JP5729895B2 - 光パルス圧縮器 - Google Patents

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Description

本発明は、光パルス圧縮器に関する。特に、高強度の短パルス光を発生するための光源に用いられる光パルス圧縮器に関するものである。
高強度の短パルス光を発生させる方法として、各種の光パルス光源から出力される光パルスを光パルス圧縮器により圧縮する方法がある。光ファイバの非線形効果に基づくパルス圧縮器は大きく分けて二つに分類できる。
一つ目のパルス圧縮器は、正常分散を持つファイバと分散補償部とを使用するパルス圧縮器である。
この場合、正常分散を持つファイバの役割は、自己位相変調(SPM)と群速度分散(GVD)の効果によって、入射パルスにほぼ直線的な正のチャープを与えることである。入射パルス光は、正常分散を持つファイバへ入射されると、そこでスペクトルが広がるとともに全パルス幅にわたって正のチャープを得ることになる。
そして、ファイバを通過したパルスは、一対の回折格子による分散補償部に送られ、そこで異常GVDを得て圧縮される。ここで、正常分散とは、時間軸上で短波長ほど遅れるものであり、このように分散させることを正のチャープを付与するという。また、異常分散とは長波長ほど遅れることを意味する。前記正常分散を持つファイバと分散補償部とを使用する圧縮器を特にチャープ補償圧縮器と呼ぶことにする。
二つ目のパルス圧縮器は、異常分散を持つファイバを使用するパルス圧縮器である。この場合、入射パルスはソリトン効果によって圧縮される。ソリトンとは、ファイバ中において、ファイバのGVDによるパルス広がりと、異常分散ファイバに基づくSPMによりパルスが細くなる効果が釣り合うことにより、波形が変化せずに伝搬する現象またはそのパルス自体を指す。
ここで、SPMの効果は光パルス強度に比例して強くなるので、高強度の光パルスは、光ファイバを伝搬中に圧縮される。このとき、圧縮因子(入射パルスのパルス幅を出射パルスのパルス幅で除した値)は、一般に、入射パルス強度が高いほど高くなる傾向がある。このように、前記異常分散を持つファイバを使用する圧縮器を特に高次ソリトン圧縮器と呼ぶことにする。
Taiらによる文献(非特許文献1)では、上記二つの方法を続けて使用した二段階圧縮器を用いて、1100という高い圧縮因子(入射パルスのパルス幅を出射パルスのパルス幅で除した値)が実現されている。
この実験では、波長1.32um(マイクロメートル)で動作するモード同期ネオジウム・ヤグレーザから発生する100ps(ピコ秒)の入射パルスが用いられている。第一段の圧縮器では、正常分散ファイバと1対の回折格子を用いた前記チャープ補償圧縮器によりパルス幅2psの圧縮パルスが得られる。このパルスは、第二段の高次ソリトン圧縮器によりさらに圧縮され、最終的にパルス幅90fs(フェムト秒)の出射パルスが得られている。
ところで、従来、前記チャープ補償圧縮器は、バルク石英の零分散波長(約1.3um)より短い波長で好適に用いられてきた。これは、通常の石英系光ファイバがバルク石英の零分散波長より短い波長で正常分散となることによる。一方、ファイバを構成する材料や屈折率プロファイルを注意深く選ぶことにより、バルク石英の零分散波長(約1.3um)より長波長側で正常分散となる光ファイバの実現が可能である。このような光ファイバは、例えば、ZrF(四フッ化ジルコニウム)とHfF(四フッ化ハフニウム)とを主成分とするフッ化物ファイバにより実現することができる。
バルク石英の零分散波長よりも長波長側で正常分散となる光ファイバを用いることにより、該波長帯においてチャープ補償圧縮器を適用することができる。該波長帯で作動させる利点は、回折格子対を一片の石英を主成分とする異常分散ファイバで代用して、安価で安定な全ファイバ圧縮器を実現できることが挙げられる。
Appl.Phys.Lett.,vol.48,pp.1034−1035(1986)
上記非特許文献1に記載されている構成では、第一段のチャープ補償圧縮器において、分散補償部に回折格子対を用いていることから、高価であり、振動などによる光軸のずれが装置全体の不安定要素となるということが懸念される。また、第二段の高次ソリトン圧縮器では、一般に出射パルスにはペデスタル(主パルス以外のエネルギー成分)が含まれる。そして、全パルスエネルギーに占める前記ペデスタルの割合は、入射パルス強度が高いほど高くなる傾向にあるので、入射パルス強度が高いパルスに対する圧縮器としては、更なる改良が求められる。
すなわち、分散補償部に回折格子対を用いず、且つ入射パルス強度が高い場合にも低ペデスタルな圧縮を実現するパルス圧縮器が求められていた。
上記課題に鑑み、本発明に係る光パルス発生装置は、光パルスを発生する光パルス発生装置であって、光パルス光源と、前記光パルス光源からの光パルスを圧縮する光パルス圧縮器と、を有し、前記光パルス圧縮器は、第一の圧縮部と、前記第一の圧縮部からの光パルスを圧縮する第二の圧縮部と、を有し、前記第一の圧縮部は、入射パルスに正のチャープを与える正常分散ファイバを含むチャープ部と、前記チャープ部により前記入射パルスに与えられた正のチャープを補償する異常分散ファイバを含む分散補償部と、を有し、前記分散補償部の前記異常分散ファイバの非線形係数および二次群速度分散の絶対値は、ソリトン次数が1以上となるように設定されており、前記第二の圧縮部は、前記分散補償部の前記異常分散ファイバよりも非線形係数が高い異常分散ファイバを含み、前記分散補償部の前記異常分散ファイバのファイバ長は、光ソリトンが形成される長さ以下であり、ソリトン次数が0であると仮定した場合の前記分散補償部の前記異常分散ファイバ内のピーク強度が最大となるファイバ長より短く、且つ、前記光パルス圧縮器から出射されるパルスのパルス幅が20fs以下となる長さに設定されていることを特徴とする。
本発明における光パルス圧縮器によれば、分散補償部を構成する異常分散ファイバの長さを、光ソリトンが形成される距離以下にし、ソリトン次数を1以上にするので、ペデスタル成分が低減あるいは抑制されたパルス制御を行うことができる。
最初に、圧縮器に関係する基本的なパラメータと、実際の物理量との関係式を示す。
:初期パルスピーク強度(W)
:初期パルス幅(ps)
β:二次群速度分散(ps/km)
γ:光ファイバの非線形係数(W−1km−1
C:チャープ量(ps
とすると、分散長L(km)、非線形長LNL(km)、規格化したソリトン振幅A、ソリトン次数Nは、それぞれ以下の式(1)から(4)で表される。
=T /|β| (1)
NL=1/γP (2)
A=(γP /|β|)1/2 (3)
N=(Aに一番近い整数) (4)
本発明に係る光パルス圧縮器は、入射パルスに正のチャープを与える正常分散ファイバを含むチャープ部と、前記チャープ部により前記入射パルスに与えられた正のチャープを補償するための異常分散ファイバを含み構成される分散補償部とを備える。
そして、前記分散補償部を構成する前記異常分散ファイバの非線形係数および二次群速度分散の絶対値は、ソリトン次数が1以上となるように設定される。更に、前記異常分散ファイバのファイバ長を、光ソリトンが形成される長さ以下にすることで、光パルス圧縮器が実現される。
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。
図1は本発明の実施の形態による光パルス圧縮器を模式的に示す図である。
入射パルスLは、チャープ部1へ入射させられ、そこでスペクトルが広がるとともに全パルス幅に渡って正のチャープを得る。チャープ部を通過したパルスは、分散補償部2に送られ、そこで圧縮される。
以下、本発明の各構成をより詳細に説明する。
本発明に用いられるチャープ部1は、入射パルスの波長全域において正常分散を示す光ファイバを含み構成される。これは、例えば、波長1.3um以下では石英系シングルモードファイバ、波長1.3um〜1.5umでは分散シフトファイバ、波長1.5um以上ではフッ化物ファイバや分散補償ファイバなどを用いることができる。ファイバ中で正のチャープを得るためには、ファイバ長がLとLNL両者と同程度あるいはそれらより長い必要がある。また、エルビウム添加ファイバ(EDF)など増幅機能が付加された光ファイバを用いることもできる。EDFを用いた場合、正常分散希土類添加ファイバ内において正常GVDとSPMとの分布利得の相互作用により、線形性を有する正のチャープを持つ放物線形状の高強度パルスが生成される。
本発明に用いられる分散補償部2とは、チャープ部1で正のチャープを得たチャープパルスの全波長帯域において異常分散を示す光ファイバである。これは、例えば、波長1.3um以上では石英系シングルモードファイバや空孔率の低い一部のフォトニック結晶ファイバ(PCF)、波長1.3um以下では、空孔率の高い一部のPCFなどを用いることができる。
本発明では、前記分散補償部2を構成する異常分散ファイバの非線形係数γおよび二次群速度分散β2を分散補償部2に入射するチャープされたパルスのソリトン次数Nが1以上となるように設定する。このようにNが1以上になるように設定するのは、例えばN=0では、後述する光ソリトンが形成されないからである。つまり、N=0では、ファイバに入射したパルスが、ファイバのGVDによるパルス広がりと、異常分散ファイバに基づくSPMによりパルスが細くなる効果とが釣り合わないため、光ソリトンが形成されないからである。
なお、ソリトン次数N=1にするためには、例えば、初期パルスピーク強度Pを5W、初期パルス幅Tを1ps、二次群速度分散βを‐20ps/kmにする。
そして、光ファイバの非線形係数γを3W−1km−1にすると、A=0.866なので、N=1ということになる。
図2は、正のチャープを得たチャープパルスが分散補償部2に入射されたときの分散補償部2内におけるパルスピーク強度の変動を示す一例である。
ここで、縦軸のピーク強度は分散補償部2に入射するチャープパルスのピーク出力で規格化されている。ソリトン次数N=0(図の破線)の場合、最初、チャープパルスは分散補償部2の異常GVDの影響により圧縮され距離Ldcにおいてピーク強度は最大値となる。
そして、距離Ldcを超えると異常GVDは圧縮されたパルスに負のチャープを与えるため、パルス幅は広がりピーク強度は減少し、零に収束する。非線形係数γおよび二次群速度分散β2に関しては取り得る値(範囲)は、現実的な観点から定まり、また初期パルスピーク幅の値は適宜設定し得る。斯かる点を踏まえると、前述の数式(4)からも分かるように、N=0の場合はどうしても初期パルスピーク強度Pが小さくなってしまうことが分かる。すなわち、N=0の場合は、高強度パルスの圧縮器には不向きであることが分かる。
一方、N=1の場合も、最初はファイバの異常GVDが優勢となり、正のチャープを補償するように作動するため、パルスは圧縮され、ピーク強度が増加する。その後、パルスは広がりピーク強度も低下する。しかし、やがて、光ソリトンの形成に向かうため再びピーク強度が増加し、その後ピーク強度は距離に対して周期的な振動を繰り返し、光ソリトンが形成される。ここでは、周期的な振動が開始するまでの長さzを、光ソリトンが形成される長さであると定義する。
注目したいのは、光ソリトン形成後におけるピーク強度の振動中心が1よい小さいことである。これは、チャープパルスが光ソリトンに進化する過程において、パルスエネルギーの一部が主ピークから分離されるためである。このように分離されたパルスエネルギーの一部は主ピークの裾部分にペデスタルとなって伝搬することになる。光ソリトンが形成する長さzは、単一ピークを持つパルスが、ペデスタルの形成により、3つ以上のピークを持つパルスに変化する長さである。ペデスタルの少ない高品質なパルスを得るためには、分散補償部2を構成する異常分散ファイバの長さを光ソリトンが形成される長さz以下、好ましくはz未満に設定するのが望ましい。
光ソリトンは一般に小さい摂動に対して安定であるので、分散補償部に入射するチャープパルスのチャープ量Cが大きい場合、光ソリトンは形成されない。このとき、チャープパルスは単一ピークを持つパルス形状を保つことができず、圧縮は困難である。従って、分散補償部に入射するチャープパルスのチャープパラメータCは臨界値Ccrより小さい必要がある。チャープパラメータの臨界値CcrはNに依存するが、Nが大きいほど大きくなる傾向がある。
図2より、ペデスタルがなく最大の圧縮因子が得られる分散補償部のファイバ長は、ピーク強度が極大となる最小長さzoptであることが分かる。この最適な分散補償部のファイバ長zoptは、ファイバのGVD及びSPMのバランスにより決定されるが、N=0における最適長Ldcより短く、かつピーク強度が極大となる長さである。ここで、Ldcはチャープ量Cと分散補償部2の二次群速度分散βを用いて以下の式から求められる。
dc=‐C/β (5)
なお、実際には、zoptは上式からもとめたLdcの長さからカットバック法により求めることができる。
上述のように、分散補償部を構成する異常分散ファイバの長さを、N=0における最適長Ldcより短く、かつピーク強度が極大となる長さにすると、SPMの作用により短くされた最適なファイバ長が決定されることになる。そして、ペデスタルを与えることなく実現可能な最大の圧縮因子を得ることができる。
N>1における分散補償部2内におけるパルスの振舞いは複雑であるが、初期段階はN=1と同様である。図2より、Nが大きくなることにより、最適ファイバ長が短くなり、そのときのピーク強度が高くなることが分かる。これは分散補償部2内のSPMの影響によりスペクトル幅が広がることにより、より圧縮効果が強められることによる。本発明に適用されるソリトン次数としては、N=1である場合は勿論、N=2、3あるいはそれ以上であってもよい。ソリトン次数の上限としては、誘導ラマン散乱が発生する閾値の観点からは、例えば150以下、より好適には、10以下である。
なお、分散補償部を構成する異常分散ファイバは、単一のファイバで構成されている場合は、勿論、複数種類のファイバで構成され、全体として本発明における分散補償部として機能すれば、特に制限されるものではない。
また、上述した光パルス圧縮器と光パルス光源とを組み合わせることで、光パルス発生装置を実現することもできる。斯かる場合、例えばフェムト秒レーザ光源からの出力パルスを、ペデスタルを抑制しながら圧縮することができるので、低ペデスタルの超短パルスを発生することができる。
図3は、本発明の一実施例としての光パルス発生装置の概要を示したものである。
なお、図3では、簡単のため、レンズ等の結合系は図示していない。図3に示すように、実施例1の光パルス発生装置は、チャープ部321と分散補償部314、からなる第一の圧縮部と、高非線形ファイバ(HNLF)317から成る第二の圧縮部を含み構成される。すなわち、フェムト秒パルス光源301から供給された短パルス光を二段階形態で圧縮するものである。勿論、本発明においては、前記第二の圧縮部は必要に応じて設けられるものである。
フェムト秒パルス光源301は、エルビウムファイバレーザであって、中心波長が約1560nmで時間幅が約300fsの短パルス光を48MHzの周期で繰り返して出力するものである。そして、その平均パワーは約5mWである。後の圧縮過程において効率よい圧縮を行うためには、フェムト秒パルス光源301のパルス時間波形は、単一のピークを持つsech型(ハイパーボリックセカント型)であり、フーリエ変換限界に近い品質であることが望ましい。フェムト秒パルス光源から出力された初期パルスはλ/2波長板302により偏光の調整をしてチャープ部321に入射される。
チャープ部321はプリチャープ・シングルモードファイバ303、EDF304を含み構成される。本実施例では、EDF304を正常GVDとSPMとともに使用することで、後に分散補償部314により補償しやすい、線形性を有する正のチャープを持つ放物線形状のパルスを生成することができる。異常GVDの影響により入射パルスはプリチャープ・シングルモードファイバ303中で伸張される。これによりパルスピーク強度が一時的に抑えられ、EDF304の中での過剰な非線形効果を抑えることができるため、効果的な増幅が可能である。プリチャープ・シングルモードファイバ303の長さは、EDF304の動作を理想的なものにするため、慎重に設計しなければならない。例えば、約4.5mの長さのプリチャープ・シングルモードファイバ303が適していることが見込まれる。
プリチャープ・シングルモードファイバ303で時間的に伸張されたパルスは、偏波コントローラ311を用いて偏光を調整して長さ6mのEDF304に入射される。図3に示される構成では、EDF304はWDMカプラ309〜310及び偏光ビームコンバイナ308を介して接続された3つの半導体レーザ305〜307により励起する。半導体レーザの波長、強度はそれぞれ1480nm、400mWである。
本実施例によると、図3チャープ部321の出射端において、パルスの全体にわたってほぼ直線的な正チャープを持つパルス幅760fsのチャープパルスを見込むことができる。このときのチャープ量Cは0.014(ps)である。
前記チャープ部321からのチャープパルスは分散補償部314中の異常GVDの影響により圧縮される。
本実施例では、分散補償部314として大口径フォトニック結晶ファイバ(LMA−PCF)を用いる。該LMA−PCFはモードフィールド径が26umと大きいにも関わらず、シングルモードで伝搬することが可能なファイバである。このため、分散補償に不要な高次の非線形効果の影響を低減することが可能である。ここで、LMA−PCFの二次群速度分散β及び非線形係数γはそれぞれ−30.3ps/kmおよび0.182W−1km−1である。分散補償部314の非線形係数γは0.5 W−1km−1以下であることが望ましい。このように非線形係数γの値を小さくしておけば、不要な高次の非線形効果の影響が低減することから、有害な周波数シフトやパルスの崩壊を防ぐことができる。
本実施例では、分散補償部321の出射端であるWDMカプラのファイバと分散補償部314であるLMA−PCFのモードフィールド径が大きく異なることからアイソレータ313を介してチャープパルスはLMA−PCFに入射される。アイソレータ313を介することにより、モードミスマッチによる反射光がEDF304に戻ることによる影響をなくすことができる。本実施例ではアイソレータ313後においてチャープパルスのパルス強度は390mWを見込むことができる。
(4)式より、分散補償部314に入射されるチャープパルスのソリトン次数Nは5である。また、(5)式より、N=0と仮定したときの最適ファイバ長Ldcは46cmと見積もられる。従って、Ldcを初期ファイバ長としたカットバック法によりLMA−PCFの最適長zoptはおよそ42cmを見込むことができる。
図4に本実例による分散補償部314の出射端における時間波形を示す。図4に示すように、本実施例によりパルス幅55fs、パルス強度280mWのペデスタルの少ないパルスを見込むことができる。
図4のパルスは、高非線形ファイバ(HNLF)317から成る第二の圧縮部を通過することにより、さらに圧縮される。HNLFへ入射するパルスは、λ/2波長板315と偏光ビームスプリッタ316により直線偏光にされる。図5は長さ1.5cmのHNLFにより再圧縮されたパルス波形である。二段階形態を適用することにより最終的にパルス幅17fsのペデスタルの少ない超短パルスの形成が可能である。このように、第一の圧縮部と、第二の圧縮部を用いることにより、より高い圧縮因子が実現できる。
なお、特許文献1(特許第2711778号公報)には、正常分散ファイバと異常分散ファイバから構成されるチャープ補償圧縮器が記載されている。この圧縮器は、分散補償部内でSPMを起こさない強度まで入射パルス強度を減衰させていることからソリトン次数N=0であるといえる。
斯かる場合、分散補償部におけるSPMを無視することができるため、(5)式より導出される最適長Ldcの異常分散ファイバにより容易にパルス圧縮が実現できる。しかし、入射パルス強度が高い(例えば、ピーク強度が10kW以上)場合、光ファイバから構成される分散補償部の非線形係数γは有限であり、二次群速度分散βの値にも上限がある。すなわち、パルス強度を減衰することなくソリトン次数N=0を保つことは困難であり、当該文献1に記載の技術がパルス強度が高い場合の圧縮器としては好ましくない。
また、特許文献1におけるチャープ補償圧縮器を、非特許文献1の二段階圧縮器に適用したとしても、第一の圧縮器である前記チャープ補償圧縮器によりパルス強度が制限されているため、第二の圧縮器である高次ソリトン圧縮器における圧縮効果が得られない。つまり、全体として充分な圧縮因子が得られないということになる。
以上のように、本実施例における光パルス発生装置では、低ペデスタル、高出力な超短パルスが実現できる。これは、一段目の圧縮器において光ソリトンが形成されるまでの過程でGVDが優位となる状態を利用することの寄与が大きい。このことにより、常にペデスタルを抑制した段階的な圧縮が実現する。結果として、望ましい全ファイバ系による20fs以下の超短パルスを形成するに至ることができる。
本発明に係る光パルス圧縮器は、テラヘルツ波を発生させるための光源に適用することができる。
本発明の実施の形態による光パルス圧縮器の概略構成図。 正のチャープを持つパルスが分散補償部内を伝搬したときのピーク強度の変動。N=0、N=1、N=3の場合について表示。 本発明の実施例1による光パルス圧縮器の概略構成図。 図3の分散補償部314からの出射パルス時間波形。 図3の第二の圧縮部317からの出射パルス時間波形。
符号の説明
1、321 チャープ部
2、314 分散補償部
入射パルス
opt N=1のときの最適ファイバ長
Zs ソリトンが形成される長さ
dc N=0のときの最適ファイバ長
301 フェムト秒パルス光源
302、315 λ/2波長板
303 プリチャープ・シングルモードファイバ
304 エルビウム添加ファイバ
305、306、307 半導体レーザ
308 偏光ビームコンバイナ
309、310 WDMカプラ
311 偏光コントローラ
312 ミラー
313 アイソレータ
316 偏光ビームスプリッタ
317 高非線形ファイバ

Claims (3)

  1. 光パルスを発生する光パルス発生装置であって、
    光パルス光源と、前記光パルス光源からの光パルスを圧縮する光パルス圧縮器と、を有し、
    前記光パルス圧縮器は、第一の圧縮部と、前記第一の圧縮部からの光パルスを圧縮する第二の圧縮部と、を有し、
    前記第一の圧縮部は、入射パルスに正のチャープを与える正常分散ファイバを含むチャープ部と、前記チャープ部により前記入射パルスに与えられた正のチャープを補償する異常分散ファイバを含む分散補償部と、を有し、
    前記分散補償部の前記異常分散ファイバの非線形係数および二次群速度分散の絶対値は、ソリトン次数が1以上となるように設定されており、
    前記第二の圧縮部は、前記分散補償部の前記異常分散ファイバよりも非線形係数が高い異常分散ファイバを含み、
    前記分散補償部の前記異常分散ファイバのファイバ長は、光ソリトンが形成される長さ以下であり、ソリトン次数が0であると仮定した場合の前記分散補償部の前記異常分散ファイバ内のピーク強度が最大となるファイバ長より短く、且つ、前記光パルス圧縮器から出射されるパルスのパルス幅が20fs以下となる長さに設定されていることを特徴とする光パルス発生装置。
  2. 前記分散補償部の前記異常分散ファイバの非線形係数γは、0.5W−1km−1以下であることを特徴とする請求項1に記載の光パルス発生装置。
  3. 前記チャープ部の前記正常分散ファイバは、希土類添加ファイバであることを特徴とする請求項1又は2に記載の光パルス発生装置。
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