JP5733745B2

JP5733745B2 - Coating device

Info

Publication number: JP5733745B2
Application number: JP2011002801A
Authority: JP
Inventors: 健史濱川; 森　俊裕; 俊裕森
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2011-01-11
Filing date: 2011-01-11
Publication date: 2015-06-10
Anticipated expiration: 2031-01-11
Also published as: JP2012143688A

Description

本発明は、基板上に塗布膜を形成する塗布装置に関するものである。 The present invention relates to a coating apparatus that forms a coating film on a substrate.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等の基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。このような塗布装置は、基板を浮上させる浮上ステージと、浮上した基板を搬送する基板搬送部と、塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの口金部から塗布液を吐出させながら、基板と塗布ユニットとを相対的に移動させることにより、基板上に塗布膜が形成されるようになっている。具体的には、特許文献１に示されるように、搬送されてきた基板を浮上ステージ上に停止させ、口金部から塗布液を吐出させつつ塗布ユニットを移動させることにより基板上に塗布膜が形成される。そして、塗布基板が所定枚数に達した場合や種類の異なる塗布液で塗布膜を形成する場合には、塗布ユニットの口金部が交換される。この口金交換時には、作業利便性の点から塗布ユニットを浮上ステージの端部付近に移動させ、作業者により口金部を塗布ユニットから外した後、口金部を専用の移載機で吊り下げて運ぶことにより口金部の交換が行われていた。 A flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display uses a substrate such as glass coated with a coating solution such as a resist solution (referred to as a coated substrate). This coating substrate is formed by a coating apparatus that uniformly coats the coating solution. Such a coating apparatus has a levitation stage for levitating the substrate, a substrate transport unit that transports the floated substrate, and a coating unit that discharges the coating liquid, and discharges the coating liquid from the base portion of the coating unit. The coating film is formed on the substrate by relatively moving the substrate and the coating unit. Specifically, as shown in Patent Document 1, a transported substrate is stopped on a floating stage, and a coating film is formed on the substrate by moving the coating unit while discharging the coating liquid from the base. Is done. When the predetermined number of coating substrates is reached or when a coating film is formed with different types of coating solutions, the base portion of the coating unit is replaced. When changing the base, the coating unit is moved to the vicinity of the end of the levitation stage from the viewpoint of work convenience. After the operator removes the base from the coating unit, the base is suspended by a dedicated transfer machine. As a result, the base was replaced.

特開２０１０−０３４３０９号公報JP 2010-034309 A

上記の塗布装置では、口金部を搭載する塗布ユニットが移動する構成であるため、塗布ムラが発生する虞があるという問題があった。すなわち、塗布膜を形成する際、塗布ユニットの移動機構が周囲に存在する他の装置の振動の影響を受けて塗布液の供給が不安定になり、塗布ムラが発生する虞がある。このことから、塗布ユニットを浮上ステージに対して固定して設け、浮上ステージ上で基板を移動させつつ口金部から塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成することが考えられる。 The above-described coating apparatus has a problem that coating unevenness may occur because the coating unit on which the cap portion is mounted moves. That is, when the coating film is formed, the supply mechanism of the coating unit becomes unstable due to the influence of the vibration of the other device around the coating unit moving mechanism, which may cause coating unevenness. From this, it is conceivable that the coating unit is provided fixed to the levitation stage, and the coating liquid is discharged from the base part while moving the substrate on the levitation stage to form a coating film on the substrate.

しかし、塗布ユニットを固定すると、口金部を交換する際、専用の移載機が塗布ユニット固定位置まで届かないため、作業者が塗布ユニットから口金部を外した後、工場に設置されたクレーンで運搬する必要がある。この場合には、口金交換時に常に工場内のクレーンの操作が必要になるため、交換作業が煩わしいという問題がある。また、工場にクレーンがない場合や塗布装置を常にクリーンな状態で使用する場合には、外部のクレーンを使用せず、クリーンブース内に口金交換用のクレーンを設置する必要がある。この場合には、ブース内のクレーン設置費用やクレーン設置のためのブース補強などにより、コストアップに繋がってしまうという問題がある。 However, when the application unit is fixed, the dedicated transfer machine does not reach the application unit fixing position when replacing the application unit.After the operator removes the application unit from the application unit, the crane is installed in the factory. Must be transported. In this case, since the operation of the crane in the factory is always required at the time of base replacement, there is a problem that the replacement work is troublesome. In addition, when there is no crane in the factory or when the coating device is always used in a clean state, it is necessary to install a crane for changing the cap in the clean booth without using an external crane. In this case, there is a problem that the cost is increased due to the crane installation cost in the booth or the reinforcement of the booth for crane installation.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、塗布ムラを抑えるために塗布ユニットが固定されている場合であっても、口金部の交換を容易に行うことができ、また、口金部の交換に伴うコストアップを抑えることができる塗布装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and even when the coating unit is fixed to suppress coating unevenness, the base portion can be easily replaced, It aims at providing the coating device which can suppress the cost increase accompanying replacement | exchange of a nozzle | cap | die part.

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージから基板を浮上させた状態で浮上ステージに沿って基板を搬送する基板搬送部と、塗布液を吐出する口金部が着脱可能に支持されるとともに、前記口金部が前記浮上ステージに対向した状態で固定して設置された塗布ユニットと、を備えており、前記浮上ステージ上に浮上した基板を前記基板搬送部により前記塗布ユニットに対して移動させつつ前記口金部から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、前記口金部を載置可能な口金移載ユニットをさらに備え、この口金移載ユニットの移動をガイドするレールが前記基板搬送部のレールの外側に前記基板搬送部のレールに沿って設けられるとともに、前記口金部を載置する口金載置部の高さ位置が前記浮上ステージと前記塗布ユニットとの間に位置するように設定されることにより、前記口金移載ユニットが前記口金部と対向する口金受取位置と前記口金部を交換する口金交換位置とに移動可能であることを特徴としている。 In order to solve the above problems, a coating apparatus according to the present invention includes a levitation stage for levitating a substrate, a substrate conveyance unit for conveying the substrate along the levitation stage in a state where the substrate is levitated from the levitation stage, and a coating liquid. A dispensing unit that is detachably supported, and a coating unit that is fixedly installed in a state in which the die unit faces the levitation stage, and the substrate that has floated on the levitation stage is A coating apparatus for forming a coating film on a substrate by discharging a coating solution from the base unit while moving the substrate with respect to the coating unit by a substrate transport unit, and transferring the base on which the base unit can be placed further comprising a unit, together with the provided along the rail of the substrate transfer unit rails for guiding the movement is outside of the rails of the board conveying portion of the mouthpiece transfer unit, before By the height position of the die mounting portion for mounting the base part is set to be positioned between the coating unit and the floating stage, mouthpiece receiving said ferrule transfer unit is opposed to the cap portion It is possible to move between a position and a base exchange position for exchanging the base part.

上記塗布装置によれば、口金部を載置可能な口金移載ユニットが口金受取位置と口金交換位置に移動可能であるため、塗布ユニットの口金部の交換を容易に行うことができる。すなわち、口金移載ユニットが口金受取位置に位置させた状態で、作業者により塗布ユニットから口金部が取り外されて口金移載ユニットに載置される。そして、口金部を搭載された口金移載ユニットは、口金交換位置に移動し、この位置で専用の移載機に載せ替えられて運搬される。すなわち、塗布ユニットを固定した場合であっても、口金交換の際、工場内のクレーンやブース内のクレーンが不要になる。したがって、これらクレーンが必要となる場合に比べて、口金部の交換に伴うコストアップを抑えることができるとともに、口金移載ユニットへの載せ替え作業だけでクレーンの操作も必要ないため、口金交換作業を容易に行うことができる。 According to the coating apparatus, since the base transfer unit on which the base part can be placed is movable to the base receiving position and the base replacement position, the base part of the coating unit can be easily replaced. That is, with the base transfer unit positioned at the base receiving position, the base part is removed from the coating unit by the operator and placed on the base transfer unit. Then, the base transfer unit on which the base part is mounted moves to the base replacement position, and is transported by being transferred to a dedicated transfer machine at this position. That is, even when the coating unit is fixed, a crane in the factory or a crane in the booth is not necessary when changing the base. Therefore, compared to the case where these cranes are required, the cost increase associated with the replacement of the base portion can be suppressed, and the operation of changing the base is not necessary because only the transfer operation to the base transfer unit is not required. Can be easily performed.

また、前記口金移載ユニットは、前記口金部を支持する口金支持部を有しており、この口金移載ユニットは、前記口金部が前記口金支持部に支持された姿勢で鉛直方向を中心に回転可能である構成としてもよい。 Further, the base transfer unit has a base support part that supports the base part, and the base transfer unit has a posture in which the base part is supported by the base support part with a vertical direction as a center. It is good also as a structure which can be rotated.

この構成によれば、基板搬送方向に口金交換作業のスペースが取れない場合であっても口金部を容易に交換することができる。すなわち、口金交換位置で口金移載ユニットを回転させて口金部が基板搬送方向と平行になる姿勢で停止させて、基板搬送方向と直交する方向から既存の移載機を用いることにより、口金部を交換することができる。 According to this configuration, the base part can be easily replaced even when the space for the base replacement work cannot be taken in the substrate transport direction. That is, by rotating the base transfer unit at the base replacement position and stopping the base in a posture in which the base is parallel to the substrate transport direction, and using the existing transfer machine from the direction orthogonal to the substrate transport direction, Can be exchanged.

また、前記口金移載ユニットは、前記口金部を支持する口金支持部を有しており、この口金支持部は、口金部の載置方向に弾性的に変位する構成としてもよい。 Moreover, the said base transfer unit has a base support part which supports the said base part, and this base support part is good also as a structure displaced elastically in the mounting direction of a base part.

また、前記口金交換位置は、前記浮上ステージの基板搬送方向端部付近に設けられている構成としてもよい。 Further, the base exchange position may be provided near the end of the floating stage in the substrate transport direction.

この構成によれば、口金部を移載して運搬可能な専用の移載機に搭載させやすいため、口金部の交換作業を容易にすることができる。 According to this configuration, the base part can be easily transferred and mounted on a dedicated transfer machine that can be transported, so that the base part can be easily replaced.

また、前記口金移載ユニットの移動をガイドするレールが前記浮上ステージよりも基板搬送方向に延びており、この基板搬送方向に延びたレール部分に前記口金交換位置が設けられている構成としてもよい。 Further, a rail that guides the movement of the base transfer unit extends in the substrate transport direction from the levitation stage, and the base replacement position is provided in a rail portion that extends in the substrate transport direction. .

この構成によれば、口金の交換作業が浮上テーブルから外れた位置で行うことができるため、作業中に、浮上テーブルに異物が落下したり、浮上テーブルが損傷を受けたりするのを抑えることができる。 According to this configuration, since the base replacement work can be performed at a position away from the floating table, it is possible to prevent foreign matters from falling on the floating table or damage to the floating table during the work. it can.

本発明の塗布装置によれば、塗布ムラを抑えるために塗布ユニットが固定されている場合であっても、口金部の交換を容易に行うことができ、また、口金部の交換に伴うコストアップを抑えることができる。 According to the coating apparatus of the present invention, even when the coating unit is fixed in order to suppress coating unevenness, the base part can be easily replaced, and the cost associated with the replacement of the base part can be increased. Can be suppressed.

本発明の一実施形態における塗布装置を示す上面図である。It is a top view which shows the coating device in one Embodiment of this invention. 上記塗布装置の側面図である。It is a side view of the said coating device. 上記塗布装置の正面図である。It is a front view of the said coating device. 口金移載ユニットを示す拡大図である。It is an enlarged view which shows a nozzle | cap | die transfer unit. 口金部の取出作業の状態を示す図であり、（ａ）は、口金交換位置の口金移載ユニットから口金部を移載機に移す状態を示す図であり、（ｂ）は、移載機で口金部を運搬する状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the taking-out operation | work of a nozzle | cap | die part, (a) is a figure which shows the state which transfers a nozzle | cap | die part to a transfer machine from the nozzle | cap | die transfer unit of a nozzle | cap | die exchange position, (b) is a transfer machine. It is a figure which shows the state which conveys a nozzle | cap | die part. 他の実施形態における口金移載ユニットを示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the nozzle | cap | die transfer unit in other embodiment. 他の実施形態における塗布装置の上面図である。It is a top view of the coating device in other embodiments.

本発明の塗布装置に係る実施の形態について、図面を用いて説明する。 An embodiment according to the coating apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１は、塗布装置の一実施形態を示す上面図であり、図２は、塗布装置の側面図、図３は、塗布装置の正面図である。 FIG. 1 is a top view showing an embodiment of a coating apparatus, FIG. 2 is a side view of the coating apparatus, and FIG. 3 is a front view of the coating apparatus.

図１〜図３において、塗布装置１は、ガラス等の基板Ｗ上にレジスト液等の塗布液を塗布することにより、基板Ｗ上に塗布膜を形成するものである。この塗布装置１は、浮上ステージ２と、基板搬送部３と、塗布ユニット４とを備えており、浮上ステージ２上に浮上した基板Ｗを基板搬送部３により移動させつつ塗布ユニット４から塗布液を吐出することにより、基板Ｗ上に塗布膜を形成できるようになっている。 1 to 3, the coating apparatus 1 forms a coating film on a substrate W by coating a coating solution such as a resist solution on a substrate W such as glass. The coating apparatus 1 includes a levitation stage 2, a substrate transport unit 3, and a coating unit 4, and the substrate W floating on the levitation stage 2 is moved by the substrate transport unit 3 while being applied from the coating unit 4. The coating film can be formed on the substrate W by ejecting.

なお、以下の説明では、基板Ｗが搬送される搬送方向をＸ軸方向とし、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。 In the following description, the transport direction in which the substrate W is transported is the X-axis direction, the direction orthogonal to the horizontal plane is the Y-axis direction, and the direction orthogonal to both the X-axis direction and the Y-axis direction is the Z-axis direction. The explanation will proceed as a direction.

浮上ステージ２は、Ｘ軸方向に分割して設けられており、上流側から、上流側サブステージ２１、メインステージ２２、及び下流側サブステージ２３を有している。これら各ステージそれぞれは、平板状のステージ本体２０を有しており、このステージ本体２０に、微細な噴出孔（不図示）が形成されている。そして、噴出孔のそれぞれとコンプレッサー（不図示）とが配管で接続されており、コンプレッサーを作動させることにより噴出孔から圧縮空気を噴射できるようになっている。これにより、噴出孔から圧縮空気が噴射された状態で基板Ｗがステージ本体２０に載置されると、基板Ｗとステージ本体２０の表面に空気層が形成され、ステージ本体２０の表面から基板Ｗが浮上できるようになっている。 The levitation stage 2 is provided divided in the X-axis direction, and has an upstream substage 21, a main stage 22, and a downstream substage 23 from the upstream side. Each of these stages has a flat stage main body 20, and fine jet holes (not shown) are formed in the stage main body 20. Each of the ejection holes and a compressor (not shown) are connected by piping, and compressed air can be injected from the ejection holes by operating the compressor. As a result, when the substrate W is placed on the stage main body 20 in a state where the compressed air is jetted from the ejection holes, an air layer is formed on the surfaces of the substrate W and the stage main body 20, and the substrate W from the surface of the stage main body 20. Can emerge.

また、ステージ本体２０には、空気を吸引する吸引孔（不図示）が適所に形成されており、この吸引孔と真空ポンプ（不図示）とが配管で接続されている。そして、真空ポンプを作動させると、吸引孔に吸引力が発生し、噴出孔から噴射された空気が吸引されるようになっている。すなわち、コンプレッサーと真空ポンプを制御することにより、この噴出孔から噴出される圧縮空気と、吸引孔に発生する吸引力とがバランスするため、基板Ｗがステージ本体２０の表面から一定高さに水平の姿勢で浮上させることができるようになっている。 The stage body 20 is formed with suction holes (not shown) for sucking air at appropriate positions, and the suction holes and a vacuum pump (not shown) are connected by piping. When the vacuum pump is operated, a suction force is generated in the suction hole, and the air ejected from the ejection hole is sucked. That is, by controlling the compressor and the vacuum pump, the compressed air ejected from the ejection holes and the suction force generated in the suction holes are balanced, so that the substrate W is horizontally leveled from the surface of the stage body 20. It can be lifted in the posture of.

なお、メインステージ２２と上下サブステージ２１，２３とは、浮上高さ精度が異なっている。すなわち、メインステージ２２では、噴出孔における圧縮空気の噴射量のバラツキが、上下サブステージ２２，２３よりも小さくなっている。これにより、メインステージ２２上に浮上する基板Ｗの浮上高さは、サブステージ２１，２３に比べて、基板Ｗ全体に亘って均一高さに維持できるようになっている。 The main stage 22 and the upper and lower substages 21 and 23 have different flying height accuracy. That is, in the main stage 22, the variation in the injection amount of the compressed air in the ejection holes is smaller than that in the upper and lower substages 22 and 23. Thereby, the flying height of the substrate W that floats on the main stage 22 can be maintained at a uniform height over the entire substrate W as compared with the substages 21 and 23.

また、浮上ステージ２のステージ本体２０は、そのＹ軸方向寸法が基板ＷのＹ軸方向寸法よりも小さく形成されており、浮上ステージ２上に基板Ｗを載置すると、浮上ステージ２から基板ＷのＹ軸方向端部がはみ出した状態となる。このはみ出した部分を後述の基板搬送部３で把持することにより、基板Ｗを搬送できるようになっている。 Further, the stage main body 20 of the levitation stage 2 is formed such that the dimension in the Y-axis direction is smaller than the dimension in the Y-axis direction of the substrate W. When the substrate W is placed on the levitation stage 2, the substrate W is moved from the levitation stage 2. The end of the Y-axis direction protrudes. The substrate W can be transported by gripping the protruding portion by a substrate transport unit 3 described later.

基板搬送部３は、基板Ｗを浮上ステージ２に沿って搬送するものであり、搬送本体部３１と基板把持部３２とを有している。搬送本体部３１は、浮上ステージ２に沿って移動できるように構成されている。具体的には、浮上ステージ２のＹ軸方向両側には、ステージ本体２０の配列方向（Ｘ軸方向）に沿って基台３３が配置されており、この基台３３上を搬送本体部３１がＸ軸方向に沿って移動できるようになっている。すなわち、基台３３上には、Ｘ軸方向に延びるレール３４が配置されており、搬送本体部３１がレール３４上をスライド自在に取付けられている。そして、搬送本体部３１にはリニアモータ３５が取り付けられており、このリニアモータ３５を駆動制御することにより、搬送本体部３１がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止することができる。なお、搬送本体部３１は、Ｙ軸方向両側に２台設けられており、リニアモータ３５の駆動時には、これら２台の位置関係が保たれたまま移動できるように設定されている。 The substrate transport unit 3 transports the substrate W along the levitation stage 2 and includes a transport body unit 31 and a substrate gripping unit 32. The transport main body 31 is configured to be movable along the levitation stage 2. Specifically, bases 33 are arranged on both sides of the floating stage 2 in the Y-axis direction along the arrangement direction (X-axis direction) of the stage main bodies 20, and the transport main body 31 is placed on the base 33. It can move along the X-axis direction. In other words, a rail 34 extending in the X-axis direction is disposed on the base 33, and the transport main body 31 is slidably mounted on the rail 34. And the linear motor 35 is attached to the conveyance main-body part 31, By carrying out drive control of this linear motor 35, the conveyance main-body part 31 can move to an X-axis direction, and can stop at arbitrary positions. Two transport main bodies 31 are provided on both sides in the Y-axis direction. When the linear motor 35 is driven, the transport main body 31 is set to be movable while maintaining the positional relationship between the two.

また、基板把持部３２は、基板Ｗを把持するものであり、搬送本体部３１に取付けられている。すなわち、基板把持部３２は、搬送本体部３１から浮上ステージ２側に突出して取付けられており、その突出量は、基板把持部３２の上面が浮上ステージ２に載置された基板Ｗの裏面と対面する寸法に設定されている。そして、基板把持部３２の上面には、吸引穴（不図示）が形成されており、この吸引穴が真空ポンプに接続されている。これにより、真空ポンプを作動させると、吸引穴に吸引力が発生し、浮上ステージ２に載置された基板Ｗのはみ出し部分が基板把持部３２の上面に吸着される。したがって、この状態でリニアモータ３５を駆動制御して搬送本体部３１を移動させることにより、基板Ｗが浮上ステージ２に沿って搬送され、任意の位置で停止させることができる。すなわち、上流から基板Ｗが供給される際には、基板把持部３２が上流側サブステージ２１に待機しており、基板Ｗが浮上ステージ２に載置されると、吸引穴に吸引力を発生させて基板把持部３２に基板Ｗを吸着させることにより基板Ｗが把持される。そして、塗布動作時には、基板Ｗをメインステージ２２まで搬送し、基板Ｗ排出時には、基板Ｗを下流側サブステージ２３まで搬送し、排出動作完了までその位置で停止できるようになっている。 The substrate gripping portion 32 grips the substrate W and is attached to the transport main body portion 31. In other words, the substrate gripping portion 32 is attached so as to protrude from the transfer main body portion 31 toward the floating stage 2, and the amount of protrusion of the substrate gripping portion 32 is the same as that of the back surface of the substrate W placed on the floating stage 2. The dimensions are set to face each other. A suction hole (not shown) is formed on the upper surface of the substrate gripping portion 32, and this suction hole is connected to a vacuum pump. Accordingly, when the vacuum pump is operated, a suction force is generated in the suction hole, and the protruding portion of the substrate W placed on the floating stage 2 is attracted to the upper surface of the substrate gripping portion 32. Therefore, by driving and controlling the linear motor 35 in this state to move the transport main body 31, the substrate W can be transported along the floating stage 2 and stopped at an arbitrary position. That is, when the substrate W is supplied from the upstream side, the substrate gripping portion 32 is waiting on the upstream side substage 21, and when the substrate W is placed on the floating stage 2, a suction force is generated in the suction hole. The substrate W is gripped by causing the substrate gripping portion 32 to attract the substrate W. The substrate W is transported to the main stage 22 during the application operation, and the substrate W is transported to the downstream substage 23 when the substrate W is discharged, and can be stopped at that position until the discharge operation is completed.

また、塗布ユニット４は、基板Ｗ上に塗布液を吐出するものであり、本実施形態では、浮上ステージ２のＸ軸方向ほぼ中央位置に配置されている。塗布ユニット４は、門型形状のフレーム部４１と、このフレーム部４１に取付けられた口金部４２とを有しており、口金部４２がメインステージ２２に対向する状態でフレーム部４１が固定して設けられている。 The coating unit 4 discharges the coating liquid onto the substrate W, and in this embodiment, the coating unit 4 is disposed at a substantially central position in the X-axis direction of the levitation stage 2. The coating unit 4 includes a gate-shaped frame portion 41 and a base portion 42 attached to the frame portion 41, and the frame portion 41 is fixed in a state where the base portion 42 faces the main stage 22. Is provided.

フレーム部４１は、口金部４２を支持するものであり、門型形状に形成されている。すなわち、フレーム部４１は、床面に固定される２本の支柱４１ａと、これら支柱４１ａに架設されるビーム部材４１ｂとを有しており、メインステージ２２の両側に支柱４１ａが固定されることにより、ビーム部材４１ｂがメインステージ２２を跨ぐ状態で設けられている。そして、ビーム部材４１ｂには口金部４２が設けられており、口金部４２がメインステージ２２をＹ軸方向に横切る状態で取付けられている。 The frame part 41 supports the base part 42 and is formed in a gate shape. In other words, the frame portion 41 has two columns 41 a fixed to the floor surface and beam members 41 b installed on these columns 41 a, and the columns 41 a are fixed to both sides of the main stage 22. Thus, the beam member 41 b is provided in a state of straddling the main stage 22. The base member 42 is provided on the beam member 41b, and the base portion 42 is attached so as to cross the main stage 22 in the Y-axis direction.

ビーム部材４１ｂは、一方向に延びる棒状部材であり、サーボモータで駆動されるボールねじ機構により支柱４１ａに対して昇降動作可能に取付けられている。このビーム部材４１ｂの昇降動作により、口金部４２がビーム部材４１ｂと共に昇降動作でき、浮上ステージ２に対して接離可能に動作できるようになっている。本実施形態では、口金部４２の高さ位置が、塗布動作を行う塗布動作位置と、口金部４２の取外し作業を行う取外し位置とに調節できるようになっている。 The beam member 41b is a rod-like member extending in one direction, and is attached to the column 41a so as to be movable up and down by a ball screw mechanism driven by a servo motor. The base part 42 can be moved up and down together with the beam member 41 b by the lifting and lowering operation of the beam member 41 b, and can be operated so as to be able to contact and separate from the floating stage 2. In the present embodiment, the height position of the base part 42 can be adjusted to a coating operation position where the base part 42 is applied and a removal position where the base part 42 is removed.

口金部４２は、塗布液を基板Ｗ上に吐出するものである。すなわち、口金部４２は、一方向に延びる略直方体形状を有しており、供給される塗布液を溜めるチャンバーと一方向に延びる形状に形成されたスリットノズル４２ａとを有している。このチャンバーには、塗布液を供給するポンプが配管を通じて接続されており、ポンプを作動させることによりチャンバーに塗布液が供給されると共にチャンバー内の塗布液がスリットノズル４２ａを通じて吐出されるようになっている。また、口金部４２は、スリットノズル４２ａが浮上ステージ２側に対向する状態でビーム部材４１ｂに取付けられている。これにより、メインステージ２２に基板Ｗが供給された状態でポンプを作動させると、チャンバー内の塗布液がスリットノズル４２ａを通じて基板Ｗに吐出される。そして、ポンプを作動させつつ、基板搬送部３により基板Ｗを下流側に搬送させることにより、基板Ｗ上に均一厚さの塗布膜が形成されるようになっている。 The base part 42 discharges the coating liquid onto the substrate W. That is, the base part 42 has a substantially rectangular parallelepiped shape extending in one direction, and includes a chamber for storing the supplied coating liquid and a slit nozzle 42a formed in a shape extending in one direction. A pump for supplying the coating liquid is connected to the chamber through a pipe. When the pump is operated, the coating liquid is supplied to the chamber and the coating liquid in the chamber is discharged through the slit nozzle 42a. ing. The base part 42 is attached to the beam member 41b with the slit nozzle 42a facing the levitation stage 2 side. Thus, when the pump is operated in a state where the substrate W is supplied to the main stage 22, the coating liquid in the chamber is discharged onto the substrate W through the slit nozzle 42a. Then, a coating film having a uniform thickness is formed on the substrate W by transporting the substrate W to the downstream side by the substrate transport unit 3 while operating the pump.

また、口金部４２は、ビーム部材４１ｂに着脱自在に取付けられている。本実施形態では、口金部４２の上面部分とビーム部材４１ｂとが複数のボルトで締結されることによって取付けられている。したがって、口金部４２の脱着は、作業者がボルトを外すことによりビーム部材４１ｂから口金部４２を取外すことができ、清掃後の口金部４２をボルトで締結させることによりビーム部材４１ｂに口金部４２を装着することができる。 The base part 42 is detachably attached to the beam member 41b. In the present embodiment, the upper surface portion of the base portion 42 and the beam member 41b are attached by being fastened with a plurality of bolts. Therefore, the attachment / detachment of the base part 42 can be performed by removing the bolt from the beam member 41b by an operator, and the base part 42 can be attached to the beam member 41b by fastening the base part 42 after cleaning with the bolt. Can be worn.

また、本塗布装置１は、口金移載ユニット５をさらに備えている。口金移載ユニット５は、口金部４２の脱着作業を行う際、口金部４２を載置して適当な位置に移動させるためのものである。口金移載ユニット５は、門型形状を有しており、２本の脚部５１とこれらの脚部５１を連結する口金載置部５２とを有している。これらの脚部５１は、浮上ステージ２の両側に配置された基台３３上に取付けられている。具体的には、基台３３上には、基板搬送部３のレール３４の外側にＸ軸方向に延びるレール５３が配置されており、脚部５１がレール５３上をスライド自在に取付けられている。そして、脚部５１にはリニアモータ（不図示）が取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、口金移載ユニット５がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止することができる。そして、口金載置部５２の高さ位置が浮上ステージ２と塗布ユニット４の口金部４２との間に位置するように設定されているため、口金移載ユニット５がＸ軸方向に移動する際、口金載置部５２が浮上ステージ２や口金部４２に衝突することなくレール５３上を自由に移動することができる。 The coating apparatus 1 further includes a base transfer unit 5. The base transfer unit 5 is for placing the base part 42 and moving it to an appropriate position when the base part 42 is attached and detached. The base transfer unit 5 has a portal shape, and has two leg portions 51 and a base placement portion 52 that connects these leg portions 51. These legs 51 are mounted on a base 33 disposed on both sides of the levitation stage 2. Specifically, a rail 53 extending in the X-axis direction is disposed on the base 33 outside the rail 34 of the substrate transport unit 3, and the leg portion 51 is slidably mounted on the rail 53. . A linear motor (not shown) is attached to the leg 51. By controlling the driving of the linear motor, the base transfer unit 5 can move in the X-axis direction and stop at an arbitrary position. it can. Since the height position of the base mounting part 52 is set so as to be positioned between the floating stage 2 and the base part 42 of the coating unit 4, the base transfer unit 5 moves in the X-axis direction. The base mounting part 52 can freely move on the rail 53 without colliding with the levitation stage 2 or the base part 42.

また、口金移載ユニット５は、口金受取位置と口金交換位置とに移動することができる。口金受取位置とは、塗布ユニット４の口金部４２を受け取る位置であって、塗布ユニット４から取り外された口金部４２が、口金移載ユニット５に載置できる位置である。本実施形態では、塗布ユニット４が固定されている位置であり、塗布ユニット４の口金部４２と口金移載ユニット５の口金載置部５２とが互いに対向する位置に設定されている。これにより、口金部４２を受け取る際、作業者がボルトを弛めることにより塗布ユニット４から口金部４２を取り外されると、そのまま口金部４２を口金載置部５２に載置することができる。 Further, the base transfer unit 5 can move to the base receiving position and the base replacement position. The base receiving position is a position where the base part 42 of the coating unit 4 is received, and the base part 42 removed from the coating unit 4 can be placed on the base transfer unit 5. In the present embodiment, the coating unit 4 is fixed, and the base part 42 of the coating unit 4 and the base placement part 52 of the base transfer unit 5 are set to face each other. Thereby, when receiving the base part 42, if the operator removes the base part 42 from the application unit 4 by loosening the bolt, the base part 42 can be placed on the base mounting part 52 as it is.

また、口金交換位置は、口金移載ユニット５に載置された口金部４２を新たな口金部４２に交換するための位置である。本実施形態では、基板搬送方向端部（Ｘ軸方向端部）付近に設けられている。具体的には、口金移載ユニット５のレール５３が浮上ステージ２のＸ軸方向端部よりも延びて形成されており、このレール５３が延びた位置が口金交換位置に設定されている（図１、図２参照）。口金交換位置がこの位置に設定されていることにより、口金移載ユニット５に載置された口金部４２を既存の移載機６（塗布装置１とは別体）を使って容易に交換することができる。すなわち、口金部４２が取付られた塗布ユニット４は、浮上ステージ２の基板搬送方向ほぼ中央位置に固定されているため、別体の移載機６では口金部４２のある位置まで届かず、口金部４２を移載機６に受け渡すことができない。しかし、口金部４２を載せた口金移載ユニット５が基板搬送方向端部まで移動することにより、別体の移載機６が届く範囲に口金部４２を運ぶことができるため、この口金交換位置で口金部４２を受渡すことができる。したがって、塗布ユニット４が固定されている場合であっても口金部４２の交換作業を容易にすることができる。 The base replacement position is a position for replacing the base part 42 mounted on the base transfer unit 5 with a new base part 42. In this embodiment, it is provided in the vicinity of the substrate transport direction end (X-axis direction end). Specifically, the rail 53 of the base transfer unit 5 is formed to extend from the end portion in the X-axis direction of the levitation stage 2, and the position where the rail 53 extends is set as the base replacement position (see FIG. 1, see FIG. By setting the base replacement position to this position, the base part 42 placed on the base transfer unit 5 can be easily replaced using the existing transfer machine 6 (separate from the coating apparatus 1). be able to. That is, since the coating unit 4 to which the base part 42 is attached is fixed at a substantially central position in the substrate transport direction of the floating stage 2, the separate transfer machine 6 does not reach the position where the base part 42 is located, The part 42 cannot be transferred to the transfer machine 6. However, since the base transfer unit 5 on which the base part 42 is placed moves to the end in the substrate transport direction, the base part 42 can be transported to a range where the separate transfer machine 6 can reach, so this base replacement position. The base part 42 can be delivered. Therefore, even when the coating unit 4 is fixed, the replacement work of the base part 42 can be facilitated.

また、口金移載ユニット５の口金載置部５２は、口金部４２を保持する口金支持部５４を有している。本実施形態では、図１、３、４に示すように、平板部材上に２つの口金支持部５４を有しており、これら２つの口金支持部５４により口金部４２の両端部分に当接して口金部４２を水平状態で保持できるようになっている。これらの口金支持部５４は、口金部４２の底面を受ける口金受け部５４１と、口金部４２の側面を押さえる口金挟持部５４２とを有している。口金受け部５４１は、口金部４２の底面に当接することにより、載置される口金部４２を下側から受けるものである。この口金受け部５４１は、口金部４２の底面、すなわち、口金部４２のスリットノズル４２ａが形成される面に当接する当接部５４１ａを有しており、この当接部５４１ａには、切欠溝５４１ｂが形成されている。すなわち、口金受け部５４１に口金部４２を載置して口金部４２の底面が当接部５４１ａに当接した場合に、スリットノズル４２ａの位置と切欠溝５４１ｂの位置とを一致させることにより、スリットノズル４２ａが切欠溝５４１ｂに逃げ、スリットノズル４２ａが当接部５４１ａに当接して損傷するのを防止できるようになっている。 The base mounting portion 52 of the base transfer unit 5 includes a base support portion 54 that holds the base portion 42. In this embodiment, as shown in FIGS. 1, 3, and 4, two base support portions 54 are provided on the flat plate member, and the two base support portions 54 abut against both end portions of the base portion 42. The base part 42 can be held in a horizontal state. These base support parts 54 include a base receiving part 541 that receives the bottom surface of the base part 42, and a base clamping part 542 that presses the side surface of the base part 42. The base receiving part 541 receives the base part 42 to be placed from below by contacting the bottom surface of the base part 42. The base receiving part 541 has a contact part 541a that contacts the bottom surface of the base part 42, that is, the surface on which the slit nozzle 42a of the base part 42 is formed, and the contact part 541a has a notch groove. 541b is formed. That is, when the base part 42 is placed on the base receiving part 541 and the bottom surface of the base part 42 comes into contact with the contact part 541a, the position of the slit nozzle 42a and the position of the notch groove 541b are matched, It is possible to prevent the slit nozzle 42a from escaping into the notch groove 541b and the slit nozzle 42a from coming into contact with the contact portion 541a and being damaged.

また、口金受け部５４１には平板部材側にバネ機構５５を有しており、口金受け部５４１は、このバネ機構５５により弾性的にＺ方向に変位することができる。これにより、仮に口金受け部５４１に口金部４２が勢いよく当接した場合でも、その衝撃を吸収することができ、口金部４２の底面に当接部５４１ａが当接したことにより損傷を受けるのを防止できるようになっている。なお、口金支持部５４にはセンサが設けられており、口金受け部５４１の下降位置が一定値を超えると反応するようになっている。これにより、口金支持部５４に口金部４２が載置されたか否かを判断できるようになっている。 Further, the base receiving part 541 has a spring mechanism 55 on the flat plate member side, and the base receiving part 541 can be elastically displaced in the Z direction by the spring mechanism 55. As a result, even if the base part 42 abruptly contacts the base receiving part 541, the impact can be absorbed, and damage is caused by the contact part 541a contacting the bottom surface of the base part 42. Can be prevented. The base support part 54 is provided with a sensor, and reacts when the lowering position of the base receiving part 541 exceeds a certain value. Accordingly, it can be determined whether or not the base part 42 is placed on the base support part 54.

また、口金挟持部５４２は、Ｘ軸方向両側にパッド部５４２ａを有しており、このパッド部５４２ａが平板部材の中央部分に向かって突出する把持位置と、中央部分から退避する退避位置とに進退可能に構成されている。すなわち、口金受け部５４１に口金部４２が載置されていない状態では、パッド部５４２ａが退避位置に位置して待機しており、口金受け部５４１に口金部４２が載置されると、パッド部５４２ａが把持位置に突出することにより、口金部４２の側面に当接して口金部４２を挟持する。これにより、塗布ユニット４から取り外された口金部４２が口金支持部５４によって保持される。 The base clamping portion 542 has pad portions 542a on both sides in the X-axis direction. The pad portion 542a has a gripping position where the pad portion 542a protrudes toward the central portion of the flat plate member and a retracted position where the pad portion 542a is retracted from the central portion. It is configured to be able to advance and retreat. That is, in a state in which the base part 42 is not placed on the base receiving part 541, the pad part 542 a is in the standby position at the retracted position, and when the base part 42 is placed on the base receiving part 541, When the part 542a protrudes to the gripping position, the base part 42 is held in contact with the side surface of the base part 42. Thereby, the base part 42 removed from the coating unit 4 is held by the base support part 54.

なお、口金載置部５２は、Ｙ軸方向に延びるＬＭガイド５２１に搭載されており、Ｙ軸方向に変位できるようになっている。これにより、２つの口金支持部５４が口金部４２の両端部分に位置するように調節できるようになっている。 The base mounting portion 52 is mounted on an LM guide 521 that extends in the Y-axis direction, and can be displaced in the Y-axis direction. Thus, the two base support portions 54 can be adjusted so as to be positioned at both end portions of the base portion 42.

次に、本実施形態の塗布装置１における口金部４２の交換動作について説明する。 Next, the replacement | exchange operation | movement of the nozzle | cap | die part 42 in the coating device 1 of this embodiment is demonstrated.

基板搬送部３により基板Ｗが搬送されつつ、塗布ユニット４の口金部４２から塗布液が吐出されることにより、基板Ｗ上に塗布膜が形成される。このような塗布動作は、基板Ｗが所定枚数に足した場合や、種類の異なる塗布液で塗布膜を形成する場合に一時的に停止され、口金部４２の交換動作が開始される。 A coating film is formed on the substrate W by discharging the coating liquid from the base 42 of the coating unit 4 while the substrate W is transported by the substrate transport unit 3. Such a coating operation is temporarily stopped when the number of the substrates W is increased to a predetermined number or when a coating film is formed with different types of coating liquids, and the replacement operation of the base part 42 is started.

まず、塗布ユニット４の口金部４２の取外し動作が行われる。具体的には、リニアモータを駆動制御し、口金移載ユニット５を塗布ユニット４の位置、すなわち口金受取位置に移動させる。これにより、口金部４２と口金載置部５２とが対向する状態になる。 First, the removal operation of the cap 42 of the coating unit 4 is performed. Specifically, the linear motor is driven and controlled, and the base transfer unit 5 is moved to the position of the coating unit 4, that is, the base receiving position. Thereby, the base part 42 and the base mounting part 52 are in a state of facing each other.

次に、口金部４２を口金載置部５２に仮載置させる。具体的には、口金部４２を下降させて口金部４２の高さ位置を口金取外し位置に設定する。そして、口金部４２を口金支持部５４に当接させる。すなわち、口金部４２を下降させることにより、口金部４２のスリットノズル４２ａが切欠溝５４１ｂに位置した状態で口金受け部５４１の当接部５４１ａに口金部４２の底面が当接する。当接した後、さらに口金部４２を下降させることにより、バネ機構５５が収縮して口金受け部５４１が下降する。ここで、口金部４２の下降が一定高さ位置を越えると口金支持部５４のセンサが反応することにより口金部４２が口金支持部５４に当接したことが判断され、口金部４２の下降が停止される。 Next, the base part 42 is temporarily placed on the base placement part 52. Specifically, the base part 42 is lowered and the height position of the base part 42 is set to the base removal position. Then, the base part 42 is brought into contact with the base support part 54. That is, by lowering the base part 42, the bottom surface of the base part 42 contacts the contact part 541 a of the base receiving part 541 with the slit nozzle 42 a of the base part 42 positioned in the notch groove 541 b. After the contact, the base portion 42 is further lowered, whereby the spring mechanism 55 is contracted and the base receiving portion 541 is lowered. Here, when the lowering of the base part 42 exceeds a certain height position, the sensor of the base support part 54 reacts to determine that the base part 42 has come into contact with the base support part 54, and the downward movement of the base part 42 occurs. Stopped.

口金部４２の下降が停止されると、作業者により口金部４２の取外しが行われる。具体的には、ボルトを弛めることによりビーム部材４１ｂから口金部４２を取り外す。このとき、口金部４２は、口金載置部５２に仮載置されているため、ボルトを弛めても口金部４２が落下することを防止することができる。 When the lowering of the base part 42 is stopped, the base part 42 is removed by the operator. Specifically, the base part 42 is removed from the beam member 41b by loosening a bolt. At this time, since the base part 42 is temporarily placed on the base placement part 52, the base part 42 can be prevented from falling even if the bolt is loosened.

次に、口金部４２の取外しが完了すると、塗布ユニット４のビーム部材４１ｂを上昇させ、一方で、口金挟持部５４２で口金部４２の側面を挟持させることにより、口金部４２を口金載置部５２上で完全に保持させる。そして、口金移載ユニット５を移動させて口金交換位置に停止させる。 Next, when the removal of the base part 42 is completed, the beam member 41b of the coating unit 4 is raised, while the side part of the base part 42 is clamped by the base clamping part 542, whereby the base part 42 is moved to the base mounting part. Hold fully on 52. Then, the base transfer unit 5 is moved and stopped at the base replacement position.

次に、口金部４２の交換作業が行われる。具体的には、図５に示すように、塗布装置１とは別体の移載機６を口金交換位置に位置させて、口金移載ユニット５に載置された口金部４２を移載機６のアーム６１に連結する（図５（ａ））。そして、アーム６１を上昇させることにより口金部４２を吊り下げて、移載機６を所定の場所まで運搬することにより、口金部４２の交換作業が完了する（図５（ｂ））。 Next, the replacement work of the cap part 42 is performed. Specifically, as shown in FIG. 5, the transfer device 6, which is separate from the coating apparatus 1, is positioned at the base replacement position, and the base portion 42 placed on the base transfer unit 5 is transferred. 6 to the arm 61 (FIG. 5A). Then, the base part 42 is suspended by raising the arm 61, and the transfer device 6 is transported to a predetermined place, whereby the replacement work of the base part 42 is completed (FIG. 5B).

このように、上記実施形態における塗布装置１によれば、口金部４２を載置可能な口金移載ユニット５が口金受取位置と口金交換位置に移動可能であるため、塗布ユニット４の口金部４２の交換を容易に行うことができる。これにより、塗布ムラ防止のために塗布ユニット４を固定した場合であっても、口金交換の際、工場内のクレーンやブース内のクレーンが不要になる。したがって、これらクレーンが必要となる場合に比べて、口金部４２の交換に伴うコストアップを抑えることができるとともに、口金移載ユニット５への載せ替え作業だけでクレーンの操作も必要ないため、口金交換作業を容易に行うことができる。 Thus, according to the coating apparatus 1 in the above embodiment, the base transfer unit 5 on which the base part 42 can be placed can be moved to the base receiving position and the base replacement position. Can be easily exchanged. Thereby, even when the coating unit 4 is fixed to prevent coating unevenness, a crane in the factory or a crane in the booth is not required when replacing the base. Therefore, as compared with the case where these cranes are required, the cost increase associated with the replacement of the base portion 42 can be suppressed, and the operation of the crane is not required only by the transfer work to the base transfer unit 5. Exchange work can be performed easily.

また、上記実施形態では、口金移載ユニット５の移動をリニアモータで行う場合について説明したが、ボールネジやタイミングベルトとモータとの組合わせによる駆動制御であってもよい。なお、塗布装置１のコストを押さえるために、モータなどの動力源を使用せず、手動により口金移載ユニット５を移動させる構成であってもよい。 In the above-described embodiment, the case where the base transfer unit 5 is moved by the linear motor has been described. However, drive control by a combination of a ball screw or a timing belt and a motor may be used. In addition, in order to hold down the cost of the coating apparatus 1, the structure which moves the nozzle | cap | die transfer unit 5 manually without using power sources, such as a motor, may be sufficient.

また、上記実施形態では、口金交換位置を浮上ステージ２の基板搬送方向端部付近に設ける例について説明したが、口金交換位置を浮上ステージ２の基板搬送方向途中に設ける構成であってもよい。この場合には、別体の移載機６のアーム６１が届かないことを考慮し、口金移載ユニット５の口金載置部５２をクロスローラベアリング５２２などを使用して鉛直方向（Ｚ軸方向）に回転可能な構成とすることにより、既存の移載機６のアーム６１で口金部４２を吊り下げ可能な構成としてもよい。 In the above-described embodiment, the example in which the base replacement position is provided near the end of the floating stage 2 in the substrate transport direction has been described. However, the base replacement position may be provided midway in the substrate transport direction of the floating stage 2. In this case, considering that the arm 61 of the separate transfer machine 6 does not reach, the base mounting portion 52 of the base transfer unit 5 is moved vertically (Z-axis direction) using a cross roller bearing 522 or the like. ), The base portion 42 may be suspended by the arm 61 of the existing transfer machine 6.

具体的には、図６に示すように、ＬＭガイド５２１と口金載置部５２との間に回転機構を配置する。この回転機構は、クロスローラベアリング５２２が平板部材５２３で挟まれることによって構成されており、クロスローラベアリング５２２が口金載置部５２の長手方向中央位置に位置するように配置される。これにより、口金載置部５２がクロスローラベアリング５２２を中心に回転することができる。すなわち、口金移載ユニット５に口金部４２が載置された状態、すなわち、口金部４２が口金支持部５４に載置された状態で口金載置部５２を回転させることにより、口金部４２の長手方向が基板搬送方向に直交する姿勢から、基板搬送方向と平行になる姿勢に変化させることができる。 Specifically, as shown in FIG. 6, a rotation mechanism is disposed between the LM guide 521 and the base mounting portion 52. This rotation mechanism is configured by a cross roller bearing 522 being sandwiched between flat plate members 523, and is arranged such that the cross roller bearing 522 is positioned at the center position in the longitudinal direction of the base mounting portion 52. Thereby, the base mounting part 52 can rotate around the cross roller bearing 522. That is, by rotating the base mounting part 52 in a state where the base part 42 is placed on the base transfer unit 5, that is, in a state where the base part 42 is placed on the base support part 54, The posture can be changed from a posture in which the longitudinal direction is orthogonal to the substrate transport direction to a posture that is parallel to the substrate transport direction.

この回転機構を有する口金移載ユニット５によれば、図７に示すように、塗布ユニット４から口金部４２を口金移載ユニット５に載せた後、口金交換位置まで移動させ（図７において破線で示す）、その位置で９０°回転させて口金部４２の長手方向が基板搬送方向と平行になる状態で停止させる（図７において２点鎖線で示す）。そして、ＬＭガイド５２１を駆動させてＹ軸方向端部の基板搬送部３上に口金部４２を位置させる（図７において実線で示す）。この位置で、移載機６をＹ軸方向から近づけて移載機６のアーム６１に口金部４２を吊り下げる。その後、移載機６で運搬することにより、口金部４２の交換を行うことができる。この構成であれば、基板搬送方向に口金交換作作業に必要なスペースを取れない場合に有効になる。 According to the base transfer unit 5 having this rotating mechanism, as shown in FIG. 7, after the base part 42 is placed on the base transfer unit 5 from the coating unit 4, it is moved to the base replacement position (indicated by the broken line in FIG. 7). And 90 ° at that position and stopped in a state where the longitudinal direction of the cap 42 is parallel to the substrate transport direction (indicated by a two-dot chain line in FIG. 7). Then, the LM guide 521 is driven to position the base part 42 on the substrate transport part 3 at the end in the Y-axis direction (shown by a solid line in FIG. 7). At this position, the transfer device 6 is brought closer to the Y-axis direction, and the base portion 42 is suspended from the arm 61 of the transfer device 6. Thereafter, the base unit 42 can be exchanged by carrying the transfer machine 6. This configuration is effective when a space required for the base replacement work cannot be taken in the substrate transport direction.

また、上記実施形態では、口金移載ユニット５のレール５３と基板搬送部３のレール３４とを別々に設ける場合の例について説明したが、共通のレールに口金移載ユニット５と基板搬送部３とを走行させる構成であってもよい。この構成であれば、レール５３を省略できるため、塗布装置１のコストを下げることができるとともに、口金移載ユニット５のレール５３を省ける分、塗布装置１をＹ軸方向にコンパクト化することができる。 Moreover, although the said embodiment demonstrated the example in the case of providing the rail 53 of the nozzle transfer unit 5 and the rail 34 of the board | substrate conveyance part 3 separately, the nozzle transfer unit 5 and the board | substrate conveyance part 3 are provided in a common rail. It is also possible to have a configuration in which With this configuration, since the rail 53 can be omitted, the cost of the coating apparatus 1 can be reduced, and the coating apparatus 1 can be made compact in the Y-axis direction by eliminating the rail 53 of the base transfer unit 5. it can.

１塗布装置
２浮上ステージ
３基板搬送部
４塗布ユニット
５口金移載ユニット
４２口金部
５２口金載置部
５３レール
５４口金支持部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Application | coating apparatus 2 Levitation stage 3 Substrate conveyance part 4 Application | coating unit 5 Base transfer unit 42 Base part 52 Base mounting part 53 Rail 54 Base support part

Claims

基板を浮上させる浮上ステージと、
前記浮上ステージから基板を浮上させた状態で浮上ステージに沿って基板を搬送する基板搬送部と、
塗布液を吐出する口金部が着脱可能に支持されるとともに、前記口金部が前記浮上ステージに対向した状態で固定して設置された塗布ユニットと、
を備えており、
前記浮上ステージ上に浮上した基板を前記基板搬送部により前記塗布ユニットに対して移動させつつ前記口金部から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成する塗布装置であって、
前記口金部を載置可能な口金移載ユニットをさらに備え、この口金移載ユニットの移動をガイドするレールが前記基板搬送部のレールの外側に前記基板搬送部のレールに沿って設けられるとともに、前記口金部を載置する口金載置部の高さ位置が前記浮上ステージと前記塗布ユニットとの間に位置するように設定されることにより、前記口金移載ユニットが前記口金部と対向する口金受取位置と前記口金部を交換する口金交換位置とに移動可能であることを特徴とする塗布装置。 A levitation stage for levitating the substrate;
A substrate transport unit that transports the substrate along the levitation stage in a state where the substrate is levitated from the levitation stage;
A base unit that discharges the coating liquid is supported in a detachable manner, and the base unit is fixed and installed in a state of facing the floating stage; and
With
A coating apparatus that forms a coating film on a substrate by discharging a coating liquid from the base portion while moving the substrate floating on the levitation stage with respect to the coating unit by the substrate transport unit,
Further comprising a base transfer unit capable of placing the base portion, and a rail for guiding the movement of the base transfer unit is provided outside the rail of the substrate transfer portion along the rail of the substrate transfer portion, By setting the height position of the base mounting part for mounting the base part between the floating stage and the coating unit, the base transfer unit is opposed to the base part. A coating apparatus capable of moving between a receiving position and a base changing position for exchanging the base part.

前記塗布ユニットは、床面に固定される２本の支柱と、これら支柱に架設されるビーム部材とで形成される門型形状のフレーム部を有しており、前記口金部は、その上面部分が前記ビーム部材に取り付けられることにより、前記浮上ステージに対向する状態で設けられていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。 The coating unit has a gate-shaped frame portion formed by two struts fixed to the floor surface and beam members laid on the struts, and the base portion is an upper surface portion thereof. The coating apparatus according to claim 1, wherein the coating device is provided in a state of being opposed to the floating stage by being attached to the beam member .

前記口金移載ユニットは、前記口金部を支持する口金支持部を有しており、この口金移載ユニットは、前記口金部が前記口金支持部に支持された姿勢で鉛直方向を中心に回転可能であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。 The base transfer unit has a base support part that supports the base part, and the base transfer unit can rotate around the vertical direction with the base part supported by the base support part. coating apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that.

前記口金移載ユニットは、前記口金部を支持する口金支持部を有しており、この口金支持部は、口金部の載置方向に弾性的にＺ方向に変位することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布装置。 The base transfer unit includes a base support part for supporting the base part, and the base support part is elastically displaced in the Z direction in the mounting direction of the base part. The coating apparatus in any one of 1-3.

前記口金交換位置は、前記浮上ステージの基板搬送方向端部付近に設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の塗布装置。 The coating apparatus according to claim 1 , wherein the base replacement position is provided in the vicinity of an end of the floating stage in a substrate transport direction .

前記口金移載ユニットの移動をガイドするレールが前記浮上ステージよりも基板搬送方向に延びており、この基板搬送方向に延びたレール部分に前記口金交換位置が設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の塗布装置。A rail for guiding the movement of the base transfer unit extends in the substrate transport direction from the levitation stage, and the base replacement position is provided in a rail portion extending in the substrate transport direction. Item 6. The coating apparatus according to any one of Items 1 to 5.