JP5697386B2 - Substrate processing apparatus and fluid knife - Google Patents

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Description

この発明は流体ナイフから噴射される流体によって基板上を処理する基板の処理装置及び流体ナイフに関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a fluid knife for processing a substrate with a fluid ejected from a fluid knife .

たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、これら装置の処理対象物であるガラス基板や半導体ウエハ等の基板にレジストを塗布し、この基板を現像処理してからエッチング処理することで、表面に回路パターンを精密に形成する。基板に回路パターンを形成したならば、その基板の表面に付着しているレジスト膜やレジスト残渣などの有機物を洗浄液によって除去する洗浄処理及び洗浄した基板を乾燥させる乾燥処理が行われる。   For example, in a manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, a resist is applied to a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer which is a processing target of these devices, and this substrate is developed and then etched. A circuit pattern is precisely formed on the surface. When the circuit pattern is formed on the substrate, a cleaning process for removing organic substances such as a resist film and a resist residue adhering to the surface of the substrate with a cleaning liquid and a drying process for drying the cleaned substrate are performed.

なお、これら洗浄処理及び乾燥処理においては、基板の処理装置の処理槽内に設けられた流体ナイフにより基板の洗浄処理が行われる。具体的には、洗浄処理において、薬液や洗浄液等の液体と気体とを混合させ噴出させる流体ナイフにより、基板の表面を予め均一に濡らす。その後、シャワー等により基板を洗浄する。   In the cleaning process and the drying process, the substrate is cleaned by a fluid knife provided in the processing tank of the substrate processing apparatus. Specifically, in the cleaning process, the surface of the substrate is uniformly wetted in advance by a fluid knife that mixes and jets a liquid such as a chemical solution or a cleaning solution and a gas. Thereafter, the substrate is washed by a shower or the like.

このように、基板洗浄の前に基板上を均一に濡らすことで、高い洗浄効果を得る技術が知られている。   As described above, a technique for obtaining a high cleaning effect by uniformly wetting the substrate before the substrate cleaning is known.

また、洗浄処理された基板に洗浄液が残留するとウォータマーク等の汚れの原因になる。そこで、洗浄液によって洗浄された基板の上下面に気体を噴射する流体ナイフ（エアーナイフ）から気体を噴射し、基板に付着残留した洗浄液を除去する乾燥処理が行われる（例えば、特許文献１参照）。   Further, if the cleaning liquid remains on the cleaned substrate, it may cause dirt such as a watermark. Therefore, a drying process is performed in which the gas is ejected from a fluid knife (air knife) that ejects gas onto the upper and lower surfaces of the substrate cleaned with the cleaning liquid, and the cleaning liquid remaining on the substrate is removed (see, for example, Patent Document 1). .

上記乾燥処理は、基板を処理装置の処理槽内へ水平搬送し、この基板の上下面に上下一対の流体ナイフによって気体を噴射し、その気体によって基板に付着した洗浄液を除去する。   In the drying process, the substrate is transported horizontally into the processing tank of the processing apparatus, gas is jetted onto the upper and lower surfaces of the substrate by a pair of upper and lower fluid knives, and the cleaning liquid adhering to the substrate is removed by the gas.

これら基板の処理を行う流体ナイフは、処理槽内に延設され、その長手方向に沿って設けられたスリット部から、液体や気体等の流体を噴射する構成である。このような流体ナイフは、噴射する薬液の析出や、除去により洗浄液が飛散することで、スリット部に薬液や洗浄液等からなる不純物が付着することがある。   The fluid knife for processing these substrates is configured to extend in the processing tank and eject a fluid such as liquid or gas from a slit portion provided along the longitudinal direction thereof. Such a fluid knife may cause impurities such as a chemical liquid or a cleaning liquid to adhere to the slit portion due to the spraying of the chemical liquid to be ejected or the scattering of the cleaning liquid upon removal.

この不純物が付着した流体ナイフでは、処理時において、噴射する流体に不純物が混在する恐れがあり、基板を汚染する虞がある。このため、流体ナイフのスリット部を定期的に清掃冶具により清掃することが行われている。   In the fluid knife to which the impurities are attached, there is a possibility that impurities are mixed in the fluid to be ejected during processing, which may contaminate the substrate. For this reason, the slit part of a fluid knife is regularly cleaned with a cleaning jig.

具体的には、清掃作業者が、薄板状の清掃冶具をスリット部に挿入し、スリット部の長手方向に沿って、挿入状態を維持して移動させることで、スリット部に付着した不純物を除去している。   Specifically, the cleaning operator inserts a thin plate-shaped cleaning jig into the slit portion, and removes impurities adhering to the slit portion by moving while maintaining the inserted state along the longitudinal direction of the slit portion. doing.

特開平１０−２１１４７３号公報JP-A-10-212473

上述した基板の処理装置では、以下の問題があった。即ち、基板の処理装置は、処理槽内に、流体ナイフを有し、さらに、流体ナイフの周囲に基板の搬送ローラや基板の処理に用いられる他の構成要素が配置されている。   The substrate processing apparatus described above has the following problems. That is, the substrate processing apparatus has a fluid knife in a processing tank, and further, a substrate transport roller and other components used for processing the substrate are disposed around the fluid knife.

このため、流体ナイフの周囲の各構成要素により、流体ナイフの清掃を行う作業スペースが限られている。また、搬送ローラ上を搬送する基板の上面を処理する流体ナイフは、処理する基板が大きくなると、それに伴って流体ナイフの長さも長くなる。   For this reason, the working space for cleaning the fluid knife is limited by the components around the fluid knife. In addition, in the fluid knife that processes the upper surface of the substrate that is transported on the transport roller, the length of the fluid knife increases as the substrate to be processed becomes larger.

しかし、流体ナイフが長くなると、作業スペースがさらに限られることから、さらに作業性が悪くなるという問題がある。また、清掃作業者の作業体勢（姿勢）も不安定となる。さらには、流体ナイフの清掃は、清掃作業者が、薄板状の清掃冶具をスリット部に挿入してスリット部の長手方向に沿って清掃冶具を移動させるため、清掃作業者の姿勢等により、清掃冶具の挿入深さ等が異なり、均一な深さでスリット部を清掃することが困難である。このため、部分的に不純物が残存する虞もある。   However, when the fluid knife is lengthened, the work space is further limited, so that the workability is further deteriorated. In addition, the working posture (posture) of the cleaning worker becomes unstable. Furthermore, the cleaning of the fluid knife is performed by the cleaning operator by inserting a thin plate-shaped cleaning jig into the slit portion and moving the cleaning jig along the longitudinal direction of the slit portion. The insertion depth of the jig is different, and it is difficult to clean the slit portion with a uniform depth. For this reason, an impurity may remain partially.

そこで本発明は、流体を噴射するスリット部の清掃が均一な深さ、且つ、容易に行うことが可能な流体ナイフを有する基板の処理装置及び流体ナイフを提供することを目的としている。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a fluid knife having a fluid knife that can easily perform cleaning of a slit portion that ejects a fluid to a uniform depth.

前記課題を解決し目的を達成するために、次のように構成された基板の処理装置が提供される。   In order to solve the problems and achieve the object, a substrate processing apparatus configured as follows is provided.

本発明の一態様として、
処理槽内を搬送装置により搬送される基板の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置であって、
前記処理槽内を搬送される前記基板の表面に対向して配置され、前記基板の上面に前記流体を噴射するスリット部を有する上部流体ナイフ及び前記上部流体ナイフと対向するようにして配置され、前記基板の下面に前記流体を噴射するスリット部を有する下部流体ナイフを具備し、
前記上部流体ナイフ及び下部流体ナイフのうちいずれか一方の流体ナイフの一の外面に前記スリット部の長手方向に沿って延設された案内レールと、
前記上部流体ナイフ及び下部流体ナイフの前記スリット部にその先端が挿入可能に形成された清掃体を有し、前記案内レールに沿って移動可能に形成された清掃部材と、
を備えることを特徴とする基板の処理装置が提供される。 As one aspect of the present invention,
A processing apparatus that performs processing by injecting a fluid onto the surface of a substrate that is transported by a transport apparatus in a processing tank,
Disposed opposite to the surface of the substrate that will be conveyed to the processing bath, are arranged so as to face the upper fluid knife and the upper fluid knife having a slit portion for injecting the fluid into the upper surface of the substrate A lower fluid knife having a slit portion for ejecting the fluid on the lower surface of the substrate;
A guide rail extending along the longitudinal direction of the slit portion on one outer surface of one of the upper and lower fluid knives ,
A cleaning member having a cleaning body formed such that a tip thereof can be inserted into the slit portion of the upper fluid knife and the lower fluid knife, and movable along the guide rail;
An apparatus for processing a substrate is provided.

この発明によれば、流体ナイフの流体を噴射するスリット部の清掃を、均一な深さで容易に行うことが可能な基板の処理装置及び流体ナイフを提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a substrate processing apparatus and a fluid knife capable of easily cleaning a slit portion for ejecting fluid of a fluid knife at a uniform depth.

本発明の一実施の形態に係る基板の処理装置の構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of the processing apparatus of the board | substrate which concerns on one embodiment of this invention. 同処理装置に用いられる流体ナイフの構成を一部省略して示す正面図。The front view which abbreviate | omits and shows the structure of the fluid knife used for the processing apparatus. 同流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。The side view which shows typically the principal part structure of the fluid knife. 同流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。The side view which shows typically the principal part structure of the fluid knife. 本発明の変形例に係る基板処理装置に用いられる流体ナイフの要部構成を模式的に示す側面図。The side view which shows typically the principal part structure of the fluid knife used for the substrate processing apparatus which concerns on the modification of this invention.

以下、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１を、図１乃至図４を用いて説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１の構成を上方から模式的に示す説明図、図２は、処理装置１の流体ナイフ５の構成を一部省略して模式的に示す正面図、図３は、流体ナイフ５に用いられる清掃部材３７の使用の一例を模式的に示す側面図、図４は、流体ナイフ５の清掃部材３７の使用の一例を模式的に示すに側面図である。 Hereinafter, a processing apparatus 1 for a substrate 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a configuration of a processing apparatus 1 for a substrate 100 according to an embodiment of the present invention from above, and FIG. FIG. 3 is a side view schematically showing an example of the use of the cleaning member 37 used in the fluid knife 5, and FIG. 4 is a schematic example of the use of the cleaning member 37 of the fluid knife 5. FIG.

図１に示すように、基板１００の処理装置１は、基板１００の処理工程の一である洗浄工程又は基板１００の乾燥工程等に用いられる。処理装置１は、基板１００を搬送し、且つ、基板１００上に、液体又は気体等の流体を噴射可能に形成されている。具体的に説明すると、処理装置１は、処理槽３と、搬送装置４と、流体ナイフ５と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 for a substrate 100 is used for a cleaning process that is one of the processing processes for the substrate 100, a drying process for the substrate 100, or the like. The processing apparatus 1 is formed so as to transport the substrate 100 and to eject a fluid such as a liquid or a gas on the substrate 100. More specifically, the processing apparatus 1 includes a processing tank 3, a transfer device 4, and a fluid knife 5.

処理槽３は、箱型状に形成され、その内部に搬送装置４及び流体ナイフ５を配置可能に形成されている。処理槽３は、所定の方向の一端面に搬入口１０が、他端面に搬出口１１が、形成されている。なお、所定の方向とは、基板１００の搬送方向であり、図１中矢印で示す。これら搬入口１０及び搬出口１１は、基板１００を処理槽３内に搬入及び搬出可能な形状に形成されている。   The processing tank 3 is formed in a box shape, and is formed so that a transfer device 4 and a fluid knife 5 can be disposed therein. The treatment tank 3 has a carry-in port 10 on one end surface in a predetermined direction and a carry-out port 11 on the other end surface. The predetermined direction is the direction in which the substrate 100 is transported, and is indicated by an arrow in FIG. The carry-in port 10 and the carry-out port 11 are formed in a shape that allows the substrate 100 to be carried into and out of the processing tank 3.

搬送装置４は、図１中矢印で示す所定の方向に沿って一定間隔に配置された複数の搬送ローラ１３と、搬送ローラ１３を駆動させる駆動手段１４と、を備えている。この搬送装置４は、駆動手段１４により駆動された搬送ローラ１３の回転により、搬送ローラ１３上の基板１００を搬送可能に形成されている。   The conveyance device 4 includes a plurality of conveyance rollers 13 arranged at regular intervals along a predetermined direction indicated by an arrow in FIG. 1, and drive means 14 that drives the conveyance rollers 13. The transport device 4 is formed so that the substrate 100 on the transport roller 13 can be transported by the rotation of the transport roller 13 driven by the driving means 14.

複数の搬送ローラ１３は、少なくともその一が流体ナイフ５と対向しないで、処理槽３内に設けられる。複数の搬送ローラ１３は、所定の方向と交差する方向（以下「左右方向」）を連続させる連続ローラ軸１６と、その一部が左右方向で分断する一対の分断ローラ軸１７、１８と、左右方向の一方に設けられた分断ローラ軸１７、１８のいずれか一方により構成される。   The plurality of transport rollers 13 are provided in the processing tank 3 so that at least one of them does not face the fluid knife 5. The plurality of transport rollers 13 include a continuous roller shaft 16 that continues in a direction intersecting a predetermined direction (hereinafter, “left-right direction”), a pair of divided roller shafts 17 and 18 that are partially divided in the left-right direction, It is constituted by one of the dividing roller shafts 17 and 18 provided in one of the directions.

また、搬送ローラ１３は、各ローラ軸１６，１７，１８の一部に、基板１００と接触し、且つ、その回転により基板１００を搬送可能な一以上の接触ローラ１９を備えている。   In addition, the transport roller 13 includes one or more contact rollers 19 that are in contact with the substrate 100 and are capable of transporting the substrate 100 by rotation thereof, in part of the roller shafts 16, 17, and 18.

例えば、図１に示す構成では、搬送ローラ１３は、搬入口１０から搬出口１１に向って、連続ローラ軸１６、一本の分断ローラ軸１７、複数の一対の分断ローラ軸１７、１８、及び、２本の分断ローラ軸１８が順次配置される。 For example, in the configuration shown in FIG. 1, the conveying roller 13, toward the outlet port 11 from the transportable inlet 10, a continuous roller shaft 16, one of the cutting roller shaft 17, a plurality of pairs of cutting roller shaft 17 and, Two dividing roller shafts 18 are sequentially arranged.

なお、連続ローラ軸１６は、流体ナイフ５の一次側、具体的には流体ナイフ５と搬入口１０との間に設けられる。分断ローラ軸１７，１８は、例えば、流体ナイフ５が設けられた範囲であって、且つ、流体ナイフ５と対向しないように配置される。   The continuous roller shaft 16 is provided on the primary side of the fluid knife 5, specifically, between the fluid knife 5 and the carry-in port 10. The dividing roller shafts 17 and 18 are, for example, disposed in a range where the fluid knife 5 is provided and not opposed to the fluid knife 5.

即ち、図１に示すように、搬送ローラ１３は、流体ナイフ５に重なる部位には、一対又は一方の分断ローラ軸１７、１８が配置されることで、流体ナイフ５から噴射される流体を干渉しないように配置されている。このため、搬送ローラ１３の配置は、図１に示す配置に限定されず、流体ナイフ５の配置等によって、適宜設定される。   That is, as shown in FIG. 1, the conveying roller 13 interferes with the fluid ejected from the fluid knife 5 by arranging a pair or one of the dividing roller shafts 17 and 18 at a portion overlapping the fluid knife 5. Arranged not to. For this reason, the arrangement of the transport rollers 13 is not limited to the arrangement shown in FIG. 1, and is appropriately set depending on the arrangement of the fluid knife 5 and the like.

駆動手段１４は、その回転軸が回転駆動する駆動源２１と、連続ローラ軸１６の一方の端側に設けられた第１プーリ２２と、駆動源２１の回転軸２１ａ及び第１プーリ２２を接続する第１ベルト２３と、を備えている。   The drive means 14 connects a drive source 21 whose rotational shaft is rotationally driven, a first pulley 22 provided on one end side of the continuous roller shaft 16, a rotational shaft 21 a of the drive source 21 and the first pulley 22. And a first belt 23.

駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の一方の端側、及び、分断ローラ軸１７の端側にそれぞれ設けられた第２プーリ２４と、これら第２プーリ２４を接続する第２ベルト２５と、を備えている。   The driving means 14 includes a second pulley 24 provided on one end side of the continuous roller shaft 16 and an end side of the dividing roller shaft 17, and a second belt 25 connecting the second pulley 24. I have.

駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の他方の端側及び分断ローラ軸１８の端側にそれぞれ設けられた第３プーリ２６と、これら第３プーリ２６を接続する第３ベルト２７と、を備えている。   The driving means 14 includes a third pulley 26 provided on the other end side of the continuous roller shaft 16 and an end side of the dividing roller shaft 18, and a third belt 27 connecting the third pulley 26. Yes.

即ち、駆動手段１４は、駆動源２１の回転を第１ベルト２３及び第１プーリ２２を介して連続ローラ軸１６に伝達する。また、駆動手段１４は、連続ローラ軸１６の回転を、連続ローラ軸１６の両端に設けられた第２、第３プーリ２４、２６から第２、第３ベルト２５、２７を解して第２、第３ベルト２５，２７の分断ローラ軸１７、１８にそれぞれ設けられた第２、第３プーリ２４、２６に伝達する。   That is, the drive unit 14 transmits the rotation of the drive source 21 to the continuous roller shaft 16 via the first belt 23 and the first pulley 22. Further, the driving means 14 rotates the continuous roller shaft 16 through the second and third belts 25 and 27 from the second and third pulleys 24 and 26 provided at both ends of the continuous roller shaft 16, and the second. , And transmitted to second and third pulleys 24 and 26 provided on the dividing roller shafts 17 and 18 of the third belts 25 and 27, respectively.

このように、駆動手段１４は、駆動源２１の回転を第２、第３プーリ２４，２６に伝達させることで、搬送ローラ１３を回転可能に形成されている。   As described above, the driving unit 14 is configured to be able to rotate the transport roller 13 by transmitting the rotation of the driving source 21 to the second and third pulleys 24 and 26.

流体ナイフ５は、例えば、処理装置１を洗浄工程に用いる場合には、薬液及び気体を混合させた流体を噴射可能に形成されたものが用いられる。また、流体ナイフ５は、処理装置１を乾燥工程に用いる場合には、気体を噴射可能に形成されたものが用いられる。   For example, when the processing apparatus 1 is used in the cleaning process, the fluid knife 5 is formed so as to be able to eject a fluid in which a chemical solution and a gas are mixed. Moreover, when the processing apparatus 1 is used for a drying process, what was formed so that gas could be injected is used for the fluid knife 5. FIG.

図１に示すように、流体ナイフ５は、その長手方向が、前記所定の方向に対して所定の角度、例えば４５度の角度で傾斜して、処理槽３に固定される。図４に示すように、流体ナイフ５は、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１を備えている。   As shown in FIG. 1, the fluid knife 5 is fixed to the processing tank 3 such that the longitudinal direction thereof is inclined at a predetermined angle, for example, 45 degrees with respect to the predetermined direction. As shown in FIG. 4, the fluid knife 5 includes an upper fluid knife 30 and a lower fluid knife 31.

なお、流体ナイフ５は、搬送ローラ１３と対向しないように配置され、これにより、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１が対向し、搬送される基板１００の上下面とそれぞれ対向可能に形成されている。   The fluid knife 5 is disposed so as not to face the transport roller 13, so that the upper fluid knife 30 and the lower fluid knife 31 face each other and can be opposed to the upper and lower surfaces of the substrate 100 to be transported. Yes.

図２，３に示すように、上部流体ナイフ３０は、ナイフ本体３５と、案内レール３６と、清掃部材３７と、を備えている。ナイフ本体３５は、長方形状の一対の板状部材３８、３９を接合してなる。これら板状部材３８、３９間には、その内部に圧縮流体が供給される導入部４０と、この導入部４０に連続され、流体を噴射するスリット部４１が形成されている。なお、スリット部４１は、上部流体ナイフ３０の延設方向に沿って設けられ、基板１００上に流体を噴射可能な長さに形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the upper fluid knife 30 includes a knife body 35, a guide rail 36, and a cleaning member 37. The knife body 35 is formed by joining a pair of rectangular plate-like members 38 and 39. Between these plate-like members 38 and 39, there are formed an introduction portion 40 into which a compressed fluid is supplied and a slit portion 41 which is continuous with the introduction portion 40 and ejects fluid. The slit portion 41 is provided along the extending direction of the upper fluid knife 30 and is formed to have a length capable of ejecting fluid onto the substrate 100.

案内レール３６は、ナイフ本体３５の一の外面、具体的には、所定の方向の搬入口１０側に位置する板状部材３８の外面であって、その両端側に固定された固定部４３と、これら固定部４３間に渡って設けられたレール部４４と、を備えている。   The guide rail 36 is an outer surface of one of the knife bodies 35, specifically, an outer surface of a plate-like member 38 located on the carry-in entrance 10 side in a predetermined direction, and a fixed portion 43 fixed to both ends thereof. , And a rail portion 44 provided between the fixed portions 43.

レール部４４は、例えば、その断面形状が円環状の円柱棒状に形成されている。このレール部４４は、固定部４３間に渡って設けられることで、ナイフ本体３５のスリット部４１の延設方向に沿って延設されることとなる。   For example, the rail portion 44 is formed in the shape of a circular cylindrical rod having a circular cross section. By providing the rail portion 44 between the fixed portions 43, the rail portion 44 extends along the extending direction of the slit portion 41 of the knife body 35.

清掃部材３７は、レール部４４に着脱自在に設けられる。具体的には、清掃部材３７は、レール部４４に沿って移動可能な本体部４６と、本体部４６に設けられた清掃体４７と、この清掃体４７を本体部４６に固定させる固定部４８と、を備えている。   The cleaning member 37 is detachably provided on the rail portion 44. Specifically, the cleaning member 37 includes a main body portion 46 that can move along the rail portion 44, a cleaning body 47 provided on the main body portion 46, and a fixing portion 48 that fixes the cleaning body 47 to the main body portion 46. And.

本体部４６は、例えば、図３，４に示すように、その一端が半円状に湾曲して形成され、レール部４４上に載置可能に形成されている。また、本体部４６は、その他端側に、固定部４８とともに、清掃体４７を狭持し固定可能に形成されている。   For example, as shown in FIGS. 3 and 4, the main body portion 46 is formed such that one end thereof is curved in a semicircular shape and can be placed on the rail portion 44. Further, the main body portion 46 is formed on the other end side so as to be able to pinch and fix the cleaning body 47 together with the fixing portion 48.

なお、本体部４６と固定部４８とによる清掃体４７の固定は、例えば、図示しないボルト及びナット等の締結部材によりなされる。   The cleaning body 47 is fixed by the main body portion 46 and the fixing portion 48 by, for example, fastening members such as bolts and nuts (not shown).

清掃体４７は、例えば、ＳＵＳ材料で形成され、板厚が０．１〜０．１５ｍｍ程度の薄板である。なお、清掃体４７は、その板厚がスリット部４１に挿入可能な厚さであればよい。   The cleaning body 47 is a thin plate made of, for example, SUS material and having a plate thickness of about 0.1 to 0.15 mm. In addition, the cleaning body 47 should just be the thickness in which the plate | board thickness can be inserted in the slit part 41. FIG.

清掃体４７は、その一部、具体的には、図３に示すように、その２箇所に設けられ、レール部４４の延設方向と平行に塑性変形した曲折部４９を備えている。清掃体４７は、曲折部４９の曲折により、レール部４４に本体部４６を載置した際に、その端部が、スリット部４１に近接するように形成されている。   As shown in FIG. 3, the cleaning body 47 includes bent portions 49 that are provided at two locations and are plastically deformed in parallel with the extending direction of the rail portion 44. The cleaning body 47 is formed so that an end portion thereof is close to the slit portion 41 when the main body portion 46 is placed on the rail portion 44 by bending of the bending portion 49.

図３，４に示すように、下部流体ナイフ３１は、ナイフ本体５１を備えている。ナイフ本体５１は、長方形状の一対の板状部材５２、５３を接合してなる。これら板状部材５２、５３間には、その内部に圧縮流体が供給される導入部５４と、この導入部５４に連続され、流体を噴射するスリット部５５が形成されている。なお、スリット部５５は、下部流体ナイフ３１の延設方向に沿って設けられ、基板１００の下面上に流体を噴射可能な長さに形成されている。   As shown in FIGS. 3 and 4, the lower fluid knife 31 includes a knife body 51. The knife body 51 is formed by joining a pair of rectangular plate-like members 52 and 53. Between these plate-like members 52 and 53, an introduction portion 54 into which a compressed fluid is supplied and a slit portion 55 that is continuous with the introduction portion 54 and ejects fluid are formed. The slit portion 55 is provided along the extending direction of the lower fluid knife 31 and is formed on the lower surface of the substrate 100 so as to be able to eject fluid.

このように構成された処理装置１は、基板１００の洗浄工程や乾燥工程において、処理装置１内に搬送された基板１００を流体ナイフ５により処理することとなる。具体的には、処理装置１を洗浄工程に用いる際には、流体ナイフ５は、搬送装置４により搬送された基板１００の上面及び下面に、薬液及び気体を混合させた流体を噴射し、基板１００の表面を薬液で濡らす。   The processing apparatus 1 configured as described above processes the substrate 100 transported into the processing apparatus 1 with the fluid knife 5 in the cleaning process and the drying process of the substrate 100. Specifically, when the processing apparatus 1 is used for a cleaning process, the fluid knife 5 injects a fluid in which a chemical solution and a gas are mixed onto the upper surface and the lower surface of the substrate 100 transported by the transport device 4, and the substrate Wet 100 surfaces with chemicals.

また、処理装置１を乾燥工程に用いる際には、流体ナイフ５は、搬送装置４により搬送された基板１００の上面１００ａ及び下面１００ｂにエアー（気体）を噴射し、洗浄工程で付着した流体を吹き飛ばす。   Moreover, when using the processing apparatus 1 for a drying process, the fluid knife 5 injects air (gas) to the upper surface 100a and the lower surface 100b of the board | substrate 100 conveyed by the conveying apparatus 4, and the fluid adhering at the washing | cleaning process is used. Blow away.

処理装置１は、このような基板１００の処理に用いられると、流体ナイフ５から噴射する薬液や、基板１００上から吹き飛ばした洗浄液等の不純物が、その流体が噴射されるスリット部４１に付着する。この付着した不純物を、清掃部材３７により清掃する。次に、処理装置１の、流体ナイフ５の清掃について説明する。   When the processing apparatus 1 is used for such processing of the substrate 100, impurities such as a chemical liquid sprayed from the fluid knife 5 and a cleaning liquid blown off from the substrate 100 adhere to the slit portion 41 from which the fluid is sprayed. . The adhered impurities are cleaned by the cleaning member 37. Next, cleaning of the fluid knife 5 of the processing apparatus 1 will be described.

流体ナイフ５の清掃を行う場合には、先ず、案内レール３６に清掃部材３７を装着する。具体的には、上部流体ナイフ３０の清掃を行う場合には、図３に示すように、上部流体ナイフ３０のレール部４４に、本体部４６の湾曲する一端を引き掛けることで、清掃部材３７を案内レール３６に載置させる。また、清掃部材３７は、例えば案内レール３６の一端側に配置させる。   When cleaning the fluid knife 5, first, the cleaning member 37 is attached to the guide rail 36. Specifically, when cleaning the upper fluid knife 30, as shown in FIG. 3, the cleaning member 37 is hooked on the rail 44 of the upper fluid knife 30 with the curved end of the main body 46. Is placed on the guide rail 36. Moreover, the cleaning member 37 is arrange | positioned at the one end side of the guide rail 36, for example.

次に、清掃部材３７の清掃体４７の先端を上部流体ナイフ３０のスリット部４１挿入させる。スリット部４１に清掃体４７を挿入させた状態で、清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させる。これにより、清掃体４７は、その先端がスリット部４１の延設方向に沿ってスリット部４１内を移動し、スリット部４１に付着した不純物を除去することが可能となる。   Next, the slit 41 of the upper fluid knife 30 is inserted at the tip of the cleaning body 47 of the cleaning member 37. In a state where the cleaning body 47 is inserted into the slit portion 41, the cleaning member 37 is moved along the guide rail 36. Thereby, the cleaning body 47 can move the tip of the cleaning body 47 along the extending direction of the slit portion 41 and remove impurities attached to the slit portion 41.

このように、付着した不純物が除去できるまで、レール部４４に沿って清掃部材３７を往復動させて、スリット部４１内を清掃体４７により清掃する。   In this manner, the cleaning member 37 is reciprocated along the rail portion 44 until the adhered impurities can be removed, and the inside of the slit portion 41 is cleaned by the cleaning body 47.

次に、下部流体ナイフ３１の清掃を行う場合には、図４に示すように、上部流体ナイフ３０の案内レール３６に清掃部材３７を装着した状態で、清掃体４７の先端を、下部流体ナイフ３１のスリット部５５に挿入させる。この状態で、清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させることで、スリット部５５内を清掃体４７の先端が移動し、スリット部５５に付着した不純物を除去することが可能となる。   Next, when cleaning the lower fluid knife 31, as shown in FIG. 4, with the cleaning member 37 attached to the guide rail 36 of the upper fluid knife 30, the tip of the cleaning body 47 is moved to the lower fluid knife 31. It is made to insert in the slit part 55 of 31. In this state, by moving the cleaning member 37 along the guide rail 36, the tip of the cleaning body 47 moves in the slit portion 55, and impurities attached to the slit portion 55 can be removed.

このように構成された処理装置１によれば、案内レール３６により案内されて移動した清掃部材３７の清掃体４７により、スリット部４１，５５の清掃ができるため、スリット部４１，５５に挿入される清掃体４７の先端の長さは、各位置において略同一長さとなる。これにより、流体ナイフ５のスリット部４１，５５は、均一に清掃することができることとなる。   According to the processing apparatus 1 configured in this manner, the slit portions 41 and 55 can be cleaned by the cleaning body 47 of the cleaning member 37 guided and moved by the guide rail 36, and thus inserted into the slit portions 41 and 55. The length of the tip of the cleaning body 47 is substantially the same at each position. Thereby, the slit parts 41 and 55 of the fluid knife 5 can be cleaned uniformly.

また、処理装置１は、処理槽３内に、搬送装置４及び流体ナイフ５が設けられる構成であり、流体ナイフ５は、搬送装置４の左右方向に渡って設けられる構成であるため、その清掃のための作業スペースは限られる。しかし、処理装置１は、スリット部４１，５５の清掃において、清掃体４７をスリット部４１，５５に挿入した状態で清掃部材３７を案内レール３６に沿って移動させるだけで良い。   Further, the processing apparatus 1 has a configuration in which the transport device 4 and the fluid knife 5 are provided in the processing tank 3, and the fluid knife 5 is configured to be provided in the left-right direction of the transport device 4. The working space for is limited. However, the processing apparatus 1 only needs to move the cleaning member 37 along the guide rail 36 in a state where the cleaning body 47 is inserted into the slit portions 41 and 55 in cleaning the slit portions 41 and 55.

このため、スリット部４１，５５の清掃作業は、作業スペースが狭い処理装置１であっても、作業者が無理な姿勢をとる必要がなく、確実にスリット部４１，５５の清掃を行なうことが可能となる。このように、処理装置１は、流体ナイフ５のスリット部４１，５５の清掃の作業性が向上することとなる。   For this reason, the cleaning work of the slit portions 41 and 55 does not require an operator to take an unreasonable posture even if the processing apparatus 1 has a narrow work space, and the slit portions 41 and 55 can be reliably cleaned. It becomes possible. Thus, the processing apparatus 1 improves the workability of cleaning the slit portions 41 and 55 of the fluid knife 5.

特に、このような清掃部材３７は、大きな基板１００に用いられる等のその長さが長い流体ナイフ５に有効である。例えば、このような長い流体ナイフ５を清掃する場合には、搬送装置４の左右の一方から、先ず流体ナイフ５の中途部まで清掃部材３７を移動させる。   In particular, such a cleaning member 37 is effective for the fluid knife 5 having a long length, such as used for a large substrate 100. For example, when cleaning such a long fluid knife 5, the cleaning member 37 is first moved from one of the left and right sides of the transport device 4 to the middle of the fluid knife 5.

次に、作業者が搬送装置４の左右の他方から、流体ナイフ５の中途部から清掃部材３７を移動させれば、流体ナイフ５のスリット部４１，５５に沿って、均一に清掃が可能となる。このように、その長さが長い流体ナイフ５であっても、作業者の負担を増大させることなく、容易に流体ナイフ５のスリット部４１，５５を清掃可能な処理装置１を提供できる。   Next, if the operator moves the cleaning member 37 from the middle of the fluid knife 5 from the left and right sides of the transport device 4, the cleaning can be performed uniformly along the slit portions 41 and 55 of the fluid knife 5. Become. Thus, even if the fluid knife 5 has a long length, it is possible to provide the processing device 1 that can easily clean the slit portions 41 and 55 of the fluid knife 5 without increasing the burden on the operator.

また、清掃体４７は、スリット部４１にその先端が案内される（近接する）ように、曲折部４９を設けることで、清掃部材３７をレール部４４に沿って移動させる際に、スリット部４１への清掃体４７の挿入状態を維持するために、清掃部材３７を常時押さえる必要がない。   In addition, the cleaning body 47 is provided with a bent portion 49 so that the tip of the cleaning body 47 is guided (adjacent) to the slit portion 41, so that the cleaning portion 37 is moved along the rail portion 44. In order to maintain the insertion state of the cleaning body 47 in the case, it is not necessary to hold down the cleaning member 37 at all times.

即ち、清掃体４７は、曲折部４９によりスリット部４１へ近接するように案内されるため、清掃体４７のスリット部４１への挿入を容易とし、且つ、スリット部４１からの脱離を防止することが可能となる。これにより、作業者の作業性を向上させることが可能となる。また、上述したようなスリット部４１を均一な深さで清掃することができ、清掃をより確実に行なうことが可能となる。   That is, since the cleaning body 47 is guided by the bent portion 49 so as to be close to the slit portion 41, the cleaning body 47 can be easily inserted into the slit portion 41 and can be prevented from being detached from the slit portion 41. It becomes possible. Thereby, it becomes possible to improve workability | operativity of an operator. Moreover, the slit part 41 as described above can be cleaned at a uniform depth, and the cleaning can be performed more reliably.

上述したように本実施の形態に係る処理装置１によれば、流体ナイフ５に、そのスリット部４１，５５に沿って延設されたレール部４４に案内されて移動可能なスリット部４１，５５を清掃する清掃部材３７を備えることで、容易、且つ、均一にスリット部４１，５５を清掃することができる。   As described above, according to the processing apparatus 1 according to the present embodiment, the slit portions 41 and 55 that can be moved by being guided by the rail portion 44 extending along the slit portions 41 and 55 of the fluid knife 5. By providing the cleaning member 37 for cleaning the slit portions 41 and 55, the slit portions 41 and 55 can be easily and uniformly cleaned.

また、処理装置１によれば、清掃部材３７及び案内レール３６を用いることで、大判の基板１００に用いる大型の流体ナイフ５や、作業スペースが狭い処理装置１であっても、作業性を向上させ、作業者の負担を軽減できる。   Further, according to the processing apparatus 1, by using the cleaning member 37 and the guide rail 36, workability is improved even with the large fluid knife 5 used for the large-sized substrate 100 and the processing apparatus 1 with a small work space. To reduce the burden on the operator.

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上述した例では、清掃体４７は、曲折部４９を有する構成としたがこれに限定されない。例えば、図５に示すように、曲折部４９を有さない構成の清掃体４７Ａであっても良い。このように曲折部４９を有さない清掃体４７Ａとすることで、上述したスリット部４１へのその先端の案内の効果は有さない。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the example described above, the cleaning body 47 is configured to include the bent portion 49, but is not limited thereto. For example, as shown in FIG. 5, a cleaning body 47 </ b> A having a configuration that does not include the bent portion 49 may be used. Thus, by setting it as the cleaning body 47A which does not have the bending part 49, it does not have the effect of the guidance of the front-end | tip to the slit part 41 mentioned above.

しかし、清掃部材３７をレール部４４に装着した際に、清掃体４７がスリット部４１へ近接しないため、清掃部材３７をレール部４４に装着した状態で流体ナイフ５を使用しても、スリット部４１から噴射する流体に清掃体４７が干渉することを防止できる。このため、清掃部材３７を常時装着することも可能となる。   However, when the cleaning member 37 is mounted on the rail portion 44, the cleaning body 47 does not come close to the slit portion 41. Therefore, even if the fluid knife 5 is used with the cleaning member 37 mounted on the rail portion 44, the slit portion It is possible to prevent the cleaning body 47 from interfering with the fluid ejected from 41. For this reason, the cleaning member 37 can be always mounted.

また、上述した例では、案内レール３６は、上部流体ナイフ３０の側面に設ける構成を説明したが、これに限定されない。例えば、上部流体ナイフ３０だけでなく、下部流体ナイフ３１に設けても良い。また、案内レール３６は、流体ナイフ５の側面でなく、例えば、流体ナイフ５を処理槽３上に固定する固定部に設けてもよく、搬送装置４上に流体ナイフ５に沿って設ける構成であってもよい。   Moreover, although the guide rail 36 demonstrated the structure provided in the side surface of the upper fluid knife 30 in the example mentioned above, it is not limited to this. For example, not only the upper fluid knife 30 but also the lower fluid knife 31 may be provided. In addition, the guide rail 36 may be provided not on the side surface of the fluid knife 5 but in a fixing portion that fixes the fluid knife 5 on the processing tank 3, for example, and is provided along the fluid knife 5 on the transport device 4. There may be.

即ち、案内レール３６は、清掃部材３７を案内して移動させた際に、流体ナイフ５のスリット部４１，５５に均一に清掃体４７を挿入可能、且つ、スリット部４１に沿って設けられていればよい。   That is, the guide rail 36 is provided along the slit portion 41 so that the cleaning body 47 can be uniformly inserted into the slit portions 41 and 55 of the fluid knife 5 when the cleaning member 37 is guided and moved. Just do it.

さらに、上述した例では、流体ナイフ５は、上部流体ナイフ３０及び下部流体ナイフ３１を有する構成としたがこれに限定されない。例えば、流体ナイフ５は、図５に示すように、上部流体ナイフ３０のみを有する構成であってもよく、また、図示しないが、下部流体ナイフ３１のみを有する構成であってもよい。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。   Furthermore, in the example mentioned above, although the fluid knife 5 was set as the structure which has the upper fluid knife 30 and the lower fluid knife 31, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 5, the fluid knife 5 may have a configuration having only the upper fluid knife 30, or may have a configuration having only the lower fluid knife 31 although not shown. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

１…処理装置、３…処理槽、４…搬送装置、５…流体ナイフ、１０…搬入口、１１…搬出口、１３…搬送ローラ、１４…駆動手段、１６…連続ローラ軸、１７、１８…分断ローラ軸、１９…接触ローラ、２１…駆動源、２１ａ…回転軸、２２…第１プーリ、２３…第１ベルト、２４…第２プーリ、２５…第２ベルト、２６…第３プーリ、２７…第３ベルト、３０…上部流体ナイフ、３１…下部流体ナイフ、３５…ナイフ本体、３６…案内レール、３７…清掃部材、３８、３９…板状部材、４０…導入部、４１…スリット部、４３…固定部、４４…レール部、４６…本体部、４７…清掃体、４７Ａ…清掃体、４８…固定部、４９…曲折部、５１…ナイフ本体、５２、５３…板状部材、５４…導入部、５５…スリット部、１００…基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Processing apparatus, 3 ... Processing tank, 4 ... Conveying device, 5 ... Fluid knife, 10 ... Carrying in port, 11 ... Carrying out port, 13 ... Conveying roller, 14 ... Driving means, 16 ... Continuous roller shaft, 17, 18 ... Dividing roller shaft, 19 ... contact roller, 21 ... drive source, 21a ... rotating shaft, 22 ... first pulley, 23 ... first belt, 24 ... second pulley, 25 ... second belt, 26 ... third pulley, 27 3rd belt, 30 ... Upper fluid knife, 31 ... Lower fluid knife, 35 ... Knife body, 36 ... Guide rail, 37 ... Cleaning member, 38, 39 ... Plate member, 40 ... Introduction part, 41 ... Slit part, DESCRIPTION OF SYMBOLS 43 ... Fixed part, 44 ... Rail part, 46 ... Main body part, 47 ... Cleaning body, 47A ... Cleaning body, 48 ... Fixed part, 49 ... Bending part, 51 ... Knife main body, 52, 53 ... Plate-shaped member, 54 ... Introduction part, 55 ... slit part, 100 ... substrate.

Claims (3)

処理槽内を搬送装置により搬送される基板の表面に流体を噴射して処理を行う処理装置であって、
前記処理槽内を搬送される前記基板の表面に対向して配置され、前記基板の上面に前記流体を噴射するスリット部を有する上部流体ナイフ及び前記上部流体ナイフと対向するようにして配置され、前記基板の下面に前記流体を噴射するスリット部を有する下部流体ナイフを具備し、
前記上部流体ナイフ及び下部流体ナイフのうちいずれか一方の流体ナイフの一の外面に前記スリット部の長手方向に沿って延設された案内レールと、
前記上部流体ナイフ及び下部流体ナイフの前記スリット部にその先端が挿入可能に形成された清掃体を有し、前記案内レールに沿って移動可能に形成された清掃部材と、
を備えることを特徴とする基板の処理装置。 A processing apparatus that performs processing by injecting a fluid onto the surface of a substrate that is transported by a transport apparatus in a processing tank,
Disposed opposite to the surface of the substrate that will be conveyed to the processing bath, are arranged so as to face the upper fluid knife and the upper fluid knife having a slit portion for injecting the fluid into the upper surface of the substrate A lower fluid knife having a slit portion for ejecting the fluid on the lower surface of the substrate;
A guide rail extending along the longitudinal direction of the slit portion on one outer surface of one of the upper and lower fluid knives ,
A cleaning member having a cleaning body formed such that a tip thereof can be inserted into the slit portion of the upper fluid knife and the lower fluid knife, and movable along the guide rail;
A substrate processing apparatus comprising: 前記案内レールは、前記上部流体ナイフの一の外面に設けられ、
前記清掃体は、その先端を前記上部流体ナイフの前記スリット部に近接させる曲折部を有することを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。 The guide rail is provided on one outer surface of the upper fluid knife;
2. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the cleaning body has a bent portion whose tip is brought close to the slit portion of the upper fluid knife . 搬送装置により搬送される基板の表面に流体を噴射して処理を行う流体ナイフであって、A fluid knife that performs processing by injecting fluid onto the surface of a substrate transported by a transport device,
前記流体ナイフは、前記基板の上面に前記流体を噴射するスリット部を有する上部流体ナイフ及び前記上部流体ナイフと対向するようにして配置され、前記基板の下面に前記流体を噴射するスリット部を有する下部流体ナイフであって、The fluid knife has an upper fluid knife having a slit portion for ejecting the fluid on the upper surface of the substrate and a slit portion for ejecting the fluid on the lower surface of the substrate. A lower fluid knife,
前記上部流体ナイフ及び下部流体ナイフのうちいずれか一方の流体ナイフの一の外面に前記スリット部の長手方向に沿って延設された案内レールと、A guide rail extending along the longitudinal direction of the slit portion on one outer surface of one of the upper and lower fluid knives,
前記上部流体ナイフ及び下部流体ナイフの前記スリット部にその先端が挿入可能に形成された清掃体を有し、前記案内レールに沿って移動可能に形成された清掃部材を備えることを特徴とする流体ナイフ。A fluid having a cleaning body whose tip is formed to be insertable into the slit portion of the upper fluid knife and the lower fluid knife, and a cleaning member formed to be movable along the guide rail. knife.
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