JP5660118B2

JP5660118B2 - Desmear treatment method

Info

Publication number: JP5660118B2
Application number: JP2012283809A
Authority: JP
Inventors: 大輝堀部; 廣瀬　賢一; 賢一廣瀬; 真一遠藤
Original assignee: Ushio Denki KK
Current assignee: Ushio Denki KK
Priority date: 2012-12-27
Filing date: 2012-12-27
Publication date: 2015-01-28
Anticipated expiration: 2032-12-27
Also published as: JP2014127605A

Description

本発明は、粒状フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなる配線基板材料のデスミア処理方法に関する。 The present invention relates to a desmear treatment method for a wiring board material in which an insulating layer made of a resin containing a particulate filler and a conductive layer are laminated.

例えば半導体集積回路素子等の半導体素子を搭載するための配線基板としては、絶縁層と導電層（配線層）とが交互に積層されてなる多層配線基板が知られている。このような多層配線基板においては、一の導電層と他の導電層とを電気的に接続するため、１つの若しくは複数の絶縁層を厚み方向に貫通して伸びるビアホールやスルーホールが形成されている。
多層配線基板の製造工程においては、絶縁層と導電層とが積層されてなる配線基板材料に、ドリル加工やレーザ加工を施すことによって絶縁層や導電層の一部を除去することにより、ビアホールやスルーホールが形成される。そして、ビアホールやスルーホールの形成においては、配線基板材料には絶縁層や導電層を構成する材料に起因するスミア（残渣）が生じる。このため、当該配線基板材料に対してスミアを除去するデスミア処理が行われる。 For example, as a wiring board for mounting a semiconductor element such as a semiconductor integrated circuit element, a multilayer wiring board in which insulating layers and conductive layers (wiring layers) are alternately stacked is known. In such a multilayer wiring board, in order to electrically connect one conductive layer and another conductive layer, a via hole or a through hole extending through one or a plurality of insulating layers in the thickness direction is formed. Yes.
In the manufacturing process of a multilayer wiring board, by removing a part of the insulating layer and the conductive layer by performing drilling or laser processing on the wiring board material in which the insulating layer and the conductive layer are laminated, via holes and A through hole is formed. In the formation of via holes and through holes, smears (residues) due to the materials constituting the insulating layer and conductive layer are generated in the wiring board material. For this reason, the desmear process which removes a smear with respect to the said wiring board material is performed.

配線基板材料のデスミア処理方法としては、従来、湿式のデスミア処理方法および乾式のデスミア処理方法が知られている（特許文献１乃至特許文献３参照）。
湿式のデスミア処理方法は、配線基板材料を過マンガン酸カリウムや水酸化ナトリウムが溶解されてなるアルカリ溶液中に浸漬することにより、配線基板材料に残留するスミアを溶解若しくは剥離して除去する方法である。一方、乾式のデスミア処理方法は、配線基板材料に紫外線を照射することにより、当該紫外線のエネルギーおよび紫外線の照射に伴って生ずるオゾンによってスミアを分解して除去する方法である。 Conventionally, wet desmear treatment methods and dry desmear treatment methods are known as desmear treatment methods for wiring board materials (see Patent Documents 1 to 3).
The wet desmear treatment method is a method in which the smear remaining on the wiring board material is dissolved or removed by immersing the wiring board material in an alkaline solution in which potassium permanganate or sodium hydroxide is dissolved. is there. On the other hand, the dry desmear treatment method is a method in which smear is decomposed and removed by irradiating the wiring board material with ultraviolet rays, by the energy of the ultraviolet rays and ozone generated by the irradiation of the ultraviolet rays.

しかしながら、湿式のデスミア処理方法においては、スミアをアルカリ溶液に溶解させるのに長い時間を要すること、配線基板材料をアルカリ溶液に浸漬した後に洗浄処理および中和処理を行う必要があること、使用済みのアルカリ溶液について廃液処理が必要となることなどから、デスミア処理のコストが相当に高くなる、という問題がある。
また、近年、配線基板における配線パターンの微細化の要請に伴って、径の小さいビアホールを形成することが求められている。そして、径の小さいビアホールを有する配線基板材料に対してデスミア処理を行う場合には、アルカリ溶液がビアホール内に十分に浸入しないため、所要のデスミア処理を確実に行うことが困難となる。 However, in the wet desmear treatment method, it takes a long time to dissolve the smear in the alkaline solution, and it is necessary to perform the cleaning treatment and the neutralization treatment after immersing the wiring board material in the alkaline solution. There is a problem that the cost of desmear treatment becomes considerably high because waste solution treatment is required for the alkaline solution.
In recent years, it has been required to form a via hole having a small diameter in accordance with a request for miniaturization of a wiring pattern in a wiring board. And when performing a desmear process with respect to the wiring board material which has a via hole with a small diameter, since an alkaline solution does not fully infiltrate into a via hole, it becomes difficult to perform a required desmear process reliably.

これに対して、乾式のデスミア処理方法によれば、短時間でデスミア処理を行うことができ、また、配線基板材料の洗浄・中和や廃液処理が不要であることから、デスミア処理についてコストの低減化を図ることが可能である。更に、径の小さいビアホールを有する配線基板材料についても対応可能である。 On the other hand, according to the dry desmear treatment method, the desmear treatment can be performed in a short time, and the cleaning / neutralization of the wiring board material and the waste liquid treatment are unnecessary, so that the cost of the desmear treatment Reduction can be achieved. Furthermore, it is possible to cope with a wiring board material having a via hole having a small diameter.

しかしながら、従来の乾式のデスミア処理においては、以下のような問題があることが判明した。
乾式のデスミア処理においては、絶縁層を構成する樹脂などの有機物質に起因するスミアは、紫外線およびオゾンの作用によって分解して除去される。然るに、絶縁層中に含有されたフィラーを構成するセラミックスや導電層を構成する金属などの無機物質に起因するスミアは、紫外線やオゾンの作用によっては分解されず、配線基板材料に残留する、という問題がある。 However, it has been found that the conventional dry desmear treatment has the following problems.
In the dry desmear process, smears caused by organic substances such as resins constituting the insulating layer are decomposed and removed by the action of ultraviolet rays and ozone. However, smears caused by inorganic substances such as ceramics constituting the filler contained in the insulating layer and metals constituting the conductive layer are not decomposed by the action of ultraviolet rays or ozone, and remain in the wiring board material. There's a problem.

特開２００１−１２７４３６号公報JP 2001-127436 A 特開２０１０−２０５８０１号公報JP 2010-205801 A 特開平８−１８０７５７号公報JP-A-8-180757

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、無機物質および有機物質のいずれに起因するスミアであっても確実に除去することができ、廃液処理が必要な薬品を用いることが不要なデスミア処理方法を提供することにある。 The present invention has been made on the basis of the circumstances as described above, and its purpose is to remove smears caused by either inorganic substances or organic substances with certainty, and waste liquid treatment is necessary. Another object of the present invention is to provide a desmear treatment method that does not require the use of a special chemical.

本発明のデスミア処理方法は、フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤処理工程によって湿潤した状態で紫外線を照射する湿式紫外線照射処理工程と、
この湿式紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有し、
前記湿潤処理は、前記配線基板材料を水中に浸漬し、この状態で、当該水を超音波振動させることにより、当該配線基板材料における被処理部分を湿潤するものであることを特徴とする。
The desmear treatment method of the present invention is a method of desmearing a wiring board material in which an insulating layer made of a resin containing a filler and a conductive layer are laminated, and a through hole penetrating the insulating layer is formed.
A wet ultraviolet irradiation treatment step of irradiating ultraviolet rays in a state in which the portion to be treated is wet by the wet treatment step with respect to the portion to be treated in the wiring board material;
A physical vibration treatment step that gives physical vibration to the wiring board material via the wet ultraviolet irradiation treatment step ;
In the wet treatment, the portion to be treated in the wiring board material is wetted by immersing the wiring board material in water and ultrasonically vibrating the water in this state .

本発明のデスミア処理方法においては、前記湿式紫外線照射処理工程の前処理工程として、
前記配線基板材料における被処理部分が湿潤していない状態で、当該被処理部分のぬれ性を改善するぬれ性改善処理工程を有し、
このぬれ性改善処理工程を経由した配線基板材料に対して、前記湿潤処理工程を行うことが好ましい。
また、本発明のデスミア処理方法は、フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤した状態で紫外線を照射する湿式紫外線照射処理工程と、
この湿式紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有し、
前記湿式紫外線照射処理工程の前処理工程として、
前記配線基板材料における被処理部分が湿潤していない状態で、当該被処理部分のぬれ性を改善するぬれ性改善処理工程と、
このぬれ性改善処理工程を経由した配線基板材料における被処理部分を湿潤する湿潤処理工程と
を有することを特徴とする。
このようなデスミア処理方法においては、前記ぬれ性改善処理工程は、前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤していない状態で紫外線を照射する乾式紫外線照射処理によって行われることが好ましい。
また、前記物理的振動処理工程を行う前に、前記湿潤処理工程と前記湿式紫外線照射処理工程とを交互に繰り返してもよい。
また、本発明のデスミア処理方法においては、前記湿式紫外線照射処理工程と前記物理的振動処理工程とを交互に繰り返すことが好ましい。
In the desmear treatment method of the present invention, as a pretreatment step of the wet ultraviolet irradiation treatment step,
In a state where the portion to be processed in the wiring board material is not wet, it has a wettability improving treatment step for improving the wettability of the portion to be processed .
It is preferable to perform the wet treatment step on the wiring board material that has passed through the wettability improvement treatment step.
Further, the desmear treatment method of the present invention is a method of desmearing a wiring board material in which an insulating layer made of a resin containing a filler and a conductive layer are laminated, and a through hole penetrating the insulating layer is formed. ,
A wet ultraviolet irradiation process for irradiating ultraviolet rays in a wet state with respect to the portion to be processed in the wiring board material;
A physical vibration treatment step for imparting physical vibration to the wiring board material via the wet ultraviolet irradiation treatment step;
Have
As a pretreatment step of the wet ultraviolet irradiation treatment step,
A wettability improving treatment step for improving the wettability of the portion to be processed in a state where the portion to be processed in the wiring board material is not wet;
A wetting process step of wetting a portion to be treated in the wiring board material via the wettability improving process step;
It is characterized by having.
In such a desmear treatment method, the wettability improving treatment step is performed by dry ultraviolet irradiation treatment in which ultraviolet rays are irradiated to a portion to be processed in the wiring board material in a state where the portion to be processed is not wet. Are preferred.
Further, the wet treatment step and the wet ultraviolet irradiation treatment step may be alternately repeated before the physical vibration treatment step.
Moreover, in the desmear processing method of this invention, it is preferable to repeat the said wet ultraviolet irradiation process process and the said physical vibration process process alternately.

本発明のデスミア処理方法においては、有機物質に起因するスミアは、紫外線照射処理工程において、紫外線のエネルギーおよび紫外線が水に照射されることによって生ずるＯＨラジカルなどによって分解される。ＯＨラジカルはオゾンや活性酸素などに比べ、酸化力が高いため、有機物質に起因するスミアは短時間で分解される。この紫外線照射処理工程においては、無機物質に起因するスミアは分解されず、配線基板材料に残留するが、当該無機物質に起因するスミアは、紫外線が照射されることによって脆いものとなる。このため、紫外線照射処理工程後の物理的振動処理工程において、配線基板材料に物理的振動を与えることにより、無機物質に起因するスミアが破壊されて当該配線基板材料から離脱する。
従って、本発明のデスミア処理方法によれば、無機物質および有機物質のいずれに起因するスミアであっても確実に除去することができる。
また、配線基板材料に対して紫外線照射処理および物理的振動処理を行えばよいので、廃液処理が必要となる薬品を用いることが不要である。 In the desmear treatment method of the present invention, smears caused by organic substances are decomposed by ultraviolet energy and OH radicals generated by irradiating water with ultraviolet rays in the ultraviolet irradiation treatment step. Since OH radicals have higher oxidizing power than ozone or active oxygen, smears caused by organic substances are decomposed in a short time. In this ultraviolet irradiation treatment step, smear caused by the inorganic substance is not decomposed and remains in the wiring board material, but the smear caused by the inorganic substance becomes brittle when irradiated with the ultraviolet ray. For this reason, in the physical vibration processing step after the ultraviolet irradiation processing step, by imparting physical vibration to the wiring board material, smear caused by the inorganic substance is destroyed and detached from the wiring board material.
Therefore, according to the desmear treatment method of the present invention, it is possible to reliably remove smears caused by either inorganic substances or organic substances.
Moreover, since it is only necessary to perform ultraviolet irradiation treatment and physical vibration treatment on the wiring board material, it is not necessary to use chemicals that require waste liquid treatment.

本発明のデスミア処理方法における処理対象となる配線基板材料の一例における要部の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the principal part in an example of the wiring board material used as the process target in the desmear processing method of this invention. 図１に示す配線基板材料の製造工程を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the manufacturing process of the wiring board material shown in FIG. 波長２２０ｎｍの紫外線の光源として用いられるエキシマランプの一例における構成の概略を示す説明用断面図であって、（ａ）放電容器の長手方向に沿った断面を示す横断面図、（ｂ）（ａ）におけるＡ−Ａ線断面図である。It is sectional drawing for description which shows the outline of a structure in an example of the excimer lamp used as an ultraviolet light source of wavelength 220nm, Comprising: (a) The cross-sectional view which shows the cross section along the longitudinal direction of a discharge vessel, (b) (a It is an AA line sectional view in). 本発明のデスミア処理方法の一例における工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the process in an example of the desmear processing method of this invention.

以下、本発明のデスミア処理方法の実施の形態について説明する。
図１は、本発明のデスミア処理方法における処理対象となる配線基板材料の一例における要部の構成を示す説明用断面図である。この配線基板材料１は、第１絶縁層２と、この第１絶縁層２の表面上に積層された、所要のパターンの導電層（配線層）３と、この導電層３を含む第１絶縁層２上に積層された第２絶縁層４とにより構成されている。第２絶縁層４には、その厚み方向に伸びる、例えばビアホールなどの貫通孔５が形成されており、この貫通孔５によって、導電層３の一部が露出した状態とされている。 Embodiments of the desmear processing method of the present invention will be described below.
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part in an example of a wiring board material to be processed in the desmear processing method of the present invention. The wiring board material 1 includes a first insulating layer 2, a conductive layer (wiring layer) 3 having a required pattern laminated on the surface of the first insulating layer 2, and a first insulating layer including the conductive layer 3. The second insulating layer 4 is laminated on the layer 2. The second insulating layer 4 is formed with a through hole 5 such as a via hole extending in the thickness direction, and a part of the conductive layer 3 is exposed by the through hole 5.

第１絶縁層２および第２絶縁層４の各々は、無機物質よりなるフィラーが含有された樹脂によって構成されている。
第１絶縁層２および第２絶縁層４を構成する樹脂としては、エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂などを用いることができる。
第１絶縁層２中および第２絶縁層４中に含有されるフィラーを構成する材料としては、シリカ、アルミナ、マイカ、珪酸塩、硫酸バリウム、水酸化マグネシウム、酸化チタンなどを用いることができる。フィラーの平均粒子径は、例えば０．１〜３μｍである。
第１絶縁層２および第２絶縁層４の各々におけるフィラーの割合は、例えば２０〜６０質量％である。
導電層３を構成する材料としては、銅、ニッケル、金などを用いることができる。
第１絶縁層２の厚みは、例えば２０〜８００μｍ、第２絶縁層４の厚みは、例えば１０〜５０μｍである。導電層３の厚みは、例えば１０〜１００μｍである。また、貫通孔５の径は、例えば３０〜１００μｍである。 Each of the first insulating layer 2 and the second insulating layer 4 is made of a resin containing a filler made of an inorganic substance.
As the resin constituting the first insulating layer 2 and the second insulating layer 4, an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyimide resin, a polyester resin, or the like can be used.
As a material constituting the filler contained in the first insulating layer 2 and the second insulating layer 4, silica, alumina, mica, silicate, barium sulfate, magnesium hydroxide, titanium oxide, or the like can be used. The average particle diameter of the filler is, for example, 0.1 to 3 μm.
The ratio of the filler in each of the first insulating layer 2 and the second insulating layer 4 is, for example, 20 to 60% by mass.
As a material constituting the conductive layer 3, copper, nickel, gold, or the like can be used.
The thickness of the first insulating layer 2 is, for example, 20 to 800 μm, and the thickness of the second insulating layer 4 is, for example, 10 to 50 μm. The thickness of the conductive layer 3 is, for example, 10 to 100 μm. Moreover, the diameter of the through-hole 5 is 30-100 micrometers, for example.

このような配線基板材料１は、例えば以下のようにして得られる。
先ず、図２（ａ）に示すように、第１絶縁層２の表面上に、所要のパターンの導電層３を形成する。次いで、図２（ｂ）に示すように、導電層３を含む第１絶縁層２の表面上に第２絶縁層４を形成する。そして、図２（ｃ）に示すように、第２絶縁層４における所要の箇所に、当該第２絶縁層４の厚み方向に貫通して伸びる貫通孔５を形成する。 Such a wiring board material 1 is obtained as follows, for example.
First, as shown in FIG. 2A, a conductive layer 3 having a required pattern is formed on the surface of the first insulating layer 2. Next, as shown in FIG. 2B, the second insulating layer 4 is formed on the surface of the first insulating layer 2 including the conductive layer 3. Then, as shown in FIG. 2 (c), a through hole 5 extending through the second insulating layer 4 in the thickness direction is formed at a required location in the second insulating layer 4.

以上において、導電層３を形成する方法としては、特に限定されず、サブトラクティブ法、セミアディティブ法などの種々の方法を利用することができる。
第２絶縁層４を形成する方法としては、液状の熱硬化性樹脂中にフィラーが含有されてなる絶縁層形成材料を、導電層３を含む第１絶縁層２の表面上に塗布した後、当該絶縁層形成材料を硬化処理する方法や、導電層３を含む第１絶縁層２の表面上に、粒状フィラーが含有された絶縁シートを熱圧着等によって貼り合わせる方法を利用することができる。第２絶縁層４に貫通孔５を形成する方法としては、ドリル加工による方法、レーザ加工による方法を利用することができる。レーザ加工によって貫通孔５を形成する場合には、炭酸ガスレーザ装置やＹＡＧレーザ装置などを用いることができる。
このようにして得られる配線基板材料１においては、第２絶縁層４における貫通孔５の内壁面、第２絶縁層４の表面における貫通孔５の周辺領域、および貫通孔５の底部すなわち導電層３における貫通孔５によって露出した部分などには、貫通孔５を形成する際に生じたスミア６が残留している。 In the above, the method for forming the conductive layer 3 is not particularly limited, and various methods such as a subtractive method and a semi-additive method can be used.
As a method of forming the second insulating layer 4, after applying an insulating layer forming material containing a filler in a liquid thermosetting resin on the surface of the first insulating layer 2 including the conductive layer 3, A method of curing the insulating layer forming material or a method of bonding an insulating sheet containing a particulate filler onto the surface of the first insulating layer 2 including the conductive layer 3 by thermocompression bonding or the like can be used. As a method for forming the through hole 5 in the second insulating layer 4, a method by drilling or a method by laser processing can be used. When the through hole 5 is formed by laser processing, a carbon dioxide laser device, a YAG laser device, or the like can be used.
In the wiring board material 1 thus obtained, the inner wall surface of the through hole 5 in the second insulating layer 4, the peripheral region of the through hole 5 on the surface of the second insulating layer 4, and the bottom of the through hole 5, that is, the conductive layer The smear 6 generated when the through hole 5 is formed remains in a portion exposed by the through hole 5 in FIG.

本発明のデスミア処理においては、配線基板材料１における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤した状態で紫外線を照射する湿式紫外線照射処理工程と、この湿式紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料１に物理的振動を与える物理的振動処理工程とが行われる。
また、本発明のデスミア処理においては、湿式紫外線照射処理工程の前処理工程として、配線基板材料１における被処理部分が湿潤していない状態で、当該被処理部分のぬれ性を改善するぬれ性改善処理工程と、このぬれ性改善処理工程を経由した配線基板材料１における被処理部分を湿潤する湿潤処理工程とが行われることが好ましい。 In the desmear process of the present invention, a wet ultraviolet irradiation process for irradiating ultraviolet rays in a wet state of the part to be processed in the wiring substrate material 1 and wiring via this wet ultraviolet irradiation process A physical vibration treatment step for applying physical vibration to the substrate material 1 is performed.
Further, in the desmear process of the present invention, as a pretreatment process of the wet ultraviolet irradiation treatment process, the wettability improvement that improves the wettability of the treated part in the state where the treated part in the wiring board material 1 is not wetted. It is preferable to perform a treatment step and a wet treatment step of wetting a portion to be treated in the wiring board material 1 via the wettability improving treatment step.

ぬれ性改善処理工程は、配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤していない状態で紫外線を照射する乾式紫外線照射処理、大気圧プラズマ処理、減圧プラズマ処理、コロナ放電処理などによって行うことができるが、乾式紫外線照射処理が好ましい。
この乾式紫外線照射処理は、例えば大気下などの酸素を含む雰囲気下において行われる。乾式紫外線照射処理において、配線基板材料に照射される紫外線は、波長２２０ｎｍ以下、特に１９０ｎｍ以下であることが好ましい。紫外線の波長が２２０ｎｍを超える場合には、配線基板材料における被処理部分のぬれ性を確実に改善することが困難となる。波長２２０ｎｍの紫外線の光源としては、キセノンエキシマランプ（ピーク波長１７２ｎｍ）、低圧水銀灯（１８５ｎｍ輝線）、希ガス蛍光ランプなどを用いることができる。配線基板材料１に照射される紫外線の照度は、例えば１０〜２００ｍＷ／ｃｍ²である。また、配線基板材料１に対する紫外線の照射時間は、紫外線の照度やスミアの残留状態などを考慮して適宜設定されるが、例えば１０〜６０秒間である。 The wettability improving process includes a dry ultraviolet irradiation process, an atmospheric pressure plasma process, a reduced pressure plasma process, and a corona discharge process for irradiating the processed part of the wiring board material with ultraviolet rays in a state where the processed part is not wet. However, dry ultraviolet irradiation treatment is preferable.
This dry ultraviolet irradiation treatment is performed in an atmosphere containing oxygen, for example, in the air. In the dry ultraviolet irradiation treatment, the ultraviolet rays applied to the wiring board material have a wavelength of 220 nm or less, particularly 190 nm or less. When the wavelength of ultraviolet rays exceeds 220 nm, it becomes difficult to reliably improve the wettability of the portion to be processed in the wiring board material. As an ultraviolet light source having a wavelength of 220 nm, a xenon excimer lamp (peak wavelength: 172 nm), a low-pressure mercury lamp (185 nm emission line), a rare gas fluorescent lamp, or the like can be used. The illuminance of ultraviolet rays applied to the wiring board material 1 is, for example, 10 to 200 mW / cm ² . Moreover, the irradiation time of the ultraviolet rays with respect to the wiring board material 1 is appropriately set in consideration of the illuminance of the ultraviolet rays, the residual state of smears, and the like, and is, for example, 10 to 60 seconds.

図３は、波長２２０ｎｍの紫外線の光源として用いられるエキシマランプの一例における構成の概略を示す説明用断面図であって、（ａ）放電容器の長手方向に沿った断面を示す横断面図、（ｂ）（ａ）におけるＡ−Ａ線断面図である。
このエキシマランプ１０は、両端が気密に封止されて内部に放電空間Ｓが形成された、断面矩形状の中空長尺状の放電容器１１を備えており、この放電容器１１の内部には、放電用ガスとして、例えばキセノンガスや、アルゴンと塩素とを混合したガスが封入されている。
放電容器１１は、真空紫外光を良好に透過するシリカガラス、例えば合成石英ガラスよりなり、誘電体としての機能を有する。 FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view showing an outline of the configuration of an example of an excimer lamp used as an ultraviolet light source having a wavelength of 220 nm, (a) a cross-sectional view showing a cross section along the longitudinal direction of the discharge vessel; b) It is the sectional view on the AA line in (a).
This excimer lamp 10 includes a hollow discharge vessel 11 having a rectangular cross section in which both ends are hermetically sealed and a discharge space S is formed therein. As the discharge gas, for example, xenon gas or a mixed gas of argon and chlorine is enclosed.
The discharge vessel 11 is made of silica glass, for example, synthetic quartz glass, which transmits vacuum ultraviolet light well, and has a function as a dielectric.

放電容器１１における長辺面の外表面には、一対の格子状の電極、すなわち、高電圧供給電極として機能する一方の電極１５および接地電極として機能する他方の電極１６が長尺な方向に伸びるよう対向して配置されており、これにより、一対の電極１５，１６間に誘電体として機能する放電容器１１が介在された状態とされている。
このような電極は、例えば、金属よりなる電極材料を放電容器１１にペースト塗布することにより、あるいは、プリント印刷することによって形成することができる。 On the outer surface of the long side surface of the discharge vessel 11, a pair of grid electrodes, that is, one electrode 15 functioning as a high voltage supply electrode and the other electrode 16 functioning as a ground electrode extend in a long direction. Thus, the discharge vessel 11 functioning as a dielectric is interposed between the pair of electrodes 15 and 16.
Such an electrode can be formed, for example, by applying an electrode material made of metal to the discharge vessel 11 or by printing.

このエキシマランプ１０においては、一方の電極１５に点灯電力が供給されると、誘電体として機能する放電容器１１の壁を介して両電極１５，１６間に放電が生成され、これにより、エキシマ分子が形成されると共にこのエキシマ分子から真空紫外光が放射されるエキシマ放電が生ずるが、このエキシマ放電によって発生する真空紫外光を効率良く利用するために、放電容器１１の内表面に、シリカ粒子とアルミナ粒子とからなる紫外線反射膜２０が設けられている。ここに、放電用ガスとしてキセノンガスを用いた場合は、波長１７２ｎｍにピークを有する真空紫外線が放出され、放電用ガスとしてアルゴンと塩素とを混合したガスを用いた場合には、波長１７５ｎｍにピークを有する真空紫外線が放出される。 In this excimer lamp 10, when lighting power is supplied to one electrode 15, a discharge is generated between both electrodes 15 and 16 through the wall of the discharge vessel 11 functioning as a dielectric, and thereby excimer molecules Excimer discharge in which vacuum ultraviolet light is radiated from the excimer molecule is generated. In order to efficiently use the vacuum ultraviolet light generated by the excimer discharge, silica particles and silica particles are formed on the inner surface of the discharge vessel 11. An ultraviolet reflecting film 20 made of alumina particles is provided. Here, when xenon gas is used as the discharge gas, vacuum ultraviolet light having a peak at a wavelength of 172 nm is emitted, and when gas mixed with argon and chlorine is used as the discharge gas, the peak is at a wavelength of 175 nm. A vacuum ultraviolet ray having is emitted.

紫外線反射膜２０は、例えば、放電容器１１における長辺面の、高電圧供給電極として機能する一方の電極１５に対応する内表面領域とこの領域に連続する短辺面の内表面領域の一部にわたって形成されており、放電容器１１における長辺面の、接地電極として機能する他方の電極１６に対応する内表面領域において紫外線反射膜２０が形成されていないことによって光出射部（アパーチャ部）１８が構成されている。
紫外線反射膜２０の膜厚は、例えば１０〜１００μｍであることが好ましい。 The ultraviolet reflection film 20 is, for example, an inner surface region corresponding to one electrode 15 functioning as a high voltage supply electrode on the long side surface of the discharge vessel 11 and a part of an inner surface region of a short side surface continuous with this region. The light emitting portion (aperture portion) 18 is formed by the absence of the ultraviolet reflecting film 20 in the inner surface region corresponding to the other electrode 16 that functions as the ground electrode on the long side surface of the discharge vessel 11. Is configured.
The film thickness of the ultraviolet reflecting film 20 is preferably 10 to 100 μm, for example.

紫外線反射膜２０は、シリカ粒子およびアルミナ粒子それ自体が高い屈折率を有する真空紫外光透過性を有するものであることから、シリカ粒子またはアルミナ粒子に到達した真空紫外光の一部が粒子の表面で反射されると共に他の一部が屈折して粒子の内部に入射され、さらに、粒子の内部に入射される光の多くが透過され（一部が吸収）、再び、出射されるに際して屈折される、このような反射、屈折が繰り返し起こる「拡散反射」させる機能を有する。
また、紫外線反射膜２０は、シリカ粒子およびアルミナ粒子、すなわちセラミックスにより構成されていることにより、不純ガスを発生させず、また、放電に耐えられる特性を有する。 Since the ultraviolet reflecting film 20 has a vacuum ultraviolet light transmission property in which the silica particles and the alumina particles themselves have a high refractive index, a part of the vacuum ultraviolet light reaching the silica particles or the alumina particles is the surface of the particles. And the other part is refracted and incident on the inside of the particle, and much of the light incident on the inside of the particle is transmitted (partially absorbed) and refracted when it is emitted again. It has a function of “diffuse reflection” in which such reflection and refraction occur repeatedly.
Further, since the ultraviolet reflecting film 20 is composed of silica particles and alumina particles, that is, ceramics, the ultraviolet reflecting film 20 does not generate an impure gas and has a characteristic that can withstand discharge.

紫外線反射膜２０を構成するシリカ粒子は、例えばシリカガラスを粉末状に細かい粒子としたものなどを用いることができる。
シリカ粒子は、以下のように定義される粒子径が例えば０．０１〜２０μｍの範囲内にあるものであって、中心粒径（数平均粒子径のピーク値）が、例えば０．１〜１０μｍであるものが好ましく、より好ましくは０．３〜３μｍであるものである。
また、中心粒径を有するシリカ粒子の割合が５０％以上であることが好ましい。 As the silica particles constituting the ultraviolet reflective film 20, for example, silica glass made into fine powder particles can be used.
The silica particles have a particle size defined as follows within a range of 0.01 to 20 μm, for example, and the center particle size (peak value of the number average particle size) is, for example, 0.1 to 10 μm. Is preferable, and more preferably 0.3 to 3 μm.
Moreover, it is preferable that the ratio of the silica particle which has a center particle diameter is 50% or more.

紫外線反射膜２０を構成するアルミナ粒子は、以下のように定義される粒子径が例えば０．１〜１０μｍの範囲内にあるものであって、中心粒径（数平均粒子径のピーク値）が、例えば０．１〜３μｍであるものが好ましく、より好ましくは０．３〜１μｍであるものである。
また、中心粒径を有するアルミナ粒子の割合が５０％以上であることが好ましい。 The alumina particles constituting the ultraviolet reflecting film 20 have a particle diameter defined as follows within a range of 0.1 to 10 μm, for example, and have a center particle diameter (peak value of number average particle diameter). For example, it is preferably 0.1 to 3 [mu] m, more preferably 0.3 to 1 [mu] m.
Moreover, it is preferable that the ratio of the alumina particle which has a center particle diameter is 50% or more.

湿潤処理工程は、例えば配線基板材料１を水中に浸漬させることによって行われる。ここで、浸漬時間は、例えば１０〜６０秒間である。
また、配線基板材料を水中に浸漬させた状態で超音波振動させてもよく、これにより、配線基板材料における貫通孔内に水が短時間で進入するため、浸漬時間を短縮することができる。
また、配線基板材料を所要の時間浸漬させた後、例えばエアーナイフによって、配線基板材料における被処理部分に存在する余剰の水を除去してもよい。 The wetting process step is performed, for example, by immersing the wiring board material 1 in water. Here, the immersion time is, for example, 10 to 60 seconds.
Further, ultrasonic vibration may be performed in a state where the wiring board material is immersed in water. As a result, water enters the through hole in the wiring board material in a short time, so that the immersion time can be shortened.
Further, after the wiring board material is immersed for a required time, excess water present in the portion to be processed in the wiring board material may be removed by, for example, an air knife.

湿式紫外線照射処理工程において、配線基板材料１に照射される紫外線は、波長２２０ｎｍ以下、特に１９０ｎｍ以下であることが好ましい。紫外線の波長が２２０ｎｍを超える場合には、樹脂などの有機物質に起因するスミアを分解除去することが困難となる。
波長２２０ｎｍの紫外線の光源としては、キセノンエキシマランプ（ピーク波長１７２ｎｍ）、低圧水銀灯（１８５ｎｍ輝線）、希ガス蛍光ランプなどを用いることができる。配線基板材料１に照射される紫外線の照度は、例えば１０〜２００ｍＷ／ｃｍ²である。また、配線基板材料１に対する紫外線の照射時間は、紫外線の照度やスミアの残留状態などを考慮して適宜設定されるが、例えば３０〜１８０分間である。
波長２２０ｎｍの紫外線の光源として用いられるエキシマランプの具体例としては、前述の乾式紫外線照射処理において用いられる、図３に示すエキシマランプを挙げることができる。 In the wet ultraviolet irradiation treatment step, the ultraviolet rays applied to the wiring board material 1 preferably have a wavelength of 220 nm or less, particularly 190 nm or less. When the wavelength of ultraviolet rays exceeds 220 nm, it becomes difficult to decompose and remove smears caused by organic substances such as resins.
As an ultraviolet light source having a wavelength of 220 nm, a xenon excimer lamp (peak wavelength: 172 nm), a low-pressure mercury lamp (185 nm emission line), a rare gas fluorescent lamp, or the like can be used. The illuminance of ultraviolet rays applied to the wiring board material 1 is, for example, 10 to 200 mW / cm ² . Moreover, the irradiation time of the ultraviolet rays with respect to the wiring board material 1 is appropriately set in consideration of the illuminance of ultraviolet rays, the residual state of smears, and the like, and is, for example, 30 to 180 minutes.
As a specific example of the excimer lamp used as a light source of ultraviolet light having a wavelength of 220 nm, an excimer lamp shown in FIG. 3 used in the above-described dry ultraviolet irradiation treatment can be given.

物理的振動処理工程は、例えば超音波振動処理によって行うことができる。超音波振動処理における超音波の周波数は、２０〜７０ｋＨｚであることが好ましい。この周波数が７０ｋＨｚを超える場合には、無機物質に起因するスミアを破壊して配線基板材料から離脱させることが困難となる。
このような超音波振動処理においては、超音波の振動媒体として、水などの液体および空気などの気体を用いることができる。 The physical vibration processing step can be performed by, for example, ultrasonic vibration processing. The frequency of the ultrasonic wave in the ultrasonic vibration treatment is preferably 20 to 70 kHz. When this frequency exceeds 70 kHz, it becomes difficult to break off smears caused by inorganic substances and separate them from the wiring board material.
In such ultrasonic vibration processing, a liquid such as water and a gas such as air can be used as the ultrasonic vibration medium.

具体的に説明すると、振動媒体として水を用いる場合には、配線基板材料１を例えば水中に浸漬し、この状態で、当該水を超音波振動させることにより、超音波振動処理を行うことができる。超音波の振動媒体として液体を用いる場合には、超音波振動処理の処理時間は、例えば１０〜６００秒間である。 More specifically, when water is used as the vibration medium, the ultrasonic vibration treatment can be performed by immersing the wiring board material 1 in, for example, water and ultrasonically vibrating the water in this state. . When a liquid is used as the ultrasonic vibration medium, the processing time of the ultrasonic vibration processing is, for example, 10 to 600 seconds.

また、振動媒体として空気を用いる場合には、圧縮空気を超音波振動させながら配線基板材料１に吹きつけることにより、超音波振動処理を行うことができる。ここで、圧縮空気の圧力は０．２ＭＰａ以上であることが好ましい。また、圧縮空気による超音波振動処理の処理時間は、例えば５〜６０秒間である。 When air is used as the vibration medium, ultrasonic vibration treatment can be performed by spraying the compressed air on the wiring board material 1 while ultrasonically vibrating the compressed air. Here, the pressure of the compressed air is preferably 0.2 MPa or more. Moreover, the processing time of the ultrasonic vibration processing by compressed air is 5 to 60 seconds, for example.

本発明のデスミア処理方法においては、物理的振動処理工程を行う前に、上記の湿潤処理工程および湿式紫外線照射処理工程を交互に繰り返して行うことができる。
湿潤処理工程および湿式紫外線照射処理工程の繰り返し回数は、各湿式紫外線照射処理工程における紫外線の照射時間などを考慮して適宜設定されるが、例えば１〜５回である。
このような方法によれは、配線基板材料における被処理部分が湿潤した状態を確保することができるので、各湿式紫外線照射処理工程においては、有機物質に起因するスミアが高い効率で分解される。その結果、各湿式紫外線照射処理工程における紫外線照射時間の合計を短縮することができる。 In the desmear treatment method of the present invention, the wet treatment step and the wet ultraviolet irradiation treatment step can be alternately repeated before the physical vibration treatment step.
The number of repetitions of the wet treatment step and the wet ultraviolet irradiation treatment step is appropriately set in consideration of the ultraviolet irradiation time in each wet ultraviolet irradiation treatment step, and is, for example, 1 to 5 times.
According to such a method, since the to-be-processed part in a wiring board material can be ensured in the wet state, in each wet ultraviolet irradiation process, smear caused by an organic substance is decomposed with high efficiency. As a result, the total ultraviolet irradiation time in each wet ultraviolet irradiation treatment process can be shortened.

また、上記の湿式紫外線照射処理工程および物理的振動処理工程は、この順でそれぞれ１回ずつ行ってもよいが、湿式紫外線照射処理工程および物理的振動処理工程を交互に繰り返して行うことが好ましい。
湿式紫外線照射処理工程および物理的振動処理工程の繰り返し回数は、各湿式紫外線照射処理工程における紫外線の照射時間などを考慮して適宜設定されるが、例えば１〜５回である。 The wet ultraviolet irradiation treatment step and the physical vibration treatment step may be performed once in this order, but the wet ultraviolet irradiation treatment step and the physical vibration treatment step are preferably performed alternately. .
The number of repetitions of the wet ultraviolet irradiation treatment process and the physical vibration treatment process is appropriately set in consideration of the ultraviolet irradiation time in each wet ultraviolet irradiation treatment process, and is, for example, 1 to 5 times.

以下、本発明のデスミア処理方法について、湿式紫外線照射処理工程および物理的振動処理工程をそれぞれ２回行う場合を例に挙げて説明する。
図４（ａ）に示すように、湿式紫外線照射処理工程を行う前の配線基板材料１においては、配線基板材料１における被処理部分例えば導電層３上にはスミア６が残留している。このスミア６は、樹脂などの有機物質に起因するスミア（以下、「有機物スミア」ともいう。）７と、この有機物スミア７中に含有された、フィラーなどの無機物質に起因するスミア（以下、「無機物スミア」ともいう。）８とよりなるものである。また、スミア６は、湿潤処理工程によって湿潤した状態である。 Hereinafter, the desmear treatment method of the present invention will be described by taking as an example the case where the wet ultraviolet irradiation treatment step and the physical vibration treatment step are each performed twice.
As shown in FIG. 4A, in the wiring board material 1 before the wet ultraviolet irradiation treatment process, the smear 6 remains on the portion of the wiring board material 1 to be processed, for example, the conductive layer 3. The smear 6 includes smears (hereinafter also referred to as “organic smears”) 7 due to organic substances such as resins, and smears (hereinafter referred to as “smears” due to inorganic substances contained in the organic smears 7 such as fillers). It is also referred to as “inorganic smear”). Further, the smear 6 is in a wet state by the wet treatment process.

このような配線基板材料１に対して、その被処理部分に波長２２０ｎｍ以下の紫外線を照射することにより、有機物スミア７の一部は、紫外線のエネルギーおよび紫外線が水に照射されることによって生ずるＯＨラジカルなどによって分解されてガス化される。その結果、図４（ｂ）に示すように、配線基板材料１から有機物スミア７の一部が除去される。このとき、無機物スミア８の一部は、有機物スミア７の一部が除去されることによって露出される。また、露出した無機物スミア８は、紫外線が照射されることによって脆いものとなる。これは、無機物スミア８が紫外線を受けることによって収縮することにより、当該無機物スミア８に歪みが生じるためと考えられる。
次いで、配線基板材料１に対して物理的振動処理を施すことにより、露出した無機物スミア８は、振動による機械的作用によって破壊されて当該配線基板材料１から離脱する。また、無機物スミア８の収縮や、各スミアに紫外線を照射したときに発生する熱膨張の差などによって、有機物スミア７と無機物スミア８との間にわずかな隙間が生じることも考えられ、無機物スミア８は、物理的振動処理を施すことにより当該配線基板材料１から離脱する。
それらの結果、図４（ｃ）に示すように、配線基板材料１から無機物スミア８の一部が除去される。 By irradiating such a wiring board material 1 with ultraviolet rays having a wavelength of 220 nm or less on a portion to be processed, a part of the organic smear 7 is generated by irradiating water with ultraviolet energy and ultraviolet rays. It is decomposed and gasified by radicals. As a result, as shown in FIG. 4B, a part of the organic smear 7 is removed from the wiring board material 1. At this time, a part of the inorganic smear 8 is exposed by removing a part of the organic smear 7. Further, the exposed inorganic smear 8 becomes brittle when irradiated with ultraviolet rays. This is presumably because the inorganic smear 8 is distorted by receiving ultraviolet rays, so that the inorganic smear 8 is distorted.
Next, by subjecting the wiring board material 1 to physical vibration treatment, the exposed inorganic smear 8 is destroyed by the mechanical action due to vibration and detached from the wiring board material 1. In addition, a slight gap may be generated between the organic smear 7 and the inorganic smear 8 due to the shrinkage of the inorganic smear 8 or the difference in thermal expansion that occurs when each smear is irradiated with ultraviolet rays. 8 is detached from the wiring board material 1 by performing a physical vibration treatment.
As a result, a part of the inorganic smear 8 is removed from the wiring board material 1 as shown in FIG.

その後、配線基板材料１に対して、その被処理部分に波長２２０ｎｍ以下の紫外線を照射することにより、有機物スミア７の残部の大部分は、紫外線のエネルギーおよび紫外線が水に照射されることによって生ずるＯＨラジカルなどによって分解されてガス化される。その結果、図４（ｄ）に示すように、配線基板材料１から有機物スミア７の残部の大部分が除去される。このとき、無機物スミア８の残部は、有機物スミア７の残部の大部分が除去されることによって露出される。また、露出した無機物スミア８は、紫外線が照射されることによって脆いものとなる。
次いで、配線基板材料１に対して物理的振動処理を施すことにより、露出した無機物スミア８は、振動による機械的作用によって破壊されて当該配線基板材料１から離脱する。また、無機物スミア８の収縮や、各スミアに紫外線を照射したときに発生する熱膨張の差などによって、配線基板材料１と無機物スミア８との間にわずかな隙間が生じることも考えられ、物理的振動処理を施すことにより当該配線基板材料１から離脱する。それらの結果、図４（ｅ）に示すように、配線基板材料１から無機物スミア８の残部が除去され、これにより、例えば導電層３が露出した状態となる。 Thereafter, the wiring substrate material 1 is irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 220 nm or less on the portion to be processed, so that most of the remaining part of the organic smear 7 is generated by irradiating water with ultraviolet energy and ultraviolet light. It is decomposed and gasified by OH radicals. As a result, as shown in FIG. 4D, most of the remaining part of the organic smear 7 is removed from the wiring board material 1. At this time, the remaining part of the inorganic smear 8 is exposed by removing most of the remaining part of the organic smear 7. Further, the exposed inorganic smear 8 becomes brittle when irradiated with ultraviolet rays.
Next, by subjecting the wiring board material 1 to physical vibration treatment, the exposed inorganic smear 8 is destroyed by the mechanical action due to vibration and detached from the wiring board material 1. In addition, a slight gap may be generated between the wiring board material 1 and the inorganic smear 8 due to shrinkage of the inorganic smear 8 or a difference in thermal expansion that occurs when each smear is irradiated with ultraviolet rays. The substrate is separated from the wiring board material 1 by performing a mechanical vibration treatment. As a result, as shown in FIG. 4E, the remaining part of the inorganic smear 8 is removed from the wiring board material 1, whereby the conductive layer 3 is exposed, for example.

このように、湿式紫外線照射処理工程および物理的振動処理工程を交互に繰り返して行うデスミア処理方法によれば、各湿式紫外線照射処理工程における紫外線照射時間の合計を、１回の湿式紫外線照射処理工程によるデスミア処理方法における紫外線照射時間よりも短くすることができる。1 回の湿式紫外線照射処理工程では、ＯＨラジカルが消失した後にオゾン( 活性酸素) による分解が行われる。ＯＨラジカルは、オゾンや活性酸素よりも分解速度が高いため、繰り返し各湿式紫外線照射処理工程を行うことにより、ＯＨラジカル反応が起こる時間を長く取ることでき、紫外線照射時間の合計を短くすることができる。 As described above, according to the desmear treatment method in which the wet ultraviolet irradiation treatment process and the physical vibration treatment process are alternately repeated, the total ultraviolet irradiation time in each wet ultraviolet irradiation treatment process is calculated as one wet ultraviolet irradiation treatment process. It can be made shorter than the ultraviolet irradiation time in the desmear treatment method. In one wet ultraviolet irradiation treatment step, decomposition with ozone (active oxygen) is performed after OH radicals disappear. Since OH radicals have a higher decomposition rate than ozone and active oxygen, by repeatedly performing each wet ultraviolet irradiation treatment step, it is possible to take a longer time for the OH radical reaction and shorten the total ultraviolet irradiation time. it can.

本発明のデスミア処理方法においては、有機物スミア７は、紫外線照射処理工程において、紫外線のエネルギーおよび紫外線が水に照射されることによって生ずるＯＨラジカルなどによって分解される。この紫外線照射処理工程においては、無機物スミア８は分解されず、配線基板材料１に残留するが、当該無機物スミア８は、紫外線が照射されることによって脆いものとなる。このため、紫外線照射処理工程後の物理的振動処理工程において、配線基板材料１に物理的振動を与えることにより、無機物スミア８が破壊されて当該配線基板材料１から離脱する。
従って、本発明のデスミア処理方法によれば、無機物スミア８および有機物スミア７のいずれであっても確実に配線基板材料１から除去することができる。
また、配線基板材料１に対して湿式紫外線照射処理および物理的振動処理を行えばよいので、廃液処理が必要となる薬品を用いることが不要である。
また、湿式紫外線照射処理工程の前処理工程として、配線基板材料１における被処理部分のぬれ性を改善するぬれ性改善処理工程を行うことにより、配線基板材料１における被処理部分を十分に湿潤させることができる。従って、その後の湿式紫外線照射処理工程において、紫外線照射時間が短くても、スミア６を確実に除去することができる。 In the desmear treatment method of the present invention, the organic smear 7 is decomposed by ultraviolet energy and OH radicals generated by irradiating water with ultraviolet light in the ultraviolet irradiation treatment step. In this ultraviolet irradiation treatment step, the inorganic smear 8 is not decomposed and remains in the wiring board material 1, but the inorganic smear 8 becomes brittle when irradiated with ultraviolet rays. For this reason, in the physical vibration treatment step after the ultraviolet irradiation treatment step, the inorganic smear 8 is broken and detached from the wiring substrate material 1 by applying physical vibration to the wiring substrate material 1.
Therefore, according to the desmear treatment method of the present invention, either the inorganic smear 8 or the organic smear 7 can be reliably removed from the wiring board material 1.
Moreover, since it is only necessary to perform wet ultraviolet irradiation treatment and physical vibration treatment on the wiring board material 1, it is not necessary to use chemicals that require waste liquid treatment.
Further, as a pretreatment step of the wet ultraviolet irradiation treatment step, a wettability improving treatment step for improving the wettability of the portion to be processed in the wiring substrate material 1 is performed to sufficiently wet the portion to be processed in the wiring substrate material 1. be able to. Therefore, in the subsequent wet ultraviolet irradiation process, the smear 6 can be reliably removed even if the ultraviolet irradiation time is short.

以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Specific examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

［試験用配線基板材料の作製］
厚みが１００μｍの銅箔上に厚みが１００μｍの絶縁層が形成されてなる積層体を用意した。ここで、絶縁層は、エポキシ樹脂中に、平均粒子径が１．０μｍのシリカが４０質量％の割合で含有されてなるものである。
この積層体における絶縁層に対して、炭酸ガスレーザ装置によってレーザ加工を施すことにより、当該絶縁層に径が５０μｍの貫通孔を形成し、以て、試験用配線基板材料を得た。この試験用配線基板材料の貫通孔の底部を、走査型電子顕微鏡によって観察したところ、貫通孔の底部にはスミアが残留していることが確認された。 [Production of test wiring board materials]
A laminate in which an insulating layer having a thickness of 100 μm was formed on a copper foil having a thickness of 100 μm was prepared. Here, the insulating layer is a layer in which silica having an average particle diameter of 1.0 μm is contained in an epoxy resin in a proportion of 40% by mass.
The insulating layer in this laminate was subjected to laser processing with a carbon dioxide laser device to form a through hole having a diameter of 50 μm in the insulating layer, thereby obtaining a test wiring board material. When the bottom of the through hole of this test wiring board material was observed with a scanning electron microscope, it was confirmed that smear remained at the bottom of the through hole.

〈実施例１〉
試験用配線基板材料について、下記ぬれ性改善処理工程および下記湿潤処理工程を行った。
（１）ぬれ性改善処理工程
大気中において、試験用配線基板材料の貫通孔の内部に対して、キセノンエキシマランプを備えた紫外線照射装置によって下記の条件で乾式紫外線照射処理を行った。
乾式紫外線照射処理条件：
紫外線照射装置の紫外線出射窓の外面における紫外線照度＝４０Ｗ／ｃｍ²
紫外線照射装置の紫外線出射窓と試験用配線基板材料との離間距離＝３ｍｍ
紫外線照射時間＝６０秒間
（２）湿潤処理工程
純水中に試験用配線基板材料を３分間浸漬させた。その後、エアーナイフによって、配線基板材料における被処理部分に存在する余剰の水を除去した。 <Example 1>
The following wettability improving treatment step and the following wet treatment step were performed on the test wiring board material.
(1) Wettability improvement treatment process In the air, the inside of the through hole of the test wiring board material was subjected to dry ultraviolet irradiation treatment under the following conditions by an ultraviolet irradiation apparatus equipped with a xenon excimer lamp.
Dry UV irradiation treatment conditions:
UV illuminance on the outer surface of the UV exit window of the UV irradiator = 40 W / cm ²
Separation distance between UV exit window of UV irradiation device and test wiring board material = 3 mm
UV irradiation time = 60 seconds (2) Wetting treatment step The test wiring board material was immersed in pure water for 3 minutes. Then, the excess water which exists in the to-be-processed part in wiring board material was removed with the air knife.

次いで、試験用配線基板材料について、下記湿式紫外線照射処理工程および下記物理的振動処理工程を行うことにより、試験用配線基板材料のデスミア処理を行った。
（３）湿式紫外線照射処理工程
試験用配線基板材料の貫通孔の内部に対して、キセノンエキシマランプを備えた紫外線照射装置によって下記の条件で紫外線照射処理を行った。
紫外線照射処理条件：
紫外線照射装置の紫外線出射窓の外面における紫外線照度＝４０Ｗ／ｃｍ²
紫外線照射装置の紫外線出射窓と試験用配線基板材料との離間距離＝３ｍｍ
紫外線照射時間＝１５０分間
（４）物理的振動処理工程
上記（３）の湿式紫外線照射処理工程が終了した後、試験用配線基板材料を純水中に浸漬した。この状態で、試験用配線基板材料に対して４０．０ｋＨｚの超音波による超音波振動処理を３分間行った。 Next, the test wiring board material was subjected to the desmear treatment of the testing wiring board material by performing the following wet ultraviolet irradiation treatment process and the following physical vibration treatment process.
(3) Wet UV irradiation treatment process The inside of the through hole of the wiring board material for test was subjected to UV irradiation treatment under the following conditions by an ultraviolet irradiation apparatus equipped with a xenon excimer lamp.
UV irradiation treatment conditions:
UV illuminance on the outer surface of the UV exit window of the UV irradiator = 40 W / cm ²
Separation distance between UV exit window of UV irradiation device and test wiring board material = 3 mm
Ultraviolet irradiation time = 150 minutes (4) Physical vibration treatment step After the wet ultraviolet irradiation treatment step (3) above was completed, the test wiring board material was immersed in pure water. In this state, ultrasonic vibration treatment with 40.0 kHz ultrasonic waves was performed on the test wiring board material for 3 minutes.

［評価］
デスミア処理が終了した試験用配線基板材料の底部を走査型電子顕微鏡によって観察し、樹脂に起因する有機物スミアおよびフィラーに起因する無機物スミアの各々の残留状態を下記の基準で評価を行った。
○：スミアの残留が認められないもの
×：多量にスミアの残留が認められるもの
以上、結果を下記表１に示す。 [Evaluation]
The bottom of the test wiring board material after the desmear treatment was observed with a scanning electron microscope, and the residual state of each of the organic smear caused by the resin and the inorganic smear caused by the filler was evaluated according to the following criteria.
○: No smear residue is observed. X: A large amount of smear residue is observed. The results are shown in Table 1 below.

〈実施例２〉
湿潤処理工程において、エアーナイフによって配線基板材料における被処理部分に存在する余剰の水を除去しなかったこと、および、湿式紫外線処理工程において紫外線照射時間を１２０分間に変更したこと以外は、実施例１と同様にして試験用配線基板材料のデスミア処理を行い、当該試験用配線基板材料についての評価を行った。結果を下記表１に示す。 <Example 2>
Example, except that in the wet treatment process, excess air present in the portion to be treated in the wiring board material was not removed by the air knife, and that the ultraviolet irradiation time was changed to 120 minutes in the wet ultraviolet treatment process. In the same manner as in Example 1, desmearing of the test wiring board material was performed, and the test wiring board material was evaluated. The results are shown in Table 1 below.

〈実施例３〉
湿潤処理工程を以下のようにして行ったこと、および、湿式紫外線処理工程において紫外線照射時間を６０分間に変更したこと以外は、実施例１と同様にして試験用配線基板材料のデスミア処理を行い、当該試験用配線基板材料についての評価を行った。結果を下記表１に示す。
湿潤処理工程：
純水中に試験用配線基板材料を４０ｋＨｚの超音波によって超音波振動させながら１分間浸漬させた。配線基板材料における被処理部分に存在する余剰の水の除去は行わなかった。
<Example 3>
A desmear treatment of the test wiring board material was performed in the same manner as in Example 1 except that the wet treatment step was performed as follows and the ultraviolet irradiation time was changed to 60 minutes in the wet ultraviolet treatment step. Then, the test wiring board material was evaluated. The results are shown in Table 1 below.
Wet treatment process:
The test wiring board material was immersed in pure water for 1 minute while being vibrated ultrasonically by 40 kHz ultrasonic waves. Excess water present in the portion to be processed in the wiring board material was not removed.

〈実施例４〉
試験用配線基板材料について、実施例３と同様にしてぬれ性改善処理工程を行った。
次いで、試験用配線基板材料に対して、下記湿潤処理工程および下記湿式紫外線照射処理工程を交互に４回繰り返した。その後、試験用配線基板材料について、下記物理的振動処理工程を行い、以て、当該試験用配線基板材料のデスミア処理を行った。そして、デスミア処理が終了した試験用配線基板材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。 <Example 4>
With respect to the test wiring board material, the wettability improving treatment step was performed in the same manner as in Example 3.
Next, the following wet treatment step and the following wet ultraviolet irradiation treatment step were alternately repeated four times for the test wiring board material. Thereafter, the following physical vibration treatment process was performed on the test wiring board material, and thus desmear treatment of the test wiring board material was performed. And the evaluation similar to Example 1 was performed about the test wiring board material which the desmear process was complete | finished. The results are shown in Table 1 below.

（１）湿潤処理工程
純水中に試験用配線基板材料を３分間浸漬させた。その後、エアーナイフによって、配線基板材料における被処理部分に存在する余剰の水を除去した。
（２）湿式紫外線照射処理工程
試験用配線基板材料の貫通孔の内部に対して、キセノンエキシマランプを備えた紫外線照射装置によって下記の条件で紫外線照射処理を行った。そして、デスミア処理が終了した試験用配線基板材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
紫外線照射処理条件：
紫外線照射装置の紫外線出射窓の外面における紫外線照度＝４０Ｗ／ｃｍ²
紫外線照射装置の紫外線出射窓と試験用配線基板材料との離間距離＝３ｍｍ
紫外線照射時間＝１０分間
（３）物理的振動処理工程
試験用配線基板材料を純水中に浸漬した。この状態で、試験用配線基板材料に対して４０．０ｋＨｚの超音波による超音波振動処理を３分間行った。 (1) Wetting treatment step The test wiring board material was immersed in pure water for 3 minutes. Then, the excess water which exists in the to-be-processed part in wiring board material was removed with the air knife.
(2) Wet UV irradiation treatment process The inside of the through hole of the wiring board material for test was subjected to UV irradiation treatment under the following conditions using an ultraviolet irradiation apparatus equipped with a xenon excimer lamp. And the evaluation similar to Example 1 was performed about the test wiring board material which the desmear process was complete | finished. The results are shown in Table 1 below.
UV irradiation treatment conditions:
UV illuminance on the outer surface of the UV exit window of the UV irradiator = 40 W / cm ²
Separation distance between UV exit window of UV irradiation device and test wiring board material = 3 mm
UV irradiation time = 10 minutes (3) Physical vibration treatment process The wiring board material for test was immersed in pure water. In this state, ultrasonic vibration treatment with 40.0 kHz ultrasonic waves was performed on the test wiring board material for 3 minutes.

〈実施例５〉
試験用配線基板材料について、実施例３と同様にしてぬれ性改善処理工程および湿潤処理工程を行った。
試験用配線基板材料に対して、下記湿式紫外線照射処理工程および下記物理的振動処理工程を交互に３回繰り返すことにより、試験用配線基板材料のデスミア処理を行った。そして、デスミア処理が終了した試験用配線基板材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
（１）湿式紫外線照射処理工程
大気中において、試験用配線基板材料の貫通孔の内部に対して、キセノンエキシマランプを備えた紫外線照射装置によって下記の条件で紫外線照射処理を行った。そして、デスミア処理が終了した試験用配線基板材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
紫外線照射処理条件：
紫外線照射装置の紫外線出射窓の外面における紫外線照度＝４０Ｗ／ｃｍ²
紫外線照射装置の紫外線出射窓と試験用配線基板材料との離間距離＝３ｍｍ
紫外線照射時間＝１０分間
（２）物理的振動処理工程
上記（１）の湿式紫外線照射処理が終了した後、当該試験用配線基板材料を純水中に浸漬した。この状態で、試験用配線基板材料に対して４０．０ｋＨｚの超音波による超音波振動処理を３分間行った。 <Example 5>
About the wiring board material for a test, the wettability improvement process process and the wetting process process were performed like Example 3. FIG.
The test wiring board material was subjected to desmear treatment by alternately repeating the following wet ultraviolet irradiation treatment process and the following physical vibration treatment process three times on the test wiring board material. And the evaluation similar to Example 1 was performed about the test wiring board material which the desmear process was complete | finished. The results are shown in Table 1 below.
(1) Wet ultraviolet irradiation treatment process In the air, ultraviolet irradiation treatment was performed on the inside of the through-hole of the test wiring board material using the ultraviolet irradiation apparatus equipped with a xenon excimer lamp under the following conditions. And the evaluation similar to Example 1 was performed about the test wiring board material which the desmear process was complete | finished. The results are shown in Table 1 below.
UV irradiation treatment conditions:
UV illuminance on the outer surface of the UV exit window of the UV irradiator = 40 W / cm ²
Separation distance between UV exit window of UV irradiation device and test wiring board material = 3 mm
Ultraviolet irradiation time = 10 minutes (2) Physical vibration treatment step After the wet ultraviolet irradiation treatment in (1) above was completed, the test wiring board material was immersed in pure water. In this state, ultrasonic vibration treatment with 40.0 kHz ultrasonic waves was performed on the test wiring board material for 3 minutes.

〈参考例１〉
ぬれ性改善処理工程を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして試験用配線基板材料のデスミア処理を行い、当該試験用配線基板材料についての評価を行った。結果を下記表１に示す。
< Reference Example 1 >
Except that the wettability improving treatment step was not performed, desmearing of the test wiring board material was performed in the same manner as in Example 1, and the test wiring board material was evaluated. The results are shown in Table 1 below.

〈比較例１〉
試験用配線基板材料に対して、以下のようにしてデスミア処理を行った。
大気中において、試験用配線基板材料の貫通孔の内部に対して、キセノンエキシマランプを備えた紫外線照射装置によって下記の条件で紫外線照射処理を行った。この紫外線照射処理が終了した後、試験用配線基板材料を高圧水流によって洗浄した。そして、デスミア処理が終了した試験用配線基板材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
紫外線照射処理条件：
紫外線照射装置の紫外線出射窓の外面における紫外線照度＝４０Ｗ／ｃｍ²
紫外線照射装置の紫外線出射窓と試験用配線基板材料との離間距離＝３ｍｍ
紫外線照射時間＝１８０分間 <Comparative example 1>
The desmear process was performed with respect to the wiring board material for a test as follows.
In the atmosphere, the inside of the through hole of the test wiring board material was subjected to ultraviolet irradiation treatment under the following conditions using an ultraviolet irradiation apparatus equipped with a xenon excimer lamp. After the ultraviolet irradiation treatment was completed, the test wiring board material was washed with a high-pressure water stream. And the evaluation similar to Example 1 was performed about the test wiring board material which the desmear process was complete | finished. The results are shown in Table 1 below.
UV irradiation treatment conditions:
UV illuminance on the outer surface of the UV exit window of the UV irradiator = 40 W / cm ²
Separation distance between UV exit window of UV irradiation device and test wiring board material = 3 mm
UV irradiation time = 180 minutes

〈比較例２〉
試験用配線基板材料を純水中に浸漬し、この状態で、試験用配線基板材料に対して４０．０ｋＨｚの超音波による超音波振動処理を１８０分間行うことにより、試験用配線基板材料のデスミア処理を行った。
そして、デスミア処理が終了した試験用配線基板材料について、実施例１と同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。 <Comparative example 2>
By immersing the test wiring board material in pure water and subjecting the test wiring board material to ultrasonic vibration treatment at 40.0 kHz for 180 minutes in this state, desmearing of the test wiring board material is performed. Processed.
And the evaluation similar to Example 1 was performed about the test wiring board material which the desmear process was complete | finished. The results are shown in Table 1 below.

表１の結果から明らかなように、実施例１〜５に係るデスミア処理方法によれば、無機物スミアおよび有機物スミアのいずれも確実に配線基板材料から除去されることが確認された。
また、実施例１〜５に係るデスミア処理方法によれば、ぬれ性改善処理工程を行っているため、参考例１に係るデスミア処理方法に比較して湿式紫外線照射処理工程における紫外線照射時間が短くても、スミアが確実に除去されることが確認された。
また、実施例４に係るデスミア処理方法によれば、湿潤処理工程および湿式紫外線照射処理工程を交互に繰り返して行っているため、各湿式紫外線照射処理工程における紫外線照射時間の合計を、実施例１〜３に係るデスミア処理方法の紫外線照射処理工程における紫外線照射時間より短くすることができる。
また、実施例５に係るデスミア処理方法によれば、紫外線照射処理工程および物理的振動処理工程を交互に繰り返して行うため、各紫外線照射工程の紫外線照射時間の合計を、実施例１〜３に係るデスミア処理方法の湿式紫外線照射処理工程おける紫外線照射時間よりも短くすることができる。
これに対して、比較例１においては、物理的振動処理を行っていないため、デスミア処理後の試験用配線基板材料にはスミアが残留しており、特に無機物スミアの残留が顕著であった。
また、比較例２においては、試験用配線基板材料に対して紫外線照射処理を行っていないため、無機物スミアおよび有機物スミアのいずれもほとんど除去することができなかった。
As is clear from the results in Table 1, according to the desmear treatment methods according to Examples 1 to 5 , it was confirmed that both inorganic smear and organic smear were reliably removed from the wiring board material.
Moreover, according to the desmear processing method which concerns on Examples 1-5, since the wettability improvement process process is performed, compared with the desmear process method which concerns on the reference example 1 , the ultraviolet irradiation time in a wet ultraviolet irradiation process process is short. Even so, it was confirmed that smear was reliably removed.
Further, according to the desmear treatment method according to Example 4, since the wet treatment process and the wet ultraviolet irradiation process are alternately performed, the total ultraviolet irradiation time in each wet ultraviolet irradiation process is calculated as Example 1. It can be made shorter than the ultraviolet irradiation time in the ultraviolet irradiation treatment step of the desmear treatment method according to.
Further, according to the desmear treatment method according to Example 5, since the ultraviolet irradiation treatment process and the physical vibration treatment process are alternately repeated, the total ultraviolet irradiation time of each ultraviolet irradiation process is changed to Examples 1-3. It can be made shorter than the ultraviolet irradiation time in the wet ultraviolet irradiation treatment process of the desmear treatment method.
On the other hand, in Comparative Example 1, since no physical vibration treatment was performed, smear remained in the test wiring board material after the desmear treatment, and in particular, the residual inorganic smear was remarkable.
Further, in Comparative Example 2, since the test wiring board material was not subjected to the ultraviolet irradiation treatment, almost none of the inorganic smear and the organic smear could be removed.

１配線基板材料
２第１絶縁層
３導電層
４第２絶縁層
５貫通孔
６スミア
７有機物スミア
８無機物スミア
１０エキシマランプ
１１放電容器
１５一方の電極（高電圧供給電極）
１６他方の電極（接地電極）
１８光出射部（アパーチャ部）
２０紫外線反射膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wiring board material 2 1st insulating layer 3 Conductive layer 4 2nd insulating layer 5 Through-hole 6 Smear 7 Organic smear 8 Inorganic smear 10 Excimer lamp 11 Discharge vessel 15 One electrode (high voltage supply electrode)
16 The other electrode (ground electrode)
18 Light emitting part (aperture part)
20 UV reflective film

Claims

フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤処理工程によって湿潤した状態で紫外線を照射する湿式紫外線照射処理工程と、
この湿式紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有し、
前記湿潤処理工程は、前記配線基板材料を水中に浸漬し、この状態で、当該水を超音波振動させることにより、当該配線基板材料における被処理部分を湿潤するものであることを特徴とするデスミア処理方法。 In a desmear treatment method for a wiring board material in which an insulating layer made of a resin containing a filler and a conductive layer are laminated, and a through hole penetrating the insulating layer is formed.
A wet ultraviolet irradiation treatment step of irradiating ultraviolet rays in a state in which the portion to be treated is wet by the wet treatment step with respect to the portion to be treated in the wiring board material;
A physical vibration treatment step that gives physical vibration to the wiring board material via the wet ultraviolet irradiation treatment step ;
In the wet treatment step, the desmear is characterized in that the wiring board material is immersed in water and the water is ultrasonically vibrated in this state to wet the portion to be treated in the wiring board material. Processing method.

前記湿式紫外線照射処理工程の前処理工程として、
前記配線基板材料における被処理部分が湿潤していない状態で、当該被処理部分のぬれ性を改善するぬれ性改善処理工程を有し、
このぬれ性改善処理工程を経由した配線基板材料に対して、前記湿潤処理工程を行うことを特徴とする請求項１に記載のデスミア処理方法。 As a pretreatment step of the wet ultraviolet irradiation treatment step,
In a state where the portion to be processed in the wiring board material is not wet, it has a wettability improving treatment step for improving the wettability of the portion to be processed .
The desmear treatment method according to claim 1 , wherein the wet treatment step is performed on the wiring board material that has passed through the wettability improvement treatment step.

フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤した状態で紫外線を照射する湿式紫外線照射処理工程と、
この湿式紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有し、
前記湿式紫外線照射処理工程の前処理工程として、
前記配線基板材料における被処理部分が湿潤していない状態で、当該被処理部分のぬれ性を改善するぬれ性改善処理工程と、
このぬれ性改善処理工程を経由した配線基板材料における被処理部分を湿潤する湿潤処理工程と
を有することを特徴とするデスミア処理方法。 In a desmear treatment method for a wiring board material in which an insulating layer made of a resin containing a filler and a conductive layer are laminated, and a through hole penetrating the insulating layer is formed.
A wet ultraviolet irradiation process for irradiating ultraviolet rays in a wet state with respect to the portion to be processed in the wiring board material;
A physical vibration treatment step for imparting physical vibration to the wiring board material via the wet ultraviolet irradiation treatment step;
Have
As a pretreatment step of the wet ultraviolet irradiation treatment step,
A wettability improving treatment step for improving the wettability of the portion to be processed in a state where the portion to be processed in the wiring board material is not wet;
A wetting process step of wetting a portion to be treated in the wiring board material via the wettability improving process step;
A desmear treatment method characterized by comprising :

前記ぬれ性改善処理工程は、前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤していない状態で紫外線を照射する乾式紫外線照射処理によって行われることを特徴とする請求項２または請求項３に記載のデスミア処理方法。 3. The wettability improving treatment step is performed by dry ultraviolet irradiation treatment in which ultraviolet rays are irradiated to a portion to be processed in the wiring board material in a state where the portion to be processed is not wet. Or the desmear processing method of Claim 3 .

前記物理的振動処理工程を行う前に、前記湿潤処理工程と前記湿式紫外線照射処理工程とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のデスミア処理方法。 The desmear treatment method according to any one of claims 1 to 4, wherein the wet treatment step and the wet ultraviolet irradiation treatment step are alternately repeated before the physical vibration treatment step .

前記湿式紫外線照射処理工程と前記物理的振動処理工程とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のデスミア処理方法。The desmear treatment method according to any one of claims 1 to 4, wherein the wet ultraviolet irradiation treatment step and the physical vibration treatment step are alternately repeated.