JP5687001B2 - X線発生装置 - Google Patents
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 194
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 28
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 6
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 6
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/24—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof
- H01J35/30—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof by deflection of the cathode ray
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- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
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- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/153—Spot position control
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/08—Targets (anodes) and X-ray converters
- H01J2235/086—Target geometry
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- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
- H01J35/116—Transmissive anodes
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Description
Claims (8)
- 電子ビームを出射する電子銃部と、
基板と、該基板に埋設されており前記電子ビームの入射によりX線を発生する材料からなるターゲット体と、を有するターゲット部と、
前記電子銃部から出射された前記電子ビームの進路を変更可能な電子ビーム偏向部と、
前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線又はターゲット電流を検出する検出部と、
前記検出部の検出信号に基づいて前記電子ビーム偏向部を制御する制御部と、を備え、
電子入射方向から見て、前記電子ビームの前記ターゲット部上での照射野内に前記ターゲット体が含まれるように、前記電子ビームの前記ターゲット部上での照射野の径は、前記ターゲット体の径よりも大きく、
前記電子ビームの前記ターゲット部での照射野が前記ターゲット体を含んでおり、
前記制御部は、
前記電子ビーム偏向部を制御して、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が常に含まれるように、前記照射野を前記ターゲット部上において二次元的に走査し、
前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が含まれている状態において、前記照射野を前記ターゲット部上で交差する2方向に走査するように前記電子ビーム偏向部を制御することを特徴とするX線発生装置。 - 前記検出部は、前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線を検出し、
前記制御部は、前記2方向それぞれについて、前記検出部での検出量が最大となるように、前記電子ビーム偏向部を制御することを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。 - 電子ビームを出射する電子銃部と、
基板と、該基板に埋設されており前記電子ビームの入射によりX線を発生する材料からなるターゲット体と、を有するターゲット部と、
前記電子銃部から出射された前記電子ビームの進路を変更可能な電子ビーム偏向部と、
前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線又はターゲット電流を検出する検出部と、
前記検出部の検出信号に基づいて前記電子ビーム偏向部を制御する制御部と、を備え、
前記電子ビームの前記ターゲット部での照射野が前記ターゲット体を含んでおり、
前記検出部は、前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線を検出し、
前記制御部は、
前記電子ビーム偏向部を制御して、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が常に含まれるように、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が含まれている状態において、前記照射野を前記ターゲット部上で回転走査し、
前記検出部での検出量が一定であるか否かを判定し、一定でないと判定した場合に、前記検出量が増加する方向に回転走査の中心を移動させるように、前記電子ビーム偏向部を制御することを特徴とするX線発生装置。 - 電子ビームを出射する電子銃部と、
基板と、該基板に埋設されており前記電子ビームの入射によりX線を発生する材料からなるターゲット体と、を有するターゲット部と、
前記電子銃部から出射された前記電子ビームの進路を変更可能な電子ビーム偏向部と、
前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線又はターゲット電流を検出する検出部と、
前記検出部の検出信号に基づいて前記電子ビーム偏向部を制御する制御部と、を備え、
前記電子ビームの前記ターゲット部での照射野が前記ターゲット体を含んでおり、
前記検出部は、ターゲット電流を検出し、
前記制御部は、
前記電子ビーム偏向部を制御して、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が常に含まれるように、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が含まれている状態において、前記照射野を前記ターゲット部上で回転走査し、
前記検出部での検出量が一定であるか否かを判定し、一定でないと判定した場合に、前記検出量が減少する方向に回転走査の中心を移動させるように、前記電子ビーム偏向部を制御することを特徴とするX線発生装置。 - 電子ビームを出射する電子銃部と、
基板と、該基板に埋設されており前記電子ビームの入射によりX線を発生する材料からなるターゲット体と、を有するターゲット部と、
前記電子銃部から出射された前記電子ビームの進路を変更可能な電子ビーム偏向部と、
前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線又はターゲット電流を検出する検出部と、
前記検出部の検出信号に基づいて前記電子ビーム偏向部を制御する制御部と、を備え、
前記電子ビームの前記ターゲット部での照射野が前記ターゲット体を含んでおり、
前記検出部は、ターゲット電流を検出し、
前記制御部は、
前記電子ビーム偏向部を制御して、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が常に含まれるように、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が含まれている状態において、前記照射野を前記ターゲット部上で交差する2方向に走査し、
前記2方向それぞれについて、前記検出部での検出量が最小となるように、前記電子ビーム偏向部を制御することを特徴とするX線発生装置。 - 前記制御部は、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が含まれていない場合、前記照射野内に前記ターゲット体が含まれるまで電子ビームを二次元的に走査させ、前記ターゲット体の位置を特定することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のX線発生装置。
- 電子ビームを出射する電子銃部と、
基板と、該基板に埋設されており前記電子ビームの入射によりX線を発生する材料からなるターゲット体と、を有するターゲット部と、
前記電子銃部から出射された前記電子ビームの進路を変更可能な電子ビーム偏向部と、
前記ターゲット体からの反射電子又は前記ターゲット体から発生したX線又はターゲット電流を検出する検出部と、
前記検出部の検出信号に基づいて前記電子ビーム偏向部を制御する制御部と、を備え、
前記電子ビームの前記ターゲット部での照射野が前記ターゲット体を含んでおり、
前記制御部は、
前記電子ビーム偏向部を制御して、前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が常に含まれるように、前記照射野を前記ターゲット部上において二次元的に走査し、
前記電子ビームの前記ターゲット部での前記照射野内に前記ターゲット体が含まれていない場合、前記照射野内に前記ターゲット体が含まれるまで電子ビームをデフォーカスさせ、前記ターゲット体の位置を特定することを特徴とするX線発生装置。 - 前記制御部は、前記ターゲット体を含むデフォーカスされた電子ビームの照射野の輪郭に対応する円軌道に沿って、フォーカスした電子ビームを走査するように、前記電子ビーム偏向部を制御することを特徴とする請求項7に記載のX線発生装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010167353A JP5687001B2 (ja) | 2009-08-31 | 2010-07-26 | X線発生装置 |
GB1014389.9A GB2473137B (en) | 2009-08-31 | 2010-08-27 | X-ray generator |
DE102010039926A DE102010039926A1 (de) | 2009-08-31 | 2010-08-30 | Röntgengenerator |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009200271 | 2009-08-31 | ||
JP2009200271 | 2009-08-31 | ||
JP2010167353A JP5687001B2 (ja) | 2009-08-31 | 2010-07-26 | X線発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011071101A JP2011071101A (ja) | 2011-04-07 |
JP5687001B2 true JP5687001B2 (ja) | 2015-03-18 |
Family
ID=43013410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010167353A Active JP5687001B2 (ja) | 2009-08-31 | 2010-07-26 | X線発生装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5687001B2 (ja) |
DE (1) | DE102010039926A1 (ja) |
GB (1) | GB2473137B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010009276A1 (de) * | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Dürr Dental AG, 74321 | Röntgenröhre sowie System zur Herstellung von Röntgenbildern für die zahnmedizinische oder kieferorthopädische Diagnostik |
JP5871529B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-03-01 | キヤノン株式会社 | 透過型x線発生装置及びそれを用いたx線撮影装置 |
JP5901180B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-04-06 | キヤノン株式会社 | 透過型x線発生装置及びそれを用いたx線撮影装置 |
CN103907402A (zh) | 2011-11-02 | 2014-07-02 | 富士胶片株式会社 | 放射线照射装置、放射线照射方法及程序存储介质 |
JP2013138694A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-18 | Fujifilm Corp | 放射線照射装置、プログラム及び放射線照射方法 |
CN104285270A (zh) * | 2012-05-11 | 2015-01-14 | 浜松光子学株式会社 | X射线产生装置及x射线产生方法 |
EP2763156A1 (en) * | 2013-02-05 | 2014-08-06 | Nordson Corporation | X-ray source with improved target lifetime |
JP6110209B2 (ja) * | 2013-05-17 | 2017-04-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生用ターゲット及びx線発生装置 |
JP6114122B2 (ja) * | 2013-06-17 | 2017-04-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
JP6166145B2 (ja) | 2013-10-16 | 2017-07-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
WO2015125395A1 (ja) * | 2014-02-24 | 2015-08-27 | 東京エレクトロン株式会社 | X線検査システム、制御方法、制御プログラム及び制御装置 |
GB2565138A (en) | 2017-08-04 | 2019-02-06 | Adaptix Ltd | X-ray generator |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5148462A (en) | 1991-04-08 | 1992-09-15 | Moltech Corporation | High efficiency X-ray anode sources |
JPH07169422A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-07-04 | Toshiba Corp | X線管 |
DE19509516C1 (de) * | 1995-03-20 | 1996-09-26 | Medixtec Gmbh Medizinische Ger | Mikrofokus-Röntgeneinrichtung |
JP2001216927A (ja) * | 2000-02-07 | 2001-08-10 | Hiroshige Yamada | X線ターゲット |
JP2001319608A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Shimadzu Corp | マイクロフォーカスx線発生装置 |
JP4608820B2 (ja) * | 2001-06-26 | 2011-01-12 | 株式会社島津製作所 | X線検査装置 |
JP2004028845A (ja) | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Japan Science & Technology Corp | 高輝度・高出力微小x線発生源とそれを用いた非破壊検査装置 |
JP2005276760A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Shimadzu Corp | X線発生装置 |
JP4601994B2 (ja) * | 2004-05-18 | 2010-12-22 | 株式会社東芝 | X線源及びその陽極 |
DE102005041923A1 (de) * | 2005-09-03 | 2007-03-08 | Comet Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Röntgen- oder XUV-Strahlung |
DE102005053386A1 (de) * | 2005-11-07 | 2007-05-16 | Comet Gmbh | Nanofocus-Röntgenröhre |
-
2010
- 2010-07-26 JP JP2010167353A patent/JP5687001B2/ja active Active
- 2010-08-27 GB GB1014389.9A patent/GB2473137B/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-08-30 DE DE102010039926A patent/DE102010039926A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2473137A (en) | 2011-03-02 |
DE102010039926A1 (de) | 2011-03-17 |
GB201014389D0 (en) | 2010-10-13 |
GB2473137B (en) | 2016-04-20 |
JP2011071101A (ja) | 2011-04-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140108 |
|
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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R250 | Receipt of annual fees |
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