JP5663967B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
(比較例)
12 電子走行層
14 スペーサ層
16 電子供給層
18 キャップ層
20 ソース電極
22 ドレイン電極
24 ゲート電極
30 絶縁層
40 フィールドプレート電極
50 バリア層
100 半導体装置
2DEG チャネル
Claims (7)
- 窒化ガリウム系半導体からなる電子走行層と、
前記電子走行層上に設けられ、窒化ガリウム系半導体からなる電子供給層と、
前記電子供給層上に設けられ、n型またはアンドープ窒化ガリウムからなるキャップ層と、
前記キャップ層上に設けられたゲート電極と、
前記電子供給層上に前記ゲート電極を挟んで設けられたソース電極及びドレイン電極と、
前記キャップ層上に設けられた表面保護膜と、
前記キャップ層と前記表面保護膜との間に介在し、少なくとも前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間の領域に設けられたアンドープAlxGa1−xN(0.5≦x≦1)からなるバリア層と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間の領域の前記表面保護膜上に設けられたフィールドプレート電極を備え、
前記バリア層は、前記フィールドプレート電極と前記キャップ層との間に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記バリア層と前記ゲート電極の間には、前記バリア層の側面と前記ゲート電極の側面とを離間する離間領域が設けられてなることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記離間領域には、絶縁層が設けられてなることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極は、前記キャップ層の表面に直接接触していることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記ドレイン電極は、前記電子供給層の表面に直接接触していることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記バリア層は、前記ゲート電極と前記ソース電極との間の領域に設けられていないことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の半導体装置。
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