JP5800899B2 - アジリジニル含有化合物 - Google Patents
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Description
アジリジニル基とポリマー基とを有する化合物を記載する。
ビス−アジリジン化合物は、様々な重合反応において架橋剤として使用されてきた。このような化合物は、例えば、米国特許第６，８９３，７１８号（Ｍｅｌａｎｃｏｎ ｅｔ ａｌ．）、ドイツ特許第８３６，３５３号、Ｂｅｓｔｉａｎの論文（Ｊ．Ｌｉｅｂ．Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．，５６６，２１０〜２４４（１９５０））、Ｂａｂｅｎｋｏｖａの論文（Ｊ．ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｔｈｅ ＵＳＳＲ，４０，１７１５〜１７１９（１９６７））及びＫａｄｏｒｋｉｎａ ｅｔ ａｌ．の論文（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ａｃａｄｅｍｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ｏｆ ｔｈｅ ＵＳＳＲ，４０，７８０〜７８３（１９９１））に記載されている。
カルボキシル末端ポリマーが調製されてきた。これらは、例えば、Ｂａｕｍｅｒｔ ｅｔ ａｌ．の論文（Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｒａｐｉｄ Ｃｏｍｍｕｎ．，１８，７８７〜７９４（１９９７））に記載されている。
一部のアジリジル（aziridyl）末端ポリマーは、例えば、Ｋｏｂａｙａｓｈｉ ｅｔ ａｌ．の論文（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，４３，４１２６〜４１３５（２００５））、日本国特許公報ＪＰ４２９４３６９Ｂ２（Ｋｏｂａｙａｓｈｉ ｅｔ ａｌ．）及び欧州特許公報ＥＰ０２６５０９１Ａ１（Ｈｅｒｔｉｅｒ ｅｔ ａｌ．）に記載のように調製されてきた。
アジリジニル基とポリマー基の両方を有する化合物を記載する。これらの化合物の製造方法も記載する。この化合物のアジリジニル基は、第二化合物上の酸性基と反応することができ、これにより、アジリジニル環の開環及び第二化合物へのポリマー基の結合（例えば、グラフト化）をもたらす。
第一態様では、式（Ｉ）の化合物が提供される。
式中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含有する二価基である。Ｒ２基は、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。Ｒ３基は、水素又はアルキルである。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物であるポリマー基（すなわち、第一ポリマー基）である。
式中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含有する二価基である。Ｒ２基は、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。Ｒ３基は、水素又はアルキルである。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物であるポリマー基（すなわち、第一ポリマー基）である。
別の態様では、式（Ｉ）の化合物の調製方法が提供される。この方法は、式（ＩＩ）のカルボキシル末端ポリマーをもたらすことを含む。
Ｑ−（ＣＯ）−ＯＨ
（ＩＩ）
式（ＩＩ）中、Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物であるポリマー基である。この方法は、式（ＩＩ）のカルボキシル末端ポリマーを式（ＩＩＩ）のビス−アジリジン化合物と反応させる工程を更に含む。
Ｑ−（ＣＯ）−ＯＨ
（ＩＩ）
式（ＩＩ）中、Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物であるポリマー基である。この方法は、式（ＩＩ）のカルボキシル末端ポリマーを式（ＩＩＩ）のビス−アジリジン化合物と反応させる工程を更に含む。
式（ＩＩＩ）中、各Ｒ１は、独立して、水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含有する二価基である。Ｒ２基は、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。Ｒ３基は、水素又はアルキルである。
単一のアジリジニル基と第一ポリマー基とを有する化合物を記載する。これらの化合物は、カルボキシル基などの１つ以上の酸性基を有する第二化合物と反応させることができる。このような反応は、アジリジニル環の開環、並びに、第二化合物に第一ポリマー基を連結する結合基の形成をもたらす。
用語「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、「少なくとも１つの」と互換的に用いられ、１つ以上の記載された要素を意味する。
端点による数範囲の引用は、いずれも、その範囲の端点、その範囲内のすべての数、並びに述べられた範囲内の任意のより狭い範囲を含むことを意味する。
用語「アジリジニル」は、式
の三員環構造を意味し、式中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキル（例えば、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有するアルキル）である。星印は、化合物の残り部分に対するアジリジニル基の結合位置を示す。
の三員環構造を意味し、式中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキル（例えば、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有するアルキル）である。星印は、化合物の残り部分に対するアジリジニル基の結合位置を示す。
本明細書で使用するとき、用語「ポリマー」及び「ポリマー」は、ホモポリマー、コポリマー、ターポリマー又はこれらに類するものである物質を指す。同様に、用語「重合する」及び「重合」は、ホモポリマー、コポリマー、ターポリマー又はこれらに類するものの製造プロセスを指す。用語「コポリマー」及び「共重合性」は、２つ以上の異なるモノマーを用いて調製されたポリマーを指すのに使用することができる。
用語「アルキル」は、アルカンのラジカルである一価の基を指し、直鎖、分枝鎖、環式、二環式又はこれらの組み合わせである基を含む。アルキル基は通常、１〜３０個の炭素原子を有する。一部の実施形態では、アルキル基は、１〜２０個の炭素原子、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、１〜４個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を含有する。アルキル基の例としては、限定するものではないが、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、エチルヘキシル、及びイソボルニルが挙げられる。
用語「ヘテロアルキル」は、１つ以上の−ＣＨ２基がチオ、オキシ又は−ＮＲａ（式中、Ｒａは水素又はアルキルである）で置換されているアルキル基である一価基を指す。ヘテロアルキルは、直鎖、分枝鎖、環式、二環式又はそれらの組み合わせであってよく、最大で６０個の炭素原子と最大で４０個のヘテロ原子を含むことができる。一部の実施形態では、ヘテロアルキルは、最大で５０個の炭素原子と最大で３０個のヘテロ原子、最大で４０個の炭素原子と最大で３０個のヘテロ原子、最大で３０個の炭素原子と最大で２０個のヘテロ原子、最大で２０個の炭素原子と最大で１５個のヘテロ原子、又は最大で１０個の炭素原子と最大で８個のヘテロ原子を含む。
用語「アルキレン」は、アルカンのラジカルである二価の基のことを指す。アルキレンは、直鎖、分枝鎖、環式、二環式又はこれらの組み合わせであり得る。アルキレンは通常、１〜３０個の炭素原子を有する。一部の実施形態では、アルキレンは、１〜２０個、１〜１０個、１〜６個、又は１〜４個の炭素原子を含有する。アルキレンのラジカル中心は、同一炭素原子上（即ち、アルキリデン）、又は異なる炭素原子上に存在し得る。
用語「ヘテロアルキレン」は、チオ、オキシ又は−ＮＲａ−（式中、Ｒａは水素又はアルキル）で置換された１個以上の−ＣＨ２−基を有する二価のアルキレンを指す。ヘテロアルキレンは、直鎖、分枝鎖、環式、二環式又はそれらの組み合わせであってよく、最大で６０個の炭素原子と最大で４０個のヘテロ原子を含むことができる。一部の実施形態では、ヘテロアルキレンは、最大で５０個の炭素原子と最大で３０個のヘテロ原子、最大で４０個の炭素原子と最大で３０個のヘテロ原子、最大で３０個の炭素原子と最大で２０個のヘテロ原子、最大で２０個の炭素原子と最大で１５個のヘテロ原子、又は最大で１０個の炭素原子と最大で８個のヘテロ原子を含む。
用語「アリール」は、芳香族及び炭素環である一価の基を指す。アリールは、芳香環と結合又は縮合した１〜５個の環を有し得る。他の環構造は、芳香族、非芳香族又はこれらの組み合わせであり得る。アリール基の例としては、限定するものではないが、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、アンスリル、ナフチル、アセナフチル、アントラキノニル、フェナンスリル、アントラセニル、ピレニル、ペリレニル、及びフルオレニルが挙げられる。
用語「アリーレン」は、炭素環及び芳香族である二価の基を指す。この基は、結合している、縮合している、又はこれらの組み合わせである１〜５個の環を有する。少なくとも１つの環は芳香環であり、任意の追加の環は、芳香環、非芳香環又はこれらの組み合わせであり得る。一部の実施形態では、アリーレン基は最大で５個、最大で４個、最大で３個、最大で２個、又は１個の芳香環を有する。例えば、アリーレン基は、フェニレン、ビフェニレン、テルフェニレン、フルオレニレン又はナフタレンであり得る。
用語「ヘテロアリーレン」は、芳香族及び複素環式である二価基を指す。すなわち、ヘテロアリーレンは、５〜６員を有する芳香環の中に少なくとも１つのヘテロ原子を含む。好適なヘテロ原子は典型的には、オキシ、チオ、又は−ＮＲ３−基（式中、Ｒ３は水素又はアルキルである）である。この基は、連結している、縮合している、又はこれらの組み合わせである１〜５個の環を有し得る。少なくとも１つの基はヘテロ芳香環であり、残りの他の基は、芳香環、非芳香環、ヘテロ環、炭素環又はこれらの組み合わせであり得る。一部の実施形態では、ヘテロアリーレンは最大で５個、最大で４個、最大で３個、最大で２個、又は１個の環を有する。ヘテロアリーレン基としては、限定するものではないが、トリアジン−ジイル、ピリジン−ジイル、ピリミジン−ジイル、ピリダジン−ジイル及びこれらに類するものが挙げられる。
用語「アルコキシ」は、式−ＯＲの一価の基を指し、式中、Ｒはアルキル基である。
用語「アラルキル」は、アリール基で置換されたアルキル基である一価基を指す。
用語「アリールオキシ」は、式−ＯＡｒの一価の基（式中、Ａｒはアリール基である）を指す。
用語「アリールオキシアルキル」は、アリールオキシ基で置換されたアルキル基である一価基を指す。
用語「カルボニル」は、炭素が二重結合で酸素に結合されている式−（ＣＯ）−の二価の基を指す。
用語「カルボニルオキシ」は、二価の基−（ＣＯ）Ｏ−を指すために互換的に使用される。用語「カルボキシル」は、−（ＣＯ）ＯＨ及び／又はこれらの塩を指す。
用語「カルボニルイミノ」は、式−（ＣＯ）ＮＲｂ−（式中、Ｒｂは、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニル又はアリールスルホニルである）の二価の基を指す。
用語「オキシ」は、二価の基−Ｏ−を指す。
用語「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を指す。同様に、用語「（メタ）アクリレート」はアクリレート（すなわち、アクリレートエステル）及びメタクリレート（すなわち、メタクリレートエステル）の両方を指し、用語「（メタ）アクリルアミド」はアクリルアミド及びメタクリルアミドの両方を指す。
アジリジニル基と第一ポリマー基とを有する化合物は、式（Ｉ）のものである。
式中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含有する二価基である。Ｒ２基は、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。Ｒ３基は、水素又はアルキル（例えば、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、１〜４個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有するアルキル）である。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物であるポリマー基である。
式中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含有する二価基である。Ｒ２基は、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。Ｒ３基は、水素又はアルキル（例えば、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、１〜４個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有するアルキル）である。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物であるポリマー基である。
Ｒ１に好適なアルキル基は、典型的には、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、１〜４個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有する。多くの実施形態では、アジリジニル基は、少なくとも１つのＲ１基が水素であり、少なくとも１つのＲ１基がアルキルである。一部のより具体的な実施形態では、アジリジニル環上のＲ１基のうちの１つはメチルであり、残りのＲ１基は水素である。
二価の基Ｒ２は、少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含有する。これらの基のうちの１つに加え、Ｒ２は、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ２は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ２は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせは、例えば、次の（１）〜（３）のために使用することができる：（１）アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン及びヘテロアリーレンから選択される２つ以上の基と一緒に連結させるため、（２）アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンを、アジリジニル基に、ポリマー基に又はアジリジニル基とポリマー基の両方に結合するため、あるいは（３）（１）と（２）の両方。
一部の実施形態では、Ｒ２は、第一連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−、又はこれらの組み合わせである）を用いて第二基（アルキエン（alkyene）、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に結合された第一基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロリーレンである）を含む。第二基は、第二連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第三基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合することができる。第三基は、第三連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第四基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合させることができる。オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせから選択される追加の連結基を用いて、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン及びヘテロアリーレンから選択される追加の基を更に結合させることができる。
他の実施形態では、Ｒ２は、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせから各々選択される２つの基の間に配置される第一基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）を含む。これらの基のうちの一方はポリマー基に結合し、もう一方はアジリジニル基に結合する。これらの２つの基は、典型的には同じであるが、異なってもよい。
更に他の実施形態では、２つ以上のアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレン基は、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせから選択される２つの基の間に配置される。これらの基のうちの一方はポリマー基に結合し、もう一方はアジリジニル基に結合する。これらの２つの基は、典型的には同じであるが、異なってもよい。２つ以上のアルキレン基、ヘテロアルキレン基、アリーレン基又はヘテロアリーレン基は、典型的には、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−基又はこれらの組み合わせを通して、互いに結合される。
一部の式（Ｉ）の化合物はまた、式（Ｉａ）の化合物である。
式（Ｉ）からのＲ２基は、式（Ｉａ）中では−（ＣＯ）−Ｒ４−（ＣＯ）−に等しい。Ｒ４基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基である。任意選択で、Ｒ４基は、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ４は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ４は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
式（Ｉ）からのＲ２基は、式（Ｉａ）中では−（ＣＯ）−Ｒ４−（ＣＯ）−に等しい。Ｒ４基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基である。任意選択で、Ｒ４基は、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ４は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ４は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
式（Ｉ）のＲ２基と同様に、式（Ｉａ）のＲ４基は、第一連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第二基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に結合された第一基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）を含むことができる。第二基は、第二連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第三基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合させることができる。第三基は、第三連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第四基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合させることができる。オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせから選択される追加の連結基を用いて、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン及びヘテロアリーレンから選択される追加の基を更に結合させることができる。
一部の実施形態では、式（Ｉａ）のＲ４基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである。代表的なアルキレン基は、１〜３０個の炭素原子、１〜２０個の炭素原子、１〜１２個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、又は１〜４個の炭素原子を有する。代表的なヘテロアルキレン基は２〜６０個の炭素原子と１〜４０個のヘテロ原子、２〜４０個の炭素原子と１〜３０個のヘテロ原子、２〜２０個の炭素原子と１〜１５個のヘテロ原子、又は２〜１０個の炭素原子と１〜６個のヘテロ原子を有し得る。代表的なアリーレン基としては、限定するものではないが、フェニレン（例えば、メタ−フェニレン又はパラ−フェニレン）及びビフェニレンが挙げられる。代表的なヘテロアリーレンとしては、限定するものではないが、トリアジン−ジイル、ピリジン−ジイル、ピリミジン−ジイル及びピリダジン−ジイルが挙げられる。
一部のより具体的な式（Ｉａ）による化合物は、式（Ｉｂ）のものであり、式中、Ｒ４はアリーレンである。
一部のより具体的な式（Ｉｂ）の化合物では、アリーレンは、式（Ｉｃ）のようにフェニレンである。
式（Ｉａ）の化合物の他の例は、式（Ｉｄ）のものである。
式（Ｉｄ）中で、二価の基−Ａｒ１−（ＣＯ）−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−（ＣＯ）−Ａｒ１−は、式（Ｉａ）中のＲ４に等しく、二価の基−（ＣＯ）−Ａｒ１−（ＣＯ）−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−（ＣＯ）−Ａｒ１−（ＣＯ）−は、式（Ｉ）中のＲ２に等しい。各Ａｒ１はアリーレンであり、各Ｘ基はオキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ５基は、アルキレン若しくはヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせであり、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ５は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ５は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
式（Ｉｄ）中で、二価の基−Ａｒ１−（ＣＯ）−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−（ＣＯ）−Ａｒ１−は、式（Ｉａ）中のＲ４に等しく、二価の基−（ＣＯ）−Ａｒ１−（ＣＯ）−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−（ＣＯ）−Ａｒ１−（ＣＯ）−は、式（Ｉ）中のＲ２に等しい。各Ａｒ１はアリーレンであり、各Ｘ基はオキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ５基は、アルキレン若しくはヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせであり、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ５は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ５は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
Ｒ２及びＲ４の両方と同様に、Ｒ５基は、第一連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第二基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に結合された第一基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）を含むことができる。第二基は、第二連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第三基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合させることができる。第三基は、第三連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第四基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合させることができる。オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせから選択される追加の連結基を用いて、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン及びヘテロアリーレンから選択される追加の基を更に結合させることができる。
一部の式（Ｉｄ）の化合物では、Ａｒ１は、式（Ｉｅ）のようにフェニレンである。
Ｒ１基、Ｘ基、Ｒ５基及びＱ基は、式（Ｉｄ）について上記で定義したものと同じである。
Ｒ１基、Ｘ基、Ｒ５基及びＱ基は、式（Ｉｄ）について上記で定義したものと同じである。
式（Ｉｅ）の一部の特定の実施形態では、Ｒ５基は、アルキレン又はヘテロアルキレンである。好適なアルキレン基は、多くの場合、１〜３０個の炭素原子、１〜２０個の炭素原子、１〜１２個の炭素原子、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、又は１〜４個の炭素原子を有する。好適なヘテロアルキレン基は、多くの場合、２〜６０個の炭素原子と１〜４０個のヘテロ原子、２〜４０個の炭素原子と１〜３０個のヘテロ原子、２〜２０個の炭素原子と１〜１５個のヘテロ原子、又は２〜１０個の炭素原子と１〜６個のヘテロ原子を有する。
式（Ｉａ）の化合物の他の例は、（Ｉｆ）のものである。
式（Ｉｆ）中で、−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−は、式（Ｉａ）中のＲ４に等しく、−（ＣＯ）−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−（ＣＯ）−は、式（Ｉ）中のＲ２に等しい。Ｘ基及びＲ５基は、式（Ｉｄ）について上記に定義したものと同じである。式（Ｉｆ）の一部の特定の実施形態では、各Ｘはオキシ又は−ＮＲ３−であり、Ｒ５基はアルキレン又はヘテロアルキレンである。
式（Ｉｆ）中で、−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−は、式（Ｉａ）中のＲ４に等しく、−（ＣＯ）−Ｘ−Ｒ５−Ｘ−（ＣＯ）−は、式（Ｉ）中のＲ２に等しい。Ｘ基及びＲ５基は、式（Ｉｄ）について上記に定義したものと同じである。式（Ｉｆ）の一部の特定の実施形態では、各Ｘはオキシ又は−ＮＲ３−であり、Ｒ５基はアルキレン又はヘテロアルキレンである。
式（Ｉ）の化合物の更に他の例は、式（Ｉｇ）のものである。
式（Ｉｇ）中で、二価の基−Ｒ６−（ＣＯ）−Ｒ７−（ＣＯ）−Ｒ６−は、式（Ｉ）中のＲ２基に等しい。各Ｒ６は独立して、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、１〜４個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有するアルキレンである。Ｒ７基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせであり、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ７は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ７は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
式（Ｉｇ）中で、二価の基−Ｒ６−（ＣＯ）−Ｒ７−（ＣＯ）−Ｒ６−は、式（Ｉ）中のＲ２基に等しい。各Ｒ６は独立して、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、１〜４個の炭素原子、又は１〜３個の炭素原子を有するアルキレンである。Ｒ７基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせであり、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ７は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ７は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
Ｒ２及びＲ４又はＲ５と同様に、Ｒ７基は、第一連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第二基（アルキエン（alkyene）、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に結合された第一基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）を含むことができる。第二基は、第二連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第三基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合させることができる。第三基は、第三連結基（オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせである）を用いて第四基（アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン又はヘテロアリーレンである）に更に結合させることができる。オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせから選択される追加の連結基を用いて、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン及びヘテロアリーレンから選択される追加の基を更に結合させることができる。
一部の式（Ｉｇ）の化合物は、式（Ｉｈ）の化合物である。
式（Ｉｈ）中で、二価の基−Ｘ−Ｒ８−Ｘは、式（Ｉｇ）中のＲ７基に等しい。各Ｘ基は独立してオキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ８基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせなどの二価の基であり、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ８は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ８は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
式（Ｉｈ）中で、二価の基−Ｘ−Ｒ８−Ｘは、式（Ｉｇ）中のＲ７基に等しい。各Ｘ基は独立してオキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ８基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせなどの二価の基であり、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含むことができる。すなわち、一部の実施形態では、Ｒ８は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせである。他の実施形態では、Ｒ８は、（ａ）少なくとも１つのアルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせと、（ｂ）少なくとも１つのオキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせと、を含む。
式（Ｉｈ）の一部の特定の実施形態では、Ｒ８基はアルキレン基又はヘテロアルキレン基であり、Ｘはオキシである。好適なアルキレン基は、多くの場合、１〜３０個の炭素原子、１〜２０個の炭素原子、１〜１２個の炭素原子、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、又は１〜４個の炭素原子を有する。好適なヘテロアルキレン基は、多くの場合、２〜６０個の炭素原子と１〜４０個のヘテロ原子、２〜４０個の炭素原子と１〜３０個のヘテロ原子、２〜２０個の炭素原子と１〜１５個のヘテロ原子、又は２〜１０個の炭素原子と１〜６個のヘテロ原子を有する。
式（Ｉ）及び（Ｉａ）〜（Ｉｈ）の化合物すべては、Ｑ基を有し、これは、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含む第一モノマー組成物の重合生成物である。この重合反応は、フリーラジカル重合反応又はアニオン性重合反応であり得る。
任意の好適なエチレン性不飽和モノマーを使用して、Ｑ基を形成することができる。好適なモノマーとしては、限定するものではないが、様々な（メタ）アクリレート（すなわち、（メタ）アクリレートエステル）、（メタ）アクリル系酸、（メタ）アクリルアミド、ビニル又はこれらに類するものが挙げられる。一部の実施形態では、ポリマー基は、これを形成するために使用されるモノマーがすべて同じであるホモポリマー基である。他の実施形態では、ポリマー基は、ランダムコポリマー又はブロックコポリマーである。
一部の実施形態では、ポリマー基は、１つ以上の（メタ）アクリレートから形成される。これらの（メタ）アクリレートは、多くの場合、式（ＩＩ）のものである。
この式中、Ｒ１０基は水素又はメチルであり、Ｒ９基はアルキル、ヘテロアルキル、アリール、アラルキル又はアリールオキシアルキルである。好適なアルキル基は、多くの場合、１〜２０個の炭素原子、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、又は１〜４個の炭素原子を有する。好適なヘテロアルキル基は、多くの場合、２〜３０個の炭素原子と１〜１６個のヘテロ原子、２〜２０個の炭素原子と１〜１２個の炭素原子、２〜１０個の炭素原子と１〜６個のヘテロ原子、又は２〜６個の炭素原子と１〜４個のヘテロ原子を有する。これらのアルキル基及びヘテロアルキル基は、直鎖、分枝鎖、環式、二環式又はこれらの組み合わせであり得る。好適なアラルキル基は、多くの場合、７〜１８個の炭素原子を有する。例は、フェニルで置換されたアルキル基である。好適なアリールオキシアルキル基は、多くの場合、７〜１８個の炭素原子を有する。例は、オキシフェニルでアルキル基である。これらのモノマーは、ホモポリマーに生成されると、広範囲のガラス転移温度を有し得る。
この式中、Ｒ１０基は水素又はメチルであり、Ｒ９基はアルキル、ヘテロアルキル、アリール、アラルキル又はアリールオキシアルキルである。好適なアルキル基は、多くの場合、１〜２０個の炭素原子、１〜１０個の炭素原子、１〜６個の炭素原子、又は１〜４個の炭素原子を有する。好適なヘテロアルキル基は、多くの場合、２〜３０個の炭素原子と１〜１６個のヘテロ原子、２〜２０個の炭素原子と１〜１２個の炭素原子、２〜１０個の炭素原子と１〜６個のヘテロ原子、又は２〜６個の炭素原子と１〜４個のヘテロ原子を有する。これらのアルキル基及びヘテロアルキル基は、直鎖、分枝鎖、環式、二環式又はこれらの組み合わせであり得る。好適なアラルキル基は、多くの場合、７〜１８個の炭素原子を有する。例は、フェニルで置換されたアルキル基である。好適なアリールオキシアルキル基は、多くの場合、７〜１８個の炭素原子を有する。例は、オキシフェニルでアルキル基である。これらのモノマーは、ホモポリマーに生成されると、広範囲のガラス転移温度を有し得る。
式（Ｉ）の化合物の特定の用途に応じた所望のガラス転移温度をもたらすモノマーを選択することができる。より具体的には、ガラス転移温度が２０℃以上であるポリマー基は、熱可塑性である傾向を有する。本発明で使用する場合、用語「熱可塑性」は、加熱した際に流動し、その後、冷却して室温にした際にその最初の状態に戻るポリマー物質を意味する。ガラス転移温度が２０℃未満であるポリマー基は、エラストマーである傾向を有する。本発明で使用する場合、用語「エラストマー」とは、その最初の長さの少なくとも２倍まで延伸することができ、解放した際にほぼその最初の長さまで縮むポリマー物質を意味する。
一部の実施形態では、ポリマー基Ｑを形成するために使用される式（ＩＩ）のモノマーは、ｎ−ブチルアクリレート、デシルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレート、イソノニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソオクチルアクリレート、イソオクチルメタクリレート、イソトリデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、２−メチルブチルアクリレート、４−メチル−２−ペンチルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート及びｎ−オクチルメタクリレートから選択される。これらのモノマーをホモポリマー基に生成すると、ガラス転移温度は２０℃未満、１０℃未満又は０℃未満になる傾向がある。
他の実施形態では、ポリマー基Ｑを形成するために使用される式（ＩＩ）のモノマーは、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ノニルフェノールメタクリレート、セチルアクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニルシクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、１−アダマンチルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及び３，３，５トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレートから選択される。
これらのモノマーをホモポリマー基に生成すると、ガラス転移温度は少なくとも２０℃、少なくとも３０℃、少なくとも４０℃又は少なくとも５０℃になる傾向がある。
これらのモノマーをホモポリマー基に生成すると、ガラス転移温度は少なくとも２０℃、少なくとも３０℃、少なくとも４０℃又は少なくとも５０℃になる傾向がある。
これらの（メタ）アクリレートモノマーのいずれかは、任意選択で、アミノ基、ヒドロキシル基又はエポキシ基などの基で置換されてもよい。これらの置換基は、モノマーの極性を拡大する傾向を有する。ヒドロキシル置換基を有する（メタ）アクリレートの例としては、限定するものではないが、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート及び４−ヒドロキシルブチル（メタ）アクリレートが挙げられる。エポキシ置換基を有する（メタ）アクリレートとしては、限定するものではないが、グリシジル（メタ）アクリレートが挙げられる。アミノ基を有する（メタ）アクリレートの例としては、限定するものではないが、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどのＮ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
（メタ）アクリレートはまた、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート又はポリ（アルコキシアルキル（メタ）アクリレート）であってもよく、これらとしては、例えば、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート及びポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらは極性分子である傾向を有する。
ポリマー基Ｑは、典型的には、非酸性モノマーから調製される。Ｑ基がモノマーの混合物から調製される場合、少なくとも９０重量％、少なくとも９５重量％、少なくとも９７重量％、少なくとも９８重量％又は少なくとも９９重量％のモノマーは、カルボキシル基を有さない（すなわち、カルボキシル基を有さないモノマー）。一部の実施形態では、モノマー組成物中のモノマーはすべてカルボキシル基を有さない。酸性モノマーの量が多過ぎると、単一のアジリジニル基を有する式（Ｉ）の化合物を調製するのが困難になり得る。
一部の特定のＱ基は、例えば、ポリ（ベンジルメタクリレート）（poly（benzyl methacarylate））、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（フェノキシエチルアクリレート）、及び、ランダム又はブロックポリ（イソボルニルアクリレート−コ−ベンジルメタクリレート）などの（メタ）アクリレートから調製される。
ポリマー基Ｑを生成するための他の好適なエチレン性不飽和モノマーは、（メタ）アクリルアミド、アルキルアクリルアミド（ｔ−ブチルアクリルアミドなど）、モノアルキルアミノアルキルアクリルアミド（メチルアミノエチルアクリルアミドなど）、ジアルキルアミノアルキルアクリルアミド（ジメチルアミノエチルアクリルアミドナドなど）及びこれらに類するものである。
ポリマー基Ｑを生成するために使用できる更に他の好適なエチレン性不飽和モノマーは、ビニルエーテルモノマー、ビニルアリールモノマー、ビニル複素環式モノマー、ビニルエステルモノマー及びこれらに類するものなどの様々なビニルモノマーである。好適なビニルエーテルモノマーとしては、例えば、ビニルメチルエーテルが挙げられる。好適なビニルアリールモノマーとしては、限定するものではないが、スチレン、α−メチルスチレン、アルキル置換スチレン（例えば、ビニルトルエン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン）及びこれらに類するものが挙げられる。これらのビニルアリールモノマーのいずれかは、アミノ、ヒドロキシル、アルコキシ、ハロ及びこれらに類するものから選択される１つ以上の基で置換されてもよい。好適なビニル複素環式モノマーとしては、限定するものではないが、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン及びｎ−ビニルカプロラクタム（vinylcarpolactam）が挙げられる。好適なビニルエステルとしては、限定するものではないが、ビニルアセテート及びビニルプロプリオネートが挙げられる。ビニルアリールモノマー、ビニル複素環式モノマー及び一部のビニルエステルモノマーなどのモノマーは、ホモポリマー基に形成すると、ガラス転移温度が少なくとも３０℃、少なくとも４０℃、又は少なくとも５０℃になる傾向を有する。
一部の特定のＱポリマー基は、ビニルアリールモノマー、ビニル複素環式モノマー又はこれらの組み合わせなどのビニルモノマーから調製される。これらのＱ基は、ホモポリマー、ランダムコポリマー又はブロックコポリマーであり得る。ブロックコポリマーは、２つ以上のブロックを有することができる。一部のブロックコポリマーは、ポリ（ビニルアリールモノマー）の第一ブロックと、ポリ（ビニル複素環式モノマー）の第二ブロックと、を有する。一部の具体的なポリマーの例は、ポリ（スチレン）、ランダムポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）及びジ−ブロックポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）である。
ポリマーＱ基は、任意の好適な分子量を有することができる。多くの実施形態では、重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００グラム／モル（すなわち、５，０００ダルトン）を超える。例えば、重量平均分子量は、７，５００グラム／モル超、１０，０００グラム／モル超、１２，０００グラム／モル超、１５，０００グラム／モル超、２０，０００グラム／モル超であり得る。重量平均分子量は、多くの場合、最大１５０，０００グラム／モル、最大１２０，０００グラム／モル、最大１００，０００グラム／モル、最大８０，０００グラム／モル、最大６０，０００グラム／モル又は最大４０，０００グラム／モルである。分子量が大き過ぎる場合、得られる式（Ｉ）の化合物は、化合物の重量に基づいて許容不可能なほど低濃度のアジリジニル基しか有さない恐れがある。すなわち、アジリジニル基に帰せられるこの化合物の重量％は、ポリマー基に帰せられる化合物の重量％と比較して許容不可能なほど低いものとなり得る。
ポリマー基はアニオン性重合又はフリーラジカル重合のいずれかにより形成することができるが、多くの場合、フリーラジカル重合技術が使用される。重合反応は、典型的には、反応開始剤の存在下で生じる。任意の既知の反応開始剤を使用できるが、この反応開始剤は、多くの場合、アゾ化合物である。好適なアゾ化合物としては、限定するものではないが、ＤｕＰｏｎｔ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）から商品名ＶＡＺＯ ６４で市販されている２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、ＤｕＰｏｎｔから商品名ＶＡＺＯ ６７で市販されている２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、ＤｕＰｏｎｔから商品名ＶＡＺＯ ５２で市販されている２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルペンタンニトリル）及び４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）が挙げられる。４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）などのカルボキシ含有反応開始剤の使用が多くの場合好ましいが、それは、このような反応開始剤が、式（Ｉ）の化合物の調製に関与するポリマー中間体（Ｑ−（ＣＯ）−ＯＨ）がカルボキシル基を有する可能性を増大させる傾向を有するからである。反応開始剤は、典型的には、モノマー組成物中のモノマーの重量に基づいて、０．０１〜５重量％の範囲、０．０５〜３重量％の範囲、０．０５〜２重量％の範囲、０．０５〜１重量％の範囲、又は０．１〜１重量％の範囲の量で添加される。反応開始剤の量は、ポリマー基Ｑの重量平均分子量を制御するために使用することができる。使われる反応開始剤の量が多いほど、より多くのポリマー鎖が生成される。これにより、より低い重量平均分子量を有するポリマー鎖が生じる。逆に、反応開始剤の量が少量であるほど、生成されるポリマー鎖のうち、より高い重量平均分子量を有するものは少なくなる。
ポリマーＱ基を形成するために使用されるモノマー組成物は、分子量を制御するために、連鎖移動剤を含むこともできる。有用な連鎖移動剤の例としては、限定するものではないが、四臭化炭素、アルコール、メルカプタン及びこれらの混合物が挙げられる。例えば、３−メルカプトプロピオン酸などのカルボキシル含有連鎖移動剤の使用が、多くの場合、好ましい。これらのカルボキシル含有連鎖移動剤は、式（Ｉ）の化合物の調製に関与するポリマー中間体がカルボキシル基を有する可能性を増大させる傾向を有する。
連鎖移動剤は、ほとんどのエチレン性不飽和モノマーについて、使用することができる。連鎖移動剤が使用された場合、ポリマー物質の一方の端部は多くの場合反応開始剤に由来する基になり、もう一方の端部は連鎖移動剤に由来する基になり得る。反応開始剤又は連鎖移動剤のうちの少なくとも１つは、酸性官能基（例えば、カルボキシル基）を供給するように選択され得る。酸性官能基を含む反応開始剤及び連鎖移動剤の両方を使用することは、ほとんどのポリマー鎖が酸性官能基を含有する可能性を増大させる傾向を有する。
連鎖移動剤の代わりに、モノマー組成物には、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ（Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，ＭＡ）から市販されている２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ（ＴＥＭＰＯ）、１，１，３，３−テトラエチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドリン−２−イルオキシ、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルニトロキシド、又はＡｌｆａ Ａｅｓａｒから市販されている４−オキソ−ＴＥＭＰＯなどのニトロキシド媒介剤を含ませることができる。この重合反応は、「リビング」又は「制御されている」と考えられ、所望されるように開始及び終了させることができる。この制御機構は、アルコキシアミン結合を生成するための活性（すなわち、増殖している）ポリマー鎖上のフリーラジカルに対するニトロキシド媒介剤の可逆性カップリングに依存している。ニトロキシド媒介剤をすると、ポリマー鎖のラジカルがハロゲン原子にキャップされ、更なる増殖が不可能になる。しかしながら、ある温度では、アルコキシアミン結合は、開裂させることができ、ポリマー鎖を活性にして成長を持続させることが可能になる。それゆえに、アクティブポリマー鎖とドーマントポリマー鎖の間の均衡は、重合のために使用される温度範囲の選択により制御することができる。この温度範囲は、典型的には、１００℃〜１６０℃の範囲である。得られるポリマー物質は、比較的狭い分子量分布を有する傾向がある。
ニトロキシド媒介剤は、多くの場合、スチレンなどのモノマーの重合のために使用される。ニトロキシド化合物が使用されると、ポリマー物質の一方の端部は多くの場合反応開始剤から誘導される基になり、もう一方の端部はニトロキシド化合物にすることができる。これらのうちの少なくとも１つは、典型的には、酸官能基（例えば、カルボキシル基）を供給するように選択される。例えば、反応開始剤が４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）であり、ニトロキシド媒介剤ＴＥＭＰＯが使用される場合、ポリマーの一方の端部は、通常、−ＮＨ−Ｃ（ＣＮ）（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＯＨ基である。この例では、カルボキシル基は、反応開始剤により供給される。
一部の場合では、ニトロキシド媒介剤及び反応開始剤種は、１つの化合物から得ることができる。例えば、一部のアルコキシアミン化合物は、特定の温度で分解して、反応開始ラジカルとニトロキシドラジカルの両方を生じることができる。このような反応開始剤は、Ｍｅｓｓｅｒｓｃｈｍｉｄｔ ｅｔ ａｌ．による論文（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，４１（２００８））に記載されている。分解されたアルコキシアミンからの反応開始剤種はまた、カルボキシル基を有し得、生じたポリマー基に鎖の一方の端部にカルボキシル基を残す。鎖のもう一方の端部は、分解されたアルコキシアミン化合物のニトロキシド部分でキャップされる。Ｌｅｅｎｅｎ ｅｔ ａｌ．（ｅ−Ｐｏｌｙｍｅｒｓ，ｎｕｍｂｅｒ ７１（２００５））及びＤｕｆｉｌｓ ｅｔ ａｌ．（Ｐｏｌｙｍｅｒ，４８（２００７））による論文に記載されている１つのこのような化合物は、２−メチル−２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−（１’ジエチルホスホノ−２，２’−ジメチルプロピル）アミノキシル）プロパン酸であり、これはＡｒｋｅｍａ（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡ）から入手された。
本発明で使用するとき、用語「多分散性」又は「多分散指数」は、分子量分布の尺度であり、ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）で除算した重量平均分子量（Ｍｗ）を指す。すべてが同じ分子量のものであるポリマー物質は１．０の多分散性を有し、一方、１種以上の分子量を有するポリマー物質は１．０を超える多分散性を有する。多分散性は、例えば、ゲル透過クロマトグラフィーを使用して決定することができる。多分散指数は、典型的には、１０．０未満、５．０未満、２．０未満、１．５未満、１．４未満、１．３未満、１．２未満又は１．１未満である。ニトロキシド媒介剤が使用されると、多分散指数は、多くの場合、１．０〜１．４の範囲、１．０〜１．３の範囲、又は１．０〜１．２の範囲である。従来の連鎖移動剤がニトロキシド媒介剤の代わりに使用される場合などの非リビング重合方法が使用される場合には、多分散指数は、多くの場合、１．５〜１０．０の範囲、１．５〜６．０の範囲、１．５〜４の範囲、１．５〜２．０の範囲、１．５〜２．０の範囲又は１．６〜２．０の範囲である。
式（Ｉ）の化合物は、反応スキームＡに示すように、生成することができる。
反応スキームＡでは、式（ＩＩＩ）の化合物は、カルボキシル末端ポリマーである。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含有するモノマー組成物の重合生成物を含むポリマー基である。Ｑ基は、多くの場合、モノマー組成物のフリーラジカル重合又はアニオン性重合により調製される。式（ＩＶ）の化合物は、ビス−アジリジン化合物である。式（ＩＩＩ）中のポリマー基Ｑ、並びに、式（ＩＶ）中のＲ１及びＲ２は、式（Ｉ）について上記で定義したものと同じである。
反応スキームＡでは、式（ＩＩＩ）の化合物は、カルボキシル末端ポリマーである。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含有するモノマー組成物の重合生成物を含むポリマー基である。Ｑ基は、多くの場合、モノマー組成物のフリーラジカル重合又はアニオン性重合により調製される。式（ＩＶ）の化合物は、ビス−アジリジン化合物である。式（ＩＩＩ）中のポリマー基Ｑ、並びに、式（ＩＶ）中のＲ１及びＲ２は、式（Ｉ）について上記で定義したものと同じである。
式（ＩＩＩ）の化合物は、典型的には、カルボキシル基を１つだけ有する。すなわち、ポリマー基Ｑは、通常、カルボキシル基を含有しないか、又は少量のカルボキシル基しか含有しない。ポリマー基Ｑ中の複数のカルボキシル基は、式（ＩＶ）のビス−アジリジン化合物と反応する際に、化学的架橋の生成を引き起こす傾向を有する。しかしながら、カルボキシル基の濃度が十分に低い場合には、これらの基とビス−アジリジン化合物の反応可能性は最小化することができる。すなわち、Ｑ基中では低レベルのカルボキシル基が使用され得る。
反応スキームＡは、典型的には、式（ＩＩＩ）の化合物中の酸基に対して、式（ＩＶ）のビスアジリジン化合物中のアジリジニル基をモル過剰で使用する。アジリジニル基のモル数は、多くの場合、酸基のモル数の少なくとも２倍、少なくとも２．５倍、少なくとも３倍、少なくとも３．５倍、又は少なくとも４倍である。この過剰は、ビス−アジリジン化合物中のアジリジニル基の両方が式（ＩＩＩ）のカルボキシル基末端ポリマーと反応するのを最小化する傾向を有する。この反応により、アジリジニル環の一方は開環するが両方は開環しない。式（Ｉ）の所望の生成物は、式（ＩＩＩ）のカルボキシル末端ポリマーとの反応により開環されきっていないアジリジニル基を有する。
反応スキームＡは、典型的には、式（ＩＩＩ）のポリマー及び式（ＩＶ）のビス−アジリジン化合物と混和性である溶媒の存在下で室温にて生じることができる。式（Ｉ）の化合物の調製に好適な溶媒としては、限定するものではないが、トルエン、キシレン、酢酸エチル及びメチルエチルケトンが挙げられる。得られた式（Ｉ）のアジリジニル末端ポリマーは、次に、アジリジニル末端ポリマーと不混和性である大量の溶媒の添加により、析出させられる。溶媒の体積は、多くの場合、生成物溶液の体積の少なくとも５倍、少なくとも６倍、少なくとも８倍又は少なくとも１０倍である。生成物（すなわち、式（Ｉ）の化合物）の析出に好適な溶媒としては、限定するものではないが、メタノールが挙げられる。析出したポリマー物質は、次に、濾過し、乾燥させることができる。収率（％）は、多くの場合、８５％超、９０％超、９２％超又は９５％超である。
反応スキームＡは、式（Ｉ）の化合物を調製するための柔軟な方法を提供する。フリーラジカル重合反応を用いる中間体カルボキシル含有化合物Ｑ−（ＣＯ）ＯＨの形成により、ポリマー基Ｑを形成するために使用されるモノマーの選択を非常に柔軟なものにすることができる。
いったん生成すると、式（Ｉ）の化合物は、酸性基を有する第二化合物と反応させることができる。このような反応は、第二化合物に第一ポリマー基を連結する結合基の形成をもたらす。より具体的には、この結合基は、式（Ｉ）の化合物のアジリジニル基と第二化合物上の酸性基の反応から生じる。多くの実施形態では、第二化合物は、１つ以上のカルボキシル基を有するポリマー物質である。この反応を使用して、例えば、ポリマー基Ｑを第二化合物上にグラフト化することができる。
式（Ｉ）の化合物の使用の一例を反応スキームＢに示す。この反応スキームでは、式（Ｉ）の化合物は、カルボキシル含有化合物Ｇ−（ＣＯ）ＯＨと反応する。Ｇ基は、任意の好適な有機基であることができ、多くの場合、ポリマー基である。
式Ｇ−（ＣＯ）ＯＨのカルボキシル含有化合物は例示を容易にするためにただ１つのカルボキシル基を以って反応スキームに示しているが、この化合物は任意の好適な数のカルボキシル基を有し得る。すなわち、最終生成物は、多数のグループの式−（ＣＯ）ＯＣ（Ｒ１）２Ｃ（Ｒ１）２ＮＨ−Ｒ２−ＮＨ−Ｃ（Ｒ１）２Ｃ（Ｒ１）２−Ｏ（ＣＯ）−を含むことができる。
化合物である又は化合物の製造方法である様々な事項が提供される。化合物は、ポリマー基Ｑとアジリジニル基とを両方有する。
事項１は、式（Ｉ）の化合物である。
式（Ｉ）中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。Ｒ３基は、水素又はアルキルである。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物を含むポリマー基である。
式（Ｉ）中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。Ｒ３基は、水素又はアルキルである。Ｑ基は、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物を含むポリマー基である。
事項２は、Ｑ基が、少なくとも５０００グラム／モルに相当する重量平均分子量を有する、事項１の変形である。
事項３は、化合物が、少なくとも２０℃程度のガラス転移温度を有する、事項１又は２の変形である。
事項４は、事項１〜３のいずれかの事項の変形である。事項４では、Ｑは、フリーラジカル重合反応又はアニオン性重合反応により形成される。
事項５は、事項１〜４のいずれかの事項の変形である。事項５では、モノマー組成物は、ビニルアリールモノマー、ビニル複素環モノマー又はこれらの組み合わせを含む。
事項６は、モノマー組成物が、スチレン、α−メチルスチレン又はアルキル置換スチレンを含む、事項５の変形である。
事項７は、第一モノマー組成物が（メタ）アクリレートエステル、（メタ）アクリルアミド又はこれらの組み合わせを含む、事項１〜４のいずれかの変形である。
事項８は、（メタ）アクリレートが、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、二環式（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、アリールオキシアルキル（メタ）アクリレート（aryloxyalky（meth）acrylate）又はこれらの組み合わせを含む、事項７の変形である。
事項９は、Ｑ基がホモポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１０は、Ｑ基がランダムコポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１１は、ランダムコポリマーが、ビニルアリールモノマーとビニル複素環式モノマーとを含むモノマー組成物から形成される、事項１０の変形である。
事項１２は、ビニルアリールモノマーがスチレンであり、ビニル複素環式モノマーが４−ビニルピリジンである、事項１１の変形である。
事項１３は、Ｑ基がブロックコポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１４は、Ｑ基がジブロックコポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１５は、ジブロックコポリマーが、ポリ（ビニルアリールモノマー）の第一ブロックと、ポリ（ビニル複素環式モノマー）の第二ブロックと、を含む、事項１４の変形である。
事項１６は、ポリ（ビニルアリールモノマー）がポリスチレンであり、ポリ（ビニル複素環式モノマー）がポリ（４−ビニルピリジン）である、事項１５の変形である。
事項１７は、式（Ｉ）の化合物が式（Ｉａ）の化合物である、事項１〜１６のいずれかの変形である。
式（Ｉａ）中、Ｒ４は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項３は、化合物が、少なくとも２０℃程度のガラス転移温度を有する、事項１又は２の変形である。
事項４は、事項１〜３のいずれかの事項の変形である。事項４では、Ｑは、フリーラジカル重合反応又はアニオン性重合反応により形成される。
事項５は、事項１〜４のいずれかの事項の変形である。事項５では、モノマー組成物は、ビニルアリールモノマー、ビニル複素環モノマー又はこれらの組み合わせを含む。
事項６は、モノマー組成物が、スチレン、α−メチルスチレン又はアルキル置換スチレンを含む、事項５の変形である。
事項７は、第一モノマー組成物が（メタ）アクリレートエステル、（メタ）アクリルアミド又はこれらの組み合わせを含む、事項１〜４のいずれかの変形である。
事項８は、（メタ）アクリレートが、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、二環式（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、アリールオキシアルキル（メタ）アクリレート（aryloxyalky（meth）acrylate）又はこれらの組み合わせを含む、事項７の変形である。
事項９は、Ｑ基がホモポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１０は、Ｑ基がランダムコポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１１は、ランダムコポリマーが、ビニルアリールモノマーとビニル複素環式モノマーとを含むモノマー組成物から形成される、事項１０の変形である。
事項１２は、ビニルアリールモノマーがスチレンであり、ビニル複素環式モノマーが４−ビニルピリジンである、事項１１の変形である。
事項１３は、Ｑ基がブロックコポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１４は、Ｑ基がジブロックコポリマーである、事項１〜８のいずれかの変形である。
事項１５は、ジブロックコポリマーが、ポリ（ビニルアリールモノマー）の第一ブロックと、ポリ（ビニル複素環式モノマー）の第二ブロックと、を含む、事項１４の変形である。
事項１６は、ポリ（ビニルアリールモノマー）がポリスチレンであり、ポリ（ビニル複素環式モノマー）がポリ（４−ビニルピリジン）である、事項１５の変形である。
事項１７は、式（Ｉ）の化合物が式（Ｉａ）の化合物である、事項１〜１６のいずれかの変形である。
式（Ｉａ）中、Ｒ４は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項１８は、Ｒ４がアルキレンである、事項１７の変形である。
事項１９は、式（Ｉａ）の化合物が式（Ｉｂ）の化合物である、事項１７の変形である。
Ａｒ１基は、アリーレンである。
事項１９は、式（Ｉａ）の化合物が式（Ｉｂ）の化合物である、事項１７の変形である。
Ａｒ１基は、アリーレンである。
事項２０は、Ａｒ１がフェニレンである、事項１９の変形である。
事項２１は、式（Ｉａ）の化合物が式（Ｉｄ）の化合物である、事項１７の変形である。
式（Ｉｄ）中、各Ａｒ１基は、アリーレンである。各Ｘ基は、オキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ５基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項２１は、式（Ｉａ）の化合物が式（Ｉｄ）の化合物である、事項１７の変形である。
式（Ｉｄ）中、各Ａｒ１基は、アリーレンである。各Ｘ基は、オキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ５基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項２２は、Ａｒ１がフェニレンであり、各Ｘがオキシである、事項２１の変形である。
事項２３は、Ｒ５がアルキレン又はヘテロアルキレンであり、Ｘがオキシである、事項２１又は２２の変形である。
事項２４は、式（Ｉａ）の化合物が式（Ｉｆ）の化合物である、事項１７の変形である。
式（Ｉｆ）中、Ｒ５は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項２３は、Ｒ５がアルキレン又はヘテロアルキレンであり、Ｘがオキシである、事項２１又は２２の変形である。
事項２４は、式（Ｉａ）の化合物が式（Ｉｆ）の化合物である、事項１７の変形である。
式（Ｉｆ）中、Ｒ５は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項２５は、Ｒ５がアルキレンであり、Ｘが−ＮＲ３である、事項２４の変形である。
事項２６は、式（Ｉ）の化合物が式（Ｉｇ）の化合物である、事項１〜１６のいずれかの変形である。
式（Ｉｇ）中、各Ｒ６は独立してアルキレンである。Ｒ７基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項２６は、式（Ｉ）の化合物が式（Ｉｇ）の化合物である、事項１〜１６のいずれかの変形である。
式（Ｉｇ）中、各Ｒ６は独立してアルキレンである。Ｒ７基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項２７は、式（Ｉｇ）の化合物が式（Ｉｈ）の化合物である、事項２６の変形である。
式（Ｉｈ）中、各Ｘ基は独立してオキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ８基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
式（Ｉｈ）中、各Ｘ基は独立してオキシ又は−ＮＲ３−である。Ｒ８基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。
事項２８は、式（Ｉ）の化合物の製造方法である。
この方法は、式（ＩＩＩ）のカルボキシル末端ポリマーをもたらすことを含む。
Ｑ−（ＣＯ）−ＯＨ
（ＩＩＩ）
式（ＩＩＩ）中、Ｑは、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物を含むポリマー基である。この方法は、カルボキシル末端ポリマーを式（ＩＶ）のビス−アジリジン化合物と反応させることを更に含む。
式（ＩＶ）中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。Ｒ３基は、水素又はアルキルである。
Ｑ−（ＣＯ）−ＯＨ
（ＩＩＩ）
式（ＩＩＩ）中、Ｑは、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物を含むポリマー基である。この方法は、カルボキシル末端ポリマーを式（ＩＶ）のビス−アジリジン化合物と反応させることを更に含む。
式（ＩＶ）中、各Ｒ１は独立して水素又はアルキルである。Ｒ２基は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ３−又はこれらの組み合わせを更に含む。Ｒ３基は、水素又はアルキルである。
事項２９は、カルボキシル末端ポリマーが、少なくとも５０００グラム／モルに相当する重量平均分子量を有する、事項２８の変形である。
事項３０は、カルボキシル末端ポリマーが、少なくとも２０℃程度のガラス転移温度を有する、事項２８又は２９の変形である。
事項３１は、カルボキシル末端ポリマーが、フリーラジカル重合反応又はアニオン性重合反応により形成される、事項２８〜３０のいずれかの変形である。
事項３２は、カルボキシル末端ポリマーのカルボキシル基が、フリーラジカル重合反応又はアニオン性重合反応において使用される反応開始剤、連鎖移動剤又はニトロキシド薬剤から形成される、事項３１の変形である。
事項３０は、カルボキシル末端ポリマーが、少なくとも２０℃程度のガラス転移温度を有する、事項２８又は２９の変形である。
事項３１は、カルボキシル末端ポリマーが、フリーラジカル重合反応又はアニオン性重合反応により形成される、事項２８〜３０のいずれかの変形である。
事項３２は、カルボキシル末端ポリマーのカルボキシル基が、フリーラジカル重合反応又はアニオン性重合反応において使用される反応開始剤、連鎖移動剤又はニトロキシド薬剤から形成される、事項３１の変形である。
すべてのパーセントは、特に指示しない限り、重量に基づく。
以下の実施例で使用される材料は、特に説明しない限り、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ（Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，ＭＡ）又はＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ）から購入した。
以下の実施例で使用される材料は、特に説明しない限り、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ（Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，ＭＡ）又はＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ）から購入した。
モノマーに、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ（Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，ＭＡ）からの阻害物質除去樹脂（ＣＡＳ ＃ ９００３−７０−７）を充填したカラムをゆっくりと通過させることにより、モノマーから阻害物質を除去した。このやり方で処理したモノマーは、「処理済みモノマー」と呼ぶ。
試験方法：分子量分布
化合物の分子量分布は、従来のゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて特性評価した。ＧＰＣ機器は、高速液体クロマトグラフィーポンプ（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｌｆｏｒｄ，ＭＡ）からのモデル１５１５ ＨＰＬＣポンプ）、オートサンプラー（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのモデル７１７）、紫外検出器（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのモデル２４８７）及び屈折率検出器（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのモデル２４１０）を備えた。クロマトグラフに、２つの５マイクロメートルＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｄカラム（Ｖａｒｉａｎ Ｉｎｃ．（Ｐａｌｏ Ａｌｔｏ，ＣＡ）から入手可能）を取り付けた。
化合物の分子量分布は、従来のゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて特性評価した。ＧＰＣ機器は、高速液体クロマトグラフィーポンプ（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｌｆｏｒｄ，ＭＡ）からのモデル１５１５ ＨＰＬＣポンプ）、オートサンプラー（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのモデル７１７）、紫外検出器（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのモデル２４８７）及び屈折率検出器（Ｗａｔｅｒｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのモデル２４１０）を備えた。クロマトグラフに、２つの５マイクロメートルＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｄカラム（Ｖａｒｉａｎ Ｉｎｃ．（Ｐａｌｏ Ａｌｔｏ，ＣＡ）から入手可能）を取り付けた。
ポリマー又は乾燥ポリマーサンプルを０．５％（重量／体積）の濃度にてテトラヒドロフランに溶解させ、０．２マイクロメートルポリテトラフルオロエチレンフィルター（ＶＷＲ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ（Ｗｅｓｔ Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＰＡ）から市販）を通して濾過することにより、ポリマー溶液のサンプルを調製した。
得られたサンプルをＧＰＣに注入し、３５℃に維持したカラムを通して毎分１ミリリットルの速度で溶出させた。このシステムを、最小二乗法あてはめ分析を用いてポリスチレン標準で較正して、検量線を確立した。重量平均分子量（Ｍｗ）及び多分散性（重量平均分子量を数平均分子量で除算したもの）をこの標準検量線に対して各サンプルについて計算した。
（実施例１）
１００グラムの処理済みスチレンモノマーを５００ｍＬフラスコに２．３４グラムの４，４’アゾビス（４−シアノ吉草酸）（ＡＢＣＶＡ）反応開始剤、０．８５グラムの２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ（ＴＥＭＰＯ）及び電磁撹拌棒と共に添加することにより、酸末端（すなわち、カルボキシ末端）ポリスチレンポリマーＰ１を調製した。フラスコをゴムセプタムで封止し、よく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このフラスコを次に１３５℃での油浴に移し、その温度で１０時間にわたって保持した。反応中、最初の赤色のモノマー配合物は、淡黄色のような色に変化した。生成物を次に放冷し、ゆっくりと６〜１０倍体積過剰の低温メタノールに添加した。析出したポリマーを回収し、室温にて真空下で一晩乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づいた重量平均分子量（Ｍｗ）は１５，０００グラム／モルであり、多分散指数（ＰＤＩ）は１．０８であった。
１００グラムの処理済みスチレンモノマーを５００ｍＬフラスコに２．３４グラムの４，４’アゾビス（４−シアノ吉草酸）（ＡＢＣＶＡ）反応開始剤、０．８５グラムの２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ（ＴＥＭＰＯ）及び電磁撹拌棒と共に添加することにより、酸末端（すなわち、カルボキシ末端）ポリスチレンポリマーＰ１を調製した。フラスコをゴムセプタムで封止し、よく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このフラスコを次に１３５℃での油浴に移し、その温度で１０時間にわたって保持した。反応中、最初の赤色のモノマー配合物は、淡黄色のような色に変化した。生成物を次に放冷し、ゆっくりと６〜１０倍体積過剰の低温メタノールに添加した。析出したポリマーを回収し、室温にて真空下で一晩乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づいた重量平均分子量（Ｍｗ）は１５，０００グラム／モルであり、多分散指数（ＰＤＩ）は１．０８であった。
この重合反応を反応スキームＣに示す。
ポリマーＰ１を過剰な二官能性アジリジンと反応させることにより、アジリジン末端ポリスチレンポリマーを調製した。具体的には、５０グラムのＰ１を、１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量％）１２０グラムの中に溶解させ、
混合物を２４時間にわたってよく混合した。得られた溶液を６倍体積過剰の低温メタノールに添加した。析出したポリマーを回収し、室温にて真空下で乾燥させ、トルエンに再溶解させた。このポリマーに低温メタノール中で二回目の析出をさせ、回収し、室温にて真空下で一晩乾燥させて最終生成物を得た。ＧＰＣ分析に基づいて、重量平均分子量（Ｍｗ）は１５，３００グラム／モルであり、多分散指数は１．１０であった。
混合物を２４時間にわたってよく混合した。得られた溶液を６倍体積過剰の低温メタノールに添加した。析出したポリマーを回収し、室温にて真空下で乾燥させ、トルエンに再溶解させた。このポリマーに低温メタノール中で二回目の析出をさせ、回収し、室温にて真空下で一晩乾燥させて最終生成物を得た。ＧＰＣ分析に基づいて、重量平均分子量（Ｍｗ）は１５，３００グラム／モルであり、多分散指数は１．１０であった。
（実施例２）
Ｐ１を調製するのに用いたのと同じ方法を用い、但し２．３４グラムのＡＢＣＶＡと０．５５グラムのＴＥＭＰＯを用いて、２４，１００グラム／モルのＭｗを有する別の酸末端ポリマーＰ２を調製した。ＧＰＣによると、得られた生成物の重量平均分子量は２４，１５０グラム／モルであり、多分散指数（ＰＤＩ）は１．１５であった。
Ｐ１を調製するのに用いたのと同じ方法を用い、但し２．３４グラムのＡＢＣＶＡと０．５５グラムのＴＥＭＰＯを用いて、２４，１００グラム／モルのＭｗを有する別の酸末端ポリマーＰ２を調製した。ＧＰＣによると、得られた生成物の重量平均分子量は２４，１５０グラム／モルであり、多分散指数（ＰＤＩ）は１．１５であった。
５０グラムのＰ２と６０グラムの、１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量パーセント）を用いて実施例１の手順に従うことにより、アジリジン末端ポリ（スチレン）ポリマーをＰ２から調製した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は２４，５００グラム／モルであり、多分散指数は１．１７であった。
（実施例３）
１００グラムのベンジルメタクリレート、１．１７グラムの３−メルカプトプロピオン酸（ＭＰＡ）、０．４４グラムのＡＢＣＶＡ（ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）及び１２５グラムのトルエンを電磁撹拌棒を有する狭小ネックガラスボトルに添加することにより、酸末端ポリ（ベンジルメタクリレート）ポリマーＰ３を調製した。この配合物をよく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このボトルを次に密閉し、回転及び加熱水浴（Ａｔｌａｓ，Ｉｎｃ．（Ａｔｈｅｎｓ，ＧＡ）から商品名Ｌａｕｎｄｅｒ−Ｏ−ｍｅｔｅｒで市販）に７０℃にて２０時間にわたって定置した。冷却後、大過剰の低温メタノールにポリマーをゆっくり添加した。析出物を回収し、真空下で一晩乾燥させて、最終生成物を得た。ＧＰＣ分析に基づいて、重量平均分子量（Ｍｗ）は１６，２５０グラム／モルであり、多分散指数は１．７９であった。
１００グラムのベンジルメタクリレート、１．１７グラムの３−メルカプトプロピオン酸（ＭＰＡ）、０．４４グラムのＡＢＣＶＡ（ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）及び１２５グラムのトルエンを電磁撹拌棒を有する狭小ネックガラスボトルに添加することにより、酸末端ポリ（ベンジルメタクリレート）ポリマーＰ３を調製した。この配合物をよく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このボトルを次に密閉し、回転及び加熱水浴（Ａｔｌａｓ，Ｉｎｃ．（Ａｔｈｅｎｓ，ＧＡ）から商品名Ｌａｕｎｄｅｒ−Ｏ−ｍｅｔｅｒで市販）に７０℃にて２０時間にわたって定置した。冷却後、大過剰の低温メタノールにポリマーをゆっくり添加した。析出物を回収し、真空下で一晩乾燥させて、最終生成物を得た。ＧＰＣ分析に基づいて、重量平均分子量（Ｍｗ）は１６，２５０グラム／モルであり、多分散指数は１．７９であった。
７５グラムのＰ３を１００グラムの１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量パーセント）に溶解させたことを除いて、実施例１と同じ手順工程に従うことにより、Ｐ３からアジリジン末端ポリ（ベンジルメタクリレート）ポリマーを調製した。最終生成物のＧＰＣ分析に基づいて、重量平均分子量（Ｍｗ）は１６，７００グラム／モルであり、多分散指数は１．８０であった。
（実施例４）
ポリマーＰ３を調製するのに用いられたのと同じ方法に従い、但し１００グラムのベンジルメタクリレート、０．４４グラムのＡＢＣＶＡ及び０．６グラムのＭＰＡを用いて、別の酸末端ポリ（ベンジルメタクリレート）ポリマーＰ４を調製した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られたカルボキシ末端ポリマーの重量平均分子量は２８，０００グラム／モルのＭｗを有し、多分散指数（ＰＤＩ）は１．８５である。
ポリマーＰ３を調製するのに用いられたのと同じ方法に従い、但し１００グラムのベンジルメタクリレート、０．４４グラムのＡＢＣＶＡ及び０．６グラムのＭＰＡを用いて、別の酸末端ポリ（ベンジルメタクリレート）ポリマーＰ４を調製した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られたカルボキシ末端ポリマーの重量平均分子量は２８，０００グラム／モルのＭｗを有し、多分散指数（ＰＤＩ）は１．８５である。
７５グラムのＰ４を５０グラムの１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量パーセント）に溶解させたことを除いて、実施例１と同じ手順工程に従うことにより、Ｐ４のアジリジン末端ポリ（ベンジルメタクリレート）ポリマーを調製した。ＧＰＣ分析に基づいて、最終生成物は、重量平均分子量（Ｍｗ）が２８，４００グラム／モルであり、多分散指数は１．９０であった。
（実施例５）
５６グラムのメチルメタクリレートを電磁撹拌棒を有する狭小ネックガラスボトルの中の０．８３グラムのＭＰＡ、０．５５グラムのＡＢＣＶＡ及び４５グラムのトルエンに添加することにより、酸末端ポリ（メチルメタクリレート）ポリマーＰ５を調製した。この配合物をよく混合し、その後、窒素で２０分にわたって起泡させた。次にボトルを密閉し、７０℃にて２０時間にわたって回転及び加熱水浴に定置した。冷却後、大過剰の低温メタノールにポリマーをゆっくり添加した。析出物を回収し、一晩真空下で乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１４，８５０グラム／モルであった。
５６グラムのメチルメタクリレートを電磁撹拌棒を有する狭小ネックガラスボトルの中の０．８３グラムのＭＰＡ、０．５５グラムのＡＢＣＶＡ及び４５グラムのトルエンに添加することにより、酸末端ポリ（メチルメタクリレート）ポリマーＰ５を調製した。この配合物をよく混合し、その後、窒素で２０分にわたって起泡させた。次にボトルを密閉し、７０℃にて２０時間にわたって回転及び加熱水浴に定置した。冷却後、大過剰の低温メタノールにポリマーをゆっくり添加した。析出物を回収し、一晩真空下で乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１４，８５０グラム／モルであった。
５０グラムのＰ５を６６グラムの１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量パーセント）に溶解させたことを除いて、実施例１と同じ手順工程に従うことにより、Ｐ５のアジリジン末端ポリ（メチルメタクリレート）ポリマーを調製した。ＧＰＣ分析に基づいて、最終生成物は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１５，１００グラム／モルであり、多分散指数は１．２６であった。
（実施例６）
ポリマーＰ５を調製したのと同じ方法を用い、但し５６グラムのメチルメタクリレート、０．５５グラムのＡＢＣＶＡ、０．５グラムのＭＰＡ及び４５グラムのトルエンを用いて、別の酸末端ポリ（メチルメタクリレート）ポリマーＰ６を調製した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は２３，６５０グラム／モルであった。
ポリマーＰ５を調製したのと同じ方法を用い、但し５６グラムのメチルメタクリレート、０．５５グラムのＡＢＣＶＡ、０．５グラムのＭＰＡ及び４５グラムのトルエンを用いて、別の酸末端ポリ（メチルメタクリレート）ポリマーＰ６を調製した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は２３，６５０グラム／モルであった。
５５グラムのＰ６を５０グラムの１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量パーセント）に溶解させたことを除いて、実施例１と同じ手順工程に従うことにより、Ｐ６のアジリジン末端ポリ（メチルメタクリレート）ポリマーを調製した。ＧＰＣ分析に基づいて、最終生成物は、重量平均分子量が２４，３００グラム／モルであり、多分散指数は１．３６であった。
（実施例７）
２５グラムのイソボルニルアクリレート、２５グラムのベンジルメタクリレート、０．４グラムのＭＰＡ、０．１５グラムのＶＡＺＯ−６７（ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）からの２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル））及び５０グラムのトルエンを電磁撹拌棒を有する狭小ネックガラスボトルに添加することにより、酸末端ポリ（イソボルニルアクリレート−ベンジルメタクリレート）コポリマーＰ７を調製した。この配合物をよく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。次にボトルを密閉し、７０℃にて２０時間にわたって回転及び加熱水浴に定置した。冷却後、大過剰の低温メタノールにポリマーをゆっくり添加した。析出物を回収し、一晩真空下で乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づくと、得られたコポリマーは１４，９００グラム／モルの重量平均分子量を有し、多分散指数は１．５１であった。
２５グラムのイソボルニルアクリレート、２５グラムのベンジルメタクリレート、０．４グラムのＭＰＡ、０．１５グラムのＶＡＺＯ−６７（ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）からの２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル））及び５０グラムのトルエンを電磁撹拌棒を有する狭小ネックガラスボトルに添加することにより、酸末端ポリ（イソボルニルアクリレート−ベンジルメタクリレート）コポリマーＰ７を調製した。この配合物をよく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。次にボトルを密閉し、７０℃にて２０時間にわたって回転及び加熱水浴に定置した。冷却後、大過剰の低温メタノールにポリマーをゆっくり添加した。析出物を回収し、一晩真空下で乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づくと、得られたコポリマーは１４，９００グラム／モルの重量平均分子量を有し、多分散指数は１．５１であった。
６６グラムのコポリマーＰ７を４０グラムの１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量パーセント）に溶解させたことを除いて、実施例１と同じ手順工程に従うことにより、Ｐ７のアジリジン末端ポリ（イソボリニルアクリレート−ベンジルメタクリレート）ポリマーを調製した。最終生成物のＧＰＣ分析に基づいて、重量平均分子量は１５，２５０グラム／モルであり、多分散指数は１．５６であった。
（実施例８）
４５グラムの処理済みスチレンモノマーと５グラムの処理済みビニルピリジンモノマーと０．７グラムのＡＢＣＶＡ反応開始剤と０．３８３グラムのＴＥＭＰＯ、を電磁撹拌棒を有する２５０ｍＬフラスコに添加することにより、酸末端ポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）ポリマーＰ８を調製した。フラスコをゴムセプタムで封止し、よく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このフラスコを次に１３５℃での油浴に移し、その温度で１０時間にわたって保持した。反応中、最初の赤色のモノマー配合物は、淡黄色のような色に変化した。生成物を放冷し、次に、ゆっくりと大過剰の低温メタノールに添加した。析出したコポリマーを回収し、真空オーブン内で一晩乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１８，８８０グラム／モルであり、多分散指数は１．５６であった。
４５グラムの処理済みスチレンモノマーと５グラムの処理済みビニルピリジンモノマーと０．７グラムのＡＢＣＶＡ反応開始剤と０．３８３グラムのＴＥＭＰＯ、を電磁撹拌棒を有する２５０ｍＬフラスコに添加することにより、酸末端ポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）ポリマーＰ８を調製した。フラスコをゴムセプタムで封止し、よく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このフラスコを次に１３５℃での油浴に移し、その温度で１０時間にわたって保持した。反応中、最初の赤色のモノマー配合物は、淡黄色のような色に変化した。生成物を放冷し、次に、ゆっくりと大過剰の低温メタノールに添加した。析出したコポリマーを回収し、真空オーブン内で一晩乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１８，８８０グラム／モルであり、多分散指数は１．５６であった。
５０グラムのＰ８を４０グラムの１，１’−イソフタライルビス（２−メチルアジリジン）（1,1’-isophthalaylbis（2-methylaziridine））のトルエン溶液（５重量パーセント）に溶解させたことを除いて、実施例１と同じ手順工程に従うことにより、ランダムコポリマーＰ８のアジリジン末端ポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）ポリマーを調製した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１８，２５０グラム／モルであり、多分散指数は１．２８であった。
（実施例９）
４５グラムの処理済みスチレンモノマーを２５０ｍＬのフラスコに０．７グラムのＡＢＣＶＡ、０．３８３グラムのＴＥＭＰＯ及び磁気撹拌棒と共に添加することにより、酸末端ポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）コポリマーＰ９をそれぞれコポリマーの分離性部分の中に隔離されたコモノマーと共に調製した（すなわち、２ブロックを有するブロックコポリマー）。フラスコをゴムセプタムで封止し、よく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このフラスコを次に１３５℃での油浴に移し、その温度で８時間にわたって保持した。反応中、最初の赤色のモノマー配合物は、淡黄色のような色に変化した。
４５グラムの処理済みスチレンモノマーを２５０ｍＬのフラスコに０．７グラムのＡＢＣＶＡ、０．３８３グラムのＴＥＭＰＯ及び磁気撹拌棒と共に添加することにより、酸末端ポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）コポリマーＰ９をそれぞれコポリマーの分離性部分の中に隔離されたコモノマーと共に調製した（すなわち、２ブロックを有するブロックコポリマー）。フラスコをゴムセプタムで封止し、よく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。このフラスコを次に１３５℃での油浴に移し、その温度で８時間にわたって保持した。反応中、最初の赤色のモノマー配合物は、淡黄色のような色に変化した。
８時間後、５グラムのビニルピリジンを窒素雰囲気下で５分にわたって維持し、次に、注射器を用いてポリスチレン反応フラスコに移し、１３５℃の反応温度を更に５時間にわたって保持した。反応生成物を放冷し、次に、ゆっくりと大過剰の低温メタノールに添加した。析出したポリマーを濾過し、回収し、真空オーブン内で一晩乾燥させた。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１５，４００グラム／モルであり、多分散指数は１．３１であった。
Ｐ９からの４０グラムの酸官能性ポリマーを３５グラムの１，１’−イソフタロイルビス（２−メチルアジリジン）のトルエン溶液（５重量パーセント）に溶解させたことを除いて、実施例１と同じ手順工程に従って、ブロックコポリマーＰ９のアジリジン末端ポリ（スチレン−コ−ビニルピリジン）ポリマーを調製した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１６，１１０グラム／モルであり、多分散指数は１．２５であった。
（実施例１０）
２−メチルアジリジン（１５．０５グラム、０．２６モル）を１時間かけて滴下することにより１，６−ジイソシアナトヘキサン（２０．００グラム、０．１２モル、Ａｌｄｒｉｃｈ）のトルエン（４０ｍＬ）溶液に、氷浴で冷却しながら、添加した。室温にて合計２４時間にわたって撹拌した後、溶媒の一部を真空下で除去したところ、無色油（４５．７６グラム、トルエン中７０重量％の濃度）として、Ｎ，Ｎ’−（ヘキサン−１，６−ジイル）ビス−（２−メチルアジリジン−１−カルボキサミド）を得た。
２−メチルアジリジン（１５．０５グラム、０．２６モル）を１時間かけて滴下することにより１，６−ジイソシアナトヘキサン（２０．００グラム、０．１２モル、Ａｌｄｒｉｃｈ）のトルエン（４０ｍＬ）溶液に、氷浴で冷却しながら、添加した。室温にて合計２４時間にわたって撹拌した後、溶媒の一部を真空下で除去したところ、無色油（４５．７６グラム、トルエン中７０重量％の濃度）として、Ｎ，Ｎ’−（ヘキサン−１，６−ジイル）ビス−（２−メチルアジリジン−１−カルボキサミド）を得た。
３００グラムの処理済みスチレンモノマーを１０００ｍＬフラスコに８グラムのＡＢＣＶＡ、２．５グラムのＴＥＭＰＯ及び８０グラムのキシレンと共に添加することにより、酸末端ポリスチレンポリマーＰ１０を調製した。このフラスコを、コンデンサー及び機械的撹拌ブレードを取り付けた温度制御油浴に定置し、よく混合し、窒素で２０分にわたって起泡させた。油浴温度を次に１４０℃に上げて１２時間にわたって維持した。反応中、最初の赤色のモノマー配合物は、淡黄色のような色に変化した。このフラスコを冷却し、その後、２００グラムのトルエンをフラスコに添加して、粘稠なポリマー溶液を溶解させた。次に、メタノールを用いて酸官能性ポリスチレンポリマーＰ１０を析出させ、乾燥させ、テトラヒドロフランに固形分５０重量パーセントで再溶解させた。Ｈ−ＮＭＲ分析は、およそ７８パーセントのスチレン転化を示した。ＧＰＣ分析に基づくと、得られた生成物の重量平均分子量は１７，３５０グラム／モルであり、多分散指数は１．２９であった。
５０重量パーセント酸官能性ポリマー溶液（Ｐ１０、５５グラム）を次に、広口びんの中で、５グラムのＮ，Ｎ’−（ヘキサン−１，６−ジイル）ビス−（２−メチルアジリジン−１−カルボキサミド）溶液（７０重量パーセント）と１２時間にわたって混合し、その後、低温メタノール中に析出させた。得られた固体を濾過し、室温にて一晩真空下で乾燥させたところ、９７パーセント収率で官能化ポリマーを得た。
（実施例１１）
Ｃｙｔｅｋ，Ｉｎｃ．（Ｗｏｏｄｌａｎｄ Ｐａｒｋ，ＮＪ）から入手したＨＤＯＤＡ（ヘキサンジオールジアクリレート、２０．００グラム、０．０９モル）と２−メチルアジリジン（１５．０７グラム、０．２６モル）を室温にて一晩撹拌した。この混合物を真空下に置き、１．５時間にわたって撹拌したところ、無色油（２９．８２グラム）として（３−アジリジン−１−イル−プロピオン酸２−（３−アジリジン−１−イル−プロピオニルオキシ）−ヘキシルエステル）を得た。
Ｃｙｔｅｋ，Ｉｎｃ．（Ｗｏｏｄｌａｎｄ Ｐａｒｋ，ＮＪ）から入手したＨＤＯＤＡ（ヘキサンジオールジアクリレート、２０．００グラム、０．０９モル）と２−メチルアジリジン（１５．０７グラム、０．２６モル）を室温にて一晩撹拌した。この混合物を真空下に置き、１．５時間にわたって撹拌したところ、無色油（２９．８２グラム）として（３−アジリジン−１−イル−プロピオン酸２−（３−アジリジン−１−イル−プロピオニルオキシ）−ヘキシルエステル）を得た。
酸官能性ポリスチレンポリマー溶液（Ｐ１０、７５グラムの５０パーセントポリマー溶液）を次に広口びんの中で、９グラムの（３−アジリジン−１−イル−プロピオン酸２−（３−アジリジン−１−イル−プロピオニルオキシ）−ヘキシルエステル）化合物と１２時間にわたって混合し、次に低温エタノール中に析出させた。得られた固体を濾過し、一晩真空下で乾燥させたところ、９５パーセント収率で官能化ポリマーを得た。
（実施例１２）
イソフタロイルジクロリド（１９５０グラム、９．６０モル）を、電磁撹拌機、温度及び起泡機を取り付けた３Ｌ三口丸底フラスコに添加した。このフラスコを５５℃にて加熱した。次に、１，１０−デカンジオール（１１２グラム、０．６４モル）をフラスコに少しずつ添加した。この反応混合物を５５℃にて１時間にわたって撹拌した後、過剰なイソフタロイルジクロリドを真空蒸留（２００ｍＴｏｒｒ（２６．７Ｐａ）、１００℃）により回収し、再利用した。イソフタロイルジクロリド残留物を完全に回収できるように、蒸留しながら乾燥窒素流を混合物を通して起泡させた。生成物は、白色固体（３１１グラム）であり、１，１０−デカンジオールビス（３−クロロカルボニル安息香酸）エステルであった。
イソフタロイルジクロリド（１９５０グラム、９．６０モル）を、電磁撹拌機、温度及び起泡機を取り付けた３Ｌ三口丸底フラスコに添加した。このフラスコを５５℃にて加熱した。次に、１，１０−デカンジオール（１１２グラム、０．６４モル）をフラスコに少しずつ添加した。この反応混合物を５５℃にて１時間にわたって撹拌した後、過剰なイソフタロイルジクロリドを真空蒸留（２００ｍＴｏｒｒ（２６．７Ｐａ）、１００℃）により回収し、再利用した。イソフタロイルジクロリド残留物を完全に回収できるように、蒸留しながら乾燥窒素流を混合物を通して起泡させた。生成物は、白色固体（３１１グラム）であり、１，１０−デカンジオールビス（３−クロロカルボニル安息香酸）エステルであった。
ＮａＯＨ水溶液（１０．０重量％溶液５６３グラム）、トルエン（５００ｍＬ）及び２−メチルアジリジン（純度９０％の２−メチルアジリジン８９．３グラム、１．４１モル）を、電磁撹拌機、温度計及び添加漏斗を取り付けた３Ｌ三口丸底フラスコに添加した。この混合物を撹拌し、−１０℃〜−５℃の範囲で冷却した。この撹拌済み混合物に、１，１０−デカンジオールビス（３−クロロカルボニル安息香酸）エステル（３１１グラム）のトルエン（５００ｍＬ）溶液を３０分間かけて添加した。添加が完了してから、混合物を室温にて一晩撹拌した。有機相を次に水で洗浄し、硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ４）上で乾燥させ、濾過し、室温にて真空下で濃縮した。この生成物は、淡黄色油としての３３１．５グラムの１，１０−デカンジオールビス（３−（２−メチルアジリジン−１−カルボニル）安息香酸）エステルであった。次に、この物質のトルエン溶液（１５重量％）を調製した。
酸官能性ポリマー溶液（Ｐ１０、２５グラム）を次に、広口びんの中で、２３グラムの１，１０−デカンジオールビス−（３−（２−メチルアジリジン−１−カルボニル）安息香酸）エステル溶液（１５重量パーセント）と１２時間にわたって混合し、その後、低温メタノール中に析出させた。得られた固体を濾過し、一晩真空下で乾燥させたところ、９８パーセント収率で官能化ポリマーを得た。
（実施例１３）
イソフタロイルジクロリド（８１２グラム、４．０モル）を、電磁撹拌機、温度計及びアダプターを取り付けた１Ｌ三口丸底フラスコに添加した。このフラスコを１００℃にて加熱した。このフラスコに、ポリ（エチレングリコール）１０００（１５８グラム、０．１６モル、重量平均分子量約１０００グラム／モル）を２５回に分けて添加した。この反応混合物を１００℃にて１時間にわたって撹拌した後、過剰なイソフタロイルジクロリドを真空蒸留（２００ｍＴｏｒｒ（２６．７Ｐａ）、１００℃）により回収し、再利用した。イソフタロイルジクロリド残留物を完全に回収できるように、蒸留しながら乾燥窒素流を混合物を通して起泡させた。淡黄色液体（２１０グラム）であるポリ（エチレングリコール）１０００ビス（３−クロロカルボニル安息香酸）を生成物として得た。
イソフタロイルジクロリド（８１２グラム、４．０モル）を、電磁撹拌機、温度計及びアダプターを取り付けた１Ｌ三口丸底フラスコに添加した。このフラスコを１００℃にて加熱した。このフラスコに、ポリ（エチレングリコール）１０００（１５８グラム、０．１６モル、重量平均分子量約１０００グラム／モル）を２５回に分けて添加した。この反応混合物を１００℃にて１時間にわたって撹拌した後、過剰なイソフタロイルジクロリドを真空蒸留（２００ｍＴｏｒｒ（２６．７Ｐａ）、１００℃）により回収し、再利用した。イソフタロイルジクロリド残留物を完全に回収できるように、蒸留しながら乾燥窒素流を混合物を通して起泡させた。淡黄色液体（２１０グラム）であるポリ（エチレングリコール）１０００ビス（３−クロロカルボニル安息香酸）を生成物として得た。
トリエチルアミン（３５．１グラム、０．３５モル）、２−メチルアジリジン（純度９０％の２−メチルアジリジン２２．０グラム、０．３５モル）及びＣＨ２Ｃｌ２（２５０ｍＬ）を、電磁撹拌機、温度計及び添加漏斗を取り付けた１Ｌ三口丸底フラスコに添加した。この混合物を撹拌し、−１０℃に冷却した。ポリ（エチレングリコール）１０００ビス（３−クロロカルボニル安息香酸）エステル（２１０グラム）のＣＨ２Ｃｌ２（２５０ｍＬ）溶液を６０分間かけて添加した。この混合物を室温にて１１０時間にわたって撹拌しておき、その後、白色の析出物を濾過により回収した。濾液を高圧下で室温にて濃縮したところ、淡黄色液体として２０３グラムの（ポリ（エチレングリコール）１０００ビス（３−（２−メチルアジリジン−１−カルボニル）安息香酸）エステルを得た。次に、この物質のトルエン溶液（４０重量％）を調製した。
酸官能性ポリマー溶液（Ｐ１０、２０グラム）を次に、広口びんの中で、２４グラムの（ポリ（エチレングリコール）１０００−ビス−（３−（２−メチルアジリジン−１−カルボニル）安息香酸）溶液と１２時間にわたって混合し、その後、低温メタノール中に析出させた。得られた固体を濾過し、一晩真空下で乾燥させたところ、９２パーセント収率で官能化ポリマーを得た。
Claims (1)
- 単一のアジリジニル基を有する式（Ｉ）の化合物。
（式中、
各Ｒ １ は独立して水素又はアルキルであり、
Ｒ ２ は、アルキレン、ヘテロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン又はこれらの組み合わせを含む二価の基であり、任意選択で、オキシ、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、−ＮＲ ３ −、又はこれらの組み合わせを更に含み、
Ｒ ３ は、水素又はアルキルであり、
Ｑは、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマーを含むモノマー組成物の重合生成物を含むポリマー基であり、ただし、Ｑはカルボキシル基を有さない。）
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