JP5746484B2 - シベレスタットの合成方法 - Google Patents
シベレスタットの合成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5746484B2 JP5746484B2 JP2010170367A JP2010170367A JP5746484B2 JP 5746484 B2 JP5746484 B2 JP 5746484B2 JP 2010170367 A JP2010170367 A JP 2010170367A JP 2010170367 A JP2010170367 A JP 2010170367A JP 5746484 B2 JP5746484 B2 JP 5746484B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- phenyl
- give
- benzyl
- sodium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 CC(C)(C)C(OC(*1)=CN=C1I(I)=C)=* Chemical compound CC(C)(C)C(OC(*1)=CN=C1I(I)=C)=* 0.000 description 2
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/22—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C311/29—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
本発明は、4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムおよび無水イサト酸から出発して、シベレスタット(1)、すなわち2-(2-(4-(ピバロイルオキシ)フェニルスルホンアミド)ベンズアミド)酢酸を調製する方法に関する。
シベレスタットは、全身性炎症反応症候群を伴う急性肺炎症の治療に適応されるヒト好中球エラスターゼである。より詳しくは、シベレスタットナトリウム四水和物が治療に用いられる。シベレスタットの合成は、EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134 (小野薬品工業株式会社)に開示されている。シベレスタットの主な合成スキームが以下に報告されている。
・EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134によるシベレスタットナトリウム四水和物の合成
・EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134によるシベレスタットナトリウム四水和物の合成
この方法は、それぞれの出発材料4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３および2-ニトロ安息香酸７から中間体６および１０が別々に得られる収束合成に基づくものである。中間体６は中間体１０と反応して中間体１１を与え、これは次に脱ベンジル化されてシベレスタットを与え、次に、このシベレスタットを水の存在下に塩化して四水和物ナトリウム塩２を得ることができる。前記方法は、最終的塩化以外に、7つの合成工程を含む。既知の方法は、全ての中間体を単離して乾燥することを含み、それにより、効率および生産性に影響を与え、最終生成物の労働費用に大きな影響が及ぶ。全収率は、4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３から出発して22%未満であり、中間体５の合成の工程は、特に収率が低く、産業的方法には不満足なものである。さらに、中間体５の合成は水中で行われ、（中間体６の調製のための塩化チオニルを用いる）次の工程は水と不適合であるので、中間体５を回収および乾燥することが必須であり、そのために、プロセス所要時間が非常に長く、生産性が非効率的である。
JP 09040692(小野薬品工業株式会社)は、以下のスキームに従う、シベレスタットおよびその四水和物ナトリウム塩の合成のための手順を開示している。
・JP 0904092に従うシベレスタットナトリウム四水和物の合成
・JP 0904092に従うシベレスタットナトリウム四水和物の合成
JP 9040692に開示のシベレスタットの合成は、最終的な塩化に加え、5つの合成工程を含む。EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134に開示の合成手順と比べると、合成のための2つの出発材料の一方（2-ニトロ安息香酸７）が、市販のアントラニル酸１２に取り換えられ、そのために、方法が工程数という事項において単純化されるが、反応に比較的費用のかかる塩化トリメチルシリルを用いたトリメチルシリル誘導体１５の状態でグリシン１４のカルボキシル基を保護する必要がある。
特許出願IN 2007MU01508（Macleods Pharmaceuticals Ltd.）に開示されたシベレスタットおよびその四水和物ナトリウム塩の合成のためのもう一つの手順が、以下のスキームに報告されている。
・IN 2007MU01508によるシベレスタットナトリウム四水和物の合成
・IN 2007MU01508によるシベレスタットナトリウム四水和物の合成
前記合成は、塩化に加えて、6つの工程を含む。この方法は、JP 9040692に記載のものと同様に、塩化トリメチルシリルの使用を含む。
以下の公報は、先に報告した最初のスキームのものと同様に、シベレスタット、ナトリウム塩および四水和物ナトリウム塩の調製のための方法を開示している。
・シベレスタットナトリウムの合成。Huaxue Shijie (2004), 45(1), 29-31, 25。
・シベレスタットナトリウム水和物の調製。Nanjing Gongye Daxue Xuebao, Ziran Kexueban (2005), 27(1), 89-92。
・シベレスタットナトリウムの合成。Zhongguo Yiyao Gongye Zazhi (2003), 34(8), 369-370. 399。
・シベレスタットの合成。Zhongguo Yaowu Huaxue Zazhi (2006), 16(2), 79-81, 111。
Hecheng Huaxue (2004), 12(6), 580-582は、JP 09040692と同じ合成スキームに基づくシベレスタットナトリウム塩の調製方法を記載している。
・シベレスタットナトリウムの合成。Huaxue Shijie (2004), 45(1), 29-31, 25。
・シベレスタットナトリウム水和物の調製。Nanjing Gongye Daxue Xuebao, Ziran Kexueban (2005), 27(1), 89-92。
・シベレスタットナトリウムの合成。Zhongguo Yiyao Gongye Zazhi (2003), 34(8), 369-370. 399。
・シベレスタットの合成。Zhongguo Yaowu Huaxue Zazhi (2006), 16(2), 79-81, 111。
Hecheng Huaxue (2004), 12(6), 580-582は、JP 09040692と同じ合成スキームに基づくシベレスタットナトリウム塩の調製方法を記載している。
Biorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134
Huaxue Shijie (2004), 45(1), 29-31, 25
Nanjing Gongye Daxue Xuebao, Ziran Kexueban (2005), 27(1), 89-92
Zhongguo Yiyao Gongye Zazhi (2003), 34(8), 369-370. 399
Zhongguo Yaowu Huaxue Zazhi (2006), 16(2), 79-81, 111
Hecheng Huaxue (2004), 12(6), 580-582
今回、以下に報告された新規合成手順により、シベレスタットおよびシベレスタットナトリウム四水和物を利用し易い方法により調製することができることが発見された。
本発明によるシベレスタットナトリウム四水和物の合成
本発明によるシベレスタットナトリウム四水和物の合成
本発明の方法は、以下の工程を含む。
a) 4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３を有機塩基の存在下に塩化ピバロイルと反応させて、対応する4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩を得る工程、
b) a)で得られた4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩をハロゲン化剤と反応させて、ピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルを得る工程、
c) 無水イサト酸をグリシン酸ベンジル（benzyl glycinate:ベンジル グリシネート）と反応させて、2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を得る工程、
d) 2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０をピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルと反応させて、ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を得る工程、
e) ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を脱ベンジル化反応させて、シベレスタット１を得る工程、および
f) シベレスタット１を塩化して、シベレスタット四水和物ナトリウム塩２を得る工程。
b) a)で得られた4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩をハロゲン化剤と反応させて、ピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルを得る工程、
c) 無水イサト酸をグリシン酸ベンジル（benzyl glycinate:ベンジル グリシネート）と反応させて、2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を得る工程、
d) 2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０をピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルと反応させて、ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を得る工程、
e) ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を脱ベンジル化反応させて、シベレスタット１を得る工程、および
f) シベレスタット１を塩化して、シベレスタット四水和物ナトリウム塩２を得る工程。
アルキル、アリールまたはアルキル-アリールアミン、例えば、トリエチルアミン、ベンジルアミン等が、有機塩基として好ましく用いられる。
この場合、アルキル、アリールおよびアルキル-アリールアンモニウム4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩の合成は、有機塩基、好ましくはトリエチルアミンの存在下に、有機溶媒中、好ましくは、トルエンのような芳香族溶媒、ジクロロメタンのような塩素化溶媒、およびそれらの混合物中において行われる。トリエチルアミンを用いる場合、中間体１９が得られる。
ピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルの合成は、従来のハロゲン化剤、例えば、塩化チオニル、塩化オキサリル、オキシ塩化リン、好ましくは、塩化チオニルを用いて行われる。塩化チエニルを用いる場合、中間体６が得られる。
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０の合成は、グリシン酸ベンジルまたはその市販の塩、例えば、塩酸塩またはp-トルエンスルホン酸塩を塩基として用いて行われる。
中間体１９は新規であり、本発明の対象でもある。
本発明の好ましい態様によれば、方法は以下のように行われる。
工程ａ
典型的には、4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３を、1.5〜3.0当量、好ましくは2.0〜2.5当量の有機塩基、好ましくはトリエチルアミンの存在下に、1.0〜2.0当量、好ましくは1.0〜1.5当量の塩化ピバロイルと反応させる。反応は、トルエンのような芳香族溶媒、ジクロロメタンのような塩素化溶媒、およびそれらの混合物、好ましくは、ジクロロメタン中において、０℃〜４０℃、好ましくは２０℃〜３０℃の温度で行われる。4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３の量に対して2〜15体積、好ましくは4〜8体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム１９を油状物として得ることができ、これを数日間貯蔵することができる。あるいは、本発明の好ましい態様によれば、得られる溶液を、工程ｂにおいて直接用いる。
工程ａ
典型的には、4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３を、1.5〜3.0当量、好ましくは2.0〜2.5当量の有機塩基、好ましくはトリエチルアミンの存在下に、1.0〜2.0当量、好ましくは1.0〜1.5当量の塩化ピバロイルと反応させる。反応は、トルエンのような芳香族溶媒、ジクロロメタンのような塩素化溶媒、およびそれらの混合物、好ましくは、ジクロロメタン中において、０℃〜４０℃、好ましくは２０℃〜３０℃の温度で行われる。4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３の量に対して2〜15体積、好ましくは4〜8体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム１９を油状物として得ることができ、これを数日間貯蔵することができる。あるいは、本発明の好ましい態様によれば、得られる溶液を、工程ｂにおいて直接用いる。
2〜15体積の水を加え、相を分離し、溶媒が完全に除去されるまで有機相を濃縮して、油状物としての4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム塩１９を得る。4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム１９を油状物として得る。
工程ｂ
典型的には、工程a)からの4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム１９（油状物として単離したもの、または、最終反応溶液から直接）を、触媒量(0.3当量)のN,N-ジメチルホルムアミドの存在下に、トルエンのような芳香族溶媒、ジクロロメタンのような塩素化溶媒、およびそれらの混合物、好ましくはジクロロメタン中で、1.0〜3.0当量、好ましくは1.2〜1.6当量の塩化チオニルまたは好ましくは塩化オキサリルと反応させることができる。塩化チオニルを用いる場合、反応は0℃〜40℃、好ましくは20℃〜30℃の温度で行われ、一方、塩化オキサリルを用いる場合、反応は0℃〜10℃の温度で行われる。4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム１９の量に対して2〜10体積、好ましくは4〜6体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、中間体であるピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル６を固形物として回収し、任意に乾燥することができる、または、得られる溶液を工程ｄで直接用いることができる。
工程ｂ
典型的には、工程a)からの4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム１９（油状物として単離したもの、または、最終反応溶液から直接）を、触媒量(0.3当量)のN,N-ジメチルホルムアミドの存在下に、トルエンのような芳香族溶媒、ジクロロメタンのような塩素化溶媒、およびそれらの混合物、好ましくはジクロロメタン中で、1.0〜3.0当量、好ましくは1.2〜1.6当量の塩化チオニルまたは好ましくは塩化オキサリルと反応させることができる。塩化チオニルを用いる場合、反応は0℃〜40℃、好ましくは20℃〜30℃の温度で行われ、一方、塩化オキサリルを用いる場合、反応は0℃〜10℃の温度で行われる。4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム１９の量に対して2〜10体積、好ましくは4〜6体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、中間体であるピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル６を固形物として回収し、任意に乾燥することができる、または、得られる溶液を工程ｄで直接用いることができる。
中間体であるピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル６は、溶媒の蒸発時に固形物として回収され；ジクロロメタンを用いる場合、残渣をトルエンに溶解し、懸濁液を濾過する。トルエンを用いる場合、反応完了後、混濁溶液を濾過し、得られる透明溶液を濃縮し、n-ヘキサンから結晶化させる。懸濁液を濾過し、生成物を減圧下に40℃で12時間乾燥する。
工程ｃ
典型的には、無水イサト酸４を、約１当量のグリシン酸ベンジルと、遊離塩基としてまたはその塩、例えば、塩酸塩またはパラトルエンスルホン酸塩、好ましくは、パラトルエンスルホン酸塩として反応させる。反応は、グリシン酸ベンジルをその塩として用いる場合、アセトニトリルのような有機溶媒中または水中、好ましくは水中で、20℃〜100℃の温度で、トリエチルアミンのような有機塩基の存在下に行う。無水イサト酸４の量に対して1〜15体積、好ましくは5〜10体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、存在する場合は有機溶媒を蒸発除去し、無水イサト酸４の量に対して5〜10体積の水を添加する。懸濁液を濾過し、生成物を減圧下に60℃で12時間乾燥して2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を得て、これを回収し乾燥して固形物とする。
工程ｄ
典型的に、工程c)からの中間体である2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を、工程b)において最終溶液から直接得られる、または、単離された中間体６をトルエンのような芳香族溶媒、ジクロロメタンのような塩素化溶媒またはそれらの混合物、好ましくはジクロロメタン中に溶解することにより得られる約1当量のピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル６と反応させる。反応は、ピリジンまたはトリエチルアミンのような有機塩基の存在下に、0℃〜35℃の温度、好ましくは20℃〜25℃の温度で行われる。中間体である2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０の量に対して2〜15体積、好ましくは5〜10体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、水を加え、相を分離する。有機相を、10%塩酸および、次に、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗う。有機溶媒を減圧下に濃縮する。得られる残渣を、2〜15体積のメタノールのようなアルコール溶媒に溶解し、工程e)で直接用いることができる、または、2〜10体積のジイソプロピルエーテルの添加により残渣を結晶化する。懸濁液を濾過し、生成物を減圧下に60℃で12時間乾燥してピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を得て、これを回収し乾燥して固形物とする。
工程e
典型的に、d)において単離前に溶媒を蒸発した後の濃縮溶液から直接得られる中間体ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１、または、単離された中間体１１を、金属触媒、好ましくはPdの存在下に水素雰囲気下に反応させる。反応を、アルコール溶媒、好ましくはメタノール中、10〜60℃の温度、好ましくは20〜25℃の温度で行う。ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１の量に対して3〜15体積、好ましくは5〜10体積の溶媒を用いる。反応終了後、触媒を濾去し、溶媒を蒸発除去する。ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１の量に対して5〜10体積のトルエンを添加することにより生成物を結晶化する。懸濁液を濾過し、生成物を減圧下に60℃で12時間乾燥してシベレスタット１を得る。
工程ｆ
典型的に、e)で得られるシベレスタット１を、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムまたは重炭酸ナトリウムから選択される無機塩基を用いて塩化する。塩化は、文献から知られているように、水／テトラヒドロフラン中にて0℃〜25℃の温度で行われる。塩基の添加後、テトラヒドロフランを蒸発除去し、得られる懸濁液を濾過する。生成物を水で洗い、続いて、減圧下に25℃〜40℃で12時間乾燥してシベレスタット四水和物ナトリウム塩２を得る。
工程ｃ
典型的には、無水イサト酸４を、約１当量のグリシン酸ベンジルと、遊離塩基としてまたはその塩、例えば、塩酸塩またはパラトルエンスルホン酸塩、好ましくは、パラトルエンスルホン酸塩として反応させる。反応は、グリシン酸ベンジルをその塩として用いる場合、アセトニトリルのような有機溶媒中または水中、好ましくは水中で、20℃〜100℃の温度で、トリエチルアミンのような有機塩基の存在下に行う。無水イサト酸４の量に対して1〜15体積、好ましくは5〜10体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、存在する場合は有機溶媒を蒸発除去し、無水イサト酸４の量に対して5〜10体積の水を添加する。懸濁液を濾過し、生成物を減圧下に60℃で12時間乾燥して2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を得て、これを回収し乾燥して固形物とする。
工程ｄ
典型的に、工程c)からの中間体である2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を、工程b)において最終溶液から直接得られる、または、単離された中間体６をトルエンのような芳香族溶媒、ジクロロメタンのような塩素化溶媒またはそれらの混合物、好ましくはジクロロメタン中に溶解することにより得られる約1当量のピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル６と反応させる。反応は、ピリジンまたはトリエチルアミンのような有機塩基の存在下に、0℃〜35℃の温度、好ましくは20℃〜25℃の温度で行われる。中間体である2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０の量に対して2〜15体積、好ましくは5〜10体積の溶媒が用いられる。反応を、C18カラムおよび相溶離剤としての0.05M一塩基性リン酸緩衝液／アセトニトリルを用いて、HPLC分析によりモニターする。反応終了後、水を加え、相を分離する。有機相を、10%塩酸および、次に、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗う。有機溶媒を減圧下に濃縮する。得られる残渣を、2〜15体積のメタノールのようなアルコール溶媒に溶解し、工程e)で直接用いることができる、または、2〜10体積のジイソプロピルエーテルの添加により残渣を結晶化する。懸濁液を濾過し、生成物を減圧下に60℃で12時間乾燥してピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を得て、これを回収し乾燥して固形物とする。
工程e
典型的に、d)において単離前に溶媒を蒸発した後の濃縮溶液から直接得られる中間体ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１、または、単離された中間体１１を、金属触媒、好ましくはPdの存在下に水素雰囲気下に反応させる。反応を、アルコール溶媒、好ましくはメタノール中、10〜60℃の温度、好ましくは20〜25℃の温度で行う。ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１の量に対して3〜15体積、好ましくは5〜10体積の溶媒を用いる。反応終了後、触媒を濾去し、溶媒を蒸発除去する。ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１の量に対して5〜10体積のトルエンを添加することにより生成物を結晶化する。懸濁液を濾過し、生成物を減圧下に60℃で12時間乾燥してシベレスタット１を得る。
工程ｆ
典型的に、e)で得られるシベレスタット１を、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムまたは重炭酸ナトリウムから選択される無機塩基を用いて塩化する。塩化は、文献から知られているように、水／テトラヒドロフラン中にて0℃〜25℃の温度で行われる。塩基の添加後、テトラヒドロフランを蒸発除去し、得られる懸濁液を濾過する。生成物を水で洗い、続いて、減圧下に25℃〜40℃で12時間乾燥してシベレスタット四水和物ナトリウム塩２を得る。
本発明の方法は、大部分の中間体を単離することなく行われるので、特に有利である。特に、中間体１９、６および１１の単離が回避される。4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３からの中間体６の「ワンポット」合成は、既知の方法の中間体５に反して、新規中間体１９が有機溶媒に溶解性であるために実施することができる。従って、塩化ピバロイルを用いるエステル化と、塩化チオニルとの反応との両方を、同じ溶媒を用いて行うことができ、中間体を単離し乾燥する必要がない。
この合成方法は、EP 3472168およびEP 539223に開示のような3つの工程と比較して単一の合成工程において中間体１０が合成される点においても非常に有利である。さらに、無水イサト酸は比較的安価な市販の出発材料である。
本発明を、以下の実施例により詳細に説明する。
（実施例１）
EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134に開示の手順に従った4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム(5)
EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134に開示の手順に従った4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム(5)
4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム(3)(107g, 0.616mol)、水(300ml)、NaOH(52.8g, 1.294mol)およびTHF(200ml)の溶液の塩化ピバロイル(82.6g, 0.678mol)への添加を、0〜5℃で機械的攪拌下に30分間で滴下により行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、0〜5℃で2時間攪拌し続けた。反応終了後、混合物を濾過し、水(30ml)で洗い、減圧下に45℃で16時間乾燥して、白色粉末状固形物126.7g(73.4%)を得る。
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 281
1H-NMR(D2O中)(4.7ppmでの溶媒の信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.24(9H, s, t-but); 7.14および7.81(系AA'XX', 4H, 芳香族)
13C-NMR(ppm): 26.1(CH3 t-but); 38.8; 122.0(芳香族CH); 127.3(芳香族CH); 140.4; 152.4; 180.1(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 2970, 1746, 1591, 1235, 1185, 1117, 1044, 1010, 900, 698
（実施例２）
EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134に開示の手順に従ったピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル(6)
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 281
1H-NMR(D2O中)(4.7ppmでの溶媒の信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.24(9H, s, t-but); 7.14および7.81(系AA'XX', 4H, 芳香族)
13C-NMR(ppm): 26.1(CH3 t-but); 38.8; 122.0(芳香族CH); 127.3(芳香族CH); 140.4; 152.4; 180.1(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 2970, 1746, 1591, 1235, 1185, 1117, 1044, 1010, 900, 698
（実施例２）
EP 3472168、EP 539223およびBiorganic & Medicinal Chemistry (1996), 4(12), 2115-2134に開示の手順に従ったピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル(6)
実施例１に従って調製した4-(ピバロイルオキシ)ベンゼンスルホン酸ナトリウム(5)(1.5g, 0.0054mol)をDMF(7ml)中に含む懸濁液の塩化チオニル(0.78g, 0.0065mol)への添加を、0〜5℃で5分間で滴下で行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、この温度で1時間攪拌し続け、次に、室温でさらに30分間攪拌し続ける。反応終了後、水(10ml)を加え、混合物を濾過し、水で充分に洗い、次に、減圧下に45℃で16時間乾燥して、白色固形物1.2g(81.6%)を得る。
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 277
1H-NMR(CDCl3中)(TMSの信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.40(9H, s, t-but); 7.37および8.09(系AA'XX', 4H, 芳香族)
13C-NMR(ppm): 26.8(CH3 t-but); 39.2 122.8(芳香族CH); 128.7(芳香族CH); 140.9; 156.2; 175.9(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 2981, 1748, 1590, 1576, 1479, 1370, 1100, 844, 682
（実施例３）
4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム(19)
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 277
1H-NMR(CDCl3中)(TMSの信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.40(9H, s, t-but); 7.37および8.09(系AA'XX', 4H, 芳香族)
13C-NMR(ppm): 26.8(CH3 t-but); 39.2 122.8(芳香族CH); 128.7(芳香族CH); 140.9; 156.2; 175.9(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 2981, 1748, 1590, 1576, 1479, 1370, 1100, 844, 682
（実施例３）
4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸トリエチルアンモニウム(19)
4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム(3)(10g, 0.049mol)、DCM(50ml)およびTEA(10.0g, 0.098mol)の溶液の塩化ピバロイル(8.9g, 0.074mol)への添加を、20〜25℃で磁気攪拌下に約30分間で滴下で行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、20〜25℃で2時間攪拌し続ける。反応終了後、水(30ml)を加え、有機相を分離し、溶媒を減圧下に蒸発除去して透明油状物15.7g(89%)を得る。
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 281
1H-NMR(CDCl3中)(TMSの信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.33(9H, t, J=7.4Hz, CH3 TEA); 1.35(9H, s, t-but); 3.11(6H, q, J=7.4Hz, CH2 TEA); 7.04および7.88(系AA'XX', 4H, 芳香族)
13C-NMR(ppm): 8.9(CH3 TEA); 26.7(C t-but), 27.3(CH3 t-but); 46.2(CH2 TEA); 121.5(芳香族CH); 127.6(芳香族CH); 142.9(C-S); 152.4(C-O); 177.1(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 2978, 2704, 2511, 1808, 1746, 1592, 1479,1119, 1005, 898, 696.
（実施例４）
非単離(19)からのピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル(6)
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 281
1H-NMR(CDCl3中)(TMSの信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.33(9H, t, J=7.4Hz, CH3 TEA); 1.35(9H, s, t-but); 3.11(6H, q, J=7.4Hz, CH2 TEA); 7.04および7.88(系AA'XX', 4H, 芳香族)
13C-NMR(ppm): 8.9(CH3 TEA); 26.7(C t-but), 27.3(CH3 t-but); 46.2(CH2 TEA); 121.5(芳香族CH); 127.6(芳香族CH); 142.9(C-S); 152.4(C-O); 177.1(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 2978, 2704, 2511, 1808, 1746, 1592, 1479,1119, 1005, 898, 696.
（実施例４）
非単離(19)からのピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル(6)
4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム(3)(1.0g, 0.0049mol)、DCM(6ml)およびTEA(1.0g, 0.0098mol)の溶液の塩化ピバロイル(0.84g, 0.0069mol)への添加を20〜25℃で磁気攪拌下に約5分間で滴下で行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、20〜25℃で2時間攪拌し続ける。反応終了後、DMF(0.11g, 0.0015mol)を加え、塩化チオニル(0.77g, 0.0064mol)を20〜25℃で15分間で滴加する。混合物を、HPLCでモニターしつつ、この温度で2時間攪拌し続ける。反応終了後、溶媒を減圧下に蒸発除去し、トルエン(10ml)を加え、塩を濾過除去し、溶媒を減圧下に濃縮する。得られる残渣に、n-ヘキサン5mlを加え、次に、0℃に冷却し、得られる懸濁液を濾過し、生成物をn-ヘキサンで洗う。淡黄色固形物1.1g(81.1%)を得る。
（実施例５）
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
グリシンベンジルエステル塩酸塩(2.5g, 0.012mol)、アセトニトリル(15ml)およびトリエチルアミン(1.3g, 0.013mol)の懸濁液の無水イサト酸(2.0g, 0.012mol)への添加を、攪拌下に少しずつ加えることで行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、3時間還流する。反応終了後、溶媒を蒸発除去し、水(10ml)を加える。混合物を濾過し、生成物を水で洗う。生成物を減圧下に60℃で12時間乾燥する。白桃色固形物2.92g(85.6%)を得る。
（実施例６）
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
グリシンベンジルエステルp-トルエンスルホネート(10.0g, 0.030mol)、アセトニトリル(60ml)およびトリエチルアミン(3.3g, 0.032mol)の懸濁液の無水イサト酸(5.1g, 0.030mol)への添加を、攪拌下に少しずつ加えることで行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、2時間還流する。反応終了後、溶媒を蒸発除去し、水(50ml)を加える。混合物を濾過し、生成物を水で洗い、次に、減圧下に60℃で12時間乾燥する。白桃色固形物7.65g(89.7%)を得る。
（実施例７）
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
グリシンベンジルエステルp-トルエンスルホネート(100.0g, 0.296mol)、アセトニトリル(500ml)およびトリエチルアミン(31.4g, 0.311mol)の懸濁液の無水イサト酸(48.3g, 0.296mol)への添加を、機械的攪拌下に少しずつ加えることで行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、2時間還流する。反応終了後、溶媒を蒸発除去し、水(500ml)を加える。混合物を濾過し、生成物を水(50ml)で洗い、次に、減圧下に60℃で12時間乾燥する。白桃色固形物77.5g(92.1%)を得る。
（実施例８）
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)
グリシンベンジルエステルp-トルエンスルホネート(5.0g, 0.015mol)、水(30ml)およびトリエチルアミン(1.6g, 0.016mol)の懸濁液の無水イサト酸(2.5g, 0.015mol)への添加を、攪拌下に加えることで行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、室温で6時間攪拌し続ける。反応終了後、混合物を濾過し、生成物を水で洗い、次に、減圧下に60℃で12時間乾燥する。白桃色固形物3.9g(91.4%)を得る。
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 285
1H-NMR(CD3COCD3中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 4.18(d, J=6Hz, 2H, CH2); 5.20(s, 2H, -CH2OR); 6.29(1H, bs, NH2); 6.59(bt, J=9Hz, 1H, H-4芳香族); 6.78(d, J=9Hz, H-3); 7.18(1H, dt, J=8, 1.5Hz, H-4芳香族); 7.30-7.60(m, 5H, 芳香族); 7.60 (dd, 1H, J=8, 1Hz, H-4芳香族); 7.90(1H, bt, NH)
13C-NMR(CD3COCD3中)(ppm): 40.6(CH2); 65.6(CH2OR); 113.9; 114.6 (芳香族CH); 116.3(芳香族CH); 127.3 (CH); 127.5 (CH); 127.9 (CH); 131.7 (芳香族CH); 135.9; 149.7; 169.0 (CONR); 169.4 (COOR)
融点: 142℃
FT-IR(UATR, cm-1): 3451, 3339, 2928, 1742, 1635, 1528, 1198, 1166, 971, 750, 739
（実施例９）
ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル(11)
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 285
1H-NMR(CD3COCD3中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 4.18(d, J=6Hz, 2H, CH2); 5.20(s, 2H, -CH2OR); 6.29(1H, bs, NH2); 6.59(bt, J=9Hz, 1H, H-4芳香族); 6.78(d, J=9Hz, H-3); 7.18(1H, dt, J=8, 1.5Hz, H-4芳香族); 7.30-7.60(m, 5H, 芳香族); 7.60 (dd, 1H, J=8, 1Hz, H-4芳香族); 7.90(1H, bt, NH)
13C-NMR(CD3COCD3中)(ppm): 40.6(CH2); 65.6(CH2OR); 113.9; 114.6 (芳香族CH); 116.3(芳香族CH); 127.3 (CH); 127.5 (CH); 127.9 (CH); 131.7 (芳香族CH); 135.9; 149.7; 169.0 (CONR); 169.4 (COOR)
融点: 142℃
FT-IR(UATR, cm-1): 3451, 3339, 2928, 1742, 1635, 1528, 1198, 1166, 971, 750, 739
（実施例９）
ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル(11)
実施例８に従って調製された2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)(1.0g, 0.0035mol)をピリジン(16ml)中に含む溶液の、実施例４に従って調製されたピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル(6)(1.2g, 0.0042mol)への添加を、0〜5℃の温度で少しずつ加えることで行う。添加終了後、混合物を20〜25℃に温め、16時間攪拌し続け、50%硫酸(70ml)を加え、酢酸エチル(40ml)で抽出する。その後、有機相を水(20ml)、10%重炭酸ナトリウム(20ml)、水(20ml)およびNaCl飽和水溶液(20ml)で洗う。溶媒を減圧下に蒸発除去する。残渣をn-ヘキサン(10ml)から結晶化し、濾過し、減圧下に50℃で乾燥する。黄色生成物1.51g(82.2%)を得る。
（実施例１０）
ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル(11)
ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル(11)
実施例８に従って調製された2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)(1.4g, 0.0049mol)をジクロロメタン(9ml)およびピリジン(1.2g, 0.015mol)中に含む懸濁液の、実施例４に従って調製されたピバル酸4-(クロロスルホニル)フェニル(6)(1.4g, 0.0049mol)をジクロロメタン(7ml)中に含む溶液への添加を、20〜25℃で約30分間で滴下により行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、3時間攪拌し続ける。反応終了後、水(10ml)を加え、相を分離する。有機相を、次に、10%塩酸(10ml)およびNaCl飽和水溶液(10ml)で洗う。混合物をイソプロピルエーテル(10ml)から結晶化し、濾過し、減圧下に40℃で乾燥する。白色固形物2.3g(89.5%)を得る。
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 525
1H-NMR(CD3COCD3中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.33(9H, s, t-but); 4.18(d, J=6Hz, 2H, CH2); 5.25(s, 2H, -CH2OR); 7.15(dt, J=8, 1.5Hz, 1H, 芳香族); 7.30-7.80(m, 8H, 芳香族); 7.33および7.80(系AA'XX', 4H, 芳香族); 8.41(1H, bt, NH); 11.33(1H, bs, NH)
13C-NMR (CD3COCD3中)(ppm): 27.5(CH3 t-but); 40.1; 42.5(CH2); 67.6(CH2OR); 121.7(芳香族CH); 122.0; 123.8(芳香族CH); 124.9 (芳香族CH); 129.2(芳香族CH); 129.3(芳香族CH); 129.4(芳香族 CH); 129.7(芳香族CH); 130.1(芳香族CH); 134.1(芳香族CH); 137.4; 137.8; 140.3; 155.9; 170.3 (CONHR 170.3 (COOR); 177.0 (COOR)
融点: 135℃
FT-IR(UATR, cm-1): 3423, 2976, 1748, 1638, 1493, 1154, 1091, 935, 753
（実施例１１）
シベレスタット(1)
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 525
1H-NMR(CD3COCD3中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.33(9H, s, t-but); 4.18(d, J=6Hz, 2H, CH2); 5.25(s, 2H, -CH2OR); 7.15(dt, J=8, 1.5Hz, 1H, 芳香族); 7.30-7.80(m, 8H, 芳香族); 7.33および7.80(系AA'XX', 4H, 芳香族); 8.41(1H, bt, NH); 11.33(1H, bs, NH)
13C-NMR (CD3COCD3中)(ppm): 27.5(CH3 t-but); 40.1; 42.5(CH2); 67.6(CH2OR); 121.7(芳香族CH); 122.0; 123.8(芳香族CH); 124.9 (芳香族CH); 129.2(芳香族CH); 129.3(芳香族CH); 129.4(芳香族 CH); 129.7(芳香族CH); 130.1(芳香族CH); 134.1(芳香族CH); 137.4; 137.8; 140.3; 155.9; 170.3 (CONHR 170.3 (COOR); 177.0 (COOR)
融点: 135℃
FT-IR(UATR, cm-1): 3423, 2976, 1748, 1638, 1493, 1154, 1091, 935, 753
（実施例１１）
シベレスタット(1)
実施例９に従って得られたピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル(11)(1.0g, 0.0019mol)、メタノール(11ml)および10%Pd/C(0.11g)の混合物を、水素雰囲気（1atm)下に20〜25℃で3時間攪拌し続ける。混合物を濾過し、溶媒を減圧下に蒸発除去する。白色固形物0.77g(93.3%)を得る。
（実施例１２）
シベレスタット(1)
シベレスタット(1)
実施例１０に従って得られたピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル(11)(2.0g, 0.0038mol)、メタノール(20ml)および10%Pd/C(0.20g)の混合物を、スチールオートクレーブに入れ、水素雰囲気(3atm)下に20〜25℃で2時間攪拌し続ける。混合物を濾過し、フィルターをメタノールで充分に洗う。メタノールを、溶媒としてのトルエン(7ml)に置き換える。混合物を0〜5℃で約30分間攪拌し続ける。白色固形物1.56g(94.5%)を得る。
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 435
1H-NMR(DMSO中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.27(9H, s, t-but); 3.91(d, J=6Hz, 2H, CH2); 7.16(dt, J=8, 1.5Hz, 1H, H-4芳香族); 7.45-7.55(2H, m, H-5およびH-6芳香族); 7.30および7.83(系AA'XX', 4H, 芳香族); 7.75(bd, 1H, J=8Hz, H-3芳香族); 9.27(1H, bt, NH); 11.80(2H, ブロード, NH eCOOH)
13C-NMR(DMSO中)(ppm): 26.6(CH3 t-but); 38.7; 41.3(CH2); 119.4(芳香族CH); 120.2; 122.8(芳香族CH); 123.5(芳香族CH); 128.5(芳香族CH); 128.7(芳香族CH); 132.8(芳香族CH); 135.9; 138.4; 154.1; 168.5(CONR); 170.8(COOH); 175.8(COOR)
融点: 211-213℃
FT-IR(UATR, cm-1): 3431, 2979, 1747, 1718, 1645, 1521, 1152, 1104, 926, 756
（実施例１３）
非単離(19)、(6)および(11)からのシベレスタット(1)
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 435
1H-NMR(DMSO中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.27(9H, s, t-but); 3.91(d, J=6Hz, 2H, CH2); 7.16(dt, J=8, 1.5Hz, 1H, H-4芳香族); 7.45-7.55(2H, m, H-5およびH-6芳香族); 7.30および7.83(系AA'XX', 4H, 芳香族); 7.75(bd, 1H, J=8Hz, H-3芳香族); 9.27(1H, bt, NH); 11.80(2H, ブロード, NH eCOOH)
13C-NMR(DMSO中)(ppm): 26.6(CH3 t-but); 38.7; 41.3(CH2); 119.4(芳香族CH); 120.2; 122.8(芳香族CH); 123.5(芳香族CH); 128.5(芳香族CH); 128.7(芳香族CH); 132.8(芳香族CH); 135.9; 138.4; 154.1; 168.5(CONR); 170.8(COOH); 175.8(COOR)
融点: 211-213℃
FT-IR(UATR, cm-1): 3431, 2979, 1747, 1718, 1645, 1521, 1152, 1104, 926, 756
（実施例１３）
非単離(19)、(6)および(11)からのシベレスタット(1)
4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム(3)(0.50g, 0.0025mol)、DCM(3ml)およびTEA(0.50g, 0.0049mol)の溶液の、塩化ピバロイル(0.42g, 0.0035mol)への添加を、磁気攪拌下に20〜25℃で約5分間で滴下で行う。混合物を、HPLCでモニターしつつ、20〜25℃で2時間攪拌し続ける。反応終了後、DMF(0.055g, 0.00075mol)を加え、次に、塩化チオニル(0.39g, 0.0032mol)を20〜25℃で15分間で滴加する。混合物を、HPLCでモニターしつつ、この温度で2時間攪拌し続ける。反応終了後、溶媒を減圧下に蒸発除去し、トルエン(5ml)を加え、塩を濾去し、ジクロロメタン(3ml)を加える。得られる溶液を、次に、実施例８に従って調製された2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル(10)(0.5g, 0.0018mol)をジクロロメタン(4ml)およびピリジン(0.43g, 0.0054mol)中に含む懸濁液に、20〜25℃で約30分間で滴下する。混合物を、HPLCでモニターしつつ、3時間攪拌し続ける。反応終了後、水(5ml)を加え、混合物を分離する。有機相を、次に、10%塩酸(5ml)およびNaCl飽和水溶液(5ml)で洗う。溶媒をメタノール(10ml)に取り換え、10%Pd/C(0.10g)を加える。懸濁液をスチール実験室用オートクレーブに入れ、水素雰囲気(3atm)下に20〜25℃で2時間攪拌し続ける。混合物を濾過し、フィルターをメタノールで充分に洗う。溶媒をトルエン(3ml)に取り換える。混合物を0〜5℃で約30分間攪拌し続ける。白色固形物0.80g(73.6%)を得る。
（実施例１４）
シベレスタットナトリウム四水和物(2)
シベレスタットナトリウム四水和物(2)
実施例１２に従って得られたシベレスタット(1)(0.93g, 0.0021mol)をTHF(5ml)中に含む溶液の5N NaOH(0.44ml, 0.0022mol)への添加を、0〜5℃で滴下で行う。混合物をこの温度で15分間攪拌し続け、次に、溶媒を減圧下に蒸発除去する。残渣を水(4ml)から結晶化し、次に、0〜5℃で濾過し、冷水で洗い、減圧下に25℃で乾燥する。白色固形物0.83g(74.8%)を得る。
（実施例１５）
実施例１３のシベレスタットからのシベレスタットナトリウム四水和物
実施例１３のシベレスタットからのシベレスタットナトリウム四水和物
実施例１３で得られたシベレスタット(1)(0.60g, 0.0014mol)をTHF(3ml)中に含む溶液の、5N NaOH(0.29ml, 0.0014mol)への添加を、0〜5℃で滴下で行う。混合物をこの温度で1時間攪拌し続け、次に、溶媒を減圧下に蒸発除去する。残渣を水(3ml)から結晶化し、0〜5℃で濾過し、冷水で洗い、減圧下に25℃で乾燥する。白色固形物0.60g(84.1%)を得る。
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 435
1H-NMR(DMSO中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.28(9H, s, t-but); 3.91(s, 2H, CH2); 6.70(bt, J = 8 Hz, 1H, H-4芳香族); 7.11(1H, dt, J=8, 1.5Hz, H-5芳香族); 7.14および7.76(系AA'XX', 4H, 芳香族); 7.30(1H, bd, J=8Hz, H-6芳香族); 7.84(bd, 1H, J=8Hz, H-3芳香族); 10.90(1H, bs, NH)
(2.50ppm: dmso, 4.20 - 4.50: H2O)
13C-NMR(DMSO中)(ppm): 26.6(CH3 t-but); 38.6; 42.1(CH2); 118.2(芳香族CH); 119.4(芳香族CH); 121.5; 121.8(芳香族CH); 128.0(芳香族CH); 129.6(芳香族CH); 131.1(芳香族CH); 141.6; 146.0; 152.2; 167.2(CONR); 171.9(COO-); 176.0(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 3439, 3303, 2979, 1754, 1624, 1586, 1547, 1271, 1152, 1123, 941, 751
KF: 13.6%
LC-MS(APCI+)[M+H]+: 435
1H-NMR(DMSO中)(TMS信号に対してppmで表わされる化学シフト): 1.28(9H, s, t-but); 3.91(s, 2H, CH2); 6.70(bt, J = 8 Hz, 1H, H-4芳香族); 7.11(1H, dt, J=8, 1.5Hz, H-5芳香族); 7.14および7.76(系AA'XX', 4H, 芳香族); 7.30(1H, bd, J=8Hz, H-6芳香族); 7.84(bd, 1H, J=8Hz, H-3芳香族); 10.90(1H, bs, NH)
(2.50ppm: dmso, 4.20 - 4.50: H2O)
13C-NMR(DMSO中)(ppm): 26.6(CH3 t-but); 38.6; 42.1(CH2); 118.2(芳香族CH); 119.4(芳香族CH); 121.5; 121.8(芳香族CH); 128.0(芳香族CH); 129.6(芳香族CH); 131.1(芳香族CH); 141.6; 146.0; 152.2; 167.2(CONR); 171.9(COO-); 176.0(COOR)
FT-IR(UATR, cm-1): 3439, 3303, 2979, 1754, 1624, 1586, 1547, 1271, 1152, 1123, 941, 751
KF: 13.6%
Claims (6)
- シベレスタットの四水和物ナトリウム塩を調製する方法であって、
a) 4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３をトリエチルアミンの存在下に塩化ピバロイルと反応させて、対応する4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩を得る反応、
前記反応は、ジクロロメタン中で実施する；
b) 4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩をハロゲン化剤と反応させて、ピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルを得る反応、
c) 無水イサト酸をグリシン酸ベンジルと反応させて、2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を得る反応、
水を添加することで、2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を析出させ、該析出物を濾過により回収し、次いで、減圧下で乾燥する；
d) 2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０をピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルと反応させて、ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を得る反応、
e) ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を脱ベンジル化反応させて、シベレスタット１を得る脱ベンジル化反応、および
f) シベレスタット１を塩化して、シベレスタット四水和物ナトリウム塩２を得る工程
前記塩化は、水含有溶媒中、ナトリウム含有無機塩基を使用して、実施される；
上記の工程を含んでなる、
ことを特徴とする方法。 - シベレスタットを調製する方法であって、
a) 4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３をトリエチルアミンの存在下に塩化ピバロイルと反応させて、対応する4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩を得る反応、
前記反応は、ジクロロメタン中で実施する；
b) 4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩をハロゲン化剤と反応させて、ピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルを得る反応、
c) 無水イサト酸をグリシン酸ベンジルと反応させて、2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を得る反応、
水を添加することで、2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０を析出させ、該析出物を濾過により回収し、次いで、減圧下で乾燥する；
d) 2-(2-アミノベンズアミド)酢酸ベンジル１０をピバル酸4-(ハロスルホニル)フェニルと反応させて、ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を得る反応、
e) ピバル酸4-(N-(2-(2-(ベンジルオキシ)-2-オキソエチルカルバモイル)フェニル)スルファモイル)フェニル１１を脱ベンジル化反応させて、シベレスタット１を得る脱ベンジル化反応
上記の工程を含んでなる、
ことを特徴とする方法。 - 工程a)中で使用される、トリエチルアミンの量は、4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム３の量に対して、２〜２．５当量の範囲に選択される、
ことを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。 - 対応する4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸塩が4-ピバロイルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウムである、
ことを特徴とする、請求項３に記載の方法。 - 工程b)において、ハロゲン化剤として、塩化チオニルまたは塩化オキサリルを用いる、
ことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。 - 工程c)において、トリエチルアミンと組み合わせて、塩酸塩またはパラトルエンスルホン酸塩の形状のグリシン酸ベンジルを用いる、
ことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ITMI2009A001363A IT1395124B1 (it) | 2009-07-30 | 2009-07-30 | Processo per la sintesi di sivelestat |
| ITMI2009A001363 | 2009-07-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011051974A JP2011051974A (ja) | 2011-03-17 |
| JP5746484B2 true JP5746484B2 (ja) | 2015-07-08 |
Family
ID=41728480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010170367A Expired - Fee Related JP5746484B2 (ja) | 2009-07-30 | 2010-07-29 | シベレスタットの合成方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5746484B2 (ja) |
| KR (1) | KR20110013293A (ja) |
| IT (1) | IT1395124B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116354855B (zh) * | 2022-11-10 | 2024-02-02 | 江苏百奥信康医药科技有限公司 | 一种西维来司他钠的制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0320253A (ja) * | 1988-06-13 | 1991-01-29 | Ono Pharmaceut Co Ltd | ピバル酸 ｐ―置換フェニルエステル誘導体、それらの製造方法およびそれらを有効成分として含有するエラスターゼ阻害剤 |
| JPH05194366A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-08-03 | Ono Pharmaceut Co Ltd | グリシン誘導体・モノナトリウム塩・４水和物、その製造方法、それを含有する薬剤および該誘導体の中間体の製造方法 |
| EP0539223A1 (en) * | 1991-10-25 | 1993-04-28 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Glycine derivative monosodium salt tetrahydrate having an inhibitory effect on elastase |
-
2009
- 2009-07-30 IT ITMI2009A001363A patent/IT1395124B1/it active
-
2010
- 2010-07-29 JP JP2010170367A patent/JP5746484B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-07-29 KR KR1020100073263A patent/KR20110013293A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20110013293A (ko) | 2011-02-09 |
| IT1395124B1 (it) | 2012-09-05 |
| ITMI20091363A1 (it) | 2011-01-31 |
| JP2011051974A (ja) | 2011-03-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5934742B2 (ja) | 薬学的に活性な化合物の製造方法 | |
| JP5221544B2 (ja) | インテグラーゼ阻害剤を調製するためのプロセスおよび中間体 | |
| JP5738992B2 (ja) | プロパン−１−スルホン酸｛３−［５−（４−クロロ−フェニル）−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−３−カルボニル］−２，４−ジフルオロ−フェニル｝−アミドの新規製造方法 | |
| US20080275096A1 (en) | Process for the preparation of valsartan | |
| WO2011113369A1 (zh) | 氘代甲胺及其盐的制备方法 | |
| KR20060135959A (ko) | 발사르탄 및 이의 전구체의 제조방법 | |
| CN110526859B (zh) | 一种瑞维那新中间体及其制备方法和瑞维那新的制备方法 | |
| JP2007503476A (ja) | レバミピドの改良製造法 | |
| KR100681224B1 (ko) | 페닐알라닌 유도체의 제조 방법 및 이의 중간체 | |
| JP5746484B2 (ja) | シベレスタットの合成方法 | |
| ES2227807T3 (es) | Proceso para la fabricacion de cloruro de arilsulfonilo. | |
| CN112272665A (zh) | 制备立他司特的方法 | |
| KR20040039430A (ko) | (2-니트로페닐)아세토니트릴 유도체의 제조방법 및 그합성중간체 | |
| KR101163864B1 (ko) | 발사르탄의 제조방법 및 이에 사용되는 신규 중간체 | |
| JPS6327337B2 (ja) | ||
| EP1698611A1 (en) | Process for producing phenylacetic acid derivative | |
| JP3760253B2 (ja) | ４−フルオロサリチル酸類の製造方法 | |
| JPH10120623A (ja) | ４−フルオロサリチル酸類 | |
| TW202330490A (zh) | 化合物或其藥學上所容許之鹽的製造方法 | |
| KR20240073943A (ko) | 화합물 또는 그의 약학적으로 허용되는 염의 제조 방법 | |
| JP4518065B2 (ja) | 新規ジアルコキシアミドオキシム誘導体及びその製法 | |
| WO1991006528A1 (fr) | Acide n-(3',4'-dimethoxycinnamoyl)anthranilique | |
| JP2002363171A (ja) | ４−置換−３−アミノイソオキサゾール誘導体の製法 | |
| JPS6356233B2 (ja) | ||
| JPH06157496A (ja) | ベンジルエステル誘導体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130524 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140411 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140530 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140610 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140910 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141209 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150302 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150414 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150508 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5746484 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |