JP5658271B2 - インプリントリソグラフィ - Google Patents
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Description
1.オブジェクトを別のオブジェクトに互いに整列させる際に用いるアライメント構成を備えたオブジェクトであって、該アライメント構成が、
実質的に規則的な格子の形態の第1の微細アライメントマークと、
前記第1のアライメントマークと同じエリアに位置する第2の粗アライメントマークとを含む、オブジェクト。
2.前記オブジェクトはインプリントリソグラフィテンプレート又は基板であり、及び/又は前記別のオブジェクトは基板又はインプリントリソグラフィテンプレートである、条項1に記載のオブジェクト。
3.前記第2のアライメントマークは、前記実質的に規則的な格子のギャップ又は線とは異なる幅を有するギャップ又は線を含む、条項1又は2に記載のオブジェクト。
4.前記第2のアライメントマークは、
前記実質的に規則的な格子内の欠けた線、及び/又は
前記実質的に規則的な格子内の追加の線、及び/又は
前記実質的に規則的な格子内の太線、及び/又は
前記実質的に規則的な格子内の細線、及び/又は
前記実質的に規則的な格子内の欠けた又は追加の斜線、及び/又は
前記実質的に規則的な格子内の又はその周囲のボックス、及び/又は
前記実質的に規則的な格子内の増加したか若しくは低減した長さの線又はギャップから選択した1つ以上を含む、条項1又は2に記載のオブジェクト。
5.前記実質的に規則的な格子は、1μm〜20μm程度のピッチを有する線及び/又はギャップ、及び/又は1:1のデューティ又は別のデューティを有する線及び/又はギャップ、及び/又は10nm〜100nm程度の厚さを有する線及び/又はギャップから選択した1つ以上を含む、条項1から4のいずれか1項に記載のオブジェクト。
6.前記第2のアライメントマークは、前記実質的に規則的な格子内に位置する、条項1から5のいずれかに記載のオブジェクト。
7.前記第2のアライメントマークは、前記実質的に規則的な格子の直ぐ隣に位置する、条項1から5のいずれかに記載のオブジェクト。
8.前記第1のアライメントマーク及び/又は第2のアライメントマークは、前記オブジェクトの突起又は凹部内に形成され、又はそれによって形成され、又はそれを含む、条項1から7のいずれかに記載のオブジェクト。
9.前記第1のアライメントマーク及び/又は第2のアライメントマークは、使用時に前記オブジェクトを前記別のオブジェクトに整列させるのに用いる電磁放射に対して不透過である材料を含む、条項1から8のいずれかに記載のオブジェクト。
10.前記アライメントマーク構成は、前記別のオブジェクト上に提供されたアライメントマーク構成と実質的に同じである、条項1から9のいずれかに記載のオブジェクト。
11.オブジェクトを別のオブジェクトに整列させる方法であって、該オブジェクトと該別のオブジェクトは各々、実質的に規則的な格子の形態の第1の微細アライメントマークと、規則的な格子と同じエリアに位置する第2の粗アライメントマークとを含むアライメント構成を含み、該方法は、
前記第2の粗アライメントマークを用いて前記オブジェクトと前記別のオブジェクトとの比較的粗いアライメントを実行するステップと、
前記第1の微細アライメントマークを用いて前記オブジェクトと前記別のオブジェクトとの比較的微細なアライメントを実行するステップとを含む、方法。
12.前記粗いアライメントは、カメラ又は放射強度測定を用いて実行される、条項11に記載の方法。
13.前記微細なアライメントは、回折ベースの技術を用いて実行される、条項11又は12に記載の方法。
14.インプリントリソグラフィテンプレートのメサを形成する方法であって、
第1の材料を用いて前記インプリントリソグラフィテンプレート上に不透明なアライメントマークを提供するステップと、
前記インプリントリソグラフィテンプレートの一部を前記インプリントリソグラフィテンプレートの前記メサの形成で使用する第2の材料で覆うステップと、
前記第2の材料によって覆われない前記インプリントリソグラフィテンプレートの部分を除去するステップであって、前記第2の材料で覆われる前記インプリントリソグラフィテンプレートの残りの部分がメサを形成するステップと、
第2の材料を除去するステップとを含み、
前記第1の材料は、前記第2の材料の除去が前記第1の材料の実質的な除去をもたらさないよう前記第2の材料とは異なる、方法。
15.前記第1の材料は、クロム、金、ケイ素、又は窒化ケイ素などの金属を含む、条項14に記載の方法。
16.前記第2の材料は、チタン、ニッケル、アルミニウム、モリブデン、金、又はケイ素から選択した1つ以上を含む、条項14又は15に記載の方法。
17.前記第2の材料によって覆われるインプリントリソグラフィテンプレートの部分は、インプリントリソグラフィ工程で使用するパターンを含む、条項14から16のいずれかに記載の方法。
18.前記第2の材料によって覆われるインプリントリソグラフィテンプレートの部分は、アライメントマークを含む、条項14から17のいずれかに記載の方法。
19.前記第2の材料を除去するステップは、エッチング工程を含む、条項14から18のいずれかに記載の方法。
20.エッチング工程は、
H2SO4/H2O2の混合物、
NH3/H2O2の混合物、
H2SO4、又は
H2PO4
から選択した1つ以上の使用を含む、条項19に記載の方法。
21.前記アライメントマークは、前記インプリントリソグラフィテンプレート内の突起又は凹部を含む、条項14から20のいずれかに記載の方法。
22.前記第1の材料は、前記インプリントリソグラフィテンプレートを基板などの別のオブジェクトに整列させるために用いる電磁放射に対して不透過である、条項14から21のいずれかに記載の方法。
23.前記インプリントリソグラフィテンプレートは、溶融シリカ又は石英から形成される、条項14から22のいずれかに記載の方法。
24.条項14から23のいずれかに記載の方法を用いて形成されるインプリントテンプレートのメサ。
Claims (9)
- オブジェクトを別のオブジェクトに互いに整列させる際に用いるアライメントマーク構成を備えたオブジェクトであって、
前記アライメントマーク構成は、実質的に規則的な格子の形態の第1の微細アライメントマークと、前記第1の微細アライメントマークと同じエリアに位置する第2の粗アライメントマークと、を有し、
前記第2の粗アライメントマークは、前記実質的に規則的な格子内に位置する意図的な不規則性をもたらす太線である、オブジェクト。 - 前記オブジェクトはインプリントリソグラフィテンプレート又は基板であり、及び/又は前記別のオブジェクトは基板又はインプリントリソグラフィテンプレートである、請求項1に記載のオブジェクト。
- 前記実質的に規則的な格子は、1μm〜20μm程度のピッチを有する線及び/又はギャップ、及び/又は、1:1のデューティ又は別のデューティを有する線及び/又はギャップ、及び/又は、10nm〜100nm程度の厚さを有する線及び/又はギャップ、から選択した1つ以上を含む、請求項1又は2に記載のオブジェクト。
- 前記第1の微細アライメントマーク及び/又は第2の粗アライメントマークは、前記オブジェクトの突起又は凹部内に形成され、又はそれによって形成され、又はそれを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載のオブジェクト。
- 前記第1の微細アライメントマーク及び/又は第2の粗アライメントマークは、使用時に前記オブジェクトを前記別のオブジェクトに整列させるのに用いる電磁放射に対して不透過である材料を含む、請求項1から4のいずれか一項に記載のオブジェクト。
- 前記アライメントマーク構成は、前記別のオブジェクト上に提供されたアライメントマーク構成と実質的に同じである、請求項1から5のいずれか一項に記載のオブジェクト。
- オブジェクトを別のオブジェクトに整列させる方法であって、該オブジェクトと該別のオブジェクトは各々、実質的に規則的な格子の形態の第1の微細アライメントマークと、前記規則的な格子と同じエリアに位置する第2の粗アライメントマークと、を有するアライメントマーク構成を備え、前記方法は、
前記第2の粗アライメントマークを用いて前記オブジェクトと前記別のオブジェクトとの比較的粗いアライメントを実行するステップと、
前記第1の微細アライメントマークを用いて前記オブジェクトと前記別のオブジェクトとの比較的微細なアライメントを実行するステップと、を含み、
前記第2の粗アライメントマークは、前記実質的に規則的な格子内に位置する意図的な不規則性をもたらす太線である、方法。 - 前記粗いアライメントは、カメラ又は放射強度測定を用いて実行される、請求項7に記載の方法。
- 前記微細なアライメントは、回折ベースの技術を用いて実行される、請求項7又は8に記載の方法。
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