JP5716186B2 - 排ガス処理装置及び排ガス処理システム - Google Patents
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Description
なお、図5中、符号25は酸化還元電位測定制御装置(ORPコントローラ)、26は空気を各々図示する。
4NO + 4NH3 + O2 → 4N2 + 6H2O・・・(1)
NO + NO2 + 2NH3 → 2N2 + 3H2O・・・(2)
Hg + 2HCl + 1/2O2 → HgCl2 + H2O・・・(3)
図1−1は、実施例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図1−2は、そのA−A矢示図である。なお、排ガス処理システムの構成は図5と同様であるので、その説明は省略する。
図1−1及び図1−2に示すように、本実施例に係る排ガス処理装置は、ボイラからの排ガス12中の窒素酸化物を除去すると共に、排ガス12中に塩化水素を噴霧して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有する排ガス処理装置であって、ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給してなるものである。
前記縦渦は、図1−2に示すように、排ガス12のガス流れ方向に回転軸を持つ縦渦流53であり、この縦渦の遠心力により、塩化水素は半径方向に拡げられることとなる。この結果、下流域では、縦渦が崩壊し、拡散が急激に促進されることとなる。図1−2中、符号54は塩化水素拡散幅を図示する。
図2−1は、実施例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図2−2は、そのB−B矢示図である。図2−3は噴霧ノズルの対向状態を示す概略図である。なお、排ガス処理システムの構成は図5と同様であるので、その説明は省略する。
そして、噴流同士の衝突により、ガスの拡散が小さい噴流のコア部分が早期に解消させて、拡散を促進するようにしている。
図3−1は、実施例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図3−2は、そのC−C矢示図、図3−3は旋回拡散板の斜視図である。なお、排ガス処理システムの構成は図5と同様であるので、その説明は省略する。
この縦渦の遠心力により、塩化水素は半径方向に拡げられることとなる。この結果、下流域では、縦渦が崩壊し、拡散が急激に促進されることとなる。
本発明による参考例に係る排ガス処理装置について、図面を参照して説明する。
図4−1は、参考例に係る排ガス処理装置の煙道内の噴霧ノズルを示す概略図であり、図4−2は、そのD−D矢示図、図4−3は旋回羽根の設置状態を示す斜視概略図、図4−4はその側面概略図である。なお、排ガス処理システムの構成は図5と同様であるので、その説明は省略する。
そして、下流域では、縦渦が崩壊し、拡散が急激に促進されることとなる。
このアンモニアの噴霧の際にも実施例に係るノズルを適用して旋回流を形成するようにしてもよい。
52(52−1〜52−4) 噴霧ノズル
53 縦渦流
54 塩化水素拡散幅
Claims (3)
- ボイラからの排ガス中の窒素酸化物を除去すると共に、排ガス中に塩化水素を噴霧して水銀を酸化する脱硝触媒層を少なくとも一つ以上有し、
ガス拡散促進手段を用いて、ガス旋回流を発生しつつ塩化水素を煙道内に供給する排ガス処理装置であって、
前記ガス拡散促進手段は、前記ガス流れ方向と直交する面において前記煙道内に互いに平行に設けられる複数の噴霧用パイプヘッダと、前記複数の噴霧用パイプヘッダのそれぞれに複数設けられた噴霧ノズルとを有し、
前記複数設けられた噴霧ノズルは、一つの噴霧用パイプヘッダと当該噴霧用パイプヘッダと隣り合うもう一つの噴霧用パイプヘッダとの間で、前記ガス流れ方向と直交する面において、噴出方向が同一軸線上となるように設けられた一対の噴霧ノズルと、噴出方向が前記同一軸線上とならないように設けられたもう一対の噴霧ノズルとからなる4つ一組の噴霧ノズル群を複数構成するよう配置され、ガス流れ方向に縦渦流を形成してなることを特徴とする排ガス処理装置。 - 前記ボイラと、
前記ボイラの下流側の排ガス煙道に排出された排ガスに塩素化剤を注入する塩素化剤供給部と、
請求項1に記載の排ガス処理装置と、
脱硝後の排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置と、
脱硫後のガスを外部に排出する煙突とを有することを特徴とする排ガス処理システム。 - 前記ボイラの下流側の排ガス煙道に排出された排ガスにアンモニアを投入するアンモニア供給部が設けられてなることを特徴とする請求項2に記載の排ガス処理システム。
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