JP5762604B2 - マイクロ構造伝送光ファイバ - Google Patents
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Description
本発明は、米国仮特許出願第61/063,986号(出願日2008年2月7日、発明名称「Microstructured Transmission Optical Fiber」)及び米国仮特許出願第61/126,608号(出願日2008年5月6日、発明名称「Microstructured Transmission Optical Fiber」)の利益及び優先権を主張し、これらの出願の内容は、参照することによって全体が本願に包含される。
炉設定温度(Tε)=1985℃;ガラス軟化点(Tσ)=1630℃;(Tε+Tσ)/2=1.60×10-9cm2/秒におけるガス拡散性;ファイバ内の区域ボイド領域割合、φf=0.042;プリフォームルート長さ(Lroot)=30.9cm;ファイバドロー速度(Vf)=1000cm/秒;ファイバ半径(Rf)=0.00625cm
本発明は、以下の実施例によってさらに説明される。他に記載が無くとも、以下の実施例の各々において、ファイバがドローされた際は、ファイバは従来のコーティングを用いてコーティングされる(すなわち従来のアクリレート(acrylate)ベースの主コーティング及び補助コーティング)。
490グラムのSiO2(0.39g/cc密度)スートが外部気相堆積法(OVD)を用いて、完全に硬化された1メートル長×20mm直径ステップインデックス(約0.34パーセントデルタ、0.43コア/クラッド直径比を有する)の中空でないGeO2−SiO2コア−SiO2クラッドボイド無しコアケインに堆積されたので、硬化されたボイド無しコア領域を含むプリフォーム(ブランク、光学ブランク、または光プリフォームと称される)が形成され、当該コア領域は、硬化されたボイド無しシリカクラッド領域によって囲繞され、当該シリカクラッド領域は、スートシリカ領域によって囲繞された。このアセンブリのスートクラッドは、その後、以下の様に焼結させられた。このアセンブリは、最初に、ヘリウム、10パーセントの塩素、1パーセントのCO(全て体積ガスパーセント)から成る雰囲気内で2時間、炉の上部領域部分1100℃で乾燥させられた。その後、200mm/分(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の温度の約100℃/分の上昇に対応して)で、100パーセントクリプトン(体積パーセント)焼結雰囲気内で約1500℃に設定された高温領域を通って下方に移動させられた。このプリフォームアセンブリは、その後、高温領域を通して100mm/分(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約50℃/分の温度上昇に対応して)で再度(すなわち2度目)下方に移動させられた。このプリフォームアセンブリは、その後、高温領域を通して50mm/分(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約25℃/分の温度上昇に対応して)で再度(すなわち3度目)下方に移動させられた。このプリフォームアセンブリは、その後、高温領域を通して25mm/分(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約12.5℃/分の温度上昇に対応して)で再度(すなわち4度目)下方に移動させられ、最後に、6mm/分(約3℃/分加熱速度)で焼結され、このスートが、クリプトン散在シリカオーバークラッドプリフォームに焼結された。下方移動ステップの各々に続いて、このプリフォームアセンブリは、炉の上部領域部分内(1100℃設定に維持されている)に200mm/分で上方移動させられた。最初の一連のより速い下方送り速度は、光ファイバプリフォームの外側をグレージング(glaze)するのに使用され、このことはプリフォーム内にガスを捕捉することを容易にする。プリフォームは、その後、1000℃に設定されたアルゴンパージ保持炉内に24時間置かれ、プリフォーム内に残留しているヘリウムが放出させられた。このプリフォームは、その後、約1780℃に設定された従来のグラファイトリドロー炉においてアルゴン雰囲気内でリドローされ、ボイド無しGeO2−SiO2コア、ボイド無しSiO2クラッド、クリプトンが散在している(クリプトンガスを含んだ不規則に配されたボイド)シリカオーバークラッドケインにされた。このケインは11mmの直径で1メートルの長さである。11mmケインの1つは、旋盤(lathe)内に戻され、そこで4000グラムの追加SiO2(0.42g/cc密度)スートがOVDによって堆積させられた。このアセンブリに対する当該クラッド(オーバークラッドとも称される)のスートは、その後、以下のように焼結させられた。このアセンブリは、最初にヘリウム及び3パーセントの塩素雰囲気下、1100℃で2時間乾燥させられ、その後、100%ヘリウム(質量%)雰囲気で1500℃に設定されている高温領域を通って6mm/分で下方に移動させられて、スートが、酸化ゲルマニウム含有ボイド無しコア、シリカボイド無し内側クラッド、クリプトン散在シリカリング(すなわち、クリプトンを含むボイドを有するシリカ)、及びボイド無しオーバークラッドプリフォームに焼結させられた。プリフォームは、1000℃に設定されたアルゴンパージ保持炉内に24時間置かれ、プリフォームからヘリウムが放出させられた。この光ファイバプリフォームは、125ミクロン直径光ファイバとして10kmドローされ、この光ファイバは、10m/sで約1900℃から2000℃のヘリウム雰囲気の耐グラファイト炉において約4.5ミクロンのコア半径を有し、当該耐グラファイト炉は、以下の表1に記載されているような、要素長さが4インチまたは8インチで3.5インチの内側直径を有している。光プリフォームの温度は、光ファイバの張力を監視して調整することによって制御させられた;このファイバ張力は、ファイバドロー距離の各々の部分の間で50グラムと600グラムとの間の1つの値に維持された。値は表1に列挙している。実施例1−4として示されるこれらのファイバの光学特性及び物理特性(SEM解析を含む)も表1に列挙されている。
730グラムのSiO2(密度0.4g/cc)スートが、OVDを用いて、完全に硬化された1メートル長×20mm直径のステップインデックス(約0.34パーセントデルタ、0.42コア/クラッド直径比を有する)中空でないGeO2−SiO2コア−SiO2クラッドボイド無しコアケインに堆積されるので、硬化されたボイド無しシリカクラッド領域に囲繞され、次にスートシリカ領域に囲繞されている硬化されたボイド無しコア領域を含むプリフォームが形成された。このアセンブリのスートクラッドは、その後、以下のように焼結させられる。このアセンブリは、最初に、炉の上部領域部分内で、1100℃のヘリウムと3パーセントの塩素から成る雰囲気(全てのガスは体積パーセント)の中で2時間乾燥させられ、その後、50パーセントの窒素に50パーセントのヘリウムを足した(体積パーセント)焼結雰囲気内で、約1500℃に設定された高温領域を通って200mm/分で下方に移動させられた(下方移動プロセス中のスートプリフォームの外側の約100℃/分の温度上昇に対応している)。このプリフォームアセンブリは、その後、100mm/分で高温領域を通って再度(すなわち、2回目)下方に移動させられた(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約50℃/分の温度上昇に対応する)。このプリフォームアセンブリは、その後、50mm/分で高温領域を通って再度(すなわち、3回目)下方に移動させられた(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約25℃/分の温度上昇に対応する)。このプリフォームアセンブリは、その後、25mm/分で高温領域を通って再度(すなわち、4回目)下方に移動させられ(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約12.5℃/分の温度上昇に対応する)、6mm/分(約3℃/分加熱速度)で最終的に焼結させられて、このスートが窒素散在シリカオーバークラッドプリフォームに焼結させられた。下方移動プロセスの各々に続いて、プリフォームは炉の上部領域部分内(1100℃に設定され続けている)へ200mm/分で上方に移動させられた。第1の一連のより高い下方送り速度が光ファイバプリフォームの外側をグレージングするのに用いられ、プリフォーム内にガスが捕捉され易くされた。プリフォームは、その後、1000℃に設定されたアルゴンパージ保持炉内で24時間置かれ、残っているヘリウムがプリフォームから放出させられた。このプリフォームは、その後、約1780℃に設定された従来のグラファイト再ドロー炉のアルゴン雰囲気内で、ボイド無しGeO2−SiO2コア、ボイド無しSiO2クラッド、12mm直径で1メートルの窒素散在シリカオーバークラッドケインにリドローされた。12mmケインの1つは、旋盤(lathe)内に戻され、そこで4000グラムの追加のSiO2(密度0.42g/cc)スートがOVDによって堆積させられた。このアセンブリのクラッドのスート(オーバークラッドとも称され得る)は、その後、以下のように焼結させられた。このアセンブリは、最初に、ヘリウム及び3パーセントの塩素から成る雰囲気内において1100度で2時間乾燥させられ、その後、100%ヘリウム(体積パーセント)雰囲気内で1500℃に設定された高温領域を通して6mm/分で下方に移動させられて、当該スートが、酸化ゲルマニウム含有ボイド無しコア、ボイド無しシリカ内側クラッド、窒素散在シリカリング(すなわち窒素を含むボイドを有するシリカ)、及びボイド無しオーバークラッドプリフォームに焼結させられた。このプリフォームが1000℃に設定されたアルゴンパージ保持炉内に24時間置かれて、ヘリウムがプリフォームから放出させられた。光ファイバプリフォームは、実施例1に記載されたような耐グラファイト炉における約1900℃から2000℃のヘリウム雰囲気内において、10m/sで、約4.5ミクロンのコア半径を有する125ミクロン直径で10Km長の光ファイバにドローされた。光プリフォームの温度は、光ファイバの張力を監視して調整することによって制御された;ファイバ張力は、ファイバドロー経路の各々の部分間(例えば10Km長)で50グラムと600グラムとの間の1つの値に維持され、その値は表1に列挙されている。実施例5−8として示されているファイバの光学特性及び物理特性(SEM解析を含む)も、上記表1に列挙されている。
実施例9−16に示されているファイバは、表1に示されたプロセスの相違を除いては、実施例1−4及び5−8に関して説明されてきたのと同様のプロセスを用いて形成された。この光ファイバプリフォームは、約4.5ミクロンのコア半径を有する125ミクロン直径で10km長の光ファイバにドローされた。
約520グラムのSiO2(密度0.4g/cc)スートが、OVDによって、完全に硬化された1メートル長×20mm直径ステップインデックス(約0.34パーセントデルタ、0.40コア/クラッド直径比を有する)中空でないGeO2−SiO2コア−SiO2クラッドボイド無しコアケインに堆積され、硬化されたボイド無しシリカクラッド領域に囲繞され、さらにスートシリカ領域に囲繞された硬化ボイド無しコア領域を含むプリフォームがもたらされた。このアセンブリのスートクラッドは、その後、以下のように焼結させられた。このアセンブリは、最初に、炉の上部領域部分において、1240℃ヘリウム及び2パーセントのCO(全てのガスは体積パーセント)から成る雰囲気内で4時間乾燥させられ、その後、100パーセント二酸化硫黄(体積パーセント)焼結雰囲気内で1500℃の高温領域を通って、200mm/分(この下方移動プロセスの間のスートプリフォーム外側の約100℃/分の温度上昇に対応する)で下方に移動させられた。このプリフォームアセンブリは、その後、100mm/分で高温領域を通って再度(すなわち、2回目)下方に移動させられた(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約50℃/分の温度上昇に対応する)。このプリフォームアセンブリは、その後、50mm/分で高温領域を通って再度(すなわち、3回目)下方に移動させられた(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約25℃/分の温度上昇に対応する)。このプリフォームアセンブリは、その後、25mm/分で高温領域を通って再度(すなわち、4回目)下方に移動させられ(下方移動プロセスの間のスートプリフォームの外側の約12.5℃/分の温度上昇に対応する)、6mm/分(約3℃/分加熱速度)で最終的に焼結させられて、このスートが二酸化硫黄散在シリカオーバークラッドプリフォームに焼結させられた。下方移動プロセスの各々に続いて、プリフォームは炉の上部領域部分内(1200℃に再設定されている)へ200mm/分で上方に移動させられた。第1の一連のより高い下方送り速度が光ファイバプリフォームの外側をグレージングするのに用いられ、プリフォーム内にガスが捕捉され易くされた。プリフォームは、その後、1000℃に設定されたアルゴンパージ保持炉内で24時間置かれ、残っているヘリウムがプリフォームから放出させられた。このプリフォームは、その後、約1780℃に設定された従来のグラファイト再ドロー炉のアルゴン雰囲気内で、ボイド無しGeO2−SiO2コア、ボイド無しSiO2クラッド、10.6mm直径で1メートルの二酸化硫黄散在シリカオーバークラッドケインにリドローされた。10.6mmケインの1つは、旋盤(lathe)内に戻され、そこで4100グラムの追加のSiO2(密度0.42g/cc)スートがOVDによって堆積させられた。のアセンブリのクラッドのスート(オーバークラッドとも称され得る)は、その後、以下のように焼結させられた。このアセンブリは、最初に、ヘリウム及び3パーセントの塩素から成る雰囲気内において1100度で2時間乾燥させられ、その後、100%ヘリウム(体積パーセント)雰囲気内で1500℃に設定された高温領域を通して6mm/分で下方に移動させられて、当該スートが、酸化ゲルマニウム含有ボイド無しコア、ボイド無しシリカ内側クラッド、二酸化硫黄散在シリカリング(すなわち二酸化硫黄を含むボイドを有するシリカ)、及びボイド無しオーバークラッドプリフォームに焼結させられた。このプリフォームが1000℃に設定されたアルゴンパージ保持炉内に24時間置かれて、ヘリウムがプリフォームから放出させられた。光ファイバプリフォームは、実施例1に記載されたような耐グラファイト炉における約1900℃から2000℃のヘリウム雰囲気内において、10m/sで、約4.5ミクロンのコア半径を有する125ミクロン直径で5Km長の光ファイバにドローされた。光プリフォームの温度は、光ファイバの張力を監視して調整することによって制御された;ファイバ張力は、ファイバドロー経路の各々の部分間(例えば5Km長)で50グラムと600グラムとの間の1つの値に維持され、その値は表2に列挙されている。これらのファイバの光学特性及び物理特性(SEM解析を含む)は、以下の通りである。
Claims (4)
- 不規則に分布させられたボイドを含む光ファイバの製造方法であって、前記方法が、不規則に分布させられたボイドを有するプリフォームから、5×10-7未満のプロセスパラメータΩをもたらすのに有効な条件下で前記ファイバをドローするステップを含み、
Tavgは、℃単位であって光ファイバプリフォームの軟化点温度及びピークドロー炉温度の平均であり、φfは区域ボイド領域率であり、Lrootは、前記プリフォームが最終のファイバドロー直径に達した際のネックダウン領域の開始点から終了点までで測定されたcm単位のドロールート長さであり、Vfは、cm/秒単位のファイバドロー速度であり、Rfは、cm単位の最終ファイバ半径であることを特徴とする製造方法。 - 請求項1に記載の製造方法であって、200gより大きいドロー張力で前記ファイバをドローするステップをさらに含むことを特徴とする製造方法。
- 請求項1に記載の製造方法であって、250グラムと300グラムとの間のドロー張力で前記ファイバをドローするステップをさらに含むことを特徴とする製造方法。
- 請求項1に記載の製造方法であって、Ωが3×10-7未満であることを特徴とする製造方法。
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