JP5665319B2 - テストサンプルの電気的特性を決定するためのプローブ、方法およびシステム - Google Patents
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Description
第1表面と同一平面の関係で支持本体から延びる複数のカンチレバーアームとを備え、複数のカンチレバーアームは、互いにほぼ平行に延びており、複数のカンチレバーアームの各々は、テストサンプル表面に対して所定の向きのプローブ運動によって、テストサンプルの該エリアと接触するための導電性チップを含んでおり、
プローブは、運動を行う際、複数のカンチレバーアームの何れか1つがテストサンプル表面と接触する前またはこれと同時にテストサンプル表面と接触するように配置された、支持本体から延びる接触検出器を備え、
前記接触検出器は、基部において2つの固定(anchoring)アームに分割された可撓性アームと、固定アームの一方を通って可撓性アームに到達し、再び固定アームの他方を通り、非ピエゾ抵抗材料からなる電気経路とを備えた歪みゲージ(strain gauge)センサである。
この原理に基づいて、いわゆるゲージ率(gauge factor)が下記のように定義される。
テスト表面を規定するテストサンプルを用意することと、
テストサンプル表面のあるエリアの電気的特性を決定するためのプローブを含む試験装置を用意することとを含み、プローブはテストサンプルに対して所定の向きになるようにしており、プローブは、
第1表面を規定する支持本体と、
第1表面と同一平面の関係で支持本体から延びる複数のカンチレバーアームとを備え、複数のカンチレバーアームは、互いにほぼ平行に延びており、複数のカンチレバーアームの各々は、テストサンプル表面に対して所定の向きのプローブ運動によって、テストサンプルの該エリアと接触するための導電性チップを含んでおり、
プローブは、運動を行う際、複数のカンチレバーアームの何れか1つがテストサンプル表面と接触する前またはこれと同時にテストサンプル表面と接触するように配置された、支持本体から延びる接触検出器を備え、
該装置は、プローブの導電性チップと電気接続された電気信号発生器をさらに備え、
該方法は、接触検出器と電気接続された接触検出回路を用意することと、
テストサンプル表面に対してプローブを動かして、接触検出器がテストサンプル表面と接触したことを示す接触検出回路を監視することとを含み、
前記接触検出器は、基部において2つの固定(anchoring)アームに分割された可撓性アームと、固定アームの一方を通って可撓性アームに到達し、再び固定アームの他方を通り、非ピエゾ抵抗材料からなる電気経路とを備えた歪みゲージ(strain gauge)センサである。
テストサンプルを保持するためのテストサンプルホルダーと、
テストサンプルの表面のあるエリアの電気的特性を決定するためのプローブを保持するためのプローブホルダーとを備え、プローブは、
第1表面を規定する支持本体と、
第1表面と同一平面の関係で支持本体から延びる複数のカンチレバーアームとを備え、複数のカンチレバーアームは、互いにほぼ平行に延びており、複数のカンチレバーアームの各々は、テストサンプル表面に対して所定の向きのプローブ運動によって、テストサンプルの該エリアと接触するための導電性チップを含んでおり、
プローブは、運動を行う際、複数のカンチレバーアームの何れか1つがテストサンプル表面と接触する前またはこれと同時にテストサンプル表面と接触するように配置された、支持本体から延びる接触検出器を備え、
該システムは、プローブの導電性チップと電気接続された電気信号発生器と、接触検出器と電気接続された接触検出回路とをさらに備え、
テストサンプル表面に対してプローブを動かして、接触検出回路は、接触検出器がテストサンプル表面と接触したことを検出するものであり、
前記接触検出器は、基部において2つの固定(anchoring)アームに分割された可撓性アームと、固定アームの一方を通って可撓性アームに到達し、再び固定アームの他方を通り、非ピエゾ抵抗材料からなる電気経路とを備えた歪みゲージ(strain gauge)センサである。
Claims (21)
- テストサンプル表面のあるエリアの電気的特性を決定するためのプローブであって、
前記プローブは、前記テストサンプルに対して所定の向きになるようにしており、
前記プローブは、第1表面を規定する支持本体と、
第1表面と同一平面の関係で前記支持本体から延びる複数のカンチレバーアームとを備え、前記複数のカンチレバーアームは、互いにほぼ平行に延びており、前記複数のカンチレバーアームの各々は、前記テストサンプルの前記表面に対して所定の向きのプローブ運動によって、前記テストサンプルの前記エリアと接触するための導電性チップを含んでおり、
前記プローブは、前記運動を行う際、前記複数のカンチレバーアームの何れか1つが前記テストサンプルの前記表面と接触する前または接触と同時に前記テストサンプルの前記表面と接触するように配置された、前記支持本体から延びる接触検出器を備え、
前記接触検出器は、基部において2つの固定アームに分割された可撓性アームと、前記固定アームの一方を通って前記可撓性アームに到達し、再び前記固定アームの他方を通り、非ピエゾ抵抗材料からなる電気経路とを備えた歪みゲージセンサであるようにしたプローブ。 - 前記プローブは、前記接触検出器での信号変化を検出するための電気検出回路をさらに含む請求項1記載のプローブ。
- 前記テストサンプルの前記表面は、前記可撓性アームの偏向を測定することによって検出される請求項2記載のプローブ。
- 前記電気検出回路は、ホイートストンブリッジ回路または4線式オーム回路を備える請求項2または3記載のプローブ。
- 前記接触検出器は、前記複数のカンチレバーアームに対して所定角度で延びている請求項1〜4のいずれかに記載のプローブ。
- 前記所定角度は、0度である請求項5記載のプローブ。
- 前記複数のカンチレバーアームは、前記本体から第1の長さを規定するように延びており、前記接触検出器は、前記第1の長さと異なる第2の長さを規定するように前記本体から延びている請求項1〜6のいずれかに記載のプローブ。
- 前記第2の長さは、前記第1の長さより大きいか、あるいは前記第2の長さは前記第1の長さより短い請求項7記載のプローブ。
- 接触検出器の第2の長さは、接触検出器の長手方向に沿った接触検出器の全体長さを構成しており、可撓性アーム分割は、該長手方向に沿ったアーム分割長さを規定するアーム分割開口を規定しており、アーム分割長さは、第2の長さの10〜15%である請求項7または8記載のプローブ。
- 第1の長さ及び/又は第2の長さは、1μm〜1000μmのオーダーである請求項7〜9のいずれかに記載のプローブ。
- 前記複数のカンチレバーアームは、互いに同じ平面内に設置される請求項1〜10のいずれかに記載のプローブ。
- 前記接触検出器は、前記複数のカンチレバーアームが設置された平面と同じ面内、または該平面と平行な面内に設置される請求項11記載のプローブ。
- 前記プローブは、MEMSまたはNEMSの製造技術を用いて製造される請求項1〜12のいずれかに記載のプローブ。
- 前記接触検出器は、前記カンチレバーアームの間に位置決めされる請求項1〜13のいずれかに記載のプローブ。
- 前記プローブは、平行に位置決めされた2つの接触検出器を備え、前記複数のカンチレバーアームは前記2つの接触検出器の間に位置決めされる請求項1〜13のいずれかに記載のプローブ。
- 前記接触検出器と同じ抵抗値の参照抵抗器をさらに含み、
参照検出器は、テストサンプル表面と接触するのを防止するために支持本体によって隠されている請求項1〜15のいずれかに記載のプローブ。 - 接触検出器は、ホイートストンブリッジ回路の第1分岐に含まれており、
該プローブは、ホイートストンブリッジ回路の第2分岐を構成する参照抵抗器をさらに含み、
第1分岐の抵抗値は第2分岐の抵抗値より小さく、少なくとも2倍である請求項4記載のプローブ。 - テストサンプルの電気的特性を取得する方法であって、
前記方法は、テスト表面を規定する前記テストサンプルを用意することと、
前記テストサンプルの表面のあるエリアの電気的特性を決定するためのプローブを含む試験装置を用意することとを含み、
前記プローブは、前記テストサンプルに対して所定の向きになるようにしており、
前記プローブは、第1表面を規定する支持本体と、
前記第1表面と同一平面の関係で支持本体から延びる複数のカンチレバーアームとを備え、前記複数のカンチレバーアームは、互いにほぼ平行に延びており、前記複数のカンチレバーアームの各々は、前記テストサンプルの前記表面に対して前記所定の向きのプローブ運動によって、前記テストサンプルの該エリアと接触するための導電性チップを含んでおり、
前記プローブは、前記運動を行う際、前記複数のカンチレバーアームの何れか1つが前記テストサンプルの前記表面と接触する前または接触と同時に前記テストサンプルの前記表面と接触するように配置された、前記支持本体から延びる接触検出器を備え、
該装置は、前記プローブの前記導電性チップと電気接続された電気信号発生器をさらに備え、
該方法は、前記接触検出器と電気接続された接触検出回路を用意することと、
前記テストサンプルの前記表面に対してプローブを動かして、前記接触検出器が前記テストサンプルの前記表面と接触したことを示す前記接触検出回路を監視することとを含み、
前記接触検出器は、基部において2つの固定アームに分割された可撓性アームと、固定アームの一方を通って可撓性アームに到達し、再び固定アームの他方を通り、非ピエゾ抵抗材料からなる電気経路とを備えた歪みゲージセンサであるようにした方法。 - 前記プローブは、請求項1〜17のいずれかに記載の特徴を含む請求項18記載の方法。
- テストサンプルの表面のあるエリアの電気的特性を決定するためのシステムであって、
前記システムは、前記テストサンプルを保持するためのテストサンプルホルダーと、
テストサンプルの表面のあるエリアの電気的特性を決定するためのプローブを保持するためのプローブホルダーとを備え、
前記プローブは、第1表面を規定する支持本体と、
第1表面と同一平面の関係で支持本体から延びる複数のカンチレバーアームとを備え、前記複数のカンチレバーアームは、互いにほぼ平行に延びており、前記複数のカンチレバーアームの各々は、前記テストサンプルの前記表面に対して所定の向きのプローブ運動によって、前記テストサンプルの前記エリアと接触するための導電性チップを含んでおり、
前記プローブは、前記運動を行う際、前記複数のカンチレバーアームの何れか1つが前記テストサンプルの前記表面と接触する前または接触と同時に前記テストサンプルの前記表面と接触するように配置された、前記支持本体から延びる接触検出器を備え、
前記システムは、前記プローブの前記導電性チップと電気接続された電気信号発生器と、前記接触検出器と電気接続された接触検出回路とをさらに備え、
前記テストサンプルの前記表面に対してプローブを動かして、前記接触検出回路は、前記接触検出器が前記テストサンプルの前記表面と接触したことを検出するものであり、
前記接触検出器は、基部において2つの固定アームに分割された可撓性アームと、固定アームの一方を通って可撓性アームに到達し、再び固定アームの他方を通り、非ピエゾ抵抗材料からなる電気経路とを備えた歪みゲージセンサであるようにしたシステム。 - 前記プローブは、請求項1〜17のいずれかに記載の特徴を含む請求項20記載のシステム。
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US5266801A (en) * | 1989-06-05 | 1993-11-30 | Digital Instruments, Inc. | Jumping probe microscope |
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US7063541B2 (en) * | 1997-03-17 | 2006-06-20 | Formfactor, Inc. | Composite microelectronic spring structure and method for making same |
JP3768639B2 (ja) * | 1997-03-18 | 2006-04-19 | キヤノン株式会社 | カンチレバー型プローブ及び該プローブを備えた走査型プローブ顕微鏡 |
JP3309816B2 (ja) * | 1998-01-22 | 2002-07-29 | 松下電器産業株式会社 | 微細表面形状測定装置及び触針製造方法 |
US6148622A (en) * | 1998-04-03 | 2000-11-21 | Alliedsignal Inc. | Environmental control system no condenser high pressure water separation system |
AU4897399A (en) * | 1998-07-08 | 2000-02-01 | Capres Aps | Multi-point probe |
US7304486B2 (en) * | 1998-07-08 | 2007-12-04 | Capres A/S | Nano-drive for high resolution positioning and for positioning of a multi-point probe |
ATE519119T1 (de) * | 2002-01-07 | 2011-08-15 | Capres As | Elektrisches rückkopplungs-detektionssystem für mehrpunktsonden |
JP2004093352A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Seiko Instruments Inc | 極微小多探針プローブの製造方法及び表面特性解析装置 |
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JP2006284599A (ja) * | 2006-05-29 | 2006-10-19 | Sii Nanotechnology Inc | カンチレバーを用いて試料面の情報を取得する装置 |
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