JP5744321B2 - パラメータ設定装置 - Google Patents
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- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 160
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 210000000707 wrist Anatomy 0.000 description 2
- 125000002066 L-histidyl group Chemical group [H]N1C([H])=NC(C([H])([H])[C@](C(=O)[*])([H])N([H])[H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
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- G05B11/01—Automatic controllers electric
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- G05B19/0426—Programming the control sequence
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- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
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Description
図1は、本発明の実施の形態1に係るパラメータ設定装置の構成を示すブロック図である。本実施の形態では、パラメータ設定装置1は、FA装置(所定装置)を制御するFA制御機器(制御機器)の複数の制御パラメータを設定する装置であるものとして説明する。
<1>重みfに1/2を乗じる。
<2>全ての制約条件のうち、制御パラメータとして集合Gnの要素を持つ制約条件に対し、その制約条件中に含まれる集合Gnの要素以外の制御パラメータの集合を求め、Gn’とする。
<3>集合GnにGn’を加える。
<4>Nに、Gn’の要素数と重みfとを乗算したものを加える。
<5>Gn’が空集合でない場合、<1>に戻る。
以上の式(1)で示されるプログラムの実行により得られたVpn(=N)を、追加制約条件22の第1評価指標の値として用いる。
本発明の実施の形態2に係る制約緩和部18は、上述の第2評価指標の代わりに以下で説明する第4評価指標を用い、当該第4評価指標と上述の第1評価指標とを組み合わせた第5評価指標を上述の第3評価指標の代わりに用いる。なお、本実施の形態に係るパラメータ設定装置1において、実施の形態1で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ符号を付し、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
本発明の実施の形態3に係る制約緩和部18は、上述の第3評価指標及び第5評価指標の少なくともいずれか一つを反映した第6評価指標を用いる。なお、本実施の形態に係るパラメータ設定装置1において、実施の形態1で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ符号を付し、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
Claims (6)
- 所定装置を制御する制御機器の複数の制御パラメータを設定するパラメータ設定装置であって、
前記複数の制御パラメータが満たすべき複数の既存の制約条件を記憶する制約条件データベースと、
入力された制御パラメータの値に基づいて、当該制御パラメータが満たすべき新規の制約条件を生成する制約条件生成部と、
複数の前記新規の制約条件のそれぞれに対して、前記新規の制約条件に係る前記制御パラメータが変更された場合に他の制御パラメータに生じる影響の度合を示す第1評価指標と、前記新規の制約条件に係る前記制御パラメータによって定義される前記制御機器の動作の重要度、前記制御パラメータの使用頻度及び入力頻度の少なくともいずれか一つを含む特性に応じた重みを示す第2評価指標とを組み合わせた第3評価指標を設定する制約条件評価指標設定部と、
前記複数の新規及び既存の制約条件を満たす前記制御パラメータの値の組を探索する制約充足解探索部と、
前記制約充足解探索部で前記制御パラメータの値の組を探索できなかった場合に、前記第3評価指標に応じて前記複数の新規の制約条件を緩和する制約緩和部と
を備え、
前記制約充足解探索部は、
前記制約緩和部により前記複数の新規の制約条件が緩和された場合に、当該複数の新規の制約条件及び前記複数の既存の制約条件を満たす前記制御パラメータの値の組を探索する、パラメータ設定装置。 - 請求項1に記載のパラメータ設定装置であって、
前記制約緩和部は、
前記第3評価指標が最も低い一つの前記新規の制約条件を無効にすることにより、前記複数の新規の制約条件を緩和する、パラメータ設定装置。 - 請求項1に記載のパラメータ設定装置であって、
前記制約条件評価指標設定部は、
前記第3評価指標の設定に加えて、前記複数の新規の制約条件のそれぞれに対して、前記第1評価指標と、前記新規の制約条件が生成された順に小さくなる第4評価指標とを組み合わせた第5評価指標を取得し、かつ、前記第3評価指標及び第5評価指標のうちユーザにより選択された少なくともいずれか一つを反映した第6評価指標を設定し、
前記制約緩和部は、
前記第3評価指標の代わりに前記第6評価指標を用いる、パラメータ設定装置。 - 所定装置を制御する制御機器の複数の制御パラメータを設定するパラメータ設定装置であって、
前記複数の制御パラメータが満たすべき複数の既存の制約条件を記憶する制約条件データベースと、
入力された制御パラメータの値に基づいて、当該制御パラメータが満たすべき新規の制約条件を生成する制約条件生成部と、
複数の前記新規の制約条件のそれぞれに対して、前記新規の制約条件に係る前記制御パラメータが変更された場合に他の制御パラメータに生じる影響の度合を示す第1評価指標と、前記新規の制約条件が生成された順に小さくなる第4評価指標とを組み合わせた第5評価指標を設定する制約条件評価指標設定部と、
前記複数の新規及び既存の制約条件を満たす前記制御パラメータの値の組を探索する制約充足解探索部と、
前記制約充足解探索部で前記制御パラメータの値の組を探索できなかった場合に、前記第5評価指標に応じて前記複数の新規の制約条件を緩和する制約緩和部と
を備え、
前記制約充足解探索部は、
前記制約緩和部により前記複数の新規の制約条件が緩和された場合に、当該複数の新規の制約条件及び前記複数の既存の制約条件を満たす前記制御パラメータの値の組を探索する、パラメータ設定装置。 - 請求項4に記載のパラメータ設定装置であって、
前記制約緩和部は、
前記第5評価指標が最も低い一つの前記新規の制約条件を無効にすることにより、前記複数の新規の制約条件を緩和する、パラメータ設定装置。 - 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のパラメータ設定装置であって、
前記制約充足解探索部で探索された前記制御パラメータの値の組を表示する表示部
をさらに備える、パラメータ設定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014509002A JP5744321B2 (ja) | 2012-04-02 | 2012-12-17 | パラメータ設定装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012083512 | 2012-04-02 | ||
JP2012083512 | 2012-04-02 | ||
JP2014509002A JP5744321B2 (ja) | 2012-04-02 | 2012-12-17 | パラメータ設定装置 |
PCT/JP2012/082637 WO2013150686A1 (ja) | 2012-04-02 | 2012-12-17 | パラメータ設定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5744321B2 true JP5744321B2 (ja) | 2015-07-08 |
JPWO2013150686A1 JPWO2013150686A1 (ja) | 2015-12-17 |
Family
ID=49300197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014509002A Active JP5744321B2 (ja) | 2012-04-02 | 2012-12-17 | パラメータ設定装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9696694B2 (ja) |
JP (1) | JP5744321B2 (ja) |
KR (1) | KR101571994B1 (ja) |
CN (1) | CN104204969B (ja) |
DE (1) | DE112012006178B4 (ja) |
TW (1) | TWI479288B (ja) |
WO (1) | WO2013150686A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9325483B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-04-26 | Wi-Lan Labs, Inc. | Flexible MIMO resource allocation through cross-correlation nulling and frequency domain segmented receiver processing |
WO2014150758A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Cygnus Broadband, Inc. | Uplink interference resolution in a wireless communication system |
US10069546B2 (en) * | 2015-02-13 | 2018-09-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Enhanced pre-ordered pre-weighted transmission |
US9780854B2 (en) | 2015-03-30 | 2017-10-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Multi-layer wireless streaming with adaptive constellation mapping (ACM) |
CN104809660B (zh) * | 2015-04-17 | 2018-05-15 | 华南理工大学 | 低压台区线损率分析指标的动态筛选及综合权重设置方法 |
CN105808927A (zh) * | 2016-03-02 | 2016-07-27 | 华南理工大学 | 基于改进序关系法的中压配电线路电压状态综合评价方法 |
CN107171300B (zh) * | 2017-06-22 | 2019-03-08 | 南京南瑞继保电气有限公司 | 一种用于继电保护定值整定的整定参数自动预处理方法 |
JP6639760B1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-02-05 | 三菱電機株式会社 | 加工条件探索装置および加工条件探索方法 |
WO2021111511A1 (ja) * | 2019-12-03 | 2021-06-10 | 株式会社日立ハイテク | 探索装置、探索プログラム及びプラズマ処理装置 |
JP2022054043A (ja) * | 2020-09-25 | 2022-04-06 | セイコーエプソン株式会社 | ロボットの制御パラメーターに関する表示を行う方法、プログラム、および情報処理装置 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62219007A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-26 | Toshiba Corp | 制御パラメ−タの同定演算装置 |
JPH0481968A (ja) | 1990-07-24 | 1992-03-16 | Hitachi Ltd | 知的計画支援システム |
DE19810069B4 (de) | 1998-03-09 | 2007-05-10 | Siemens Ag | Vorrichtung mit mehreren von einer Bedienperson über eine Steuereinheit einstellbaren Betriebsparametern |
JP4057750B2 (ja) | 1999-08-26 | 2008-03-05 | 株式会社東芝 | 脱硝制御方法およびその制御装置 |
JP2001125624A (ja) | 1999-10-26 | 2001-05-11 | Hitachi Ltd | 制御装置の保守ツールおよびパラメータ設定方法 |
US7209793B2 (en) * | 2000-07-12 | 2007-04-24 | Aspen Technology, Inc. | Automated closed loop step testing of process units |
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WO2005013070A2 (en) | 2003-07-30 | 2005-02-10 | Tuszynski Steve W | Manufacturing design and process analysis and simulation system |
TWI267012B (en) | 2004-06-03 | 2006-11-21 | Univ Nat Cheng Kung | Quality prognostics system and method for manufacturing processes |
JP2006202226A (ja) | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Hitachi Ltd | プラント運転支援方法、プラント運転支援装置及びプラント運転支援システム |
KR20080040694A (ko) | 2005-07-07 | 2008-05-08 | 엠케이에스 인스트루먼츠, 인코포레이티드 | 공정 환경에서 동적 파라미터를 모니터하기 위한 자기 보정다변량 분석 |
US7657339B1 (en) | 2005-10-14 | 2010-02-02 | GlobalFoundries, Inc. | Product-related feedback for process control |
US7813894B2 (en) | 2006-12-14 | 2010-10-12 | General Electric Company | Method and system for assessing the performance of crude oils |
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JP5444112B2 (ja) | 2010-04-30 | 2014-03-19 | 株式会社東芝 | プラント制御システムおよびプログラムリロケート方法 |
JP5027911B2 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-09-19 | 関東自動車工業株式会社 | プログラム作成方法及び作成装置 |
JP2012221450A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 制御パラメータ設定装置 |
-
2012
- 2012-12-17 JP JP2014509002A patent/JP5744321B2/ja active Active
- 2012-12-17 WO PCT/JP2012/082637 patent/WO2013150686A1/ja active Application Filing
- 2012-12-17 US US14/384,553 patent/US9696694B2/en active Active
- 2012-12-17 KR KR1020147027694A patent/KR101571994B1/ko active IP Right Grant
- 2012-12-17 DE DE112012006178.0T patent/DE112012006178B4/de active Active
- 2012-12-17 CN CN201280072133.9A patent/CN104204969B/zh active Active
-
2013
- 2013-03-18 TW TW102109434A patent/TWI479288B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150081048A1 (en) | 2015-03-19 |
JPWO2013150686A1 (ja) | 2015-12-17 |
KR20140130544A (ko) | 2014-11-10 |
WO2013150686A1 (ja) | 2013-10-10 |
KR101571994B1 (ko) | 2015-11-25 |
TW201346477A (zh) | 2013-11-16 |
TWI479288B (zh) | 2015-04-01 |
US9696694B2 (en) | 2017-07-04 |
CN104204969A (zh) | 2014-12-10 |
DE112012006178T5 (de) | 2014-12-31 |
DE112012006178B4 (de) | 2019-04-25 |
CN104204969B (zh) | 2016-10-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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