JP5784037B2 - 直鎖アルファ−オレフィンの異性化 - Google Patents
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Description
本発明の異性化は、連続法が可能な任意の所望の装置内で実施することができる。異性化は、好ましくは、本発明により使用することができる固定床触媒を含む管反応器内で下降流モードで実施する。この場合、管反応器は、好ましくは、例えばフィルタープレート、静的ミキサーまたはノズルの形態のガス分配器を上部に含む。ガス分配器は、反応器横断面に好ましくは均質にガスが供給されるようにガス混合物(水素/窒素)を導入するのに役立つ。異性化すべき化合物を最初に加熱帯域に導通させ、ガスと混合し、反応器内にフィードする。触媒上の空間速度は、好ましくは70から99%、特に好ましくは90から99%の変換率が反応器出口において達成されるように設定する。水素の供給は、0.1から5bar、好ましくは0.1から2bar、特に0.1から1barの水素分圧が維持されるように温度および全圧に応じて設定する。導通させた水素は、反応器出口からの低沸点物の凝縮後、オフガスとして排出させ、またはプロセスに再循環させることができる。
異性化は、好ましくは、0.5から5bar(絶対圧)、特に0.8から2bar(絶対圧)の圧力において実施する。
異性化すべき直鎖アルファ−オレフィンは、均質化合物として、または異なる鎖長を有する炭化水素の混合物として存在し得る。市販の直鎖アルファ−オレフィンの例は、C16−C18−オレフィンである。好ましい実施形態において、直鎖アルファ−オレフィンはモノオレフィンである。実験式C18H36を有する直鎖アルファ−オレフィンが特に好ましい。
水性アンモニア性ケイ酸ナトリウム溶液を撹拌容器内に装入した。水性硫酸により撹拌しながら二酸化ケイ素を沈殿させた。得られた沈殿物を濾別し、洗浄し、続いて噴霧乾燥した。噴霧乾燥は、得られる二酸化ケイ素粉末が、900℃における2時間後の25から35重量%の範囲内の強熱減量に対応する含水率を有するように実施した。このように得られた二酸化ケイ素粉末を、水およびしゃく解剤としてのアンモニアを使用してペーストにし、加圧して3mmの直径を有する押出物を形成させた。押出物を乾燥オーブン内で120から150℃において乾燥させ、続いて820から870℃においてか焼した。
使用した反応器は、6mmの内径および124cmの長さを有する二重壁ガラス反応器であった。この反応器に上記触媒を充填し、5l/hの窒素によりフラッシュした。続いて、触媒を1時間の20l/hの水素中での150℃における還元により活性化した。
本発明により使用することができる触媒を充填した反応器を、以下の条件下で開始した:
20g/hの1−オクタデセン
2.5l/hの水素(H2)および
3.5l/hの窒素(N2)
のフィード流
温度:140℃
実行時間:6日間
触媒上の空間速度:2.2g/ml×h
20g/hの1−オクタデセン
2.5l/hの水素(H2)および
3.5l/hの窒素(N2)
のフィード流
温度:140℃
実行時間:5日間
触媒上の空間速度:2.2g/ml×h
50g/hの1−オクタデセン
0.1−0.3l/hの水素(H2)および
2.9l/hの窒素(N2)
のフィード流
温度:115−140℃
実行時間:14日間
Claims (12)
- 16から18個の炭素原子を有する直鎖アルファ−オレフィンを不均一触媒上で異性化する方法であって、該不均一触媒が担体上のパラジウムならびにセレンおよび/またはテルルを含む方法。
- 該担体が二酸化ケイ素から成る、請求項1に記載の方法。
- 二酸化ケイ素担体上のパラジウムおよびセレンもしくはテルルまたはパラジウムならびにセレンおよびテルルの混合物を含み、80から380m2/gのBET表面積、0.6から0.95cm3/gの細孔体積および3nmから300μmの細孔直径を有し、該細孔体積の80から95%が10から100nmの細孔直径範囲内である触媒を使用する、請求項1および2のいずれか一項に記載の方法。
- 該触媒が、該触媒の全重量に対して0.1から2.0重量%のパラジウムならびに0.01から0.2重量%のセレン、テルルまたはセレンおよびテルルの混合物を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 該触媒が、100から150m2/gのBET表面積を有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 該触媒が、0.01から0.07重量%のSeによりドープされている、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 該直鎖アルファ−オレフィンがモノオレフィンである、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 該異性化を100から120℃の温度において行う、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- 該異性化を0.5から5bar(絶対圧)の圧力において実施する、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 該異性化を水素または水素および不活性ガスの混合物の存在下で行う、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 該異性化において使用する不活性ガスが窒素(N2)であり、使用する水素をN2に対して5から50mol%の量で使用する、請求項10に記載の方法。
- 該異性化を固定床触媒上で行う、請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。
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