JP5688246B2 - Transparent body and method for producing the same - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 34
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 99
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 45
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000002585 base Substances 0.000 description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004394 yellowing prevention Methods 0.000 description 1
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- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は、基材上にハードコート構造を備えた透明体に関し、特に、紫外線遮蔽機能をもつハードコート構造を備えた透明体に関する。 The present invention relates to a transparent body having a hard coat structure on a substrate, and particularly to a transparent body having a hard coat structure having an ultraviolet shielding function.
従来、レンズ等の透明部材は、表面の傷や割れを防止するためにハードコート層が設けられる。ハードコート層としては、一般的に酸化珪素（ＳｉＯｘ）薄膜が用いられる。 Conventionally, a transparent member such as a lens is provided with a hard coat layer in order to prevent scratches and cracks on the surface. As the hard coat layer, a silicon oxide (SiOx) thin film is generally used.
また、透明部材の基材がポリカーボネート（以下ＰＣと記す）からなる場合、ＰＣが波長２５０〜３６０ｎｍの紫外線によって黄変する性質があるため、ハードコート層とは別に、紫外線を遮蔽する層を設け、黄変を防止する必要がある。紫外線を遮蔽する層としては、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の金属酸化物薄膜からなる紫外線吸収層が用いられる。ＺｎＯは、約３．３eVのバンドギャップを持つ半導体で３８０ｎｍ付近以下の紫外線を吸収し、数千オングストロームの膜厚でＰＣの黄変を防止できる。他にＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）膜やＴｉＯ２膜等を用いることができる。ＺｎＯ膜はイオンプレーティングやスパッタ等の真空蒸着又は塗布によって成膜する。 In addition, when the base material of the transparent member is made of polycarbonate (hereinafter referred to as PC), since the PC has a property of yellowing by ultraviolet rays having a wavelength of 250 to 360 nm, a layer for shielding ultraviolet rays is provided separately from the hard coat layer. Need to prevent yellowing. As the layer for shielding ultraviolet rays, an ultraviolet absorbing layer made of a metal oxide thin film such as zinc oxide (ZnO) is used. ZnO is a semiconductor having a band gap of about 3.3 eV and absorbs ultraviolet rays of about 380 nm or less, and can prevent yellowing of PC with a film thickness of several thousand angstroms. In addition, an ITO (indium tin oxide) film, a TiO 2 film, or the like can be used. The ZnO film is formed by vacuum deposition or coating such as ion plating or sputtering.
紫外線吸収層とハードコート層とを組み合わせて用いる場合、透明基材上に紫外線吸収層を配置し、最上層にハードコート層を設ける。このような二層構造で紫外線遮蔽機能を持つハードコートは、例えば特許文献１に開示されている。しかし、紫外線吸収層（ＺｎＯ膜）とハードコート層の２層からなるハードコート構造をＰＣ基材上に設けた場合、ＰＣ基材とＺｎＯ膜との界面からハードコート構造が剥離しやすい。そこで、特許文献２には、ＰＣ基材とＺｎＯ膜との間にバッファ層を挿入し、ハードコート構造を３層にすることが提案されている。バッファ層としては、例えば酸化珪素（ＳｉＯｘ）膜が開示されている。
When the ultraviolet absorbing layer and the hard coat layer are used in combination, the ultraviolet absorbing layer is disposed on the transparent substrate, and the hard coat layer is provided as the uppermost layer. A hard coat having such a two-layer structure and an ultraviolet shielding function is disclosed in, for example,
また、特許文献３には、所定の割合で炭素を含有する酸化チタン層を保護膜として透明基材上に形成することにより、透明で紫外線を遮断し、かつ、耐候性の高い透光性積層体が提供できると開示されている。特許文献３において、酸化チタン層に所定割合で炭素を含有させているのは、酸化チタンに備わる光触媒能により基材が変質し、基材の透明性が劣化したり、酸化チタン層が剥離しやすくなるのを防止するためである。 Patent Document 3 discloses a transparent laminated layer that is transparent, blocks ultraviolet rays, and has high weather resistance by forming a titanium oxide layer containing carbon at a predetermined ratio on a transparent substrate as a protective film. It is disclosed that the body can provide. In Patent Document 3, the titanium oxide layer contains carbon at a predetermined ratio because the photocatalytic ability of the titanium oxide causes the base material to change in quality, and the transparency of the base material deteriorates or the titanium oxide layer peels off. This is to prevent it from becoming easy.
紫外線吸収層とハードコート層の２層からなるハードコート構造は、例えば自動車用ヘッドランプに用いられる。ヘッドランプの構造は、特許文献４に記載されているようにランプが固定されたハウジングの前面にＰＣ製のレンズが密封接着されている。レンズの内壁への入射光はランプからの光に限られ、ＰＣ製のレンズを黄変させる波長は含まれないため、レンズの内壁には紫外線吸収層は不要である。そこで、太陽光等が入射するレンズの外壁には、紫外線吸収層とハードコート層の積層構造を設けることにより、レンズ基材がＰＣであっても傷や損傷を防止でき、しかも黄変を防止することができる。
A hard coat structure composed of two layers of an ultraviolet absorbing layer and a hard coat layer is used, for example, in an automobile headlamp. The structure of the headlamp is such that a PC lens is hermetically bonded to the front surface of the housing to which the lamp is fixed as described in
自動車用ヘッドランプは酸性雨に曝される可能性があるため、レンズには耐酸性が求められる。しかしながら、紫外線吸収層として用いられる酸化亜鉛（ＺｎＯ）膜は酸に弱いという性質がある。紫外線吸収層は、その上をハードコート層である酸化珪素（ＳｉＯｘ）膜に覆われてはいるが、酸化珪素膜には若干の水浸透性があり、酸の一部は酸化亜鉛膜まで達することがある。この場合、酸が到達した部分は、酸化亜鉛膜が溶解して消失し、P C基材の黄変防止能力を失ってしまう。一方、酸化亜鉛膜に酸が到達しないように水浸透性のない透明ハードコート層を形成することは現時点の技術では非常に困難である。 Since automobile headlamps may be exposed to acid rain, the lenses are required to have acid resistance. However, a zinc oxide (ZnO) film used as an ultraviolet absorbing layer has a property of being weak against acids. Although the ultraviolet absorbing layer is covered with a silicon oxide (SiOx) film, which is a hard coat layer, the silicon oxide film has a slight water permeability, and part of the acid reaches the zinc oxide film. Sometimes. In this case, the portion where the acid has reached disappears as the zinc oxide film dissolves, and loses the yellowing prevention ability of the PC substrate. On the other hand, it is very difficult to form a transparent hard coat layer having no water permeability so that an acid does not reach the zinc oxide film.
また、特許文献３のように所定の割合で炭素を含有する酸化チタン層を形成するためには、高価な有機チタン化合物を原料としてプラズマＣＶＤ法で成膜する必要がある。そのため、低コストなハードコート構造を実現することが困難である。 In addition, in order to form a titanium oxide layer containing carbon at a predetermined ratio as in Patent Document 3, it is necessary to form a film by plasma CVD using an expensive organic titanium compound as a raw material. Therefore, it is difficult to realize a low cost hard coat structure.
また、自動車用ヘッドランプ等自動車灯体のハードコートには、所定の冷熱サイクルを繰り返しても膜剥がれ等を生じない特性が要求される。 In addition, the hard coat of an automobile lamp such as an automobile headlamp is required to have a characteristic that does not cause film peeling even when a predetermined cooling / heating cycle is repeated.
本発明の目的は、紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性が高く、かつ、冷熱サイクル特性に優れたハードコート構造を備えた透明体を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a transparent body having a hard coat structure having an ultraviolet shielding function, high resistance to acid rain, and excellent in thermal cycle characteristics.
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様によれば、以下のような透明体が提供される。透明基材と、基材上に順に配置された、紫外線吸収層とハードコート層とを有する透明体であって、紫外線吸収層として、アモルファスなＴｉＯ２膜を用いる。アモルファスなＴｉＯ２膜は、膜厚５０００オングストローム以下で、ＴｉとＯの組成比Ｔｉ：Ｏが１：１．８以上、１：２．０以下である。 In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, the following transparent body is provided. A transparent body having a transparent substrate and an ultraviolet absorbing layer and a hard coat layer arranged in order on the substrate, and an amorphous TiO 2 film is used as the ultraviolet absorbing layer. The amorphous TiO 2 film has a film thickness of 5000 angstroms or less and a Ti: O composition ratio Ti: O of 1: 1.8 or more and 1: 2.0 or less.
例えば、ＴｉとＯの組成比Ｔｉ：Ｏは、ほぼ１：２であることが望ましい。 For example, the composition ratio Ti: O of Ti and O is desirably approximately 1: 2.
アモルファスなＴｉＯ２膜は、微結晶を含まないことが望ましい。 It is desirable that the amorphous TiO 2 film does not contain microcrystals.
本発明の第２の態様によれば、以下のような透明体の製造方法が提供される。すなわち、プラズマガンが発生した直流プラズマにＴｉ化合物ガスと酸素ガスとを導入し、化学反応により生じたＴｉＯ２を透明基材上に堆積させることにより、膜厚５０００オングストローム以下のアモルファスなＴｉＯ２膜を成膜する工程を有する透明体の製造方法である。このように、直流プラズマを用いてＴｉＯ２膜を形成することにより、容易にアモルファスなＴｉＯ２膜を成膜することができる。 According to the 2nd aspect of this invention, the manufacturing method of the following transparent bodies is provided. That is, an amorphous TiO 2 film having a thickness of 5000 angstroms or less is obtained by introducing a Ti compound gas and an oxygen gas into a direct current plasma generated by a plasma gun and depositing TiO 2 generated by a chemical reaction on a transparent substrate. It is a manufacturing method of the transparent body which has the process of forming into a film. Thus, an amorphous TiO 2 film can be easily formed by forming a TiO 2 film using DC plasma.
上記成膜工程では、透明基材を１５０℃以下の温度に維持することが望ましい。 In the film forming step, it is desirable to maintain the transparent substrate at a temperature of 150 ° C. or lower.
本発明によれば、アモルファスなＴｉＯ２膜を紫外線吸収層として用いることにより、酸性雨や紫外線に対する耐性の高く、かつ、冷熱サイクル性に優れたハードコート構造を備えた透明体を提供することができる。 According to the present invention, by using an amorphous TiO 2 film as an ultraviolet absorbing layer, it is possible to provide a transparent body having a hard coat structure that is highly resistant to acid rain and ultraviolet rays and that has excellent thermal cycle performance. it can.
本発明の一実施の形態について図面を用いて説明する。
本実施形態では、透明体を備えたヘッドランプを例に説明する。図１に示すように、本実施形態のヘッドランプは、光出射方向側に配置されたレンズ（透明体）１４０と、背面側に配置されたランプボディ１５０とを備え、レンズ１４０とランプボディ１５０により形成された灯室１６０内には、光源１３０とリフレクタ１２０とエクステンションリフレクタ１１０が配置されている。レンズ１４０はランプボディ１５０に密封接着されている。
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the present embodiment, a headlamp provided with a transparent body will be described as an example. As shown in FIG. 1, the headlamp of the present embodiment includes a lens (transparent body) 140 disposed on the light emitting direction side and a
光源１３０から出射された光は、直接、または、リフレクタ１２０によって反射されて、レンズ１４０を通過し、前方に照射される。
The light emitted from the
レンズ（透明体）１４０の構造について図２を用いて説明する。本実施の形態のレンズ１４０は、ポリカーボネート（以下、ＰＣと称す）製の基材１と、これを傷や損傷から保護するためのハードコート構造５とを備えるものであり、ハードコート構造５は、ＰＣ製基材１を黄変させる紫外線を遮蔽する機能を備える。レンズ１４０は、外部から紫外線を含んだ太陽光等が入射するヘッドランプの外部側の面にのみハードコート構造５を備えている。レンズ１４０の内部側の面には、紫外線を含まない光源１３０からの光が入射するのみであるので、ハードコート構造５は備えられていない。
The structure of the lens (transparent body) 140 will be described with reference to FIG. The
ハードコート構造５は、図２に示したように基材１の上に形成された紫外線吸収層２、およびハードコート層３の２層構造である。紫外線吸収層２の材質は、アモルファスなＴｉＯ２である。アモルファスなＴｉＯ２は、微結晶を含まないことが望ましい。このようにアモルファスなＴｉＯ２膜を紫外線吸収層２として用いることにより、ＴｉＯ２膜は光触媒性能を備えないため、ＰＣ基材１に対する密着性が高く、しかも、光触媒性能によりＰＣ基材１を劣化させるおそれもない。
The hard coat structure 5 is a two-layer structure of an ultraviolet absorbing
また、アモルファスなＴｉＯ２膜の組成比は、Ｔｉ：Ｏ＝１：１．６以上、１：２以下であることが望ましく、特に１：１．８以上、１：２以下であることが望ましい。組成Ｔｉ：Ｏが１：２に近い場合、紫外線吸収能力が高いＴｉＯ２膜となり、紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）の膜厚を薄くすることができるためである。 The composition ratio of the amorphous TiO 2 film is preferably Ti: O = 1: 1.6 or more and 1: 2 or less, particularly 1: 1.8 or more and 1: 2 or less. . This is because when the composition Ti: O is close to 1: 2, a TiO 2 film having a high ultraviolet absorption capability is obtained, and the film thickness of the ultraviolet absorption layer (amorphous TiO 2 film) can be reduced.
紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２の膜厚は、５０００オングストローム以下であることが望ましく、３０００オングストローム以下であることがより望ましく、特に２０００オングストローム以下であることが望ましい。紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２の膜厚を薄くすることにより、膜の残留内部応力を小さくすることができるため、ハードコート層３に冷熱サイクルが加わった場合にも膜剥がれが生じにくくなるためである。 The film thickness of the ultraviolet absorbing layer (amorphous TiO 2 film) 2 is preferably 5000 angstroms or less, more preferably 3000 angstroms or less, and particularly preferably 2000 angstroms or less. By reducing the film thickness of the ultraviolet absorbing layer (amorphous TiO 2 film) 2, it is possible to reduce the residual internal stress of the film, so that even when the hard coat layer 3 is subjected to a thermal cycle, film peeling occurs. This is because it becomes difficult.
また、ＰＣ基材１にＴｉＯ２膜を紫外線吸収層２として備えた場合に、ＰＣ基材１に黄変を生じさせないための紫外線吸収層２の透過率を予め測定した結果、波長３５０ｎｍにおける透過率が３０％より小さいと黄変が生じないことを目視にて確認している。本実施形態のアモルファスなＴｉＯ２膜は、組成Ｔｉ：Ｏが１：２に近い上記組成に設定することにより、上記膜厚で波長３５０ｎｍの透過率を３０％より小さくすることができる。
Further, when the
また、本実施形態のアモルファスなＴｉＯ２膜は、組成Ｔｉ：Ｏが１：２に近い上記組成に設定することにより、化学的安定性にも優れており、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、耐湿性、耐有機薬品性等に関しても耐久性能が高い。 Further, the amorphous TiO 2 film of the present embodiment is excellent in chemical stability by setting the composition Ti: O to the above composition close to 1: 2, acid resistance, alkali resistance, water resistance, Durability is high with respect to moisture resistance and organic chemical resistance.
ハードコート層３の材質は、ＳｉＯｘである。ｘは、１．５＜ｘ＜２．０であることが望ましい。 The material of the hard coat layer 3 is SiOx. x is preferably 1.5 <x <2.0.
ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３の膜厚は、ハードコートとして機能しうる硬度を生じさせるために１０００オングストローム以上であることが望ましく、５０００オングストローム以上１０μｍ以下であることがより望ましい。 The film thickness of the hard coat layer (SiOx film) 3 is preferably 1000 angstroms or more, and more preferably 5000 angstroms or more and 10 μm or less in order to produce hardness that can function as a hard coat.
つぎに、ハードコート構造５の各層の機能について説明する。ハードコート層３は、基材１に傷や割れが生じるのを防止するために最表層に配置されている。紫外線吸収層２を構成するアモルファスなＴｉＯ２膜は、３．０〜３．３eVのバンドギャップを有し、３８０ｎｍ付近以下の紫外線を吸収する性質を有する。よって、アモルファスなＴｉＯ２膜を紫外線吸収層２としてハードコート層３と基材１との間に配置したことにより、ＰＣ基材１に黄変を生じさせる波長２５０〜３６０ｎｍの紫外線を紫外線吸収層２に吸収させることができる。
Next, the function of each layer of the hard coat structure 5 will be described. The hard coat layer 3 is disposed on the outermost layer in order to prevent the
本実施の形態では、微結晶を含まないアモルファスなＴｉＯ２膜は、光触媒性能を有さないため、ＰＣ基材１の上に直接配置しても、高い密着性を得ることができ、ハードコード構造５を基材１上に強固に配置することができる。また、光触媒性能を有していないため、光触媒性能によりＰＣ基材を劣化させることもない。
In the present embodiment, since the amorphous TiO 2 film that does not contain microcrystals does not have photocatalytic performance, even if it is directly disposed on the
また、アモルファスなＴｉＯ２膜は、ＳｉＯｘ膜とも密着性が高い。よって、紫外線吸収層（ＴｉＯ２）２とハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３との界面における密着性も高い。 Further, the amorphous TiO 2 film has high adhesion with the SiOx film. Therefore, the adhesion at the interface between the ultraviolet absorbing layer (TiO 2 ) 2 and the hard coat layer (SiOx film) 3 is also high.
また、ＴｉＯ２膜は、耐酸性が高いことが知られている。この性質は、アモルファスなＴｉＯ２膜であっても変わらない。特に、アモルファスなＴｉＯ２膜の組成Ｔｉ：Ｏを、１：２に近い上記組成に設定することにより、化学的安定性に優れるため耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、耐湿性、耐有機薬品性が高い。よって、ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３に酸性雨が浸透した場合であっても、紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２が溶解して消失することがなく、ＰＣ基材の黄変防止能力を継続して発揮することができる。 Further, it is known that the TiO 2 film has high acid resistance. This property does not change even with an amorphous TiO 2 film. In particular, by setting the composition Ti: O of the amorphous TiO 2 film to the above composition close to 1: 2, the chemical stability is excellent, so acid resistance, alkali resistance, water resistance, moisture resistance, organic chemical resistance Is expensive. Therefore, even when acid rain penetrates into the hard coat layer (SiOx film) 3, the ultraviolet absorption layer (amorphous TiO 2 film) 2 does not dissolve and disappear, and the PC substrate is prevented from yellowing. The ability can be demonstrated continuously.
つぎに、本実施の形態の透明体（レンズ１４０）の製造方法について説明する。ここでは、直流プラズマを用いる図３の成膜装置を用いて、直流プラズマを用いた化学的気相成長（ＣＶＤ）法により紫外線吸収層（ＴｉＯ２）２とハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３を連続して形成する。 Next, a method for manufacturing the transparent body (lens 140) of the present embodiment will be described. Here, using the film forming apparatus of FIG. 3 using direct current plasma, the ultraviolet absorption layer (TiO 2 ) 2 and the hard coat layer (SiOx film) 3 are formed by chemical vapor deposition (CVD) using direct current plasma. Form continuously.
図３の成膜装置は、プラズマガン３１と成膜室７とを備えている。成膜室７内には、アノード電極３７が配置されている。プラズマガン３１が形成する直流プラズマ３５は、成膜室７内に引き出される。成膜室７には、材料ガスを導入するための材料ガス導入管２３、および、反応ガスを導入するための反応ガス導入管２６が備えられ、材料ガス導入管２３および反応ガス導入管２６と向かい合う位置に基材１を保持する基材ホルダー３６が備えられている。これらの構成により、ＣＶＤ法により成膜を行うことができる。プラズマガン３１とアノード電極３７には、電源１０が接続されている。プラズマガン３１の外側、ならびに、成膜室７の外側にはそれぞれ中心軸が一致するように電磁石１２が配置されている。電磁石１２は、プラズマガン３１が発生したプラズマ３５をビーム状に収束する作用をする。
The film forming apparatus in FIG. 3 includes a
成膜手順を説明する。まず、基材１を基材ホルダー３６にセットし、成膜室７を所定の圧力まで排気した後、プラズマガン３１にキャリアガス３２を導入し、プラズマガン３１とアノード３７間に電圧を印加し、プラズマ３５を発生させ、成膜室７内に引き出す。そこに材料ガス導入管２３から材料ガスである四塩化チタン（ＴｉＣｌ４）を、反応ガス導入管２６から反応ガスである酸素（Ｏ２）をそれぞれ導入する。四塩化チタン（ＴｉＣｌ４）および酸素（Ｏ２）は、直流プラズマにより分解・イオン化して化学反応を生じ、これにより基材１上にＴｉＯ２が堆積する。
A film forming procedure will be described. First, the
直流プラズマを用い、基板温度を１５０℃以下に維持することにより、プラズマＣＶＤ法により容易にアモルファスなＴｉＯ２膜を形成できる。他の成膜条件は、例えば、成膜速度１０００オングストローム／ｍｉｎ以下、ＤＣ放電電力５ｋＷ以下に設定する。しかしながら、基板温度を除き成膜条件は、この成膜条件に限定されるものではない。 By using DC plasma and maintaining the substrate temperature at 150 ° C. or lower, an amorphous TiO 2 film can be easily formed by plasma CVD. Other film formation conditions are set to, for example, a film formation rate of 1000 angstrom / min or less and a DC discharge power of 5 kW or less. However, the film formation conditions except for the substrate temperature are not limited to these film formation conditions.
また、本実施形態では、プラズマＣＶＤ法を用いてＴｉＯ２膜を形成することにより、上述の組成比、すなわちＴｉ：Ｏが１：２に近いアモルファスなＴｉＯ２膜を形成することができる。これは、直流プラズマを用いたプラズマＣＶＤ法では、四塩化チタン（ＴｉＣｌ４）を分解したＴｉイオンにＯラジカルが過不足なく結合するためであると思われる。これにより、紫外線吸収能力が高く、化学的安定性に優れた紫外線吸収層（ＴｉＯ２膜）２を形成することができる。 In the present embodiment, an amorphous TiO 2 film having the above composition ratio, that is, Ti: O close to 1: 2 can be formed by forming the TiO 2 film using the plasma CVD method. This seems to be because in the plasma CVD method using direct current plasma, O radicals are bonded to Ti ions obtained by decomposing titanium tetrachloride (TiCl 4 ) without excess or deficiency. Thereby, the ultraviolet absorption layer (TiO 2 film) 2 having high ultraviolet absorption capability and excellent chemical stability can be formed.
つぎに、アモルファスなＴｉＯ２膜成膜後、成膜室７を開放することなく、プラズマガン３１とアノード電極３７間に電圧を印加しプラズマ３５の発生を維持する。そこに材料ガス導入管２３から材料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン（ＭＨＤＳＯ）を導入し、重合反応を生じさせ、基材１にＳｉＯｘを所定の厚さまで堆積させる。これにより、ハードコート層（ＳｉＯｘ層）３を形成する。ただし、ハードコート層３は、ハードコートとして機能を発揮させるために上述した所定の膜厚に成膜する。
Next, after the amorphous TiO 2 film is formed, a voltage is applied between the
以上により、図２のように基材１上に二層構造のハードコート構造５を備えた透明体１４０を連続成膜より効率よく製造できる。
As described above, the
このように本実施の形態の透明体は、紫外線吸収層２として、所定の組成比および膜厚のアモルファスなＴｉＯ２膜を用いることにより、紫外線吸収能力が高く、耐酸性が大きく、かつ、光触媒性能を生じず、ＰＣ基材との密着性を高めることができる。また、ＰＣ基材を光触媒性能により劣化させることもない。したがって、紫外線吸収層２によってＰＣ基材１の黄変を防ぎつつ、ハードコート層３によって基材１の傷や損傷を防ぐことができる。
As described above, the transparent body according to the present embodiment uses an amorphous TiO 2 film having a predetermined composition ratio and film thickness as the
しかも、本実施の形態では、直流プラズマを用いたＣＶＤ法により、プラズマの維持と、材料ガスおよび反応ガスの流量制御だけで、アモルファスなＴｉＯ２膜（紫外線吸収層２）およびハードコート層３を容易に成膜することができる。真空蒸着等と比較して坩堝等も不要であり、装置の構造も簡単である。 In addition, in the present embodiment, the amorphous TiO 2 film (ultraviolet absorption layer 2) and the hard coat layer 3 are formed only by maintaining the plasma and controlling the flow rates of the material gas and the reactive gas by the CVD method using DC plasma. A film can be easily formed. Compared to vacuum deposition or the like, a crucible or the like is unnecessary, and the structure of the apparatus is simple.
また、四塩化チタン（ＴｉＣｌ４）を用いることにより、高価な材料を用いることなく、紫外線吸収能力および耐酸性に優れた紫外線吸収層２を低コストで形成することができる。なお、高コストが許容される場合には、四塩化チタンに限らず有機Ｔｉを材料ガスとしても用いることも可能である。
Further, by using titanium tetrachloride (TiCl 4 ), it is possible to form the
なお、ハードコート層３の成膜方法は、本実施形態の成膜方法に限られるものではなく、例えば蒸着法やスパッタ法等の他の成膜方法により形成することが可能である。 The film formation method of the hard coat layer 3 is not limited to the film formation method of the present embodiment, and can be formed by other film formation methods such as a vapor deposition method and a sputtering method.
本実施形態では、透明体としてヘッドランプのＰＣ製のレンズ１４０を例に説明したが、眼鏡のＰＣレンズ、ＰＣを使用した窓等の建材、ならびに、ＰＣを使用した自動車窓等、ＰＣ製の透明体であれば本実施形態のハードコート構造を適用することができる。
In the present embodiment, the
以下、本発明の一実施例について説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
本実施例では、図２の構造の透明体を製造した。紫外線吸収層２の材質は、微結晶を含まないアモルファスなＴｉＯ２である。ハードコート層３の材質は、ＳｉＯｘ（１．５＜ｘ＜２．０）である。基材１はＰＣであり、厚さ３ｍｍの板状のものを用いた。
In this example, a transparent body having the structure shown in FIG. 2 was produced. The material of the
紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２の膜厚は、２０００オングストロームとした。ハードコート層（ＳｉＯｘ膜）３の膜厚は、３．０μｍとした。 The film thickness of the ultraviolet absorbing layer (amorphous TiO 2 film) 2 was 2000 angstroms. The thickness of the hard coat layer (SiOx film) 3 was 3.0 μm.
各層の成膜は、実施の形態で説明した製造手順の通り、図３の成膜装置を用いて行った。紫外線吸収層（アモルファスなＴｉＯ２膜）２の成膜時に、基板１は加熱せず、基材１の温度が１５０℃以下になるように制御した。キャリアガス３２としては、Ａｒを用いた。
Film formation of each layer was performed using the film formation apparatus of FIG. 3 according to the manufacturing procedure described in the embodiment. When the ultraviolet absorbing layer (amorphous TiO 2 film) 2 was formed, the
本実施例と同じ成膜条件により形成したＴｉＯ２膜の結晶構造をＸ線回折により測定したところ、図４に示すように、ブロードであり、アモルファスであることが確認された。 When the crystal structure of the TiO 2 film formed under the same film formation conditions as in this example was measured by X-ray diffraction, it was confirmed to be broad and amorphous as shown in FIG.
＜評価＞
（冷熱サイクル性試験）
−４０℃から＋８０℃、湿度９０％の冷熱サイクルを１０回繰り返す試験を実施例の透明体に対して行った。その結果、膜剥がれ等は生じておらず、膜面に変化はなかった。
<Evaluation>
(Cooling cycle test)
The test of repeating the cooling cycle from −40 ° C. to + 80 ° C. and a humidity of 90% was performed on the transparent body of the example. As a result, no film peeling or the like occurred and the film surface did not change.
（耐酸性試験）
実施例の透明体について、耐酸性試験を行った。試験は、実施例のハードコート構造５の上に0.1ＮのＨ２ＳＯ４溶液０．２ｍｌを滴下し、２４時間放置後水洗いし、さらに１時間放置することにより行った。試験後、目視にて、基板の状態を観察し、評価した。その結果、実施例の試料は、アモルファスなＴｉＯ２膜が消失しなかった。
(Acid resistance test)
The transparent body of the example was subjected to an acid resistance test. The test was performed by dropping 0.2 ml of a 0.1 N H 2 SO 4 solution onto the hard coat structure 5 of the example, leaving it to stand for 24 hours, washing it with water, and then leaving it for another hour. After the test, the state of the substrate was visually observed and evaluated. As a result, the amorphous TiO 2 film did not disappear in the sample of the example.
（紫外線照射試験）
実施例の透明体に、９０ｍＷの紫外線を８０時間照射する試験を行ったが、ハードコート構造には膜剥がれ等は生じず、膜面に変化はなかった。
(UV irradiation test)
The test of irradiating the transparent body of Example with ultraviolet rays of 90 mW for 80 hours was performed, but the hard coat structure did not peel off and the film surface did not change.
１…ＰＣ基材、２…紫外線防止層、３…ハードコート層、５…ハードコート構造、７…成膜室、８…反応ガス導入管、１０…電源、１２…電磁石、２３…材料ガス導入管、２６…反応ガス導入管、３１…プラズマガン、３５…プラズマ、３６…基板ホルダー、３７…アノード電極。
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記ハードコート層は、膜厚５０００オングストローム以上１０μｍ以下であり、
前記紫外線吸収層は、光触媒性を有さないアモルファスなＴｉＯ ｘ 膜であり、該アモルファスなＴｉＯ ｘ 膜は、膜厚２０００オングストローム以下で、ＴｉとＯの組成比Ｔｉ：Ｏが１：１．８以上、１：２．０以下であることを特徴とする透明体。 A transparent base material, and an ultraviolet absorbing layer and a hard coat layer disposed in order on the base material;
The hard coat layer has a thickness of 5000 Å to 10 μm,
The ultraviolet absorbing layer is an amorphous TiO x film having no photocatalytic property , and the amorphous TiO x film has a film thickness of 2000 angstroms or less and a Ti: O composition ratio of Ti: O of 1: 1.8. Above, 1: 2.0 or less transparent body characterized by the above-mentioned.
前記ＴｉとＯの組成比Ｔｉ：Ｏは、１：２であることを特徴とする透明体。 The transparent body according to claim 1, wherein the transparent substrate is made of polycarbonate.
The transparent body, wherein the composition ratio Ti: O of Ti and O is 1: 2.
さらにヘキサメチルジシロキサンを導入し、重合反応により生じたハードコート材料をＴｉＯ ｘ 膜の上に堆積させることにより、膜厚５０００オングストローム以上１０μｍ以下のハードコート層を成膜する工程を有することを特徴とする透明体の製造方法。 Ti compound gas and oxygen gas are introduced into the direct current plasma generated by the plasma gun, and TiO x generated by the chemical reaction is deposited on the transparent substrate, thereby having a film thickness of 2000 angstroms or less and no photocatalytic property. Amorphous TiO x film is formed,
Further , the method has a step of forming a hard coat layer having a thickness of 5000 angstroms or more and 10 μm or less by introducing hexamethyldisiloxane and depositing a hard coat material generated by the polymerization reaction on the TiO x film. A method for producing a transparent body.
前記成膜工程では、前記透明基材を１５０℃以下の温度に維持することを特徴とする透明体の製造方法。 The method for producing a transparent body according to claim 4, wherein the transparent substrate is made of polycarbonate.
In the film forming step, the transparent substrate is maintained at a temperature of 150 ° C. or lower.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010176558A JP5688246B2 (en) | 2010-08-05 | 2010-08-05 | Transparent body and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010176558A JP5688246B2 (en) | 2010-08-05 | 2010-08-05 | Transparent body and method for producing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012037667A JP2012037667A (en) | 2012-02-23 |
| JP5688246B2 true JP5688246B2 (en) | 2015-03-25 |
Family
ID=45849736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010176558A Active JP5688246B2 (en) | 2010-08-05 | 2010-08-05 | Transparent body and method for producing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5688246B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9919959B2 (en) * | 2012-05-31 | 2018-03-20 | Guardian Glass, LLC | Window with UV-treated low-E coating and method of making same |
| US10822270B2 (en) | 2018-08-01 | 2020-11-03 | Guardian Glass, LLC | Coated article including ultra-fast laser treated silver-inclusive layer in low-emissivity thin film coating, and/or method of making the same |
| WO2020129456A1 (en) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 富士フイルム株式会社 | Photocatalyst composite material, signage display protection member, touch panel protection member, solar cell protection member, sensor cover protection member, signage display, touch panel, solar cell, and sensor cover |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09255366A (en) * | 1996-03-18 | 1997-09-30 | Gunma Toobi:Kk | Optically functional transparent material and industrial product using the same |
| JPH10237352A (en) * | 1997-02-24 | 1998-09-08 | Tao:Kk | Polyfunctional coating agent |
| JP2000143300A (en) * | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Nikon Corp | Antifogging thin film and its preparation |
| JP2004157497A (en) * | 2002-09-09 | 2004-06-03 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Optical antireflection film and process for forming the same |
| JP4829036B2 (en) * | 2006-08-11 | 2011-11-30 | 株式会社小糸製作所 | Translucent laminate |
| JP2008105303A (en) * | 2006-10-26 | 2008-05-08 | Komori Corp | Rotor protecting apparatus |
| ES2335638B1 (en) * | 2008-08-01 | 2011-02-09 | Cosentino, S.A. | ARTICLE IN THE FORM OF A TABLE OR Slab MANUFACTURED OF PETREO AGLOMERATE COATED WITH TRANSPARENT THIN SHEETS OF TIO2 OR ZNO THROUGH DRY DEPOSITION TECHNIQUES WITH HIGH RESISTANCE AGAINST SOLAR DEGRADATION. |
-
2010
- 2010-08-05 JP JP2010176558A patent/JP5688246B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012037667A (en) | 2012-02-23 |
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