JP5726637B2 - 液処理装置、液処理方法 - Google Patents
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Description
基板を液処理する液処理装置において、
前記基板を水平に支持し、回転可能な支持部材と、
該支持部材を回転させる回転機構と、
前記支持部材により支持される前記基板に上方から処理液を供給する液供給部材と、
前記支持部材の上方に配置され、前記支持部材と一体的に回転可能に連結され、前記支持部材の外周部との間に環状間隙を形成する間隙形成部材と、
前記環状間隙を介して、回転する前記基板から振り切られる前記処理液を回収するカップと、
前記間隙形成部材を昇降させる昇降機構とを有し、
前記昇降機構は、前記支持部材に支持される前記基板の上方における気流の状態が前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の回転数に応じたものとなるように、前記回転機構によって前記支持部材と前記間隙形成部材とを一体的に回転させた状態で前記間隙形成部材を上昇または下降させることにより、前記環状間隙を前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の前記回転数に応じたものに調節する、液処理装置を提供する。
基板を液処理する液処理方法において、
前記基板を支持部材により水平に支持する工程と、
前記支持部材、前記支持部材に支持される前記基板、および前記支持部材の外周部との間に環状間隙を形成する間隙形成部材を一体的に回転させる工程と、
回転する前記基板の上方に配置される液供給部材から、前記基板に処理液を供給する工程と、
前記環状間隙を介して、回転する前記基板から振り切られる前記処理液をカップに回収すると共に、前記カップ内を排気する工程と、
前記支持部材に支持される前記基板の上方における気流の状態が前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の回転数に応じたものとなるように、前記支持部材と前記間隙形成部材とを一体的に回転させた状態で前記間隙形成部材を前記支持部材に対して相対的に上昇または下降させることにより、前記環状間隙を前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の前記回転数に応じたものに調節する工程とを有する液処理方法を提供する。
図5は、第1変形例による液処理装置の要部を示す断面図である。
図6は、第2変形例による液処理装置の環状間隙を拡大して示す断面図である。
図7は、第3変形例による液処理装置の要部を示す断面図である。図8は、液供給部材30Cを示す上面図である。
図9は、第4変形例による液処理装置を示す断面図である。
10 ウエハ支持部材
13 外周部
20 カバー(間隙形成部材)
23 外周部
24 開口部
30 液供給部材
40 カップ
50 排気機構
71A 仕切り壁
72A 連結部材
122 カバー昇降機構
W ウエハ(基板)
M モータ(回転機構)
GP 環状間隙
Claims (10)
- 基板を液処理する液処理装置において、
前記基板を水平に支持し、回転可能な支持部材と、
該支持部材を回転させる回転機構と、
前記支持部材により支持される前記基板に上方から処理液を供給する液供給部材と、
前記支持部材の上方に配置され、前記支持部材と一体的に回転可能に連結され、前記支持部材の外周部との間に環状間隙を形成する間隙形成部材と、
前記環状間隙を介して、回転する前記基板から振り切られる前記処理液を回収するカップと、
前記間隙形成部材を昇降させる昇降機構とを有し、
前記昇降機構は、前記支持部材に支持される前記基板の上方における気流の状態が前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の回転数に応じたものとなるように、前記回転機構によって前記支持部材と前記間隙形成部材とを一体的に回転させた状態で前記間隙形成部材を上昇または下降させることにより、前記環状間隙を前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の前記回転数に応じたものに調節する、液処理装置。 - 前記支持部材の外周部には、前記環状間隙を通り外方に流出する気流を案内するガイド部が設けられる請求項1に記載の液処理装置。
- 前記液供給部材は、複数種類の前記処理液を前記基板に順次供給し、
前記液処理装置は、前記昇降機構を制御する制御装置を有し、
該制御装置は、前記昇降機構を制御して、前記支持部材に支持される前記基板の上方における気流の状態が前記基板に供給する前記処理液の種類に応じたものとなるように、前記回転機構によって前記支持部材と前記間隙形成部材とを一体的に回転させた状態で前記間隙形成部材を上昇または下降させることにより、前記環状間隙を前記処理液の種類に応じたものに調節する請求項1または2に記載の液処理装置。 - 前記液供給部材は、薬液、および該薬液を除去するためのリンス液を前記基板に順次供給し、
前記リンス液よりも高温の前記薬液が前記基板に供給されるときの前記環状間隙は、前記リンス液が前記基板に供給されるときの前記環状間隙よりも狭く設定される請求項3に記載の液処理装置。 - 前記環状間隙を上下に区画する環状の仕切り壁と、
該仕切り壁と、前記支持部材の外周部または前記間隙形成部材とを連結する連結部材とをさらに有し、
前記仕切り壁と、前記支持部材の外周部または前記間隙形成部材との間には、気流を通過させる間隙が形成されている請求項1〜4のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 基板を液処理する液処理方法において、
前記基板を支持部材により水平に支持する工程と、
前記支持部材、前記支持部材に支持される前記基板、および前記支持部材の外周部との間に環状間隙を形成する間隙形成部材を一体的に回転させる工程と、
回転する前記基板の上方に配置される液供給部材から、前記基板に処理液を供給する工程と、
前記環状間隙を介して、回転する前記基板から振り切られる前記処理液をカップに回収すると共に、前記カップ内を排気する工程と、
前記支持部材に支持される前記基板の上方における気流の状態が前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の回転数に応じたものとなるように、前記支持部材と前記間隙形成部材とを一体的に回転させた状態で前記間隙形成部材を前記支持部材に対して相対的に上昇または下降させることにより、前記環状間隙を前記基板に供給する前記処理液の種類および/または前記基板の前記回転数に応じたものに調節する工程とを有する液処理方法。 - 前記支持部材の外周部には、前記環状間隙を通り外方に流出する気流を案内するガイド部が設けられる請求項6に記載の液処理方法。
- 前記液供給部材は、複数種類の前記処理液を前記基板に順次供給し、
前記支持部材に支持される前記基板の上方における気流の状態が前記基板に供給する前記処理液の種類に応じたものとなるように、前記支持部材と前記間隙形成部材とを一体的に回転させた状態で前記間隙形成部材を前記支持部材に対して相対的に上昇または下降させることにより、前記環状間隙を前記処理液の種類に応じたものに調節する請求項6または7に記載の液処理方法。 - 前記液供給部材は、薬液、および該薬液を除去するためのリンス液を前記基板に順次供給し、
前記リンス液よりも高温の前記薬液が前記基板に供給されるときの前記環状間隙は、前記リンス液が前記基板に供給されるときの前記環状間隙よりも狭く設定される請求項8に記載の液処理方法。 - 前記環状間隙を上下に区画する環状の仕切り壁と、
該仕切り壁と、前記支持部材の外周部または前記間隙形成部材とを連結する連結部材とが用いられ、
前記仕切り壁と、前記支持部材の外周部または前記間隙形成部材との間には、気流を通過させる間隙が形成されている請求項6〜9のいずれか一項に記載の液処理方法。
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