JP5699221B2 - 仮想参照面を備えた干渉計 - Google Patents
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Description
一般的に、一態様において、本開示は、検査面の特性を測定するための撮像干渉計を特徴とする。本干渉計は、干渉計キャビティを画成する光学系であって、入力光を検査光及び参照光に分離するように配置された第1ビーム・スプリッティング光学部品と、検査光を検査面に透過させ、検査面から検査光を再度受光し、その後、検査光を参照光と再合成するように配置された第2ビーム・スプリッティング光学部品と、参照光を第1光学部品から第2光学部品に導くように配置された第3光学部品とを有する光学系を備える。干渉計キャビティは、第2光学部品と第3光学部品との間の参照光の経路に沿って配置された仮想参照面を画成する。干渉計は、更に、再合成された検査光及び参照光を受光するように配置された撮像チャネルであって、撮像検出器と、検査面及び仮想参照面を検出器上に結像するように構成された少なくとも1つの撮像要素とを含む撮像チャネルを備える。
幾つかの実施形態において、第1光学部品は、更に、入力光を第1及び第2調整ビームに分離し、干渉計キャビティを画成する光学系は、調整ビームが干渉計キャビティを互いに反対方向に伝搬するように導き、その後、第1光学部品は、調整ビームを再合成する。第1調整ビームは、最初、検査光経路に沿って進み、その後、第2光学部品及び第3光学部品によって反射され再度第1光学部品に戻り、第2調整ビームは、最初、参照光経路に沿って進み、その後、第2光学部品によって反射され第1光学部品に戻る。幾つかの実施例では、干渉計には、更に、調整チャネルが含まれるが、この調整チャネルには、調整検出器と、第1光学部品からの再合成された調整ビームを受光し、また、それらを調整検出器に導くように構成された少なくとも1つの撮像要素と、が含まれる。
一般的に、更なる態様において、本発明は、干渉計であって、入力光から検査光及び参照光を導出し、被験物体に接触するように第1経路に沿って検査光を導き、また、第1経路と異なる第2経路に沿って参照光を導くように配置された第1ビームスプリッタと、第1及び第2経路に配置され、検査光が被験物体に接触した後、参照光と検査光とを合成するように構成された第2ビームスプリッタと、合成された検査光及び参照光を受光するように配置された検出器と、被験物体及び仮想参照面を検出器上に結像するように構成された対物レンズとを備え、仮想参照面が、第1と第2ビームスプリッタとの間の、検出器に光学的に共役な仮想面に対応する、干渉計を特徴とする。
干渉計には、第1ビームスプリッタにおいて合成された光の経路に対応する調整チャネルを含み得るが、この場合、合成された光は、第1又は第2経路に沿って第2ビームスプリッタから第1ビームスプリッタに伝搬する。干渉計には、合成された光を検出するために調整チャネルに配置された第2検出器を含み得る。
干渉計は、10mm以上の寸法を有する視野内の被験物体の表面を検出器に結像するように構成し得る。
1つ又は複数の実施形態の詳細については、添付図面及び以下の説明に記載する。
b)干渉像検出器上の点を干渉計の検査光及び参照光に沿って光源空間に結像する場合、光源空間における2つの像点の位置が同じであり、また、検査光及び参照光に沿った反射の数が同じであること。
これらの指針が満たされていないと、干渉縞コントラストは、光源の広がり及びスペクトル幅に依存する割合で低下する。これらの指針に加えて、仮想参照面27は、最も近い実際の光学面から、これらの面の有益なピンぼけのために、できるだけ離しておくべきである。これらの指針全てを満足する最も単純な構成は、図1に示す例示的なキャビティ構成に対応するが、この場合、キャビティ三角形は、ほぼ二等辺三角形である。等しい脚を備えた二等辺三角形を有することは、ビームスプリッタ9の面9Aと折り返し鏡14の面14Aとの間の軸方向の光線に沿う幾何学的な距離が、ビームスプリッタ9の面9Aとビームスプリッタ15の面15Aとの間の軸方向の光線に沿う幾何学的な距離に等しいことを意味する。折り返し鏡14とビームスプリッタ15との間の三角形の第3辺は、検査光10及び参照光11がビームスプリッタ15の面15Aで交差するように、また、調整チャネル5の議論で更に後述するように、ビームずれを呈しないように、これらの構成要素を適切に角度調整することによって与えられる。
Claims (22)
- 干渉計であって、
入力光から検査光及び参照光を導出し、第1経路に沿って前記検査光を導いて被験物体に接触させ、前記第1経路と異なる第2経路に沿って前記参照光を導くように配置された第1ビームスプリッタと、
前記第1経路及び前記第2経路に配置され、前記検査光が前記被験物体に接触した後、前記参照光を検査光と合成するように構成された第2ビームスプリッタと、
前記合成された検査光及び参照光を受光するように配置された検出器と、
前記被験物体及び仮想参照面を前記検出器上に結像するように構成された対物レンズとを備え、
前記仮想参照面は、前記第1ビームスプリッタと第2ビームスプリッタとの間の、前記検出器に対して光学的に共役な仮想面に対応する、干渉計。 - 請求項1に記載の干渉計であって、前記被験物体を介した前記第1ビームスプリッタから前記第2ビームスプリッタまでの前記第1経路の光路長は、第1ビームスプリッタから第2ビームスプリッタまでの第2経路の光路長に実質的に等しい、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記第2経路に配置され、第1ビームスプリッタから第2ビームスプリッタに向けて参照光を導くように構成された光学素子を備える、干渉計。
- 請求項3に記載の干渉計であって、前記第1ビームスプリッタと前記第2ビームスプリッタとの間の前記検査光の光路長は、前記第1ビームスプリッタと、前記第2経路に配置された前記光学素子との間の前記参照光の光路長に実質的に等しい、干渉計。
- 請求項3に記載の干渉計であって、前記第1ビームスプリッタと前記第2ビームスプリッタとの間の前記第1経路及び前記第2経路は、前記第2経路に配置された前記光学素子との組み合わせで、実質的に二等辺三角形に対応する幾何学的形状を画成する、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、前記検査光は、前記第1ビームスプリッタによって透過された入力光に対応し、前記参照光は、前記第1ビームスプリッタによって反射された入力光に対応する、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記第1ビームスプリッタにおいて合成された光の経路に対応する調整チャネルを備え、前記合成された光は、前記第1経路又は前記第2経路に沿って、前記第2ビームスプリッタから前記第1ビームスプリッタに伝搬する、干渉計。
- 請求項7に記載の干渉計であって、更に、前記調整チャネルに配置され、前記合成された光を検出する第2検出器を備える、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記第1ビームスプリッタと前記第2ビームスプリッタとの間の前記第2経路に配置された第1補償光学素子を備え、前記第1補償光学素子は、前記検査光と前記参照光との間の光学材料内の光路長差を低減する、干渉計。
- 請求項9に記載の干渉計であって、前記第1補償光学素子は、前記検出器における前記検査光と測定光との間の横方向の変位を低減するように構成されている、干渉計。
- 請求項9に記載の干渉計であって、前記第1補償光学素子は、前記第2経路に対して傾斜した平行平面板である、干渉計。
- 請求項9に記載の干渉計であって、更に、前記第1経路及び第2経路のうちの少なくとも一方に配置された1つ又は複数の追加の補償光学素子を備え、前記1つ又は複数の追加の補償光学素子は、前記検査光と前記参照光との間の光学材料内の前記光路長差を低減すること、及び前記検出器における前記検査光と測定光との間の横方向の変位を低減することのうちの少なくとも一方を実施する、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記干渉計の動作中、前記入力光を供給するように構成された照明器を備える、干渉計。
- 請求項13に記載の干渉計であって、前記照明器は、光源と、前記光源から光を受光し、前記光を前記第1ビームスプリッタに向けて導くように構成された1つ又は複数の光学素子とを含む、干渉計。
- 請求項14に記載の干渉計であって、前記1つ又は複数の光学素子は、前記検査光が前記被験物体においてテレセントリックであるように構成されている、干渉計。
- 請求項14に記載の干渉計であって、前記光源は、10nmより大きいスペクトル帯域幅を有する光を供給するように構成されている、干渉計。
- 請求項14に記載の干渉計であって、前記光源は、発光ダイオード(LED)を含む、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、前記第1ビームスプリッタ及び前記第2ビームスプリッタは、複数の平行平面光学素子を含む、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、前記干渉計は、視野内における前記被験物体の表面を前記検出器上に結像するように構成されており、前記視野は、10mm以上の寸法を有する、干渉計。
- 請求項1に記載の干渉計であって、更に、前記検出器と通信する電子プロセッサを備え、動作中、前記電子プロセッサは、前記検出器における前記検査光と前記参照光との間の光路長差に関する干渉情報を含む信号を受信し、前記信号に基づき、前記被験物体に関する情報を決定する、干渉計。
- 被験物体に関する情報を決定するための干渉法であって、
第1光学素子において、入力光から検査光及び参照光を導出すること、
第1経路に沿って前記検査光を導いて被験物体に接触させ、前記第1経路と異なる第2経路に沿って前記参照光を導くこと、
前記検査光が前記被験物体に接触した後、第1光学素子と異なる第2光学素子において、前記参照光を前記検査光と合成すること、
前記被験物体及び仮想参照面を検出器上に結像すること
を含み、
前記仮想参照面は、前記第2経路における前記検出器での前記像に対して光学的に共役な前記第2経路における仮想面に対応する、方法。 - 検査面の特性を測定するための干渉計であって、
(a)干渉計キャビティを画成する光学系であって、
入力光を検査光及び参照光に分離するように配置された第1ビーム・スプリッティング光学部品と、
前記検査面に前記検査光を透過し、前記検査面から再び前記検査光を受光し、その後、前記検査光を前記参照光と再合成するように配置された第2ビーム・スプリッティング光学部品と、
第1ビーム・スプリッティング光学部品から第2ビーム・スプリッティング光学部品に前記参照光を導くように配置された第3光学部品と
を含み、
前記干渉計キャビティが、前記第2ビーム・スプリッティング光学部品と前記第3光学部品との間の前記参照光の経路に沿って配置された仮想参照面を画成する、前記光学系と、
(b)前記再合成された検査光及び参照光を受光するように配置された撮像チャネルであって、撮像検出器と、前記検査面及び前記仮想参照面を前記検出器に結像するように構成された少なくとも1つの撮像要素とを含む、前記撮像チャネルと
を備える、干渉計。
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