例1で得たポリアミドイミド樹脂溶液AI−1を1,000g、ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(三菱化学社製、YX8100BH30)を93g、それぞれ仕込み、室温で1時間混合攪拌し、本発明の塗料組成物を製造した。
[Example 2]
In a mixing vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen seal tube, 1,000 g of the polyamideimide resin solution AI-1 obtained in Synthesis Example 1 and 93 g of an epoxy resin having a biphenyl group (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YX8100BH30), Each was charged and mixed and stirred at room temperature for 1 hour to produce a coating composition of the present invention.
[実施例3]
攪拌機、温度計および窒素シール管付きの混合容器内に、合成例1で得たポリアミドイミド樹脂溶液AI−1を1,000g、ビフェニル基を有するエポキシ樹脂(三菱化学社製、YX8100BH30)を186g、それぞれ仕込み、室温で1時間混合攪拌し、本発明の塗料組成物を製造した。
[Example 3]
In a mixing vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen seal tube, 1,000 g of the polyamideimide resin solution AI-1 obtained in Synthesis Example 1 and 186 g of an epoxy resin having a biphenyl group (YX8100BH30, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Each was charged and mixed and stirred at room temperature for 1 hour to produce a coating composition of the present invention.
[比較例1]
合成例1で得たポリアミドイミド樹脂溶液AI−1を使用した。
[Comparative Example 1]
The polyamideimide resin solution AI-1 obtained in Synthesis Example 1 was used.
[比較例2]
合成例2で得たポリアミドイミド樹脂溶液AI−2を使用した。
[Comparative Example 2]
The polyamideimide resin solution AI-2 obtained in Synthesis Example 2 was used.
[比較例3]
攪拌機、温度計、窒素シール管および加熱・冷却器付きの混合容器内に、合成例1で得たポリアミドイミド樹脂溶液AI−1を1,000g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂である(三菱化学社製、EP−1001)を14g、それぞれ仕込み、60℃で1時間混合攪拌し塗料組成物を製造した。
[Comparative Example 3]
1,000 g of the polyamideimide resin solution AI-1 obtained in Synthesis Example 1 is a bisphenol A type epoxy resin in a mixing vessel equipped with a stirrer, thermometer, nitrogen seal tube and heating / cooling device (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) , EP-1001), 14 g, respectively, were mixed and stirred at 60 ° C. for 1 hour to prepare a coating composition.
[比較例4]
攪拌機、温度計、窒素シール管および加熱・冷却器付きの混合容器内に、合成例1で得たポリアミドイミド樹脂溶液AI−1を1,000g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂である(三菱化学社製、EP−1007)を14g、それぞれ仕込み、60℃で1時間混合攪拌し塗料組成物を製造した。
[Comparative Example 4]
1,000 g of the polyamideimide resin solution AI-1 obtained in Synthesis Example 1 is a bisphenol A type epoxy resin in a mixing vessel equipped with a stirrer, thermometer, nitrogen seal tube and heating / cooling device (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) EP-1007), 14 g, respectively, were mixed and stirred at 60 ° C. for 1 hour to produce a coating composition.
実施例1〜3および比較例1〜4の塗料組成物を0.40mmφの銅線上に、下記に示す条件で塗布焼付けして、皮膜厚20μの絶縁電線を製造した。 The coating compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 were applied and baked on a 0.40 mmφ copper wire under the following conditions to produce an insulated wire having a film thickness of 20 μm.
塗布、焼付条件
(1)塗布回数(ダイス配列)
8パス:0.43mmφ×1、0.44mmφ×1、0.45mmφ×1
0.46mmφ×2、0.47mmφ×3
(2)焼付け炉:横型電熱炉(炉長2.7m)
(3)炉温:475℃(入口) − 520℃(出口)
Application and baking conditions (1) Number of applications (die arrangement)
8 passes: 0.43 mmφ × 1, 0.44 mmφ × 1, 0.45 mmφ × 1
0.46mmφ × 2, 0.47mmφ × 3
(2) Baking furnace: Horizontal electric furnace (furnace length 2.7m)
(3) Furnace temperature: 475 ° C (inlet)-520 ° C (outlet)
[性能試験]
実施例1〜3および比較例1〜4で製造した絶縁電線を用いて、絶縁電線の耐軟化性、耐磨耗性、密着性、可とう性の各電線特性試験を行った。
[performance test]
Using the insulated wires manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, each wire characteristic test for softening resistance, wear resistance, adhesion, and flexibility of the insulated wires was performed.
耐軟化性
JIS C3216−6:2011「巻線試験方法−第6部:熱的特性」JA.4耐軟化b)交差法により耐軟化性試験を行った。なお、おもりの質量は400gとした。
Softening resistance JIS C3216-6: 2011 "Winding test method-Part 6: Thermal characteristics" JA. 4 Softening resistance b) The softening resistance test was conducted by the cross method. The mass of the weight was 400 g.
耐摩耗性
JIS C3216−3:2011「巻線試験方法−第3部:機械的特性」6耐磨耗により耐摩耗性試験を行った。
Abrasion Resistance JIS C3216-3: 2011 “Winding Test Method—Part 3: Mechanical Properties” 6 Abrasion resistance test was performed by abrasion resistance.
密着性
JIS C3216−3:2011「巻線試験方法−第3部:機械的特性」5.4剥離試験に準拠して密着性試験を行った。但し、二つのクランプ間の距離は250mm、張力は2Nとし、スクレーパの替わりにカッターで試験線の長さ方向に平行に1辺のみ皮膜を導体に達するまで取り除いた。密着性は、皮膜が導体から剥がれ浮いたときのねじり回数として評価した。
Adhesiveness JIS C3216-3: 2011 “Winding test method—Part 3: Mechanical properties” 5.4 Adhesiveness test was performed in accordance with a peel test. However, the distance between the two clamps was 250 mm, the tension was 2 N, and instead of the scraper, only one side of the film parallel to the length direction of the test line was removed with a cutter until it reached the conductor. The adhesion was evaluated as the number of twists when the film peeled off from the conductor and floated.
可とう性
試験線を引張試験機で20%伸長した後で、JIS C3216−3:2011「巻線試験方法−第3部:機械的特性」5.1.1巻付け試験(丸線)に準拠して可とう性試験を行った。巻付け回数は10回とした。自己倍径で皮膜に導体が見えるき裂が生じた場合は、別の試験線を用いて同様の手順で2倍径の丸棒で巻付けし皮膜に導体が見えるき裂の有無を確認した。可とう性試験は皮膜に導体が見えるき裂が生じなくなる最小倍径として評価した。
After extending the flexibility test line by 20% with a tensile tester, the JIS C3216-3: 2011 “Winding test method-Part 3: Mechanical properties” 5.1.1 Winding test (round line) A flexibility test was conducted in accordance with the above. The number of windings was 10 times. When a crack with a self-doubled diameter where the conductor was visible on the film was formed, it was wound with a double-diameter round bar using the same procedure using another test line, and the presence or absence of a crack where the conductor was visible on the film was confirmed. . The flexibility test was evaluated as the minimum double diameter at which no crack where the conductor could be seen in the film was generated.
実施例1〜3の結果から、本発明の塗料組成物を用いて塗布焼付けし得られた絶縁電線は、耐熱性(耐軟化性)、耐摩耗性、導体との密着性および可とう性が向上することが分かる。また、ビフェニル基を有していないビスフェノール型のエポキシ樹脂を用いた比較例3および4では、耐摩耗性、密着性、および可とう性に優れているものの、耐熱性(耐軟化性)が、ポリアミドイミド樹脂のみの場合(比較例1)と比較して低下してしまうことが分かった。 From the results of Examples 1 to 3, the insulated wire obtained by coating and baking using the coating composition of the present invention has heat resistance (softening resistance), wear resistance, adhesion to the conductor, and flexibility. It turns out that it improves. Further, in Comparative Examples 3 and 4 using a bisphenol type epoxy resin having no biphenyl group, although it has excellent wear resistance, adhesion, and flexibility, heat resistance (softening resistance) is It turned out that it falls compared with the case (comparative example 1) only of a polyamideimide resin.
本発明の塗料組成物は、耐熱性(耐軟化性)、耐傷性(耐摩耗性)、可とう性および密着性に優れた絶縁被膜(絶縁層)を形成することが可能であることから、種々の電気絶縁電線に使用することができる。特に、産業用、自動車用モータの絶縁電線として好適に利用することができる。 Since the coating composition of the present invention can form an insulating film (insulating layer) excellent in heat resistance (softening resistance), scratch resistance (wear resistance), flexibility and adhesion, It can be used for various electric insulated wires. In particular, it can be suitably used as an insulated wire for industrial and automobile motors.
Claims (4)
ポリアミドイミド樹脂(a)100質量部に対して、数平均分子量が8,000〜30,000のビフェニル基を有するエポキシ樹脂(b)1〜90質量部と、を含有する塗料組成物。 A polyamide-imide resin (a);
A coating composition containing 1 to 90 parts by mass of an epoxy resin (b) having a biphenyl group having a number average molecular weight of 8,000 to 30,000 with respect to 100 parts by mass of the polyamideimide resin (a).
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