JP5720925B2 - 光書込み装置 - Google Patents
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Description
この表示記録媒体は、表示においてメモリ性を有していることから、情報の書き換え時にエネルギを与えるだけでよく、表示を維持するためのエネルギは必要としない。また、繰り返し書き換え可能であることから環境負荷が低いという特徴を有している。
この種の光書込み装置では、2次元マイクロレンズアレイによって表示記録媒体の光導電層に結像させ、光書込み装置からの出射光の指向性を高めることで、表示記録媒体に書き込まれた画像の解像度を高めている。
これに対し、このモアレ縞の発生を抑制する方法が知られている。特許文献2及び特許文献3にこれを示す。
特許文献1では、透過型の液晶パネル上に配置された2次元マイクロレンズアレイにより表示記録媒体の光導電層に結像させるため、2次元マイクロレンズの位置決め精度及び表示記録媒体の位置決め精度によって表示記録媒体に書き込まれた画像がぼける現象、即ち、書き込まれた画像の解像度が劣化するという問題がある。
面状光源部から出射された画像形成用光を前記画像光に空間変調させる複数の画素を平面内にマトリックス状に配列した空間光変調素子と、
前記空間光変調素子から出射される前記画像光の出射角度範囲を制限して前記画像光を前記表示記録媒体に入射する光学素子とを有し、
前記光学素子は、前記画像光を透過させる透明層と、前記透明層を透過する画像光の出射方向の範囲を制限する光吸収層とを平面内で交互に繰り返して配列した2次元周期構造体を有し、
前記2次元周期構造体は、前記透明層と前記光吸収層とを交互に繰り返して配列した方向を基準として、その配列方向と直交する方向に区画された複数の周期構造部を有し、
前記複数の周期構造部の少なくとも一部は、前記直交する方向に隣接する前記透明層同士の空間配置の位相を異ならせて前記透明層と前記光吸収層とを交互に繰り返して配列した周期構造を有し、
前記2次元周期構造体の直交する2方向における前記透明層と前記光吸収層との繰り返し周期ピッチを実質的に一致させて整合させ、且つ前記繰り返し周期ピッチを前記空間光変調素子の画素の配列ピッチより狭く設定し、
前記光学素子の前記透明層と前記光吸収層との繰り返し周期ピッチを前記空間光変調素子の平面内に前記画素を配列した周期ピッチの整数分の1に設定したことを特徴とする。
〔第1実施形態〕
最初に、本第1実施形態における基本的な内容を説明し、その後に具体的な内容を詳述する。
ここで、図3に示す表示記録媒体4は図4に示すように、前記空間光変調素子3上の前記光学素子10に対向して配置される、すなわち図1において、図3に示す表示記録媒体4は、図1に示す前記光学素子10に対向した上方位置に配置される。前記表示記録媒体4の具体的な構成については図3に基づいて後述する。
前記2次元周期構造体は、前記透明層11と前記光吸収層12とを交互に繰り返して配列した方向と直交する方向に複数の周期構造部10Bを有している。
図2(B)に示す例を説明する際、前記透明層11と前記光吸収層12とを交互に繰り返して配列した方向をx−y直交座標上のx方向とし、前記直交する方向をx−y直交座標上のy方向として説明する。しかし、この方向設定は図2(B)の場合に限られるものではなく、前記透明層11と前記光吸収層12とを交互に繰り返して配列した方向をx−y直交座標上のy方向とし、前記直交する方向をx−y直交座標上のx方向としてもよく、この場合、前記2次元周期構造体は、図2(B)を90°時計方向或いは反時計方向に回転させた状態のように前記透明層11及び前記光吸収層12,15を配列した構成となる。
図2(B)の例では、前記2次元周期構造体は、最上行の位置で前記透明層11と前記光吸収層12とをx−y直交座標上のx軸(x方向)に沿って交互に繰り返して配列したx方向x0を基準として、このx方向x0と直交するy方向に区画された複数の周期構造部10Bを有している。
図2(B)において、最上行の位置でx−y直交座標上のx軸(x方向)に沿って配列した前記透過層11と前記光吸収層12とを交互に繰り返して配列する繰り返し周期ピッチはPaに設定している。さらに、最上行の位置に配置された全ての透過層11の周囲は、前記光吸収層12と、前記光吸収層12と同様の機能を有する線状の光吸収層15により囲まれている。前記線状の光吸収層15は、x−y直交座標上のx軸(x方向)に沿って前記透過層11のy方向での寸法分だけ離間させて平行に配置してある。
さらに、前記周期構造部10Bに含まれる前記透過層11のx方向の左右側が前記光吸収層12で覆われてx方向に隣接する透過層11同士が区画され、前記透過層11のy方向の上下側が前記光吸収層15で覆われてy方向に隣接する透過層11同士が区画されている。したがって、前記周期構造部10Bに含まれる全ての透過層11は、その周囲が光吸収層12,15により囲まれている。
前記周期構造10Bが上述した周期構造を有しているため、前記x方向における周期構造10Aは次のような周期構造を有している。すなわち、前記x方向における周期構造10Aは図2(B)に示すように、x方向に隣接する前記透過層11同士に空間配置の位相をもたせずに前記透過層11と前記光吸収層12とを、x−y直交軸上のx軸(x方向)に沿って交互に繰り返して配列した周期構造を有しており、前記周期構造10Aは図2(B)に示すように、前記x方向x0と直交するy方向に複数配列されている。
したがって、前記周期構造10Aは図2(B)に示すように、x方向に隣接する前記透過層11同士に空間配置の位相をもたせていないため、前記透過層11と前記光吸収層12とが直線状に配列されている。これに対して、前記周期構造10Bは図2(B)に示すように、y方向に隣接する前記透過層11同士に空間配置の位相をもたせているため、前記透過層11と前記光吸収層12とが千鳥状に配列されている。
さらに、前記周期構造10Aは図2(B)に示すように、前記透過層11と前記光吸収層12とを繰り返し周期ピッチPaをもって交互に繰り返し配列しており、前記周期構造10Bは図2(B)に示すように、前記透過層11と前記光吸収層15とを繰り返し周期ピッチPbをもって交互に繰り返し配列しており、前記周期構造10Aと前記周期構造10Bとは図2(B)に示すように、前記透過層11と前記光吸収層12,15とを交互に繰り返して配列している構成に共通性を有している。
この構成により、前記光学素子10から出射する画像光Sの指向性を面内で均一にすることができる。
ここで、前記繰り返し周期ピッチPaとPbとは、それらのPaとPbとの寸法を一致(Pa=Pb)させて整合させることが望ましいものであるが、製造組立時などにおける公差を考慮すると、PaとPbとをPa≒Pbの関係に設定することにより、前記繰り返し周期ピッチPa,pbを整合させても上述した効果を得ることができることを検証している。
そして図2(A)(B)に示すように、前記空間光変調素子3のx方向すなわち短辺方向と前記光学素子10のx方向とを一致させ、且つ前記空間光変調素子3のy方向すなわち長辺方向と前記光学素子10のy方向とを一致させて、図1に示すように、前記光学素子10を前記空間光変調素子3上に設置している。
さらに、前記光学素子10のx方向での繰り返し周期ピッチPaを前記空間光変調素子3のx方向での繰り返し周期ピッチPk1の整数分の1に設定し、前記光学素子10のy方向での繰り返し周期ピッチPbを前記空間光変調素子3のy方向での繰り返し周期ピッチPk2の整数分の1に設定している。
これにより、空間光変調素子3と光学素子10とに周期差が設定され、更に光学素子10の周期を短かくすることで空間光変調素子3との間で発生するモアレ縞のモアレピッチを、目視で確認できない程度に小さくすることができ、これによりモアレ縞の発生を有効に抑制することができる。換言すると、これにより、各画素36の透過率のばらつきを平均化することができるので、出射光分布のばらつきが抑制され、表示記録媒体4に書き込まれる画像の解像度劣化及び画質劣化を有効に抑制することができる。
他方の各周期構造部10Bは、y方向に隣接する透過層11同士に空間配置の位相をもたせて透過層11と光吸収層15とをy方向に千鳥状に配列している、すなわち空間配置の位相で表すと、空間配置の位相が180°の周期構造として構成してあり、この周期構造部10Bがx方向に複数列配列されている。ここで、前記周期構造部10Bでは、透過層11と光吸収層15とを、x方向での透過層11の辺寸法の1/2だけx方向にずらせることにより、前記空間配置の位相を180°に設定している。
まず、空間光変調素子3の複数の各画素36は、図2(A)に示すように本実施形態ではx方向を短辺としy方向を長辺とする長方形状に形成され、x−y直交座標上におけるx方向およびy方向にそれぞれマトリクス状に配置されている。
上述したように、本第1実施形態における光書込み装置1は、面状光源部2と空間光変調素子3と光学素子10とを、図1の下方から上方に向けて順次積層した構成となっている。
図2(B)に示すように、本第1実施形態における光学素子10は、前述したように、透明層11と光吸収層12とを交互に配置した周期構造部10A,10Bの複数を同一面上に併設して一体化した周期構造体を構成している。
このように、光学素子10の繰返し周期を、上述したように空間光変調素子3の繰返し周期の整数分の1とすることで、光学素子10から出射させる出射光分布のばらつきを抑えることができる。
図3に示すように、表示記録媒体4は、シート状の透明基板40bと、光書込み装置からの出射光の光量に応じて抵抗値を可変する光導電層41と、外光を光導電層に入射させないための遮光層42と、画像上方を表示出力する表示層43と、シート状の透明基板40aの順に積層された構成となっている。
光導電層41に光が入射してない場合は、高抵抗状態となっており、両基板40a,40bの相互間に電圧を印加しても表示層43には殆ど電圧が印加されない状態となっている。
これにより、表示層43で選択反射されずに表示層43を透過した外光を遮光層で吸収することができるので、外光を光導電層41の誤動作を防ぐことができる。
図4は、本実施形態における光書込み装置1上に表示記録媒体4を設置し、光書込み装置1から表示記録媒体4への光書込み状態を模式的に示す説明図である。
この入射光により、表示記録媒体4側では、その画像光Sに基づく光量に応じて光導電層41の抵抗分布が変化する。同時に、この光導電層41の抵抗分布の変化に対応して、前述した表示層43に印加される電圧が変化する。
次に、本発明の第2実施形態における光書込み装置について説明する。
この第2実施形態では、前述した第1実施形態における光書込み装置1に搭載される空間光変調素子3の周期構造が、図5に示すように異なった構成となっている。
図5に示す例では、奇数列(或いは偶数列)の前記y軸周期構造をなす画素51を偶数列(或いは奇数列)の前記y軸周期構造をなす画素51に対して列単位で1/2の長さ分だけy軸方向にずらせている、すなわち空間配置の位相で表すと、空間配置の位相が180°ずれた状態に設定している。
ここで、上述した空間光変調素子50が備えており且つx−y直交座標上にマトリクス状に設置された複数の各画素51内、前記y方向の一の画素列を構成する各画素51の繰り返し周期を、隣接する周期構造の他の画素列を構成する各画素51の繰り返し周期に対して相互にずらした状態に設定されている(図5参照)。符号52は光吸収層を示す。
この場合、相互にずらした状態として、例えばy方向の一の画素列を構成する各画素の繰り返し周期を、隣接する周期構造の他の画素列を構成する各画素の繰り返し周期に対して、相互に180°ずらした状態に設定してもよい。
その他の構成およびその作用効果は、前述した第1実施形態と同一となっている。
3,50 空間光変調素子
4 表示記録媒体
10 光学素子
10A 一方の周期構造部
10B 他方の周期構造部
11 透明層
12,15光吸収層
Pa ,Pb,Pk1,Pk2 周期ピッチ
Claims (5)
- 表示記録媒体に記録させる画像光を出力させる光書込み装置において、
面状光源部から出射された画像形成用光を前記画像光に空間変調させる複数の画素を平面内にマトリックス状に配列した空間光変調素子と、
前記空間光変調素子から出射される前記画像光の出射角度範囲を制限して前記画像光を前記表示記録媒体に入射する光学素子とを有し、
前記光学素子は、前記画像光を透過させる透明層と、前記透明層を透過する画像光の出射方向の範囲を制限する光吸収層とを平面内で交互に繰り返して配列した2次元周期構造体を有し、
前記2次元周期構造体は、前記透明層と前記光吸収層とを交互に繰り返して配列した方向を基準として、その配列方向と直交する方向に区画された複数の周期構造部を有し、
前記複数の周期構造部の少なくとも一部は、前記直交する方向に隣接する前記透明層同士の空間配置の位相を異ならせて前記透明層と前記光吸収層とを交互に繰り返して配列した周期構造を有し、
前記2次元周期構造体の直交する2方向における前記透明層と前記光吸収層との繰り返し周期ピッチを実質的に一致させて整合させ、且つ前記繰り返し周期ピッチを前記空間光変調素子の画素の配列ピッチより狭く設定し、
前記光学素子の前記透明層と前記光吸収層との繰り返し周期ピッチを前記空間光変調素子の平面内に前記画素を配列した周期ピッチの整数分の1に設定したことを特徴とする光書込み装置。 - 前記複数の周期構造部の少なくとも一部は、前記透明層同士の空間配置の位相を180°異ならせて前記透明層と前記光吸収層とを交互に繰り返して配列した周期構造を有する請求項1に記載の光書込み装置。
- 前記空間光変調素子の複数の画素は、個々に短辺と長辺とをもつ長方形をなし、前記平面内に縦横碁盤の目のように整列して配列されている請求項1に記載の光書込み装置。
- 前記空間光変調素子の複数の画素は、個々に正方形をなし、前記平面内に前記直交する方向に隣接する前記画素同士の空間配置の位相を異ならせて配列されている請求項1に記載の光書込み装置。
- 前記隣接する画素同士の空間配置の位相を180°異ならせている請求項4に記載の光書込み装置。
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