JP5623318B2 - 精密部品用洗浄剤組成物 - Google Patents
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Description
但し、式(1)中、Rは炭素数1〜30の直鎖または分岐のアルキル基、アルケニル基または芳香族炭化水素基を示し、POはプロピレンオサイド、EOはエチレンオキサイドを示す。m、nは平均付加モル数であり、mは0≦m≦20の範囲の数であり、nは0≦n≦20の範囲の数であり、m+n≧2である。−(PO)m−(EO)nは、ブロックまたはランダムのいずれでもよく、POとEOのいずれが先でもよい。
各実施例及び比較例の各洗浄剤組成物の水50倍希釈品を調製し、その溶液100gに対してアルミナ粉末(日本軽金属(株)製、平均粒子径0.67μm)0.1gを配合し、100mlの有栓メスシリンダーに入れて撹拌後、25℃で24時間静置し、研磨砥粒の分散状態を確認した。
各実施例及び比較例の各洗浄剤組成物の水50倍希釈品を調製し、その溶液100gに対してアルミナ紛末(日本軽金属(株)製、平均粒子径0.67μm)0.1gを配合し、撹拌後、ゼータ電位測定システム(大塚電子(株)製、ELSZ−1)でゼータ電位を測定した。
各実施例及び比較例の各洗浄剤組成物の水50倍希釈品を調製し、その溶液100gに対して酸化セリウム粉末(ACGセイミケミカル(株)社製、平均粒子径1μm)0.1gを配合し、撹拌後、ゼータ電位測定システム(大塚電子(株)製、ELSZ−1)でゼータ電位を測定した。
ネジ穴の切削加工直後のアルミ製2.5インチ用ハードディスクシャーシ部品をテストピースとした。
Claims (4)
- (a)グリコール酸、グルコン酸、ヘプトン酸、およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種 0.1〜25重量%、
(b)1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸、3−カルボキシ−3−ホスホノヘキサン二酸、およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種 0.1〜25重量%、及び
(c)エチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、ヘキサメチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種 0.1〜25重量%
を含有することを特徴とする精密部品用洗浄剤組成物。 - (d)次の一般式(1)で示される非イオン界面活性剤 0.01〜25重量%をさらに含有することを特徴とする、請求項1に記載の精密部品用洗浄剤組成物。
R−O−(PO)m−(EO)n−H (1)
但し、式(1)中、Rは炭素数1〜30の直鎖または分岐のアルキル基、アルケニル基または芳香族炭化水素基を示し、POはプロピレンオサイド、EOはエチレンオキサイドを示す。m、nは平均付加モル数であり、mは0≦m≦20の範囲の数であり、nは0≦n≦20の範囲の数であり、m+n≧2である。−(PO)m−(EO)nは、ブロックまたはランダムのいずれでもよく、POとEOのいずれが先でもよい。 - (e)メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、及びN−メチル−2−ピロリドンから選択された水溶性溶剤0.1〜30重量%をさらに含有する(但し、合計量が100重量%以下になるものとする)ことを特徴とする、請求項1又は2に記載の精密部品用洗浄剤組成物。
- 前記(a)〜(e)成分(但し、(d)及び(e)成分のうちに含有しない成分がある場合はそれを除いた成分)の合計量が0.3〜75重量%であり、残部が水であり、
精密部品を切削又は研磨した後に、この精密部品の表面に残る微粒子を除去するために使用される
ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の精密部品用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011065960A JP5623318B2 (ja) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 精密部品用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011065960A JP5623318B2 (ja) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 精密部品用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012201741A JP2012201741A (ja) | 2012-10-22 |
JP5623318B2 true JP5623318B2 (ja) | 2014-11-12 |
Family
ID=47183082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011065960A Expired - Fee Related JP5623318B2 (ja) | 2011-03-24 | 2011-03-24 | 精密部品用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5623318B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014141669A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-08-07 | Sanyo Chem Ind Ltd | 電子材料用洗浄剤 |
JP2014141668A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-08-07 | Sanyo Chem Ind Ltd | 電子材料用洗浄剤 |
US11584900B2 (en) | 2020-05-14 | 2023-02-21 | Corrosion Innovations, Llc | Method for removing one or more of: coating, corrosion, salt from a surface |
JP7403135B2 (ja) | 2021-08-31 | 2023-12-22 | トーホーテック株式会社 | TiAl金属間化合物粉の製造方法、TiAl金属間化合物粉、及び球状TiAl金属間化合物粉の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6395693B1 (en) * | 1999-09-27 | 2002-05-28 | Cabot Microelectronics Corporation | Cleaning solution for semiconductor surfaces following chemical-mechanical polishing |
JP2004323840A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | 研磨洗浄液組成物及び研磨洗浄方法 |
TWI362415B (en) * | 2003-10-27 | 2012-04-21 | Wako Pure Chem Ind Ltd | Novel detergent and method for cleaning |
JP5575420B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2014-08-20 | 三洋化成工業株式会社 | 磁気ディスク基板用洗浄剤 |
WO2010070819A1 (ja) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | 三洋化成工業株式会社 | 電子材料用洗浄剤 |
-
2011
- 2011-03-24 JP JP2011065960A patent/JP5623318B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012201741A (ja) | 2012-10-22 |
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A621 | Written request for application examination |
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